JPS59120908A - パタ−ン幅検査方法およびその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、被検査対象物を光電変換スキャナで走査して
読み出したパターンのパターン幅を設計基準値と比較検
査を行なう方法、さらに詳しく言えば、読み出したパタ
ーンに対して、設計基準値よりあらかじめ求められる最
小基準円形マスクと最大基準値円形マスクの２種類の円
形マスク走査を行ない、最小基準値円形マスクの中心と
円周上向かい合う２点がパターン上に有り、前記２点と
中心を結ぶ線に対して直交する円周上の相対する２点が
パターン上に無い場合に、被検査対象パターン幅が設計
基準値より狭いと判定を下し、逆Ｋ。

最大基準値円形マスク上のすべての点がパターン上に有
る場合には、被検査対象パターン＠が設計基準値より広
いという判定を下すことを特徴とするパターン幅検査方
法およびその装置に関する。

従来、この種の装置、たとえば、プリント基板のフォト
マスク検査装置、あるいはＩＣ（Ｉｎｔｅ　−ｇｒａｔ
ｅｄ　Ｃ７ｒｃｕｉｔ　）用フォトマスク検査装置に於
いては、パターン幅を検査するため釦パターンの走行方
向の検出を行なって、さらに、パターンエッヂを求めて
、パターンエッヂ相互間の距離と設計基準値との比較を
行なう方法が用いられていた。

この場合、任意の方向をもつパターンについてのパター
ン幅検査が困難であるために、限定された方向、たとえ
ば００，４５°、　９００．１３５°の角度をもつ方向
のパターンのみを切９出し、それぞれの角度について別
々にパターンエッヂ間の距離を求めて、設計基準値との
比較検査を行なう方法が用いられていた。このため、パ
ターンの方向が変化する近傍、あるいは、パターンの接
合点近傍でのパターン幅検査が困難であり、また、パタ
ーンエッヂ間の距離を求めるために各々の角度について
ノくクーンを切υ出すのに、複維な回路構成を必要とし
た。

本発明は、上述の欠点を除去するために　設計基準値よ
りあらかじめ求まる最小基準値円形マスクと最大基準値
円形マスクの２種類の円形マスク走査を行なうととによ
り、パターンの方向に無関係に、かつ、パターンの方向
の変化する近傍あるいけパターンの接合点近傍に於いて
も、パターン幅検査が可能である方法を提供するもので
ある。

以下１図面を参照して本発明の詳細な説明する。

第１図は１本発明で提案する最小基準値円形マスク走査
によりパターン幅検査を行なう原理図を示すものである
。同図に於いて１け、光電変換スキャナを走査して読み
出した。被検査対象物のパターンの２値化画像を示す。

この２値化画像に対して、設計基準値よりあらかじめ求
まる最小基準値円形マスク２を走査し、中心および円周
上の向かい合う２点がパターン上にある場合に、前記２
点と中心を結ぶ線に対して直交する円周上の相・対する
２点がパターン上に有るかどうか調べる。たとえば、−
例として、同図で示されるように、中心ａ＋および円周
上の向かい合う２点ａ！＋ａｇがパターン上に有シ、前
記２点と中心を結ぶ線処対して直交する円周上の相・対
する２点ａ４＋ａｙが無いため、被検査対象パターンに
は、最小基準値以下のパターン幅の箇所３があると判定
される。

第２図は、前記最小基準値円形マスク走査を行なうため
の円形マスクパターンの一例を示す。前記２値化画像に
変換された被検査対象パターンに対して、同図で示され
る最小基準値円形マスクを。

一般に公知の方法で走査して、中心と円周上の向かい合
う２点がパターン上に有る場合、すなわち。

論理式 （但し９パターン上の点＝゛０′とする。）が満たされ
る場合に、検査位置の検出とし、この位置に於いて、前
記円形マスクの中心および円周上の向かい合う２点を結
ぶ線に対して直交する円周上の相・対する２点がパター
ン上に有るかどうかを調べ、これら２点がともにパター
ン上に無い場合に、被検査対象パターンのパターン幅が
、設計基準値以下であるという判定を行なう。つまり。

検査位置の検出およびパターン幅検査判定を含めた論理
式 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・（２）
式が満たされるとき、被検査対象パターンのパターン幅
が、設計基準値よシ狭いと判定できる。

第３図は、設計基準値よシあらかじめ求まる最大基準値
円形マスクを走査して、被検査対象物のパターン幅を検
査する方法について説明するだめの図である。同図に於
いて、前記２値化画像に変換された被検査対象物のパタ
ーンＩＫ対して、設計基準値より求まる最大基準値円形
マスク４を一般に公知の方法で走査し、この円形マスク
上のすべての点がパターン上に有る場合に、被検査対象
パターンには、パターン幅が設計基準値より広い箇所５
があると判定する。

第４図は、特許請求の範囲第（２）項記載の被検査対象
物に形成されたパターンが複数種類の幅をもつパターン
により構成されている場合に、各々のパターンが設計基
準値を満足するかどうかを判定する方法を説明するため
の図である。同図において、６　（ａ）　、６　（ｂ）
　、６　（ｃ）は、複数種類のパターン幅に対して設計
基準値よりあらかじめ求まる最小基準値円形マスクをそ
れぞれ示し、また、７（ａ）。

７　（ｂ）　、７　（ｃ）はそれぞれのパターン幅に対
する最犬基進値円形マスクを示す。これらの円形マスク
は、前記２値化画像に変換された被検査対象パターンｌ
に対して、その径の小さい順に逐次走査される。すなわ
ち、まず最初に、最小基準値円形マスク６（ａ）を走査
して、前述したように、被検査対象パターンのパターン
幅が、設計基準値より狭いかどうかの判定を行ない狭い
箇所の検出をする。次に、最大基準値円形マスク７（ａ
）を走査し。

この円形マスク上のすべての点がパターン上にあるかど
うかを調べ、もし、バター／上に有る場合には、その位
置にお−て１次に径の大きい最小基準値円形マスク６（
ｂ）を用いて、前述と同様の検査を行なう。以下同様の
処理を１円形マスク７　（ｂ）　。

６　（Ｃ）　、７　（ｃ）に対して行なうことにより、
被検査対象パターンが複数種類のパターン幅によって構
成されてｂる場合に、それぞれのパターン幅についての
設計基準値との比較検査が可能である。

第５図は、前述のパターン幅検査方法を用いて構成され
たパターン幅検査装置のグロック図を示す。同図におい
て光電変換スキャナ１ｏを走査して読み出された被検査
対象物のバター／け、２値化回路１１で、２値化画像１
２に変換され、前記２値化画像に変換されたパターンに
対して、設計基準値Ｘりあらかじめ求められる最小基準
値円形マスクと最大基準値円形マスクの２種類の円形マ
スク走査を、一般に公知の方法で１円形マスク走査回路
１３によって行なう。さらに、検査位置検出回路１４に
より、前記最小基準値円形マスクの中心と円周上の向か
い合う２点がパターン上に有るかどうかを論理式（１）
式に基づいて検出し、これが満足される位置に於いて、
検査位置検出信号１５が出力され、最小基準値比較回路
１６の制御を行なう。この最小基準値比較回路では、検
査位置検出回路によって検出された位置に於いて、論理
式（２）Ｋ基づき、前記最小基準値円形マスクの円周上
の向か−合う２点と中心を結ぶ線に対して直交する円周
上の相い対する２点がパターン上に有るかどうかを検出
し、とれら２点がと吃にパターン上に無い場合には、被
検査対象パターンのパターン幅が設計基準値よ勺狭いと
判定され、最小基準値比較信号１７が出力される。一方
、最大基準値比較回路１８によシ、前記円形マスク走査
回路によって走査された円形マスクのうちの最大基準値
円形マスク上のすべての点がパターン上に有るかどうか
が検査され１円形マスク上のすべての点がパターン上に
有る場合には、被検査対象パターンのパターン幅が設計
基準値より広めと判定され、最大基準値比較信号Ｉ８が
出力される。したがって。

これら最小基準値比較信号および最大基準値比較信号に
より、被検査対象パターンのパターン幅が設計基準値を
膚たすかどうか判定出来る。

すなわち、たとえばプリント基板のフォトマスク等のパ
ターン幅を設計基準値と比較検査する際に、設計基準値
よりあらかじめ求められる最小基準値以下マスクと、最
大基準値円形マスクの２種類の円形マスク走査を行ない
、最小基準値円形マスクの中心と１円周上の向かい合う
２点がパターン上に有り、前記２点と中心を結ぶ線に対
して直交する円周上の相ｌ対する２点がパターン上に無
い場合釦、被検査対象パターン幅が設計基準値より狭い
という判定を下し、逆圧、最大基準値円形マスク上のす
べての点がパターン上に有る場合には、被検査対象パタ
ーン幅が設君１基準値より広いという判定を下す。した
がって、従来と異なりパターンの走行方向を検出する必
要がなく、また検査可能な方向もたとえば０°、４５°
、　９００．　１３５゜等のパターンのみに限定されず
、任意の方向を向いたパターン検査が可能であシ、パタ
ーンの方向が変化する近傍、あるいけパターンの接合点
近傍でのパターン幅検査が可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、最小基準値円形マスク走査九よりパターン幅
検査を行なう原理図であり、第２図は。 最小基準値以下マスクパターンの一例を示す図であり、
第３図は、最大基準値円形マスク走査によりパターン幅
を検査する方法の説明図であり、第４図は、被検査対象
物に形成されたパターンが複数種類の幅をもつパターン
により構成されている場合に、各々のパターンが設ｅ［
基準値を満足するかどうかを判定する方法を説明する図
であシ、第５図は、パターン幅検査装置のブロック図で
ある。 図において１は、被検査対象物のパターンの２値化画像
、２は、最小基準値円形マスク、３け。 最小基準値以下のパターン幅の箇所、４は、最大基準値
円形マスク、５は、パターン幅が設計基準値より広い箇
所、６（ａ）　、６（ｂ）　、６（ｃ）は、それぞれ複
数種類のパターン幅に対する最小基準値円形マスク、　
７　（ａ）　、　　７　（ｂ）　、７　（ｃ）は、それ
ぞれ複数種類のパターン幅に対する最大基準値円形マス
ク、１０け、光電変換スキャナ、１１け、２値化回路、
１２け、２値化画像、１３け１円形マスク走査回路、】
４は、検査位置検出回路、１５け、検査位置検出信号、
ＩＧは、最小基準値比較回路、１７は、最小基準値比較
信号、】８は、最大基準値比較回路、１９け、最大基準
値比較信号を示す。 代理人弁珂士　内照　　普

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ０）被検査対象物のパターンを光電変換スキャナで走査
   し、パターン状態を検査するパターン幅検査方法に於い
   て、形成されたパターンが設計基準値を満たすかどうか
   判定するために、設計基準値よりあらかじめ求められる
   最小基準値円形マスクと、最大基準値円形マスクの２種
   類の円形マスク走査を行ない、最小基準値円形マスクの
   中心と。 円周上の向かい合う２点がパターン上に有シ、前記２点
   と中心を結ぶ線に対して直交する円周上の相対する２点
   がパターン上に無い場合に被検査対象パターン幅が設計
   基準値より狭いという判定を下し、逆に、最大基準値円
   形マスク上のすべての点がパターン上に有る場合には被
   検査対象パターン幅が設計基準値よシ広いという判定を
   下すことで走査し、パターン状態を検査するパターン幅
   検査方法に於いて、被検査対象物に形成されたパターン
   が、複数種類の幅をもつパターンより構成されている場
   合に、各々のパターンが設計基準値を満足するかどうか
   を判定するために、設計基準値よりあらかじめ求められ
   る最小基準値円形マスクと最大基準値円形マスクの２Ｎ
   ！、類の円形マスクを各パターンに対して用意し、これ
   ら複数個の円形マスクをその径の小さいＭＶＣ逐次走査
   し、最小基準値円形マスクの中心と円周上の向かい合う
   ２点がパターン上に有シ、前記２点と中心を結ぶ線に対
   して直交する円周上や相対する２点がパターン上に無い
   場合に、被検査対象パターン幅が設計基準値より狭いと
   いう判定を下し、逆に、最大基準値円形マスク上の点が
   すべてパターン上に有る場合に１次に大きい径をもつ最
   小基準値円形マスクを用いて、前述の最小基準値円形マ
   スクによるバター７幅検査と同様の検査を行ない、以下
   、同様にして、前記複数個の円形マスクを逐次走査する
   ことにより、複数種類のパターン幅について検査を行な
   うことを特徴とするパターン幅検査方法。 （３）被検査対象物を光電変換スキャナで走査して読み
   出されたパターンを２値化画像に変換する２値化回路と
   、前記２値化されたパターンに対して。 設計基準値よりあらかじめ求められる最小基準値円形マ
   スクと最大基準値円形マスクの２種類の円形マスク走査
   を行なう円形マスク走査回路と、前記最小基準値円形マ
   スクの中心と円周上の向かい合う２点がパターン上に有
   るかどうかを検出するための検査位置検出回路と、検査
   位置検出回路妊よって検出された位置に於いて、前記円
   周上の向かい合う２点と中心を結ぶ線に対して直交する
   円周上の相一対する２点がパターン上に有るかどうかを
   検査する最小基準値比較回路と、前記最大基準値円形マ
   スク上のすべての点がパターン上に有るかどうかを検査
   する最大基準値比較回路とを備えたことを特徴とするパ
   ターン幅検査装置。