JPH0294014A - 記録再生複合ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

記録再生複合ヘッド及びその製造方法

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JPH0294014A
JPH0294014A JP63244445A JP24444588A JPH0294014A JP H0294014 A JPH0294014 A JP H0294014A JP 63244445 A JP63244445 A JP 63244445A JP 24444588 A JP24444588 A JP 24444588A JP H0294014 A JPH0294014 A JP H0294014A
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孝佳 大津
Hiroshi Fukui
宏 福井
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、記録ヘッドと磁気抵抗効果素子を利用した再
生ヘッドとを複合させた記録再生複合ヘッドと、その製
造方法に係り、特に複数枚の磁気ディスクを用いた磁気
ディスク装置に利用するのに好適な所謂三脚型の複合ヘ
ッドに関する。
〔従来の技術〕
従来、記録ヘッドと磁気抵抗効果素子を用いた再生ヘッ
ドとを複合させた記録再生複合ヘッドとしては、米国特
許3,92L217号明細書、同3.908194号明
細書、同3,975,772号明細書、特開昭58−5
0622号公報、同特開昭59−30223号公報等に
記載されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところで、第6図に示すように、記録再生複合ヘッド(
以下、複合ヘッドと略称す)を複数用い、これらの複合
ヘッド101〜104を一個の移動手段110によって
複数枚の磁気ディスク121〜123の所定位置に位置
決めする磁気ディスク装置において、第7図に示すよう
に、各複合ヘッド101〜104の記録ヘッドが移動手
段110の1つの動作によって磁気ディスクの各面W−
Zの1トラツク131〜134にデータを記録した場合
、これらの各記録トラック131〜134に記録された
データを再生するには、有効再生領域(再生ギャップ)
161〜164を各記録トラック131〜134に一致
せしめる必要がある。
しかし乍ら、各複合ヘッド101〜104毎に記録ギャ
ップと再生ギャップ161〜164とが第7図に示ず如
くずれδ、〜δ4を夫々持っていた場合、各トラック1
31〜134の一連のデータを正確に読取るためには夫
々のずれδ、〜δ4に応じ再生ヘッド161〜164を
順次正確に移動させなければならず、そのため、時間が
かかる問題がある。しかも、近年の磁気ディスク装置に
おけるトラック幅が高記録密度化の傾向にあるため、6
〜20μm程度と極めて狭く、それぞれの有効幅の5〜
10%以内のずれに収める範囲で一致させなければなら
ないので、高精度の位置決めが要求される。
上記に示す従来技術では、何れも各々の複合ヘッドの記
録ヘッドと再生ヘッドとの相対的な位置ls[%につい
て開示されていない。
本発明の目的は、前記従来技術の問題点に鑑み、複数枚
の磁気ディスクを用いた磁気ディスク装置に使用したと
き、一連のデータを短時間で再生することができる記録
再生複合ヘッド及びその製造方法を提供することにある
〔課題を解決するための手段〕
本発明の記録再生複合ヘッドにおいては、互に対向して
記録ギャップを形成する第1.第2の磁気コアと、該第
1.第2の磁気コア間に設けた再主磁極用の磁性膜と、
該磁性膜及び第1.第2の磁気コア間に夫々設け、夫々
が第1.第2の再生ギャップを形成する第1.第2の非
磁性膜とを有し、第1.第2の磁気コア間の記録ギャッ
プと、磁性膜及び第1.第2の非磁性膜間の第1.第2
の再生ギャップとを互に略同一幅寸法に形成するととも
に、同一中心上に配置している。
また、本発明の記録再生複合へ、ドの製造方法において
は、第1の磁気コア上に、第1の非磁性膜、再生磁極用
の磁性膜、第2の非磁性膜、第2の磁気コアを順次積層
した後、第1の磁気コアと第2の磁気コアとの何れか一
方の記録媒体側をエツチング処理して、前記一方の磁気
コアから磁性膜までの不要部を一括的に除去し、前記一
方の磁気コアと磁性膜とを略同一幅寸法に形成するとと
もに、同一中心上に配置するようにしている。
〔作用〕
複合ヘッドを複数用い、これらを−個の移動手段によっ
て複数枚の磁気ディスクの所定位置に位置決めする磁気
ディスク装置に用いた場合、前述の如く、複合ヘッドの
記録ギャップと第1の再生ギャップと第2の再生ギャッ
プとが互に同一幅寸法に形成されるとともに同一中心」
二に位置しているので、磁気ディスクに記録された一連
のデータを再生するには、何れか一方の複合ヘッドを移
動手段によって一度位置決めするだけで、磁気ディスク
の夫々の面の記録トラックに各複合ヘッドの第1.第2
の再生ギヤツブを一括的に一致させることができる。
その結果、従来のように各複合ヘッドを順次位置決めさ
せることが不要になるので、再生時間を大riに短縮さ
せることができる。
また、第1の磁気コア上に、第1の非磁性膜。
磁性膜、第2の非磁性膜、第2の磁気コアを順次積層し
、その後、第1の磁気コアと第2の磁気コアとの何れか
一方をエツチング処理して一方の磁気コアから磁性膜ま
での不要部分を一括的に除去し、前記一方の磁気コアと
磁性膜とを略同一幅寸法に形成するとともに、同一中心
上に配置するように構成したので、前記各ギャップ部分
を一口のエチング処理で形成でき、各それだけ製造工程
を短縮できるとともに、上記記録再生複合ヘッドを確実
に製造し得る。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を第1図乃至第5図により説明す
る。第1図は本発明の第1の実施例を示す記録再生複合
ヘッドの破断斜視図、第2図(a)。
(blは記録再生複合ヘッドのギャップ部分のエツチン
グ処理を示す説明図、第3図は磁気ディスク記録トラッ
クと再生ギャップとの位置関係を示す説明図である。
実施例の記録再生複合ヘッド(以下、単に複合ヘッドと
略称ず)は、大別すると、第1回に示すように、第1.
第2の磁気コア11.12と、再生磁極用の磁性膜と、
第1.第2の非磁性11114.15とを有して構成さ
れている。
前記第1.第2の磁気コアIL 12は互に対向してお
り、その磁気ディスク(図示せず)との対向面11’、
12’のうち、第2の磁気コア11の対向面11′の幅
を狭めて両者間で記録ギャップを形成している。これら
第1.第2の磁気コア11.12は磁気ディスク面上に
位置したとき、電二巻線16に電流を印加すると、これ
によって生じた起磁力を互に導びき、両者11.12間
の磁気ギャップで記録磁界を発生させ、その際、流れる
電流の向きに応じた残留磁気の向きの形として磁気ディ
スク面の所望位置にデータを記録し得るようにしている
。その際、第1.第2の磁気コア11.12は記録時の
磁気的飽和が生じないような厚みにすることが望ましく
、通常では1〜4μm程度である。
前記磁性膜は第1.第2の磁気コア11.12間に設け
られている。さらに詳しく述べると、この磁性膜は第1
.第2の磁気コアLL 12間の同一平面上に夫々積層
された2個のフラックスガイド13a13bのうち、一
方のフラックスガイド13aによって構成されている。
夫々のフラックスガイド13aは磁気抵抗効果素子17
の両側方位置に配置されている。磁気抵抗効果素子17
は磁気量の大きさに応じて抵抗値が変化するものであっ
て、電極20と接続されている。
前記第1.第2の非磁性膜14.15はフラックスガイ
ド13a及び第1.第2の磁気コア11.12間に夫々
設けられ、夫々が第1の再生ギャップ18、第2の再生
ギャップ19を形成している。即ち、フラックスガイド
13aと第1の磁気コア11との磁気ディスクとの対向
面間で第1の再生ギャップ18を形成し、またフラック
スガイド13aと第2の磁気コア12との磁気ディスク
との対向面間で第2の再生ギャップ19を形成している
そして、磁気ディスク上に位置したとき、該磁気ディス
クに記録された残留磁気の向きが反転した領域において
は残留磁気の量と向きとに応じて磁界が洩れ出るが、そ
の洩れ磁界に前記フラックスガイド13aが位置したと
き、該フラックスガイド13aが洩れ磁界による磁束を
吸い込むと、その磁束が磁気抵抗効果素子17を励磁さ
せると共にフラックスガイド13bを通過し、かつ第1
の磁気コア11を経て磁気ディスクに還流する第1再生
ギヤツプ経路、若しくは第2の磁気コア12を経て磁気
ディスクに還流する第2再生ギヤツプ経路を形成し、そ
のとき磁気抵抗効果素子17の抵抗値が変化することに
よって磁気ディスクのデータを再生し得るようにしてい
る。
従って、フラックスガイド13aが洩れ磁界による磁束
を吸い込むことよって第1再生ギャップ経路若しくは第
2再生ギヤツプ経路を形成したとき、その何れの経路に
おいて磁気抵抗効果素子17の抵抗値及び変化が同様と
なるように第1.第2の非磁性膜14.15の厚みを同
じにすることが好ましい。
本例では1インチ当たり3万回の磁気反転をさせる如き
高密度記録する場合、フラックスガイド13a、第1.
第2の非磁性膜14.15の厚みは0.15〜0.3 
μm程度で、記録ギャップは0.45〜0.9μm程度
の大きさである。
なお、第1図において、21は第2の磁気コア12と第
2の非磁性膜15間に設けた第3の非磁性膜であって、
前記各ギャップを除く位置に配置される。
しかして、前記記録ギャップと第1の再生ギャップ18
と第2の再生ギャップとは互に同一幅寸法に形成されて
かつ同−中心上に配置されている。
即ち、第2図(alに示すように、第1の磁気コア11
上に第1の非磁性膜14、フラックスガイド13a、第
2の非磁性膜15、第2の磁気コア12を順次積層した
後、第2の磁気コア12上に記録ギャップを形成するた
めAl5O12S i 02等からなるパターンマスク
22を積み重ね、同図価)に示すように、第2の磁気コ
ア12からフラックスガイド13aまで一括的にイオン
ミーリング等でエツチング処理することにより、第1.
第2の磁気コア11.12間の記録ギャップと、フラッ
クスガイド13a、第1の磁気コア11間の第1の再生
ギャップ18と、フラックスガイド13a、第2の磁気
コア12間の第2の再生ギャップ19とを互に略同一幅
寸法にかつ同−中心上に形成するようにしている。その
ため、エンチング処理時には第2の磁気コア12から磁
性膜13までの不要部分を一括的に除去し得るように設
定する必要がある。
なお、第2図(blにおいては第1の非磁性膜14が完
全に除去されず、若干の厚みで第1の磁気コア11上に
残っているが、第1の再生ギャップ18は磁性膜として
のフラックスガイド13aの幅によって決定されるため
、第1の非磁性膜14が完全に除去されなくとも特性上
問題ない。
次に実施例の複合ヘッドの動作について述べる。
上記の如き構成の複合ヘッドを複数用い、これらを第3
図に示すように一個の移動手段110によって複数枚の
磁気ディスク121〜123の所定位置に位置決めする
磁気ディスク装置に用いると、前述の如く、複合ヘッド
の記録ギャップと第1の再生ギャップ18と第2の再生
ギャップ19とが互に略同一幅寸法に形成されるととも
に同−中心上に位置しているので、磁気ディスク121
〜123に記録された一連のデータを再生するには、何
れか一方の複合ヘッドを移動手段110によって一度位
置決めするだけで、磁気ディスク121〜123の夫々
の面W−Zの記録トラック131〜134に各複合ヘッ
ドの第1.第2の再生ギャップ18.19を一括的に一
致させることができる。
その結果、従来のように各複合ヘッドを順次位置決めさ
せることが不要になるので、再生時間を大巾に短縮させ
ることができる。
また、実施例では、第1の磁気コア11上に、第1の非
磁性膜14、フラックスガイド13a、第2の非磁性膜
15.第2の磁気コア12を順次積層し、その後、第2
の磁気コア12をエツチング処理して第2の磁気コア1
2からフラックスガイド13aまでの不要部分を一括的
に除去し、フラックスガイド13a、第1の磁気コア1
1間の第1の再生ギヤツブ18と、フラックスガイド1
3a、第2の磁気コア12間の第2の再生ギャップ19
と、第1.第2の磁気コア11.12間の記録ギャップ
とを略同一幅寸法に形成するとともに同一中心上に配置
するようにしたので、複合ヘッドの前記ギャップ部分を
一回のエツチング処理で形成でき、それだけ製造工程を
短縮できる。
第4図及び第5図は本発明の他の実施例を示している。
この実施例において前記第1の実施例と異なるのは、再
生磁極用の磁性膜として、磁気抵抗効果素子17′を用
いた点にある。
即ち、前記磁気抵抗効果素子17′は、第1.第2の磁
気コア11.12間に、第2の磁気コア120幅、即ち
記録ギャップの幅より幅広の形状をなして設けられてい
る。また、磁気抵抗効果素子17′は、第2の磁気コア
12と対応する部分からはみ出た位置(実施例では両側
位置)に、その位置における磁気抵抗効果機能を阻害し
得る良導体3L 32が設けられている。該良導体31
.32は、磁気抵抗効果素子17′において良導体2L
 22との接触部分を、その良導体との非接触部分に比
べ抵抗率を著しく小さくすることにより、磁気抵抗効果
素子17′の接触部分が、実際上磁気抵抗効果として機
能しないようにしている。しかも第1.第2の磁気コア
IL 12と電気的に短絡することがないように極めて
薄い膜となっている。
前記良導体31.32としては、例えば磁気抵抗効果素
子17′がN1−Feからなる二元系パーマロイにより
約16μΩ・Cmの電気抵抗率を有する20〜5゜nm
程度の厚みの場合、電気抵抗率2μΩ・cmを有する金
を20o nmの厚みに形成し、磁気抵抗効果素G 子17′における接触部分と非接触部分との抵抗値の比
を、少なくとも1;32以」−にすることが好ましい。
従って、磁気抵抗効果素子17′の第2の磁気コア12
と対応する部分のみが再生磁極として動作するようにし
ている。
このような複合ヘッドを製造するには、第5図(a)に
示すように、第1の磁気コア11上に、第1の非磁性膜
14、磁気抵抗効果素子17′、第2の非磁性膜15、
第2の磁気コア12を順次積層した後、第2の磁気コア
12をエツチング処理し、次いで同図(b)に示すよう
に、第2の磁気コア12をパターンマスクとして第2の
非磁性膜15をエツチング処理し、磁気抵抗効果素子1
7′を露出させる。この場合、磁気抵抗効果素子17め
表面までエツチングされるおそれがあるが、第2の非磁
性膜15をS i 0゜3 i 02 、  S i:
+N4等の硅素系絶縁材によって構成しておけば、例え
ば弗素系プラズマにさらしてエツチング処理することに
より、磁気抵抗効果素子17′に損傷を与えることなく
第2の非磁性膜15を確実にエツチング処理できる。
その後、磁気抵抗効果素子17′の第2の磁気コア12
と対応する部分からはみ出た位置に第5図(C1に示す
ように、良導体31.32を電解めっき等によっの場合
、良導体31.32を電解めっき等によって積層する代
わり、図示していないが、磁気抵抗効果素子17′のは
み出た位置にGo、Aβ等の金属若しくはSm等のよう
な第3元素をイオン打込みし、前記はみ出た位置を著し
く高保持力化させ、該はみ出た位置の磁気的動作を劣化
させることにより、そのはみ出た位置の磁気抵抗効果機
能を阻害することもできる。
上記の如き工程により、第1.第2の再生ギヤツブ18
.19と記録ギャップとを路間−路寸法に形成できると
ともに同一中心上に位置できる。
その後、第5図(d)に示すように保護膜33を積層し
、かくして複合ヘッドを製造する。
なお、この実施例では、磁気抵抗効果素子17′の第2
の磁気コア12との対応する部分からはみ出た位置に、
図示の如く良導体を積層した例を示したが、−1−述の
如く、第3元素をイオン打込みすることによって前記は
み出た位置の保持力を高め、かつ磁気的動作を劣化させ
るようにすることもでき、何れにしろ要は磁気抵抗効果
素子17′のはみ出た位置において磁気抵抗効果機能を
阻害すれば良い。
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明によれば互に対向して記録ギ
ャップを形成する第1.第2の磁気コアと、該第1.第
2の磁気コア間に設けた再生磁極用の磁性膜と、該磁性
膜及び第1.第2の磁気コア間に夫々設け、夫々が第1
.第2の再生ギャップを形成する第1.第2の非磁性膜
とを有し、第1、第2の磁気コア間の記録ギャップと、
磁性膜及び第1.第2の非磁性膜間の第1.第2の再生
ギャップとを互に略同一幅寸法に形成するとともに、同
一中心上に配置する構成としたので、磁気ディスク装置
に複数用いても、磁気ディスクの夫々の面の記録トラッ
クに各記録再生複合のヘッドの第1.第2の再生ギヤツ
ブを一括的に一致させることができる結果、一連のデー
タを再生するのに各ヘッドを順次位置決めさせることが
不要になり、再生時間を大幅に短縮し得る効果がある。
また、本発明方法によれば、第1の磁気コア上に、第1
の非磁性膜、再生磁極用の磁性膜、第2の非磁性膜、第
2の磁気コアを順次積層した後、第1の磁気コアと第2
の磁気コアとの何れか一方の記録媒体側をエツチング処
理して、前記一方の磁気コアから磁性膜までの不要部を
一括的に除去し、前記一方の磁気コアと磁性膜とを略同
一幅寸法に形成するとともに、同一中心上に配置するよ
うにしたので、第1.第2の磁気コア間の記録ギャップ
と、磁性膜及び第1.第2の非磁性膜間の第1.第2の
再生ギヤツブとを一回のエツチング処理で形成でき、そ
れだけ製造工程を短縮できるとともに、上記記録再生複
合ヘッドを確実に製造し得る。
さらに、本発明方法によれば、第1の磁気コア上に、第
1の非磁性膜、記録ギャップの幅寸法より幅広の形状を
なす再生磁極用の磁気抵抗効果素子、第2の非磁性膜、
第2の磁気コアを順次積層した後、第2の磁気コアをエ
ツチング処理し、次いで第2の磁気コアをパターンマス
クとして第2の非磁性膜をエツチング処理して磁気抵抗
効果素子を露出させ、その後、磁気抵抗効果素子の第2
の磁気コアと対応する部分からはみ出た位置に、該位置
において磁気抵抗効果機能を破壊させる処理を行なうよ
うにしたので、記録再生複合を確実に製造できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例を示す記録再生複合ヘッ
ドの破断斜視図、第2図(a+、 (blは記録再生複
合ヘッドのギャップ部分のエツチング処理を示す説明図
、第3図は磁気ディスクの記録トランクと記録再生複合
ヘッドの再生ギャップとの位置関係を示す説明図、第4
図は本発明の他の実施例を示す記録再生複合ヘッドの破
断斜視図、第5図(a)〜(blは第4図の記録再生複
合ヘッドを製造工程順に示す説明図、第6図は記録再生
複合ヘッドを磁気ディスク装置に用いた説明図、第7図
は記録再生複合ヘッドの再生ギャップと磁気ディスクの
記録トラックとの位置関係を示す説明図である。 11・・・第1の磁気コア、12・・・第2の磁気コア
、13a・・・再生磁極用の磁性膜としてのフラックス
ガイド、13b・・・フラックスガイド、14・・・第
1の非磁性ギャップ、31.32・・・良導体。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、互に対向して記録ギャップを形成する第1、第2の
    磁気コアと、該第1、第2の磁気コア間に設けた再生磁
    極用の磁性膜と、該磁性膜及び第1、第2の磁気コア間
    に夫々設け、夫々が第1、第2の再生ギャップを形成す
    る第1、第2の非磁性膜とを有し、第1、第2の磁気コ
    ア間の記録ギャップと、磁性膜及び第1、第2の非磁性
    膜間の第1、第2の再生ギャップとを互に略同一幅寸法
    に形成するとともに、同一中心上に配置したことを特徴
    とする記録再生複合ヘッド。 2、前記再生磁極用の磁性膜を、第1、第2の磁気コア
    間の同一平面上に夫々設けかつ磁気抵抗効果素子の両側
    位置に配置した2個のフラックスガイドの一方で構成し
    たことを特徴とする請求項1記載の記録再生複合ヘッド
    。 3、前記再生磁極用の磁性膜を、記録ギャップの幅寸法
    より幅広の形状をなしかつ記録ギャップと対応する部分
    からはみ出た位置のみが磁気抵抗効果機能を阻害されて
    いる磁気抵抗効果素子で構成したことを特徴とする請求
    項1記載の記録再生複合ヘッド。 4、前記磁気抵抗効果素子は、記録ギャップと対応する
    部分からはみ出た位置に電気抵抗率の小さい良導体を積
    層していることを特徴とする請求項3記載の記録再生複
    合ヘッド。5、前記磁気抵抗効果素子は、記録ギャップ
    と対応する部分からはみ出た位置に第3元素をイオン打
    込みし、該はみ出た位置を高保持力化させたことを特徴
    とする請求項3記載の記録再生複合ヘッド。 6、第1の磁気コア上に、第1の非磁性膜、再生磁極用
    の磁性膜、第2の非磁性膜、第2の磁気コアを順次積層
    した後、第1の磁気コアと第2の磁気コアとの何れか一
    方の記録媒体側をエッチング処理して、前記一方の磁気
    コアから磁性膜までの不要部を一括的に除去し、前記一
    方の磁気コアと磁性膜とを略同一幅寸法に形成するとと
    もに、同一中心上に配置することを特徴とする記録再生
    複合ヘッドの製造方法。 7、第1の磁気コア上に、第1の非磁性膜、記録ギャッ
    プの幅寸法より幅広の形状をなす再生磁極用の磁気抵抗
    効果素子、第2の非磁性膜、第2の磁気コアを順次積層
    した後、第2の磁気コアをエッチング処理し、次いで第
    2の磁気コアをパターンマスクとして第2の非磁性膜を
    エッチング処理して磁気抵抗効果素子を露出させ、その
    後、磁気抵抗効果素子の第2の磁気コアと対応する部分
    からはみ出た位置に、該位置における磁気抵抗効果機能
    を阻害する処理を行なうことを特徴とする記録再生複合
    ヘッドの製造方法。 8、前記磁気抵抗効果機能を阻害する処理は、磁気抵抗
    効果素子の第2の磁気コアと対応する部分からはみ出た
    位置に、電気抵抗率の小さい良導体を電解めっきによっ
    て積層することを特徴とする請求項7記載の記録再生複
    合ヘッドの製造方法。 9、前記磁気抵抗効果機能を阻害する処理は、磁気抵抗
    効果素子の第2の磁気コアと対応する部分からはみ出た
    位置に第3元素をイオン打込みし、該はみ出た位置を高
    保持力化することを特徴とする請求項7記載の記録再生
    複合ヘッドの製造方法。
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