JPH0296759A - 感光性平版印刷版 - Google Patents
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- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 69
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 28
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 28
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 22
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 19
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims abstract description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 23
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 9
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 5
- KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 1,2-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 abstract description 19
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 33
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 33
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 28
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- 238000011161 development Methods 0.000 description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 14
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 13
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 11
- -1 quinonediazide compound Chemical class 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 7
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 7
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 6
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- KOAWAWHSMVKCON-UHFFFAOYSA-N 6-[difluoro-(6-pyridin-4-yl-[1,2,4]triazolo[4,3-b]pyridazin-3-yl)methyl]quinoline Chemical compound C=1C=C2N=CC=CC2=CC=1C(F)(F)C(N1N=2)=NN=C1C=CC=2C1=CC=NC=C1 KOAWAWHSMVKCON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000866 electrolytic etching Methods 0.000 description 4
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241000272814 Anser sp. Species 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001253 acrylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N phenolphthalein Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C(=O)O1 KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,3,4,5-tetrahydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1O LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- UYBDKTYLTZZVEB-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentahydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=C(O)C(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UYBDKTYLTZZVEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEQUKPCANKRTPZ-UHFFFAOYSA-N (2,3-dihydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1O DEQUKPCANKRTPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-Benzenediol Natural products OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNJRKFKAFWSXSE-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-ethenoxyethane Chemical compound ClCCOC=C DNJRKFKAFWSXSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)COC=C OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2,2'-azo-bis-isobutyronitrile Substances N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZQBDGHUOBRFAA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,6-dihydroxyphenyl)benzaldehyde Chemical compound C1(O)=C(C(O)=CC=C1)C1=CC=CC=C1C=O VZQBDGHUOBRFAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCYVWWWTHPPJII-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenepropanedinitrile Chemical compound N#CC(=C)C#N FCYVWWWTHPPJII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGUKYHHAGPFJMC-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl)-1,1-dioxo-2,1$l^{6}-benzoxathiol-3-yl]-2,5-dimethylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3S(=O)(=O)O2)C=2C(=CC(O)=C(C)C=2)C)=C1C MGUKYHHAGPFJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000951471 Citrus junos Species 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 101100438426 Drosophila melanogaster Art4 gene Proteins 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical class C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N Leucocrystal Violet Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZKXBGJNNCGHIC-UHFFFAOYSA-N Leucomalachite green Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=CC=C1 WZKXBGJNNCGHIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000209140 Triticum Species 0.000 description 1
- 235000021307 Triticum Nutrition 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPGOFFXRGUQRMW-UHFFFAOYSA-N [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].O=C1C=CC=CC1=O Chemical compound [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].O=C1C=CC=CC1=O MPGOFFXRGUQRMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229920005822 acrylic binder Polymers 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical class CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229940051881 anilide analgesics and antipyretics Drugs 0.000 description 1
- 150000003931 anilides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N auramine O free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=N)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- SQVRNKJHWKZAKO-UHFFFAOYSA-N beta-N-Acetyl-D-neuraminic acid Natural products CC(=O)NC1C(O)CC(O)(C(O)=O)OC1C(O)C(O)CO SQVRNKJHWKZAKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- IQFVPQOLBLOTPF-HKXUKFGYSA-L congo red Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=CC2=C(N)C(/N=N/C3=CC=C(C=C3)C3=CC=C(C=C3)/N=N/C3=C(C4=CC=CC=C4C(=C3)S([O-])(=O)=O)N)=CC(S([O-])(=O)=O)=C21 IQFVPQOLBLOTPF-HKXUKFGYSA-L 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- OBRMNDMBJQTZHV-UHFFFAOYSA-N cresol red Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3S(=O)(=O)O2)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 OBRMNDMBJQTZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N diazinon Chemical compound CCOP(=S)(OCC)OC1=CC(C)=NC(C(C)C)=N1 FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N eosin Chemical compound [Na+].OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C(O)=C(Br)C=C21 YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- OUGJKAQEYOUGKG-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylidenebutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(=C)CC OUGJKAQEYOUGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Chemical class 0.000 description 1
- 239000002184 metal Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- AWJZTPWDQYFQPQ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-chloroprop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(Cl)=C AWJZTPWDQYFQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- YDKJSAXEBRKYLM-UHFFFAOYSA-N n-(3-methoxyphenyl)prop-2-enamide Chemical compound COC1=CC=CC(NC(=O)C=C)=C1 YDKJSAXEBRKYLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJASPDPXLKIZHB-UHFFFAOYSA-N n-(3-nitrophenyl)prop-2-enamide Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC(NC(=O)C=C)=C1 PJASPDPXLKIZHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEPAGMKWFWQECH-UHFFFAOYSA-N n-(4-chlorophenyl)prop-2-enamide Chemical compound ClC1=CC=C(NC(=O)C=C)C=C1 JEPAGMKWFWQECH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1=CC=CC=C1 BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCIAGQNZQHYKGR-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,3-triol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=C(O)C(O)=CC2=C1 NCIAGQNZQHYKGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002826 nitrites Chemical class 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical class [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- SQVRNKJHWKZAKO-OQPLDHBCSA-N sialic acid Chemical compound CC(=O)N[C@@H]1[C@@H](O)C[C@@](O)(C(O)=O)OC1[C@H](O)[C@H](O)CO SQVRNKJHWKZAKO-OQPLDHBCSA-N 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011008 sodium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003458 sulfonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- LLWJPGAKXJBKKA-UHFFFAOYSA-N victoria blue B Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)=C(C=C1)C2=CC=CC=C2C1=[NH+]C1=CC=CC=C1 LLWJPGAKXJBKKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はポジ型感光性平版印刷版に関し、更に詳しくは
、特定の0−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル
と特定の構造単位を有する樹脂とを組み合せた感光層を
有するポジ型感光性平版印刷版に関する。
、特定の0−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル
と特定の構造単位を有する樹脂とを組み合せた感光層を
有するポジ型感光性平版印刷版に関する。
ポジ型感光性平版印刷版とは一般に、親水性支持体上に
露光により可溶化するインキ受容性感光層を形成したも
のである。この感光層に画像露光を行ない現像すると、
画線部を残して、非画線部は除去されるので、画像が形
成される。
露光により可溶化するインキ受容性感光層を形成したも
のである。この感光層に画像露光を行ない現像すると、
画線部を残して、非画線部は除去されるので、画像が形
成される。
印刷においては、画像部が親油性で非画像部が親水性で
あるという性質上の差が利用される。
あるという性質上の差が利用される。
一般に平版印刷版には、耐刷力、耐薬品性、現像ラチチ
ュード、インキ受容性、感度等が必要であるが、特にポ
ジ型の場合には、良好な耐薬品性、耐刷力、現像ラチチ
ーードが望まれている。ここで耐薬品性とは、印刷時に
使われる種々の薬品、例えばイソプロピルアルコール、
インキ、整面液、プレートクリーナー等に対する適性で
ある。
ュード、インキ受容性、感度等が必要であるが、特にポ
ジ型の場合には、良好な耐薬品性、耐刷力、現像ラチチ
ーードが望まれている。ここで耐薬品性とは、印刷時に
使われる種々の薬品、例えばイソプロピルアルコール、
インキ、整面液、プレートクリーナー等に対する適性で
ある。
感光層としては、0−ナフトキノンジアジド化合物が広
く使用されているが、それ自体鴫高分子化合物ではない
ので、ノボラック樹脂等と混合したり、あるいは縮合反
応させたりして、機械的強度の向上が図られている。樹
脂が結合した0−ナフトキノンジアジド化合物の例とし
て、特公昭+、?−,1g’103号はピロガロールと
アセトンとの重縮合樹脂の0−ナフトキノンジアジドス
ルホン酸エステルを開示している。しかしこれは比較的
良好な性能を示すものの、バインダーとして通常のノボ
ラック樹脂、例えばm−クレゾールノボラック樹脂を使
用した場合は、特にU■インキを使用すると耐刷力が不
足するという欠点を有する。
く使用されているが、それ自体鴫高分子化合物ではない
ので、ノボラック樹脂等と混合したり、あるいは縮合反
応させたりして、機械的強度の向上が図られている。樹
脂が結合した0−ナフトキノンジアジド化合物の例とし
て、特公昭+、?−,1g’103号はピロガロールと
アセトンとの重縮合樹脂の0−ナフトキノンジアジドス
ルホン酸エステルを開示している。しかしこれは比較的
良好な性能を示すものの、バインダーとして通常のノボ
ラック樹脂、例えばm−クレゾールノボラック樹脂を使
用した場合は、特にU■インキを使用すると耐刷力が不
足するという欠点を有する。
そのため、耐刷力、耐薬品性等の上記緒特性を一層向上
するために、種々の感光体およびバインダーを含有する
感光性組成物が提案された。
するために、種々の感光体およびバインダーを含有する
感光性組成物が提案された。
特開昭!!?−71311/、号に開示された感光性組
成物は、レゾルシノール又はその誘導体とピロガロール
とアセトンとの共縮合重合により得られたポリヒドロキ
シフェニル化合物と、ハロゲンスルホニル基を有する0
−キノンジアジド化合物とを縮合させて得られる感光性
樹脂と、バインダーとしてフェノール・ホルムアルデヒ
ド樹脂等のアルカリ可溶性樹脂とを含有する。また特公
昭!A−!;’I/、2/号に開示された感光性組成物
は、0−キノンジアジド化合物感光体と、フェノールと
m−p−混合クレゾールとアルデヒドとを共縮合させて
なる樹脂のバインダーとを含有する。しかし、これらの
感光性組成物においては、依然バインダーとしていわゆ
るノボラック樹脂が使用されているために、画像部の感
光層の皮膜強度が低く、耐刷力が劣るという欠点があっ
た。
成物は、レゾルシノール又はその誘導体とピロガロール
とアセトンとの共縮合重合により得られたポリヒドロキ
シフェニル化合物と、ハロゲンスルホニル基を有する0
−キノンジアジド化合物とを縮合させて得られる感光性
樹脂と、バインダーとしてフェノール・ホルムアルデヒ
ド樹脂等のアルカリ可溶性樹脂とを含有する。また特公
昭!A−!;’I/、2/号に開示された感光性組成物
は、0−キノンジアジド化合物感光体と、フェノールと
m−p−混合クレゾールとアルデヒドとを共縮合させて
なる樹脂のバインダーとを含有する。しかし、これらの
感光性組成物においては、依然バインダーとしていわゆ
るノボラック樹脂が使用されているために、画像部の感
光層の皮膜強度が低く、耐刷力が劣るという欠点があっ
た。
そこで、耐刷力を向上させる方法として露光、現像後、
高温で加熱処理する方法(バーニング処理と呼ばれる)
が一般に用いられている。ところがバーニング処理を行
なうと、加熱時に画像部の感光層より樹脂のモノマー成
分が非画像部等に付着したりして、印刷時に地汚れを発
生しやすくなるという問題がある。
高温で加熱処理する方法(バーニング処理と呼ばれる)
が一般に用いられている。ところがバーニング処理を行
なうと、加熱時に画像部の感光層より樹脂のモノマー成
分が非画像部等に付着したりして、印刷時に地汚れを発
生しやすくなるという問題がある。
一方、特公昭32−−gyoi号に開示の感光性組成物
は、0−ナフトキノジアジドスルホン酸誘導体からなる
感光性付与剤と下記−服代たはカルボン酸基であり、R
3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基、R4は
水素原子、アルキル基、フェニル基またはアラルキル基
であり、Xは窒素原子と芳香族環炭素原子とを連結する
コ価の有機基、nはOまたは/、Yは置換基を有しても
よいフェニレン基または置換基を有してもよいナフチレ
ン基をあられす。)により表わされる構造単位を有する
アクリル系高分子化合物からなるバインダーとを含有す
る。
は、0−ナフトキノジアジドスルホン酸誘導体からなる
感光性付与剤と下記−服代たはカルボン酸基であり、R
3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基、R4は
水素原子、アルキル基、フェニル基またはアラルキル基
であり、Xは窒素原子と芳香族環炭素原子とを連結する
コ価の有機基、nはOまたは/、Yは置換基を有しても
よいフェニレン基または置換基を有してもよいナフチレ
ン基をあられす。)により表わされる構造単位を有する
アクリル系高分子化合物からなるバインダーとを含有す
る。
この感光性組成物はバインダーとしてノボラック樹脂の
代わりに上記構造単位を有する高分子化合物を使用して
いるので、良好な感光層皮膜強度及び耐刷性を有する。
代わりに上記構造単位を有する高分子化合物を使用して
いるので、良好な感光層皮膜強度及び耐刷性を有する。
しかしながら、特公昭!;2−.211’lO1号の感
光性組成物からなる感光層を有するポジ型感光性平版印
刷版は、通常の印刷では比較的良好な耐刷力と耐薬品性
を示すにもかかわらず、UV印刷においては依然不十分
であることがわかった。
光性組成物からなる感光層を有するポジ型感光性平版印
刷版は、通常の印刷では比較的良好な耐刷力と耐薬品性
を示すにもかかわらず、UV印刷においては依然不十分
であることがわかった。
また現像ラチチュードが狭いという欠点も認められた。
ここでUV印刷とは紫外線吸収剤を含むインキ(U■イ
ンキ)を用いて行なう印刷をいう。UV印刷に適さない
理由は、UV印刷に使用されるインキや薬剤に対して感
光層の耐薬品性が低いことKあることがわかった。
ンキ)を用いて行なう印刷をいう。UV印刷に適さない
理由は、UV印刷に使用されるインキや薬剤に対して感
光層の耐薬品性が低いことKあることがわかった。
そこで、本発明者は、先に上記アクリル系バインダーと
、感光体として多価フェノールとアルデヒド又はケトン
との重縮合樹脂の0−ナフトキノンジアジドスルホン酸
エステルとを組み合せることKより現像ラチチュードと
、UVインキ適性が改良された感光性組成物を提案した
(特願昭A/−/2//’19号)。
、感光体として多価フェノールとアルデヒド又はケトン
との重縮合樹脂の0−ナフトキノンジアジドスルホン酸
エステルとを組み合せることKより現像ラチチュードと
、UVインキ適性が改良された感光性組成物を提案した
(特願昭A/−/2//’19号)。
本発明者らは、更に現像ラチチュードが改善され、また
セーフライト性、露光可視画性も良好な感光性組成物を
提供すべく検討を重ねた。
セーフライト性、露光可視画性も良好な感光性組成物を
提供すべく検討を重ねた。
即ち、本発明の目的は、耐薬品性が極めて良好で、バー
ニング処理を行なうことなくUVインキ印刷も可能な、
耐刷力に優れたポジ型感光性平版印刷版を提供すること
である。
ニング処理を行なうことなくUVインキ印刷も可能な、
耐刷力に優れたポジ型感光性平版印刷版を提供すること
である。
また別の目的は、現像ラチチュードが広いポジ型感光性
平版印刷版を提供することにある。
平版印刷版を提供することにある。
更に別の目的は露光可視画性、セーフライト性良好なポ
ジ型感光性平版印刷版を提供することにある。
ジ型感光性平版印刷版を提供することにある。
本発明者等は、上記従来の感光性組成物の欠点につき鋭
意検討を行なった結果、感光性付与剤として0−ナフト
キノンジアジドスルホン酸類の中でもある特定のもの、
具体的には0−ナフトキノンジアジド−q−スルホン酸
エステルを使用すれば、UV印刷における耐薬品性及び
耐刷力に優れ、かつ現像ラチチュード、露光可視画性、
セーフライト性にも優れたポジ型感光性平版印刷版が得
られることを見出し本発明に至った。
意検討を行なった結果、感光性付与剤として0−ナフト
キノンジアジドスルホン酸類の中でもある特定のもの、
具体的には0−ナフトキノンジアジド−q−スルホン酸
エステルを使用すれば、UV印刷における耐薬品性及び
耐刷力に優れ、かつ現像ラチチュード、露光可視画性、
セーフライト性にも優れたポジ型感光性平版印刷版が得
られることを見出し本発明に至った。
すなわち、本発明のポジ型感光性平版印刷版は、
(A) o−ナフトキノンジアジド−グースルホン酸
エステルと、 CB) 下記−服代CI)により表わされる構造単位
を有する高分子化合物、 (式中、RoおよびR2はそれぞれ水素原子、)・ロゲ
ン原子、アルキル基、アリール基またはカルボン酸基で
あり、R3は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基また
はアリール基であり、R4は水素原子、アルキル基、ア
リール基またはアラルキル基であり、Yは置換基を有し
てもよい芳香族基であり、Xは窒素原子と前記芳香族基
の炭素原子とを連結するコ価の有機基であり、nはO−
夕の整数である。)とを含有する感光層を支持体上に有
することを%徴とする。
エステルと、 CB) 下記−服代CI)により表わされる構造単位
を有する高分子化合物、 (式中、RoおよびR2はそれぞれ水素原子、)・ロゲ
ン原子、アルキル基、アリール基またはカルボン酸基で
あり、R3は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基また
はアリール基であり、R4は水素原子、アルキル基、ア
リール基またはアラルキル基であり、Yは置換基を有し
てもよい芳香族基であり、Xは窒素原子と前記芳香族基
の炭素原子とを連結するコ価の有機基であり、nはO−
夕の整数である。)とを含有する感光層を支持体上に有
することを%徴とする。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明の(A) o−ナフトキノンジアジド−グースル
ホン酸エステルに使用するヒドロキシ化合物としては、
ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフ
ェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ペンタヒド
ロキシベンゾフェノン、オクタヒドロキシベンゾフェノ
ン、またはその誘導体、例えばハロゲン原子、アルキル
基、アリール基、アラルキル基、カルボン酸基の置換体
あるいはジヒドロキシビスフェノールA、トIJヒドロ
キシビスフェノールA、テトラヒドロキシビスフェノー
ルまたはその誘4体、ジヒドロキシナフタレン、トリヒ
ドロキシナフタレン等が挙げられる。好ましくはトリヒ
ドロキシベンゾフェノンまたはテトラヒドロキシベンゾ
フェノンであり、より好ましくはコ、3゜q−トリヒド
ロキシベンゾフェノン、 占J、 !、 e’−テト
ラヒドロキシベンゾフェノンが挙げられる。又、0−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸エステルの例としては、
/、!−ナフトキノン=コージアジドーグースルホン酸
クロライドや/。
ホン酸エステルに使用するヒドロキシ化合物としては、
ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフ
ェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ペンタヒド
ロキシベンゾフェノン、オクタヒドロキシベンゾフェノ
ン、またはその誘導体、例えばハロゲン原子、アルキル
基、アリール基、アラルキル基、カルボン酸基の置換体
あるいはジヒドロキシビスフェノールA、トIJヒドロ
キシビスフェノールA、テトラヒドロキシビスフェノー
ルまたはその誘4体、ジヒドロキシナフタレン、トリヒ
ドロキシナフタレン等が挙げられる。好ましくはトリヒ
ドロキシベンゾフェノンまたはテトラヒドロキシベンゾ
フェノンであり、より好ましくはコ、3゜q−トリヒド
ロキシベンゾフェノン、 占J、 !、 e’−テト
ラヒドロキシベンゾフェノンが挙げられる。又、0−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸エステルの例としては、
/、!−ナフトキノン=コージアジドーグースルホン酸
クロライドや/。
−一ペンゾキノンーコジアジドー弘−スルホン酸クロラ
イド等が挙げられる。
イド等が挙げられる。
このキノンジアジドスルホン酸エステルは、炭酸アルカ
リまたはトリエチルアミン等を触媒にして、公知の方法
で合成される。
リまたはトリエチルアミン等を触媒にして、公知の方法
で合成される。
このエステル化体の実質縮合率(フェノールのOH基/
個に対する0−ナツトキノンジアジドスルホニルクロラ
イドの割合)は30〜/θ0mo1%が好ましく、より
好ましくはりθ〜9qmo1%、更に好ましくは夕5−
g g mo1%である。J Omo1%未満の場合
、現像ラチチーードが低下する。
個に対する0−ナツトキノンジアジドスルホニルクロラ
イドの割合)は30〜/θ0mo1%が好ましく、より
好ましくはりθ〜9qmo1%、更に好ましくは夕5−
g g mo1%である。J Omo1%未満の場合
、現像ラチチーードが低下する。
」1記(A)は感光性組成物中、夕〜夕Owt%、好ま
しくはio−グOwt%の範囲で使用する。
しくはio−グOwt%の範囲で使用する。
また、他の感光体を本発明の効果を損なわない程度に、
必要に応じて添加することは勿論可能であり、具体的に
は分子量が夫々SOO〜5ooo程度のピロガロール・
アセトン樹脂のエステル化物、レゾルシン−ベンズアル
デヒド樹脂のエステル化物、クレゾール樹脂のエステル
化物等の公知の0−ナフトキノンジアジドスルホン酸エ
ステルを感光性組成物中!;Owt%以下の範囲で併用
してもよい。
必要に応じて添加することは勿論可能であり、具体的に
は分子量が夫々SOO〜5ooo程度のピロガロール・
アセトン樹脂のエステル化物、レゾルシン−ベンズアル
デヒド樹脂のエステル化物、クレゾール樹脂のエステル
化物等の公知の0−ナフトキノンジアジドスルホン酸エ
ステルを感光性組成物中!;Owt%以下の範囲で併用
してもよい。
また、本発明の(B)で示される高分子化合物は、下記
−服代〔■〕 (式中、R,およびR2はそれぞれ水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基、アリール基またはカルボン酸基であ
り、R3は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基または
アリール基であり、R4は水素原子、アルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基であり、Yは置換基を有して
もよい芳香族基であり、Xは窒素原子と前記芳香族基の
炭素原子とを連結する2価の有機基であり、nはθ〜5
の整数である。〕 Kより表わされる構造単位を有する高分子化合物で、上
記構造単位のみの繰り返し構造を有する単独重合体でも
よいが、上記構造単位の他に1種又はコ種以上の単量体
単位を有する共重合体でもよい。
−服代〔■〕 (式中、R,およびR2はそれぞれ水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基、アリール基またはカルボン酸基であ
り、R3は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基または
アリール基であり、R4は水素原子、アルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基であり、Yは置換基を有して
もよい芳香族基であり、Xは窒素原子と前記芳香族基の
炭素原子とを連結する2価の有機基であり、nはθ〜5
の整数である。〕 Kより表わされる構造単位を有する高分子化合物で、上
記構造単位のみの繰り返し構造を有する単独重合体でも
よいが、上記構造単位の他に1種又はコ種以上の単量体
単位を有する共重合体でもよい。
上記構造単位において、R1およびR2はそれぞれ水素
原子、メチル基やエチル基等のアルキル基、またはカル
ボン酸基が好ましく、より好ましくは水素原子である。
原子、メチル基やエチル基等のアルキル基、またはカル
ボン酸基が好ましく、より好ましくは水素原子である。
R3は水素原子、臭素や塩素等のハロゲン原子、または
メチル基やエチル基等のアルキル基が好ましく、より好
ましくは水素原子またはメチル基である。R4は水素原
子、またはメチル基、エチル基等のアルキル基が好まし
く、より好ましくは水素原子である。
メチル基やエチル基等のアルキル基が好ましく、より好
ましくは水素原子またはメチル基である。R4は水素原
子、またはメチル基、エチル基等のアルキル基が好まし
く、より好ましくは水素原子である。
Yは、好ましくは置換基を有してもよいフェニレン基ま
たはナフチレン基であり、置換基とし−Cはメチル基や
エチル基等のアルキル基等、臭素や塩素等のハロゲン原
子、カルボン酸基、メトキシ基やエトキシ基等のアルコ
キン基、水酸基、スルホン酸基、シアノ基、ニトロ基、
アシル基等・−ある。より好ましくは、Yは無置換かま
たはメチル基を有するフェニレン基またはナフチレン基
である。Xは窒素原子と芳香族炭素とを連結するコ価の
有機基であるが、アルキレン基が好まl、 (、またn
はθ〜夕、好ましくはθ〜3、より好ましくはOである
。
たはナフチレン基であり、置換基とし−Cはメチル基や
エチル基等のアルキル基等、臭素や塩素等のハロゲン原
子、カルボン酸基、メトキシ基やエトキシ基等のアルコ
キン基、水酸基、スルホン酸基、シアノ基、ニトロ基、
アシル基等・−ある。より好ましくは、Yは無置換かま
たはメチル基を有するフェニレン基またはナフチレン基
である。Xは窒素原子と芳香族炭素とを連結するコ価の
有機基であるが、アルキレン基が好まl、 (、またn
はθ〜夕、好ましくはθ〜3、より好ましくはOである
。
共重合体型の構造を有する本発明の高分子化合物にお(
・て、前記式で示される構造単位と組合わせて用いるこ
とができる単量体単位としては、例えばエチレン、プロ
ピレン、イソブチレン、ブタジェン、イソプレン等のエ
チレン系不飽和オレフィン類、例えばスチレン、α−メ
チルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレ
ン等のスチレン類、例えばアクリル酸、メタクリル酸等
のアクリル酸類、例えばイタコン酸、マレイン酸、無水
マレイン酸等の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えばア
クリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブ
チル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、ア
クリル酸コークロロエチル、アクリル酸フェニル、α−
クロロアクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、エタクリル酸エチル等のα−メチレン脂
肪族モノカルボン酸のエステル類、例えばアクリロニト
リル、メタアクリロニトリル等のニトリル類、例えばア
クリルアミド等のアミド類、例えばアクリルアニリド、
p−クロロアクリルアニリド、m−ニトロアクリルアニ
リド、m−メトキシアクリルアニリド等のアニリド類、
例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンジェ酸ビ
ニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、例工ばメチル
ビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビ
ニルエーテル、β−クロロエチルビニルエーテル等のビ
ニルエーテル類、塩化ビニル、ビニリデンクルライド、
ビニリデンシアナイド、例えば/−メチル−7′−メト
キシエチレン、l。
・て、前記式で示される構造単位と組合わせて用いるこ
とができる単量体単位としては、例えばエチレン、プロ
ピレン、イソブチレン、ブタジェン、イソプレン等のエ
チレン系不飽和オレフィン類、例えばスチレン、α−メ
チルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレ
ン等のスチレン類、例えばアクリル酸、メタクリル酸等
のアクリル酸類、例えばイタコン酸、マレイン酸、無水
マレイン酸等の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えばア
クリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブ
チル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、ア
クリル酸コークロロエチル、アクリル酸フェニル、α−
クロロアクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、エタクリル酸エチル等のα−メチレン脂
肪族モノカルボン酸のエステル類、例えばアクリロニト
リル、メタアクリロニトリル等のニトリル類、例えばア
クリルアミド等のアミド類、例えばアクリルアニリド、
p−クロロアクリルアニリド、m−ニトロアクリルアニ
リド、m−メトキシアクリルアニリド等のアニリド類、
例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンジェ酸ビ
ニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、例工ばメチル
ビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビ
ニルエーテル、β−クロロエチルビニルエーテル等のビ
ニルエーテル類、塩化ビニル、ビニリデンクルライド、
ビニリデンシアナイド、例えば/−メチル−7′−メト
キシエチレン、l。
/l−ジメトキシエチレン、/、2−ジメトキシエチレ
ン、i、t’−ジメトキシカルボニルエチレン、/−メ
チル−/′−二トロエチレン等のエチレン誘導体類、例
えばN−ビニルビロール、N−ビニルカルバゾール、N
−ビニルインドール、N−ビニルヒロリテン、N−ビニ
ルビ口り)”/等のN−ビニル化合物、等のビニル系単
量体がある。これらのビニル系単量体は不飽和二重結合
が開裂した構造で高分子化合物中に存在する。
ン、i、t’−ジメトキシカルボニルエチレン、/−メ
チル−/′−二トロエチレン等のエチレン誘導体類、例
えばN−ビニルビロール、N−ビニルカルバゾール、N
−ビニルインドール、N−ビニルヒロリテン、N−ビニ
ルビ口り)”/等のN−ビニル化合物、等のビニル系単
量体がある。これらのビニル系単量体は不飽和二重結合
が開裂した構造で高分子化合物中に存在する。
上記の単量体のうち、構造単位〔■〕と組合せて用いる
ものとして、(メタ)アクリル酸類、脂肪族モノカルボ
ン酸のエステル類、ニトリル類が総合的にみて優れた性
能を示し好ましい。
ものとして、(メタ)アクリル酸類、脂肪族モノカルボ
ン酸のエステル類、ニトリル類が総合的にみて優れた性
能を示し好ましい。
より好ましくは、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、
アクリロニトリル、アクリル酸エチル等である。
アクリロニトリル、アクリル酸エチル等である。
これらの単量体は高分子化合物中にブロックまたはラン
ダムのいずれの状態で結合していてもよい。
ダムのいずれの状態で結合していてもよい。
本発明の高分子化合物(B)の代表的な例を挙げる。な
お下記に例示の化合物において、M wは重量平均分子
量、Mnは数平均分子量、S、k、1!、mおよびnは
、それぞれ構造単位のモル%を表わす。
お下記に例示の化合物において、M wは重量平均分子
量、Mnは数平均分子量、S、k、1!、mおよびnは
、それぞれ構造単位のモル%を表わす。
a) f式(■戸せ云CH□−CR,−)−0OR2
(R+、R2は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、
m=1O〜60m01%1In=470〜90moI%
) b) 83式 (I ) −+F;+CH2−CR,
光hi−−−(CI−(2CR3)tCOOR2CN (R+〜R3は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、
m = /θ〜6θmo1%、n = /θ〜AOmo
1%、t=lO〜6θmo1%)入 (Xはアルキル基、)・ロゲン原子) (R+は水素原子、アルキル基、)・ロゲン原子、m
= /θ〜A Omo1%、m=q O,9Omol%
) 一→C1−(2−Cr(4太− CN (R+〜R4は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、
m二重 0〜b Omo1%、n=1O〜AOmo1%
、ぎ=θ〜コθmoJ、k=/θ〜6θmo1%) (Xはアルキル基、)・ロゲン原子) (R+は水素原子、アルキル基、)・ロゲン原子、m=
/ 0〜A Omo1%、n=10〜60m01%、
l=/θ〜A Omo1%) (R,〜R3は水素原子、アルキル基、)・ロゲン原子
、m ” /θ〜6θmo1%、n−7O〜60m01
%、l = 20 mo1%以下)−→CH2CR4大
− CN (R+〜R4は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、
m== / 0〜l Omo1%、n=10〜40mo
1%、ll=/ 0〜A Omol、 k=/ 0〜A
Omo1%) h) +式(T)柚→CH2−CR→「咲Cl−12−
CR2ザC00CzH40HC00R3 −→CH2−CR4%→C1(2CRs ”r;;CN
Cool((山〜R
6は水素原子、 アルキル基、 ハロゲン 原子、 m=l0 A−6 0m01%、 70〜 θ 口〕ol % 、 1=10〜6 <7mol。
m=1O〜60m01%1In=470〜90moI%
) b) 83式 (I ) −+F;+CH2−CR,
光hi−−−(CI−(2CR3)tCOOR2CN (R+〜R3は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、
m = /θ〜6θmo1%、n = /θ〜AOmo
1%、t=lO〜6θmo1%)入 (Xはアルキル基、)・ロゲン原子) (R+は水素原子、アルキル基、)・ロゲン原子、m
= /θ〜A Omo1%、m=q O,9Omol%
) 一→C1−(2−Cr(4太− CN (R+〜R4は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、
m二重 0〜b Omo1%、n=1O〜AOmo1%
、ぎ=θ〜コθmoJ、k=/θ〜6θmo1%) (Xはアルキル基、)・ロゲン原子) (R+は水素原子、アルキル基、)・ロゲン原子、m=
/ 0〜A Omo1%、n=10〜60m01%、
l=/θ〜A Omo1%) (R,〜R3は水素原子、アルキル基、)・ロゲン原子
、m ” /θ〜6θmo1%、n−7O〜60m01
%、l = 20 mo1%以下)−→CH2CR4大
− CN (R+〜R4は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、
m== / 0〜l Omo1%、n=10〜40mo
1%、ll=/ 0〜A Omol、 k=/ 0〜A
Omo1%) h) +式(T)柚→CH2−CR→「咲Cl−12−
CR2ザC00CzH40HC00R3 −→CH2−CR4%→C1(2CRs ”r;;CN
Cool((山〜R
6は水素原子、 アルキル基、 ハロゲン 原子、 m=l0 A−6 0m01%、 70〜 θ 口〕ol % 、 1=10〜6 <7mol。
k=1
〜t θmo1%、
S = 2
θmo1%以下)
以上のa)〜h)のうち、
a)、
b)、
e)、
f)
(Mw = / E 000 。
Mw/M n=2.l。
及びg)
が特に好適である。
m: n : 1=JO:QO:3θ )更に具
体的には、 b−2) HI (Mw = 60000 。
体的には、 b−2) HI (Mw = 60000 。
Mw / Mn = 7.3 。
m: n : 1=QO:20:170 )(
Mw = 2 g Oθ0、 Mw/Mn = 7.g、 b−3) m : n = シ O: 乙 O)(Mw
= ’I Oθ00゜ M w / M n = 2. !r 。
Mw = 2 g Oθ0、 Mw/Mn = 7.g、 b−3) m : n = シ O: 乙 O)(Mw
= ’I Oθ00゜ M w / M n = 2. !r 。
(Mw = 20000、
Mw/Mn =2.2、
m : n = ! θ : S 0 )m:
n : l : k=30:3’l:30:
lI−)C−/) I−13 l−13(、y、tooo。
n : l : k=30:3’l:30:
lI−)C−/) I−13 l−13(、y、tooo。
Mw / ?v1 n = 3. s、m : n
: 13 = 、70 : j 3 : J
!; )d−2) CH。
: 13 = 、70 : j 3 : J
!; )d−2) CH。
(〜1w=、21000、
Mw/〜1n−5,3、
m : n = !r O: 50 )c−2)
CH3
寥
(Mw = !;りθOθ、
Mw/Mn=+2.9、
m : n : l =2!:2!:!;0)e
−/) (Mw = ’I 、200θ、 Mw / Mn = Il、g 1 n = J O: d−/) l−13 妻 (Mw = 2 i θ 00.Mw/Mn=
7. コ 、m : n : l =
!; 0 コ ll t:y)e−2) f−2) CI(3 r C)−13 CMw=、3JOOO,Mw/Mn=7.0゜m
: n : l ”’ J ざ
:bo:2)f−/) g−7) H3 来−冊Cl−12−C九= N (Mw= 、72θθ0 、 Mw/Mn = ti
、 y、m:n:l:に=:1.o: 3s:s:y
o )来−(−CHz CH→「 N <Mw=3yoθ0、M w / M (1= q、ざ
、m : n : l : k = 20 : 30
: r : Q s )麦→CH2CH大= N (Mw=’1gθθ0 、Mw/Mn = !;、、?
。
−/) (Mw = ’I 、200θ、 Mw / Mn = Il、g 1 n = J O: d−/) l−13 妻 (Mw = 2 i θ 00.Mw/Mn=
7. コ 、m : n : l =
!; 0 コ ll t:y)e−2) f−2) CI(3 r C)−13 CMw=、3JOOO,Mw/Mn=7.0゜m
: n : l ”’ J ざ
:bo:2)f−/) g−7) H3 来−冊Cl−12−C九= N (Mw= 、72θθ0 、 Mw/Mn = ti
、 y、m:n:l:に=:1.o: 3s:s:y
o )来−(−CHz CH→「 N <Mw=3yoθ0、M w / M (1= q、ざ
、m : n : l : k = 20 : 30
: r : Q s )麦→CH2CH大= N (Mw=’1gθθ0 、Mw/Mn = !;、、?
。
m : n : l : k = j O:
/ 0 : 、? 0 : J θ )h
−/) H3 (Mw=、?jθ00 、 Mw/Mn : ?、
q 。
/ 0 : 、? 0 : J θ )h
−/) H3 (Mw=、?jθ00 、 Mw/Mn : ?、
q 。
m:n:l:に:5=20:/!;:、30:3.3=
2 ) (なお、以上の構造式において、各構成単位はその数を
m、n、1等で表現する為に便宜上集合して表わしたが
、実際には集合して存在する必要はない。) 本発明の高分子化合物(B)はつぎのようにして合成す
ることができる。まず、α・β−不飽和酸クロライド類
、またはα・β−不飽和酸無水物類とフェノール性水酸
基を有する第7R5または第2級アミン類とを必要に応
じて塩基性触媒を用いて反応せしめ、前記−服代CI)
で示される構造単位を有する単量体を合成する。次にそ
の単量体を常法に従って単独重合させるが、あるいはそ
の単量体と少なくとも7種の他のビニル系単量体とを共
重合させ、本発明の高分子化合物を得ることができる。
2 ) (なお、以上の構造式において、各構成単位はその数を
m、n、1等で表現する為に便宜上集合して表わしたが
、実際には集合して存在する必要はない。) 本発明の高分子化合物(B)はつぎのようにして合成す
ることができる。まず、α・β−不飽和酸クロライド類
、またはα・β−不飽和酸無水物類とフェノール性水酸
基を有する第7R5または第2級アミン類とを必要に応
じて塩基性触媒を用いて反応せしめ、前記−服代CI)
で示される構造単位を有する単量体を合成する。次にそ
の単量体を常法に従って単独重合させるが、あるいはそ
の単量体と少なくとも7種の他のビニル系単量体とを共
重合させ、本発明の高分子化合物を得ることができる。
この際各車量体の仕込みモル比および重合条件を種々変
えることにより、高分子化合物(B)の分子量ならびに
各構造単位のモル比を広範囲に設定することができる。
えることにより、高分子化合物(B)の分子量ならびに
各構造単位のモル比を広範囲に設定することができる。
しかし、本発明の目的とする用途に有効に供するために
は、分子量は5. o o o乃至/ 00.000、
好ましくはs、ooo〜s o、 o o 。
は、分子量は5. o o o乃至/ 00.000、
好ましくはs、ooo〜s o、 o o 。
であり、前記−服代〔■〕で示される構造単位のモル含
有率は少なくとも10モル%、好ましくはlθ〜roモ
ル%であるものが望ましい。
有率は少なくとも10モル%、好ましくはlθ〜roモ
ル%であるものが望ましい。
(B)は感光性組成物中50〜95wt%、好ましくは
AO−9(7wt%の範囲で使用する。
AO−9(7wt%の範囲で使用する。
本発明の感光層を形成する組成物中には、公知のアルカ
リ可溶性の高分子化合物を含有させることができる。ア
ルカリ可溶性の高分子化合物としてノボラック樹脂、例
えばフェノール・ポルムアルデヒド樹脂、クレゾール・
ホルムアルデヒド樹脂やフェノール変性キシレン樹脂、
ポリヒドロキシスチレン等があげられるが、このような
アルカリ可溶性の高分子化合物は全組成物の60M1k
%以下の添加量で用いられる。
リ可溶性の高分子化合物を含有させることができる。ア
ルカリ可溶性の高分子化合物としてノボラック樹脂、例
えばフェノール・ポルムアルデヒド樹脂、クレゾール・
ホルムアルデヒド樹脂やフェノール変性キシレン樹脂、
ポリヒドロキシスチレン等があげられるが、このような
アルカリ可溶性の高分子化合物は全組成物の60M1k
%以下の添加量で用いられる。
AO重t%を超えると感光層においてUVインキやプレ
ートクリーナー類に画線がやられ易(なり、UVインキ
を適用し難くなる。
ートクリーナー類に画線がやられ易(なり、UVインキ
を適用し難くなる。
ポジ型感光性平版印刷版は一般&でそのほかに露光可視
画付与剤及び色素を含有する。露光可視画付与剤として
は、露光により酸を発生する物質、色素としてはこの酸
と塩を形成する化合物を用いるのが一般的である。
画付与剤及び色素を含有する。露光可視画付与剤として
は、露光により酸を発生する物質、色素としてはこの酸
と塩を形成する化合物を用いるのが一般的である。
露光により酸を発生する化合物としては、下記一般弐■
■またはIIIで示されるトリ・・ロアルキル化合物ま
たはジアゾニウム塩化合物が好ましくゝ0 (ただし、Xaは炭素原子数7〜3のトリハロアルキル
基であり、WはNまたはPであり、ZはOlSまたはS
eであり、YはWとZを環化させるとともに発色団を有
する基である。)(Arはアリール基であり、Xは無機
化合物の対イオンである。) 具体的には、式■のトリハロアルキル化合物としては、
例えば下記の一形式■a、nb、IIcで表される化合
物がある。
■またはIIIで示されるトリ・・ロアルキル化合物ま
たはジアゾニウム塩化合物が好ましくゝ0 (ただし、Xaは炭素原子数7〜3のトリハロアルキル
基であり、WはNまたはPであり、ZはOlSまたはS
eであり、YはWとZを環化させるとともに発色団を有
する基である。)(Arはアリール基であり、Xは無機
化合物の対イオンである。) 具体的には、式■のトリハロアルキル化合物としては、
例えば下記の一形式■a、nb、IIcで表される化合
物がある。
Xa
(ただし、Aは置換若しくは非置換アリール基又は複素
環式基であり、Bは水素又はメチル基であり、nはO−
一の整数である。) 露光可視画付与剤の添加量は、感光層の全組成物の0.
0 /〜2θM量%であるのが好ましく、より好ましく
は0. /〜ion量%である。
環式基であり、Bは水素又はメチル基であり、nはO−
一の整数である。) 露光可視画付与剤の添加量は、感光層の全組成物の0.
0 /〜2θM量%であるのが好ましく、より好ましく
は0. /〜ion量%である。
一方、色素としては一般に酸により塩を形成する化合物
であればいずれも使用可能であり、例えばトリフェニル
メタン系染料、シアニン染料、ジアゾ染料、スチリル染
料等が挙げられる。
であればいずれも使用可能であり、例えばトリフェニル
メタン系染料、シアニン染料、ジアゾ染料、スチリル染
料等が挙げられる。
具体的にはビクトリアピュアブルーB OH、エチルバ
イオレット、クリスタルバイオレット、ブリリアントグ
リーン、ペイシノクフクシン、エオシン、フェノールフ
タレイン、キシレノールブルー コンゴーレッド、マラ
カイトグリーン、オイルブルーナt03、オイルピンク
+372、クレゾールレッド、オーラミン、ターp−ジ
エチルアミノフェニルイミノナフトキノン、ロイコマラ
カイトグリーン、ロイコクリスタルバイオレット等が挙
げられる。色素の添加量は感光層の全組成物の約0.0
/〜io重量%が好ましく、より好ましくはo、 0
5− g重量%である。
イオレット、クリスタルバイオレット、ブリリアントグ
リーン、ペイシノクフクシン、エオシン、フェノールフ
タレイン、キシレノールブルー コンゴーレッド、マラ
カイトグリーン、オイルブルーナt03、オイルピンク
+372、クレゾールレッド、オーラミン、ターp−ジ
エチルアミノフェニルイミノナフトキノン、ロイコマラ
カイトグリーン、ロイコクリスタルバイオレット等が挙
げられる。色素の添加量は感光層の全組成物の約0.0
/〜io重量%が好ましく、より好ましくはo、 0
5− g重量%である。
本発明のポジ型感光性平版印刷版の感光層組成物中には
、その他に目的に応じて各種の添加剤を加えることがで
きる。例えば塗布性を向上させるために界面活性剤、感
度向上のために各種増感剤、塗膜の物性改良のために可
塑剤等、また、画像の印刷インキ着肉性な高めるためK
、疎水性基を有する各種添加剤、例えばp−オクチルフ
ェノール−ホルマリンノボラック樹脂、p−t−ブチル
フェノール−ホルマリンノボラック樹脂、p−t−ブチ
ルフェノール・ベンズアルデヒド樹脂、ロジン変性ノボ
ラック樹脂等の変性ノボランク樹脂、これらの変性ノボ
ラック樹脂の0−ナフトキノンジアジドスルホン酸エス
テル(OH基のエステル化率20〜70モル%)等を添
加することができる。これらの添加剤の含有量はその種
類と目的によって異なるが、概して感光層の全組成物に
対して307〜20重量%、好ましくは0.OS〜10
重量%である。
、その他に目的に応じて各種の添加剤を加えることがで
きる。例えば塗布性を向上させるために界面活性剤、感
度向上のために各種増感剤、塗膜の物性改良のために可
塑剤等、また、画像の印刷インキ着肉性な高めるためK
、疎水性基を有する各種添加剤、例えばp−オクチルフ
ェノール−ホルマリンノボラック樹脂、p−t−ブチル
フェノール−ホルマリンノボラック樹脂、p−t−ブチ
ルフェノール・ベンズアルデヒド樹脂、ロジン変性ノボ
ラック樹脂等の変性ノボランク樹脂、これらの変性ノボ
ラック樹脂の0−ナフトキノンジアジドスルホン酸エス
テル(OH基のエステル化率20〜70モル%)等を添
加することができる。これらの添加剤の含有量はその種
類と目的によって異なるが、概して感光層の全組成物に
対して307〜20重量%、好ましくは0.OS〜10
重量%である。
上記感光層組成物は、各種溶媒、例えばメチル(エチル
)セロソルブ、メチル(エチル)セロソルブアセテート
等のセロソルブ類、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン
、トリクロロエチレン等の塗布溶媒に溶解して支持体上
に塗布し、乾燥することにより形成される。
)セロソルブ、メチル(エチル)セロソルブアセテート
等のセロソルブ類、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン
、トリクロロエチレン等の塗布溶媒に溶解して支持体上
に塗布し、乾燥することにより形成される。
本発明のポジ型感光性平版印刷版の感光層は、用途によ
っても異なるが、一般的に固形分として0.5〜j、
Ofj /m2となるように形成するのが好ましい。
っても異なるが、一般的に固形分として0.5〜j、
Ofj /m2となるように形成するのが好ましい。
本発明のポジ型感光性平版印刷版に用いる支持体として
は、アルミニウム板が好ましい。アルミニウム板に対し
ては、砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要に応じて封
孔処理等の表面処理を施すのが好ましい。これらの処理
は公知の方法により行なうことができる。
は、アルミニウム板が好ましい。アルミニウム板に対し
ては、砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要に応じて封
孔処理等の表面処理を施すのが好ましい。これらの処理
は公知の方法により行なうことができる。
砂目立て処理の方法としては、機械的方法及び電解によ
りエツチングする方法が挙げられる。
りエツチングする方法が挙げられる。
機械的方法としては、例えば、ボール研磨法、ブラシ研
磨法、液体ホーニングによる研磨法、パフ研磨法等が挙
げられる。アルミニウム材の組成等に応じて、上記の方
法を単独または組合わせて用(・ることかできる。好ま
しいのは電解エツチング法である。
磨法、液体ホーニングによる研磨法、パフ研磨法等が挙
げられる。アルミニウム材の組成等に応じて、上記の方
法を単独または組合わせて用(・ることかできる。好ま
しいのは電解エツチング法である。
電解エツチングは、リン酸、硫酸、塩酸、硝酸等の無機
酸を7種またはコ種以」二含有する浴中にアルミニウム
板を浸漬することにより行なう。砂目立て処理の後、必
要に応じてアルカリあるいは酸の水溶液によってデスマ
ット処理を行なって中和し、水洗する。
酸を7種またはコ種以」二含有する浴中にアルミニウム
板を浸漬することにより行なう。砂目立て処理の後、必
要に応じてアルカリあるいは酸の水溶液によってデスマ
ット処理を行なって中和し、水洗する。
陽極酸化処理は、tN液として硫酸、クロム酸、シーウ
酸、リン酸、マロン酸等を7種または2種以上含む溶液
を用い、アルミニウム板を陽極圧して電解することによ
り行なう。形成された陽極酸化皮膜量は/〜Sθmq/
d1112が適当であり、好ましくはlθ〜’l0m9
/drrLzである。
酸、リン酸、マロン酸等を7種または2種以上含む溶液
を用い、アルミニウム板を陽極圧して電解することによ
り行なう。形成された陽極酸化皮膜量は/〜Sθmq/
d1112が適当であり、好ましくはlθ〜’l0m9
/drrLzである。
ここで陽極酸化皮膜量は、例えばアルミニウム液をリン
酸クロム酸溶液(ざタラリン酸水溶液3smtと、酸化
クロム(VI) 20 gとを/lの水に溶解して生成
)に浸漬して酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前後の重
量変化を測定することにより求めることができる。
酸クロム酸溶液(ざタラリン酸水溶液3smtと、酸化
クロム(VI) 20 gとを/lの水に溶解して生成
)に浸漬して酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前後の重
量変化を測定することにより求めることができる。
封孔処理としては、沸騰水処理、水蒸気処理。
ケイ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等がある。
この他にアルミニウム支持体に対して、水溶性高分子化
合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶液により下
引処理を施すこともできる。
合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶液により下
引処理を施すこともできる。
このようにして得られたポジ型感光性平版印刷版は公知
の方法により使用することができる。
の方法により使用することができる。
典型的には、感光性印刷版にポジ型フィルムを密着させ
、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等で露光し、メ
タケイ酸ソーダ、メタケイ酸カリ、リン酸ソーダ、カセ
イソーダ等のアルカリ水溶液により現像し、印刷版とす
る。
、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等で露光し、メ
タケイ酸ソーダ、メタケイ酸カリ、リン酸ソーダ、カセ
イソーダ等のアルカリ水溶液により現像し、印刷版とす
る。
このようにして作製された平版印刷版は枚葉、オフ輪用
印刷機において使用することができる。
印刷機において使用することができる。
本発明を以下の実施例により更に詳細に説明する。
まず、本発明に使用する感光体およびバインダーの合成
例を以下に示す。
例を以下に示す。
(バインダーの合成)
合成例1
前記(b−t)の高分子化合物の合成
p−ヒドロキシアニリンtioog、ハイドロキノンモ
ノメチルエーテルグI、アセトン’llおよびピリジン
JAO9を混合し、寒剤を用いて外部より冷却し、内温
が一70℃まで下がった時点でメタクリル酸クロライド
’120gを撹拌下だ滴下した。反応温度が0℃以下に
なるよう滴下速度を調節し、滴下終了後θ〜3℃で約λ
時間攪拌した。次いで25℃でコ時間撹拌後反応液を7
73位になるまで濃縮し、これを希塩酸(pH約/、
0 ) / 01中に注入し、生じた沈殿を吸引濾過し
て白色の固体を得た。この白色の固体を加温したメタノ
ール21に溶解し、さらに5%炭酸ナトリウム水溶液を
、21加えて、ダθ℃で30分間攪拌した。次いで、暗
赤色のこの溶液をS%塩酸水溶液El中に注入して多情
の沈殿を生成させ、これを吸引濾過し、乾燥して淡桃色
の固体を得た、これをエタノールと水との混合溶媒によ
り再結晶して、融点755〜15A℃のp−ヒドロキシ
メタクリルアニリドの無色針状晶ll!;θlを得た。
ノメチルエーテルグI、アセトン’llおよびピリジン
JAO9を混合し、寒剤を用いて外部より冷却し、内温
が一70℃まで下がった時点でメタクリル酸クロライド
’120gを撹拌下だ滴下した。反応温度が0℃以下に
なるよう滴下速度を調節し、滴下終了後θ〜3℃で約λ
時間攪拌した。次いで25℃でコ時間撹拌後反応液を7
73位になるまで濃縮し、これを希塩酸(pH約/、
0 ) / 01中に注入し、生じた沈殿を吸引濾過し
て白色の固体を得た。この白色の固体を加温したメタノ
ール21に溶解し、さらに5%炭酸ナトリウム水溶液を
、21加えて、ダθ℃で30分間攪拌した。次いで、暗
赤色のこの溶液をS%塩酸水溶液El中に注入して多情
の沈殿を生成させ、これを吸引濾過し、乾燥して淡桃色
の固体を得た、これをエタノールと水との混合溶媒によ
り再結晶して、融点755〜15A℃のp−ヒドロキシ
メタクリルアニリドの無色針状晶ll!;θlを得た。
このようにして得たp−ヒドロキシメタクリルアニリド
(HyPMA)s 、7.29.アクリロニトリル(A
N) 7s、qil メタクリル酸メチル(MMA)
4tO,Ogおよびα・α′−アゾビスイソブチロニト
リル3gをエタノール溶媒コタOml中に溶解し、窒素
ガス置換した後、75℃でグ時間加熱し、重合体溶液を
得た。この重合体溶液を31の5%HCI水溶液中に注
ぎ、生じた白色の沈殿物を濾過し、乾燥して、白色重合
体りOgを得た。得られた重合体の分子量をGPCで測
定したら、MnがざAOθ、Mwが1g000であった
。
(HyPMA)s 、7.29.アクリロニトリル(A
N) 7s、qil メタクリル酸メチル(MMA)
4tO,Ogおよびα・α′−アゾビスイソブチロニト
リル3gをエタノール溶媒コタOml中に溶解し、窒素
ガス置換した後、75℃でグ時間加熱し、重合体溶液を
得た。この重合体溶液を31の5%HCI水溶液中に注
ぎ、生じた白色の沈殿物を濾過し、乾燥して、白色重合
体りOgを得た。得られた重合体の分子量をGPCで測
定したら、MnがざAOθ、Mwが1g000であった
。
比較合成例/
合成例/においてp−ヒドロキシメタクリルアニリドの
代わり[2−ヒドロキシエチルメタクリレートを使用し
た以外は、同一の条件で反応を行なった。得られた重合
体の分子量をGPCで測定したら、Mnが23θO,M
wが1sooθであった。
代わり[2−ヒドロキシエチルメタクリレートを使用し
た以外は、同一の条件で反応を行なった。得られた重合
体の分子量をGPCで測定したら、Mnが23θO,M
wが1sooθであった。
比較合成例コ
m−クレゾール909、p−クレゾール!A11フェノ
ール!;lI9.37%ホルムアルデヒド水溶液10!
r9およびシュウ酸2.5gをオイルバスにセントした
3頭コルベン中に投入し、攪拌しながら昇温した。90
℃付近で激しく発泡し一時的に冷却した後再び昇温し、
内温を/!;OCKした。約3時間反応後、再び775
℃まで昇温し、水を留去した。2時間後200℃に昇温
するとともに、100yn、Hgまで減圧し、残留モノ
マーを留去した。10分後反応を止め、反応物をテフロ
ン・バットへ流し出し、固化させた。この樹脂の分子量
をGPCでポリスチレンを標準として測定した。Mn、
〜1wの算出は前述と同様にして行なった。その結果、
Mnは/J!;0.MWがA7&θであった。
ール!;lI9.37%ホルムアルデヒド水溶液10!
r9およびシュウ酸2.5gをオイルバスにセントした
3頭コルベン中に投入し、攪拌しながら昇温した。90
℃付近で激しく発泡し一時的に冷却した後再び昇温し、
内温を/!;OCKした。約3時間反応後、再び775
℃まで昇温し、水を留去した。2時間後200℃に昇温
するとともに、100yn、Hgまで減圧し、残留モノ
マーを留去した。10分後反応を止め、反応物をテフロ
ン・バットへ流し出し、固化させた。この樹脂の分子量
をGPCでポリスチレンを標準として測定した。Mn、
〜1wの算出は前述と同様にして行なった。その結果、
Mnは/J!;0.MWがA7&θであった。
(感光体の合成)
比較合成例/
ピロガロールioogおよびアセトン70OSをウォー
ターバス中にセントした3頭コルベン中に投入し、窒素
ガスを吹込んで、窒素置換を行なった後、オキシ塩化リ
ン109を投入して重縮合反応を行なった。反応温度は
一θtlK保ち一昼夜反応を継続した。反応終了後、水
301中に強力に攪拌しながら生成物を徐々に投入し、
重縮合物を沈殿させた。
ターバス中にセントした3頭コルベン中に投入し、窒素
ガスを吹込んで、窒素置換を行なった後、オキシ塩化リ
ン109を投入して重縮合反応を行なった。反応温度は
一θtlK保ち一昼夜反応を継続した。反応終了後、水
301中に強力に攪拌しながら生成物を徐々に投入し、
重縮合物を沈殿させた。
析出した樹脂を濾別し、水でほぼ中性になるまで洗浄し
た。沈殿物はUO℃以下で乾燥した。
た。沈殿物はUO℃以下で乾燥した。
このようにして淡褐色状の樹脂100jjを得た。
この樹脂の分子量を、GPC(日立63タ型、カラム;
シヲデックス(Shodex) A g o a、A
gO3、AgO2の直列〕によりポリスチレンを標準と
して測定した。Mn、Mwの算出は積値等、日本化学会
誌、7972年(17月号)第100頁に記載の方法に
より、オリゴマー領域のピークをならす(ピークの山と
谷の中心を結ぶ)方法により行なった。その結果、Mn
は2000、Mwは3qθ0であった。
シヲデックス(Shodex) A g o a、A
gO3、AgO2の直列〕によりポリスチレンを標準と
して測定した。Mn、Mwの算出は積値等、日本化学会
誌、7972年(17月号)第100頁に記載の方法に
より、オリゴマー領域のピークをならす(ピークの山と
谷の中心を結ぶ)方法により行なった。その結果、Mn
は2000、Mwは3qθ0であった。
次にこの樹脂60gをジオキサン720 rnlに溶解
し、/、2−ナフトキノンジアジドータースルホニルク
ロライドクθIを投入し、溶解後73重量%の炭酸カリ
水溶液6θlを滴下し、グθ〜50℃で約/時開綿合反
応を行なわせた。
し、/、2−ナフトキノンジアジドータースルホニルク
ロライドクθIを投入し、溶解後73重量%の炭酸カリ
水溶液6θlを滴下し、グθ〜50℃で約/時開綿合反
応を行なわせた。
得られた反応液を大量の希塩酸水(濃塩酸/3ml、水
Jl)中に投入し、沈殿した樹脂を濾別し、乾燥した。
Jl)中に投入し、沈殿した樹脂を濾別し、乾燥した。
このようにして、ピロガロール−アセトン樹脂のl9.
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルの
黄色粉末樹脂56gが得られた。分析の結果、OH基の
縮合率は20%であることが判明した。このエステル体
の分子量を上記GPCにより測定したところ、Mnは、
23θθ、Mwは303θであった。
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルの
黄色粉末樹脂56gが得られた。分析の結果、OH基の
縮合率は20%であることが判明した。このエステル体
の分子量を上記GPCにより測定したところ、Mnは、
23θθ、Mwは303θであった。
実施例7
厚さQコ’l mxのアルミニウム板を5%水酸化ナト
リウム水溶液中で脱脂処理した後、0.3モル硝酸水溶
液中で、温度30℃、電流密度SOA / d m2
処理時間30秒間の条件で、電解エツチング処理を行
なった。次いで、5%水酸化ナトリウム水溶液でデスマ
ット処理を施し、しかる後硫酸溶液中で陽極酸化処理を
行なった。
リウム水溶液中で脱脂処理した後、0.3モル硝酸水溶
液中で、温度30℃、電流密度SOA / d m2
処理時間30秒間の条件で、電解エツチング処理を行
なった。次いで、5%水酸化ナトリウム水溶液でデスマ
ット処理を施し、しかる後硫酸溶液中で陽極酸化処理を
行なった。
陽極酸化皮膜量を前述の方法で測定したところ、コOm
9/dm”であった。次に90℃の熱水溶液に浸漬し封
孔処理を行なった。
9/dm”であった。次に90℃の熱水溶液に浸漬し封
孔処理を行なった。
このようにして得られたアルミニウム支持体に下記の組
成の感光性塗布液を回転塗布機を用いて塗布し、ioo
℃で1分間乾燥し、膜厚2’l!119/dm2の感光
性平版印刷版を得た。
成の感光性塗布液を回転塗布機を用いて塗布し、ioo
℃で1分間乾燥し、膜厚2’l!119/dm2の感光
性平版印刷版を得た。
感光液/
、2. 、?、 41− ) IJヒドロキシベンゾフ
ェノント/。
ェノント/。
コーナフトキノンジアジドーグースルホン酸クロライド
とのエステル化物(縮合率:qりmo1%)
2部部合成例/のバインダー
go部2−) IJ クロロメチル−5−(β−(λ
′−ベンゾフリル)ビニル:] −/、 、?、 lI
−オキサジアゾール ユ部ビ
クトリアブルーBOH/部 p−t−オクチルフェノール・ホルムアルデヒドノボラ
ック樹脂(Mw=7.、? oθ)と/。
とのエステル化物(縮合率:qりmo1%)
2部部合成例/のバインダー
go部2−) IJ クロロメチル−5−(β−(λ
′−ベンゾフリル)ビニル:] −/、 、?、 lI
−オキサジアゾール ユ部ビ
クトリアブルーBOH/部 p−t−オクチルフェノール・ホルムアルデヒドノボラ
ック樹脂(Mw=7.、? oθ)と/。
コーナストキノりジアジド−5−スルホン酸クロライド
とのエステル化物(縮合率:Sθmo1%)
1部安息香酸 5部 メチルセロソルブ 200部エチルセロ
ソルブ 500部得られた感光性平版印
刷版を3KWの超高圧水銀灯で60aの距離から3部秒
間露光し1次にPS版用ポジ型現像液”5DR−/”(
小西六写真工業■製〕のり倍希釈液を用いて、25℃で
+1秒間現像処理を行なった。得られた平版印刷版の感
度、露光可視画、現像ラチチュード、セーフライト性を
測定した。
とのエステル化物(縮合率:Sθmo1%)
1部安息香酸 5部 メチルセロソルブ 200部エチルセロ
ソルブ 500部得られた感光性平版印
刷版を3KWの超高圧水銀灯で60aの距離から3部秒
間露光し1次にPS版用ポジ型現像液”5DR−/”(
小西六写真工業■製〕のり倍希釈液を用いて、25℃で
+1秒間現像処理を行なった。得られた平版印刷版の感
度、露光可視画、現像ラチチュード、セーフライト性を
測定した。
(比較例/)
実施例−/の感光体の代わりK J、 、?、 ll−
) リヒドロキシベンゾフェノンと/、コーナフトキノ
ンジアジドー!−スルホン酸クロライドとのエステル化
物(縮合率?jmoJ%)を使用した以外実施例1と同
一の方法により感光性塗布液(比較感光液/)を調製し
、これを用いて実施例/と同一の方法で平版印刷版を作
製し、同一の測定を行なった。
) リヒドロキシベンゾフェノンと/、コーナフトキノ
ンジアジドー!−スルホン酸クロライドとのエステル化
物(縮合率?jmoJ%)を使用した以外実施例1と同
一の方法により感光性塗布液(比較感光液/)を調製し
、これを用いて実施例/と同一の方法で平版印刷版を作
製し、同一の測定を行なった。
(比較例2)
実施例−/の感光体の代わりK、比較合成例/の感光体
くヒロガロールーアセトン樹脂のエステル化物〉を使用
した以外、実施例/と同一の方法により感光性塗布液(
比較感光液2)を調整しこれを用いて実施例1と同一の
方法で平版印刷版を作製し同一の測定を行なった。
くヒロガロールーアセトン樹脂のエステル化物〉を使用
した以外、実施例/と同一の方法により感光性塗布液(
比較感光液2)を調整しこれを用いて実施例1と同一の
方法で平版印刷版を作製し同一の測定を行なった。
実施例1、比較例1および比較例コの測定結果を表/に
示す。
示す。
井1耐薬品性
耐薬品性は各薬品に7日浸漬後、画線部の損傷程度を目
視で観察して求めた。
視で観察して求めた。
評価は10点法による(10点は極めて良好、5点は画
線部のかなりの損傷(小点は消失)、0点は画線部消失
を表わす)。
線部のかなりの損傷(小点は消失)、0点は画線部消失
を表わす)。
A、 B Cケミカル社製。
コダノク社製。
UVインキ用(東洋インキ社製)。
UVインキ用(東華色素社製)。
小西六社製。
そ2現像ラチチユード
A印は画像部の侵食が僅かである。
B印は同上侵食が認められ、感光層の下の支持体の砂目
がやや露出している。
がやや露出している。
C印は同上侵食が著しく認められ、感光層の下の支持体
の砂目が完全に露出している。
の砂目が完全に露出している。
ことを意味する。
又、アンダー現像性において、
○印は非画像部の感光層が完全に溶解除去されている。
A印は同上一部残存している。
X印は同上はとんど溶解していない。
ことを意味する。
又、オーバー現像性において、数値は標準現像とのベタ
段数差を意味し、−印は画像部の侵食が著しく、ベタ段
数がほとんど判定できない程オーバー現像性が悪いとい
うことを意味する。
段数差を意味し、−印は画像部の侵食が著しく、ベタ段
数がほとんど判定できない程オーバー現像性が悪いとい
うことを意味する。
蒼3セーフライト性
セーフライト性を調べるために1ポジ型感光性平版印刷
版に、白色螢光灯(ps版面でJoolx)で、露光時
間5分、10分、is分、20分、25分および30分
間の6種について露光を行なった。次K、前記5DR−
/の6倍希釈液で現像処理を行ない、現像後の感光層の
膜減り率を調べ、膜減り率/θ%の露光時間(安全時間
)を算出した。
版に、白色螢光灯(ps版面でJoolx)で、露光時
間5分、10分、is分、20分、25分および30分
間の6種について露光を行なった。次K、前記5DR−
/の6倍希釈液で現像処理を行ない、現像後の感光層の
膜減り率を調べ、膜減り率/θ%の露光時間(安全時間
)を算出した。
実施例コ
実施例/の平版印刷版の印刷適性、現像性および耐刷力
について試験をした。
について試験をした。
印刷適性については、平版印刷版な枚葉オフセット印刷
機にかけ、上質紙に印刷を行なって地汚れの有無を調べ
ること釦より評価した。印刷の結果、地汚れは全く発生
せず、良好な印刷物を得ることができた。これにより印
刷適性が優れていることがわかる。
機にかけ、上質紙に印刷を行なって地汚れの有無を調べ
ること釦より評価した。印刷の結果、地汚れは全く発生
せず、良好な印刷物を得ることができた。これにより印
刷適性が優れていることがわかる。
現像性を評価するために、グθ℃の温度、go%の湿度
で7日間感光性子版印刷版の強制劣化を行ない、その後
で露光し、llm2/lの5DP−/疲労現像液(7倍
希釈)で現像し、印刷を行なった。その結果地汚れは発
生せず、良好な印刷物が得られた。これ罠より現像性に
優れていることがわかる。
で7日間感光性子版印刷版の強制劣化を行ない、その後
で露光し、llm2/lの5DP−/疲労現像液(7倍
希釈)で現像し、印刷を行なった。その結果地汚れは発
生せず、良好な印刷物が得られた。これ罠より現像性に
優れていることがわかる。
さらに耐刷力を評価するために、下記の条件でUVイン
キによる印刷を行なった。
キによる印刷を行なった。
(UVインキによる印刷条件)
印 刷 機 : ハマダスターCDX−デθO印刷イン
キ : 東洋フラッシュドライ−0L−紅Ap (東洋
インキ社製) レジューサー:東洋フランシュドライレジューサ−op
(東洋インキ社製) プレートクリーナー:東洋フラッシュドライプレートク
リーナー(東洋イ ンキ社製) 紙 二上質紙 印刷スピード: 7000枚/時 その結果、コ、5万枚を刷了し、印刷物は地汚れもなく
良好であった。
キ : 東洋フラッシュドライ−0L−紅Ap (東洋
インキ社製) レジューサー:東洋フランシュドライレジューサ−op
(東洋インキ社製) プレートクリーナー:東洋フラッシュドライプレートク
リーナー(東洋イ ンキ社製) 紙 二上質紙 印刷スピード: 7000枚/時 その結果、コ、5万枚を刷了し、印刷物は地汚れもなく
良好であった。
比較例3
実施例/のバインダーを合成例/のものから比較合成例
1のものに変更しくp−ヒドロキシメタクリルアニリド
(HyPMA)単位を2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ートに変更し)、その他は実施例/と同じ組成にして(
比較感光液2)、感光性平版印刷版を得た。実施例/と
同様に露光・現像を行なったが、現像できなかった。こ
れによりフェノール性水酸基が必須であることがわかる
。
1のものに変更しくp−ヒドロキシメタクリルアニリド
(HyPMA)単位を2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ートに変更し)、その他は実施例/と同じ組成にして(
比較感光液2)、感光性平版印刷版を得た。実施例/と
同様に露光・現像を行なったが、現像できなかった。こ
れによりフェノール性水酸基が必須であることがわかる
。
(比較例1I)
実施例−/のバインダーを合成例/のものから比較合成
例−のノボラック樹脂に変更しその他は実施例/と同じ
組成圧して実施例/と同様に感光性印刷版を得た。実施
例λと同様にUV印刷を行なったところ刷り出してio
o枚程度で小点が飛びはじめた。
例−のノボラック樹脂に変更しその他は実施例/と同じ
組成圧して実施例/と同様に感光性印刷版を得た。実施
例λと同様にUV印刷を行なったところ刷り出してio
o枚程度で小点が飛びはじめた。
(実施例3)
実施例−/の感光体の代わりに、ビスフェノールAと/
、2−ベンゾキノンジアジドグースルホン酸クロライド
とのエステル化物(縮合率:りθmo1%)を使用した
以外は、感光液−/と同じ組成の感光性塗布液を調製し
、これを用いて実施例/と同様に感光性印刷版を得た。
、2−ベンゾキノンジアジドグースルホン酸クロライド
とのエステル化物(縮合率:りθmo1%)を使用した
以外は、感光液−/と同じ組成の感光性塗布液を調製し
、これを用いて実施例/と同様に感光性印刷版を得た。
実施例コと同様にUV印刷を行なったところ7万枚刷了
し、印刷物は地汚れもなく良好であった。
し、印刷物は地汚れもなく良好であった。
出願人 三菱化成株式会社 はか/名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (A)o−ナフトキノンジアジドータースルホン酸エス
テルと、 (B)下記一般式〔 I 〕により表わされる構造単位を
有する高分子化合物、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・〔 I
〕 (式中、R_1およびR_2はそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アリール基またはカルボン酸基
であり、R_3は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
またはアリール基であり、R_4は水素原子、アルキル
基、アリール基またはアラルキル基であり、Yは置換基
を有してもよい芳香族基であり、Xは窒素原子と前記芳
香族基の炭素原子とを連結する2価の有機基であり、n
は0〜5の整数である。) とを含有する感光層を支持体上に有することを特徴とす
るポジ型感光性平版印刷版。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25024888A JPH0296759A (ja) | 1988-10-04 | 1988-10-04 | 感光性平版印刷版 |
DE1989628903 DE68928903T2 (de) | 1988-10-03 | 1989-10-02 | Lichtempfindliche Zusammensetzung |
EP19890118267 EP0362778B1 (en) | 1988-10-03 | 1989-10-02 | Photosensitive composition |
CA 2000111 CA2000111A1 (en) | 1988-10-03 | 1989-10-03 | Photosensitive composition |
US07/858,441 US5219700A (en) | 1988-10-03 | 1992-03-24 | Photosensitive composition containing 1,2-naphthoquinone-2-diazido-4-sulfonic acid ester, alkali-soluble resin, halomethyloxadiazole compound and a dye |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25024888A JPH0296759A (ja) | 1988-10-04 | 1988-10-04 | 感光性平版印刷版 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0296759A true JPH0296759A (ja) | 1990-04-09 |
Family
ID=17205052
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25024888A Pending JPH0296759A (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-04 | 感光性平版印刷版 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0296759A (ja) |
-
1988
- 1988-10-04 JP JP25024888A patent/JPH0296759A/ja active Pending
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