JPH03100875A - パターン太り検査装置 - Google Patents
パターン太り検査装置Info
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- JPH03100875A JPH03100875A JP1238492A JP23849289A JPH03100875A JP H03100875 A JPH03100875 A JP H03100875A JP 1238492 A JP1238492 A JP 1238492A JP 23849289 A JP23849289 A JP 23849289A JP H03100875 A JPH03100875 A JP H03100875A
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- Japan
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Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 52
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 57
- 230000008719 thickening Effects 0.000 claims description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
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- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はパターン太り検査装置に関する。
従来の技術としては、例えば、「武藤、安藤、“プリン
ト基板の目視検査の自動化”、機械設計、２９巻、２号
、８７〜９６頁、１９８２年」に示されるように、専用
の検査マスクを用いるパターン太り検査装置がある。
ト基板の目視検査の自動化”、機械設計、２９巻、２号
、８７〜９６頁、１９８２年」に示されるように、専用
の検査マスクを用いるパターン太り検査装置がある。
従来のパターン太り検査装置について図面を参照して詳
細に説明する。
細に説明する。
第３図は従来の一例を示す模式図である。
第３図に示すパターン太り検査装置は、リングセンサ２
１上の点がすべてノ（ターン上にあり、力１つ、放射状
に伸びた８つの測長センサＭＯ−Ｍ７によりパターン部
が途切れるまでの画素数を数えてそれぞれの測長値とし
、対向する測長センサの測長値の和（ＭＯ＋Ｍ４．Ｍ１
＋Ｍ５．Ｍ２＋Ｍ６、Ｍ３＋Ｍ７）がすべてパターン幅
許容値より大きく、さらに、全画素がパターン上にある
測長センサが隣合っていない場合にパターン太り不良と
して検出する。
１上の点がすべてノ（ターン上にあり、力１つ、放射状
に伸びた８つの測長センサＭＯ−Ｍ７によりパターン部
が途切れるまでの画素数を数えてそれぞれの測長値とし
、対向する測長センサの測長値の和（ＭＯ＋Ｍ４．Ｍ１
＋Ｍ５．Ｍ２＋Ｍ６、Ｍ３＋Ｍ７）がすべてパターン幅
許容値より大きく、さらに、全画素がパターン上にある
測長センサが隣合っていない場合にパターン太り不良と
して検出する。
上述した従来のパターン太り検査装置は、あらかじめ指
定した方向のみのパターン太り検査が可能であるが、高
精度のテーブルを使用して検査対象パターンの傾きを補
正しなければならなり）と塾ムう欠点があった。
定した方向のみのパターン太り検査が可能であるが、高
精度のテーブルを使用して検査対象パターンの傾きを補
正しなければならなり）と塾ムう欠点があった。
本発明のパターン太り検査装置は、
（Ａ）検査対象パターンを光電変換スキャナで読み出し
た入力画像を２値化画像に変換する２値化回路、 （Ｂ）前記２値化画像にあらかじめ設定された寸法の検
査位置検出マスクをラスタースキャンに同期して走査し
、前記検査位置検出マスク上のすべての点が前記検査対
象パターン上にある場合に検査位置信号を出力する検査
位置検出回路、（Ｃ）前記検査位置検出回路で検出され
た位置で、前記検査位置検出マスクよりあらかじめ設定
した寸法だけ大きいパターン終端部検出マスクおよび前
記検査位置検出マスクより１ｂｉｔ大きい寸法から、前
記パターン終端部検出マスクより１ｂｉｔ小さい寸法ま
でのパターン太り検査マスクを走査して、前記パターン
終端部検出マスク上の点でパターン上にない点があり、
かつ前記パターン太り検出マスク上の向い合う２点がパ
ターン上にある場合に、パターン太り不良信号を出力す
るパターン太り検査回路、とを含んで構成される。
た入力画像を２値化画像に変換する２値化回路、 （Ｂ）前記２値化画像にあらかじめ設定された寸法の検
査位置検出マスクをラスタースキャンに同期して走査し
、前記検査位置検出マスク上のすべての点が前記検査対
象パターン上にある場合に検査位置信号を出力する検査
位置検出回路、（Ｃ）前記検査位置検出回路で検出され
た位置で、前記検査位置検出マスクよりあらかじめ設定
した寸法だけ大きいパターン終端部検出マスクおよび前
記検査位置検出マスクより１ｂｉｔ大きい寸法から、前
記パターン終端部検出マスクより１ｂｉｔ小さい寸法ま
でのパターン太り検査マスクを走査して、前記パターン
終端部検出マスク上の点でパターン上にない点があり、
かつ前記パターン太り検出マスク上の向い合う２点がパ
ターン上にある場合に、パターン太り不良信号を出力す
るパターン太り検査回路、とを含んで構成される。
次に、本発明について図面を参照して詳細に説明する。
第１図は本発明の一実施例を示すプロ・ツク図である。
第１図に示すパターン太り検査装置は、（Ａ）検査対象
パターン・を光電変換スキャナ１で読み出した入力画像
２を２値化画像４に変換する２値化回路３、 （Ｂ）２値化画像４にあらかじめ設定された寸法の検査
位置検出マスクをラスタースキャンに同期して走査し、
前記検査位置検出マスク上のすべての点が前記検査対象
パターン上にある場合に検査位置信号６を出力する検査
位置検出回路５、 （Ｃ）検査位置検出回路５で検出された位置で、前記検
査位置検出マスクよりあらかじめ設定した寸法だけ大き
いパターン終端部検出マスクおよび前記検査位置検出マ
スクより１ｂｉｔ大き０寸法から、前記パターン終端部
検出マスクより１ｂｉｔ小さい寸法までのパターン太り
検査マスクを走査して、前記パターン終端部検出マスク
上の点でパターン上にない点があり、かつ前記パターン
太り検出マスク上の向い合う２点がパターン上にある場
合に、パターン太り不良信号８を出力するパターン太り
検査回路７、とを含んで構成される。
パターン・を光電変換スキャナ１で読み出した入力画像
２を２値化画像４に変換する２値化回路３、 （Ｂ）２値化画像４にあらかじめ設定された寸法の検査
位置検出マスクをラスタースキャンに同期して走査し、
前記検査位置検出マスク上のすべての点が前記検査対象
パターン上にある場合に検査位置信号６を出力する検査
位置検出回路５、 （Ｃ）検査位置検出回路５で検出された位置で、前記検
査位置検出マスクよりあらかじめ設定した寸法だけ大き
いパターン終端部検出マスクおよび前記検査位置検出マ
スクより１ｂｉｔ大き０寸法から、前記パターン終端部
検出マスクより１ｂｉｔ小さい寸法までのパターン太り
検査マスクを走査して、前記パターン終端部検出マスク
上の点でパターン上にない点があり、かつ前記パターン
太り検出マスク上の向い合う２点がパターン上にある場
合に、パターン太り不良信号８を出力するパターン太り
検査回路７、とを含んで構成される。
第２図は第１図に示すパターン太り検査装置の動作を説
明するための模式図である。
明するための模式図である。
あらかじめ設定された寸法の検査位置検出マスク１３を
走査して、検査位置検出マスク１３の内部および検査位
置検出マスク、１３上のすべての点がパターン１０上に
ある検査位置Ａｌｌを、検査位置検出回路５で検出する
。
走査して、検査位置検出マスク１３の内部および検査位
置検出マスク、１３上のすべての点がパターン１０上に
ある検査位置Ａｌｌを、検査位置検出回路５で検出する
。
パターン太り検査回路７は、検査位置Ａｌｌで、検査位
置検出マスク１３よりあらかじめ設定した寸法だけ大き
いパターン終端部検出マスク１４および検査位置検出マ
スク１３より１ｂｉｔ大きい寸法からパターン終端部検
出マスク１４より１ｂｉｔ小さい寸法までのパターン太
り検査マスク１５を走査する。
置検出マスク１３よりあらかじめ設定した寸法だけ大き
いパターン終端部検出マスク１４および検査位置検出マ
スク１３より１ｂｉｔ大きい寸法からパターン終端部検
出マスク１４より１ｂｉｔ小さい寸法までのパターン太
り検査マスク１５を走査する。
この結果、パターン終端部検出マスク１４上のの点てパ
ターン上に無い点があり、かつ、パターン太り検査マス
ク１５上の向い合う２点がパターン上にあるので、パタ
ーン太り不良として検出する。
ターン上に無い点があり、かつ、パターン太り検査マス
ク１５上の向い合う２点がパターン上にあるので、パタ
ーン太り不良として検出する。
一方、検査位置検出マスク１３で検出された検査位置Ｂ
１２で、検査位置検出マスク１３よりあらかじめ設定し
た寸法だけ大きいパターン終端部検出マスク１４を走査
すると、このパターン終端部検出マスク１４上の点がす
べてパターン上にあるので、パターン太り検査は行なわ
ない。
１２で、検査位置検出マスク１３よりあらかじめ設定し
た寸法だけ大きいパターン終端部検出マスク１４を走査
すると、このパターン終端部検出マスク１４上の点がす
べてパターン上にあるので、パターン太り検査は行なわ
ない。
本発明のパターン太り検査装置は、方向性を持った測長
センサの代りに、検査位置検出、パターン終端検出、お
よびパターン太り検出に各々あらかじめ設定した寸法の
円形マスクを用いるで、検査対象パターンの傾きを補正
せずに検査できるという効果がある。
センサの代りに、検査位置検出、パターン終端検出、お
よびパターン太り検出に各々あらかじめ設定した寸法の
円形マスクを用いるで、検査対象パターンの傾きを補正
せずに検査できるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図、第２図は
第１図に示すパターン太り検査装置の動作を説明するた
めの模式図、第３図は従来の一例を示す模式図である。
第１図に示すパターン太り検査装置の動作を説明するた
めの模式図、第３図は従来の一例を示す模式図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （Ａ）検査対象パターンを光電変換スキャナで読み出し
た入力画像を２値化画像に変換する２値化回路、 （Ｂ）前記２値化画像にあらかじめ設定された寸法の検
査位置検出マスクをラスタースキャンに同期して走査し
、前記検査位置検出マスク上のすべての点が前記検査対
象パターン上にある場合に検査位置信号を出力する検査
位置検出回路、（Ｃ）前記検査位置検出回路で検出され
た位置で、前記検査位置検出マスクよりあらかじめ設定
した寸法だけ大きいパターン終端部検出マスクおよび前
記検査位置検出マスクより１ｂｉｔ大きい寸法から、前
記パターン終端部検出マスクより１ｂｉｔ小さい寸法ま
でのパターン太り検査マスクを走査して、前記パターン
終端部検出マスク上の点でパターン上にない点があり、
かつ前記パターン太り検出マスク上の向い合う２点がパ
ターン上にある場合に、パターン太り不良信号を出力す
るパターン太り検査回路、 とを含むことを特徴とするパターン太り検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1238492A JPH03100875A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | パターン太り検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1238492A JPH03100875A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | パターン太り検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03100875A true JPH03100875A (ja) | 1991-04-25 |
Family
ID=17031053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1238492A Pending JPH03100875A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | パターン太り検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03100875A (ja) |
-
1989
- 1989-09-14 JP JP1238492A patent/JPH03100875A/ja active Pending
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