JP2001084531A - 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド - Google Patents

磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド

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JP2001084531A
JP2001084531A JP26296299A JP26296299A JP2001084531A JP 2001084531 A JP2001084531 A JP 2001084531A JP 26296299 A JP26296299 A JP 26296299A JP 26296299 A JP26296299 A JP 26296299A JP 2001084531 A JP2001084531 A JP 2001084531A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高記録密度化のための狭記録トラック及び狭
隣接トラック間隔に対応した狭再生ヘッドギャップ幅に
も拘わらず、クロストークノイズを低減し、再生感度の
低下を抑制することができる再生用磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッド及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 GMR素子の上面を凸型の形状とし、そ
の凸型形状の上面を再生ヘッドギャップ幅とすることに
よって、或いはGMR素子の左右両側端面にGMR素子
と略同じ膜厚の軟磁性層を形成し、更にその左右両側面
に縦バイアス層を設け、軟磁性層を介してGMR素子と
縦バイアス層を磁気的に結合することによって、左右の
縦バイアス層の間隔が有効な磁気抵抗効果の幅或いはG
MR素子の幅よりも大きくできる構成とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
(HDD装置)等の磁気記録媒体に対して高密度の記録
・再生を行う装置に適用される磁気抵抗効果型薄膜磁気
ヘッドに関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、磁気ディスク装置(HDD装置)
等の磁気記録媒体に対する記録において、処理速度の向
上と記録容量の大容量化の必要性が増してきており、高
記録密度化への取り組みが強化されつつあり、記録トラ
ックの狭トラック化が益々進んできており、従って、隣
接する記録トラック間の距離が一層狭小化してきてい
る。
【0003】以下、従来の薄膜磁気ヘッドについて図面
を用いて説明する。
【0004】図7及び図8は、従来の薄膜磁気ヘッドを
示す図であり、図7は斜視概略図、図8は薄膜磁気ヘッ
ドの正面概略図である。
【0005】例えば、磁気ディスク装置における信号の
磁気記録媒体への記録再生に用いられる薄膜磁気ヘッド
は、図7に示すような所謂MR(GMR)インダクティ
ブ複合ヘッドと呼ばれているものが多い。
【0006】図7において、パーマロイ、Co系アモル
ファス磁性膜或いはFe系合金磁性膜等の軟磁性材料で
成膜された下部シールド層71の上にAl23、AlN
或いはSiO2等の非磁性絶縁材料を用いて下部ギャッ
プ絶縁層72が成膜され、更にその上面に磁気抵抗効果
素子(MR素子或いはGMR素子。以下、GMR素子と
言う)73が積層成膜形成され、GMR素子73の左右
両側端部にCoPt合金等の材料で縦バイアス層74が
成膜される。縦バイアス層74の上面及びGMR素子7
3の一部の上面にかかるようにして、Cu、Cr或いは
Ta等の材料を用いて電極リード層75が成膜される。
ここで、電極リード層75はGMR素子73の一部の上
面にかかるようにしないで、GMR素子73の上面とそ
の両側面とのなす交線である稜線に接し、縦バイアス層
74の上面のみに成膜するようにしても良い。次に、電
極リード層75とGMR素子73の露出した部分の上
に、下部ギャップ絶縁層72と同様の非磁性絶縁材料を
用いて上部ギャップ絶縁層76を成膜する。更に、上部
ギャップ絶縁層76の上に、下部シールド層71と同じ
ような軟磁性材料を用いて上部シールド層77を成膜形
成し、再生用の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド78を構
成する。
【0007】次に、上部シールド層77の上面に下部ギ
ャップ絶縁層72と同様の非磁性絶縁材料を用いて記録
ギャップ層701を成膜し、更に記録ギャップ層701
を介して上部シールド層77に対向し、且つ、他の部分
で上部シールド層77に接している上部磁極702を軟
磁性材料を用いて成膜形成し、記録ギャップ層701を
介して上部シールド層77と上部磁極702が対向して
いる部分と上部磁極702が上部シールド層77に接し
ている部分との間で、上部シールド層77と上部磁極7
02から絶縁材(図示せず)を介して絶縁された巻線コ
イル703が設けられて、記録用の誘導型薄膜磁気ヘッ
ド部700を構成する。ここで、上部シールド層77は
再生用磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド部78のシールド
機能と記録用誘導型薄膜磁気ヘッド部700の下部磁極
機能とを兼ね備えた機能を有している。
【0008】図8に、薄膜磁気ヘッドの再生ヘッド部に
おける磁気抵抗効果素子近傍の正面概略図を示すよう
に、下部シールド層71の上面に成膜された下部ギャッ
プ絶縁層72の上に、FeMn系合金膜、PtMn系合
金膜等の材料である反強磁性層801、FeNi系合金
膜、パーマロイ、Co、FeCo合金膜等を材料とする
固定磁性層802、Cu等を材料とする非磁性導電層8
03、固定磁性層と同様の材料とするフリー磁性層80
4及びTa等を材料とするキャップ層805が順次積層
成膜され、イオンミリング等のエッチング工程で左右両
側端部が傾斜した面を持つように削り取られてGMR素
子73を形成する。GMR素子の左右両側端面に接し
て、左右一対の縦バイアス層74が形成され、その上に
左右一対の電極リード層75が形成されている。更に、
それらの上に上部ギャップ絶縁層76が成膜され、更に
その上に、上部シールド層77が形成される。更に、そ
の上に記録ギャップ層701が成膜され、その上に上部
磁極702が成膜形成される。
【0009】巻線コイル703に記録電流が供給される
ことにより、記録用誘導型薄膜磁気ヘッド部700の上
部磁極702と上部シールド層77に記録磁界が発生
し、記録ギャップ層701を介して対向する上部磁極7
02と上部シールド層77との間に漏洩磁束が発生し、
磁気記録媒体に記録信号を記録する。また、信号が記録
された磁気記録媒体に記録された信号の磁界を再生用磁
気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド部78で再生し、GMR素
子73による抵抗変化に応じた再生信号を電極リード層
75の端子から検出する。
【0010】従来、図8に示すように、記録用誘導型薄
膜磁気ヘッドの記録ヘッドトラック幅81より再生用磁
気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの再生ヘッドトラック幅8
2を僅かに小さくして、再生時のオフトラックに対処で
きるようにしている。一方で、再生するべき記録トラッ
クの記録信号の記録磁界のみを再生するようにサーボ機
能を付加して記録トラックに対するGMR素子の軌跡を
修正しながらオフトラックを小さくして再生するように
構成されている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来構成の薄膜磁気ヘッドにおいては、高記録密度化のた
めには、トラック密度を上げるために記録トラック幅を
小さくすると同時に、隣接する記録トラック間の距離も
狭小にする必要があり、隣接する記録トラック間距離が
小さくなれば、再生用磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドが
隣接する記録トラックの記録信号の記録磁界をノイズと
して再生することになるという課題があった。また、再
生ヘッドトラック幅を小さくするためには、磁気抵抗効
果型薄膜磁気ヘッドのGMR素子の幅を小さくすること
になり、GMR素子の左右両側端部に接して形成された
左右一対の縦バイアス層の間隔が非常に小さくなり、G
MR素子に縦バイアス層の強い磁界を供給することにな
り、記録信号を再生する時の再生感度を低下させること
になるという課題があった。
【0012】本発明は、上記の課題を解決し、GMR素
子と縦バイアス層との位置関係に、或いはGMR素子の
形状に工夫を加えることによって、隣接記録トラックか
らのクロストークを抑制することができる再生用磁気抵
抗効果型磁気ヘッドを提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の磁気抵抗効果型磁気ヘッドは、下部シールド
層の上に成膜された下部ギャップ絶縁層の上に、フリー
磁性層、非磁性導電層、固定磁性層及び反強磁性層が順
次成膜形成された磁気抵抗効果素子が、その上面に所定
の再生ヘッドトラック幅を有する反強磁性層の第1の平
面と、第1の平面に対し段差のある固定磁性層或いは非
磁性導電層のいずれかの面が露出した第2の平面とを有
し、下部ギャップ絶縁層から第2の平面までの厚さに略
等しい厚さを有するように、磁気抵抗効果素子の左右両
側端面に接した縦バイアス層を形成した構成を有してい
る。
【0014】この構成によって、第1の平面の下にある
部分のみが電磁変換に寄与することになり、高記録密度
化に伴う狭トラック幅化に対応して、GMR素子の第1
の平面が構成する再生ヘッドトラック幅が小さくなり、
第2の平面が狭記録トラックの隣接トラックにかかった
としても、隣接トラックの記録信号磁界を電磁変換して
ノイズになるようなことはなく、クロストークを減少す
ることができ、また、高記録密度化に伴う狭トラック幅
化に対応して、GMR素子の第1の平面が構成する再生
ヘッドトラック幅を小さくしても、GMR素子の左右に
ある一対の縦バイアス層の間隔を大きくとることがで
き、記録信号を再生する時の再生感度を低下させること
がないという効果を得ることができる。
【0015】また、本発明の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘ
ッドは、磁気記録媒体からの記録磁界を抵抗変化として
検出する磁気抵抗効果素子の左右両側端面に接し、且
つ、磁気抵抗効果素子の膜厚と略同一の厚さを有する軟
磁性材料からなり、磁気抵抗効果のない軟磁性中間層
と、軟磁性中間層に接している縦バイアス層とからなる
構成を有している。また、本発明の磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドは、縦バイアス層が強磁性層或いは反強磁性
層からなる構成を有している。
【0016】この構成によって、高記録密度化に伴う狭
トラック幅化に対応して、GMR素子の幅を小さくして
も、軟磁性中間層を介在させることによって、GMR素
子の左右にある一対の縦バイアス層の間隔を大きくとる
ことができ、記録信号を再生する時の再生感度を低下さ
せることなく、また、縦バイアス層がGMR素子と接し
ているときと同じようにバルクハウゼンノイズを抑制す
ることができる。更に、GMR素子の左右両側に接して
磁気抵抗効果を有しない軟磁性中間層が形成されている
ため、記録信号再生時のオフトラックによる隣接トラッ
クの信号磁界をノイズ、所謂クロストークノイズとして
再生することがない。また、膜厚の小さいGMR素子の
形成のためのレジストの膜厚は非常に薄くてよいという
ことから、形成されるGMR素子の幅は精度高く形成す
ることができ、従って、再生ヘッドトラック幅は非常に
良好な精度で形成できることになる。また、電極リード
層の厚さを大きくして電極リード層の抵抗値を小さくす
ることができ、発熱を抑制することができるという効果
を得ることができる。
【0017】
【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、下部シールド層と上部シールド層との間に絶縁材を
介して磁気抵抗効果素子を有し、磁気抵抗効果素子の左
右両側端部に接して設けられた縦バイアス層と、信号電
流を流すための電極リード層からなる磁気抵抗効果型薄
膜磁気ヘッドにおいて、下部シールド層の上に成膜され
た下部ギャップ絶縁層の上に、フリー磁性層、非磁性導
電層、固定磁性層及び反強磁性層が順次成膜形成された
磁気抵抗効果素子が、その上面に所定の再生ヘッドトラ
ック幅を有する反強磁性層の第1の平面と、第1の平面
に対し段差のある固定磁性層或いは非磁性導電層のいず
れかの面が露出した第2の平面とを有し、下部ギャップ
絶縁層から第2の平面までの厚さに略等しい厚さを有す
るように、磁気抵抗効果素子の左右両側端面に接した縦
バイアス層を形成したことを特徴としたものであり、第
1の平面の下にある部分のみが電磁変換に寄与すること
になり、GMR素子の第1の平面が構成する再生ヘッド
トラック幅が小さくなり、第2の平面が狭記録トラック
の隣接トラックにかかったとしても、隣接トラックの記
録信号磁界を電磁変換してノイズになるようなことはな
く、また、GMR素子の第1の平面が構成する再生ヘッ
ドトラック幅を小さくしても、GMR素子の左右にある
一対の縦バイアス層の間隔を大きくとることができ、記
録信号を再生する時の再生感度を低下させることがない
という作用を有している。
【0018】また、本発明の請求項2に記載の発明は、
磁気記録媒体からの記録磁界を抵抗変化として検出する
磁気抵抗効果素子の左右両側端面に接し、且つ、磁気抵
抗効果素子の膜厚と略同一の厚さを有する軟磁性材料か
らなり、磁気抵抗効果のない軟磁性中間層と、軟磁性中
間層に接している縦バイアス層とからなる構成を有する
ことを特徴としたものであり、また、本発明の請求項3
に記載の発明は、縦バイアス層が強磁性層或いは反強磁
性層からなることを特徴としたものであり、GMR素子
の幅を小さくしても、軟磁性中間層を介在させることに
よって、GMR素子の左右にある一対の縦バイアス層の
間隔を大きくとることができ、記録信号を再生する時の
再生感度を低下させることなく、また、バルクハウゼン
ノイズを抑制することができる。更に、GMR素子の左
右両側に接して軟磁性中間層が形成されているため、記
録信号再生時のオフトラックによる隣接トラックの信号
磁界をクロストークノイズとして再生することがない。
また、膜厚の小さいGMR素子の形成のためのレジスト
の膜厚は非常に薄くてよいということから、形成される
GMR素子の幅は精度高く形成することができ、従っ
て、再生ヘッドトラック幅は非常に良好な精度で形成で
き、また、電極リード層の厚さを大きくして電極リード
層の抵抗値を小さくすることができ、発熱を抑制するこ
とができるという作用を有している。
【0019】以下、本発明の実施の形態について、図面
を用いて説明する。
【0020】(実施の形態1)図1は、本発明の実施の
形態1を示す磁気抵抗効果素子近傍の正面概略図であ
る。
【0021】図1に示すように、軟磁性材料で成膜され
た下部シールド層11の上にAl23、AlN或いはS
iO2等の非磁性絶縁材料を用いて下部ギャップ絶縁層
12が成膜され、更にその上面に、FeNi系合金膜、
パーマロイ、Co、FeCo合金膜等を材料とするフリ
ー磁性層13、Cu等を材料とする非磁性導電層14、
フリー磁性層13と同様の材料を用いて固定磁性層15
及びFeMn系合金膜、PtMn系合金膜等の材料であ
る反強磁性層16が、夫々薄膜で順次積層成膜形成され
て、磁気抵抗効果素子1(GMR素子。以下、GMR素
子と言う)が形成される。GMR素子1の最上層である
反強磁性層16の上面は所定の再生ヘッドトラック幅で
形成され、第1の平面2を構成する。第1の平面2の左
右両側部にあり、且つ第1の平面2と段差のある第2の
平面3は、GMR素子1を構成する固定磁性層15の面
が露出しており、GMR素子1としては上部に凸部を有
する形状をしている。
【0022】GMR素子1の左右両側端面4はイオンミ
リング等のエッチング方法により傾斜した面を有するよ
うに形成されており、この左右両側端面4に接し、且
つ、下部ギャップ絶縁層12の上面から第2の平面3ま
での厚さに略等しい厚さの膜厚を有するように左右一対
の縦バイアス層5が下部ギャップ絶縁層12の上に成膜
形成されている。
【0023】更に、縦バイアス層5の上に左右一対の電
極リード層6が、GMR素子1の第1の平面2の上にか
かることがないようにして成膜形成されている。尚、電
極リード層6は、図2(a)或いは図2(b)に示すよ
うに、縦バイアス層5の上のみに成膜形成しても、図2
(c)或いは図2(d)に示すように、縦バイアス層5
の上面、GMR素子1の第2の平面3の上面及びGMR
素子1の第1の平面2と第2の平面3とを繋ぐ左右両側
面の一部或いは全部の上にかかるように成膜形成しても
良い。更に、それらの上に上部ギャップ絶縁層(図示せ
ず)及び上部シールド層(図示せず)が形成され、再生
用磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド部を構成する。
【0024】尚、図3(a)に示すように、GMR素子
1の第1の平面2、第1の平面2とその両側にある第2
の平面3とを夫々繋ぐ左右両側面及び第2の平面3の上
に、Ta等を材料として用いたキャップ層31が成膜形
成されていても良い。また、図3(b)に示すように、
下部ギャップ絶縁層12の上にTa等の材料を用いて中
間介在層32を成膜した上に、GMR素子1を形成して
も良いということは言うまでもないことである。
【0025】以上のように本実施の形態1によれば、第
2の平面の上にある、少なくともGMR素子の最上部に
ある反強磁性層が削り取られていることによって、第2
の平面から下に相当する部分では固定磁性層が反強磁性
層により固定されないので、磁気抵抗効果が無くなり、
上述の第1の平面の下にある部分のみが電磁変換に寄与
することになり、高記録密度化に伴う狭トラック幅化に
対応して、GMR素子の第1の平面が構成する再生ヘッ
ドトラック幅が小さくなり、上述の第2の平面が狭記録
トラックの隣接トラックにかかったとしても、隣接トラ
ックの記録信号磁界を電磁変換してノイズになるような
ことはなく、クロストークを減少することができ、ま
た、高記録密度化に伴う狭トラック幅化に対応して、G
MR素子の第1の平面が構成する再生ヘッドトラック幅
を小さくしても、GMR素子の左右にある一対の縦バイ
アス層の間隔を大きくとることができ、記録信号を再生
する時の再生感度を低下させることはない。
【0026】尚、上述の実施の形態においては、第2の
平面3は固定磁性層15が露出しているようになってい
るが、第2の平面3の下部では、磁気抵抗効果が無くな
るため、図3(c)に示すように、第2の平面3とし
て、GMR素子1を構成する非磁性導電層14の面が露
出していても良いことは言うまでもないことである。
【0027】(実施の形態2)図4は、本発明の実施の
形態2を示す再生用の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの
正面概略図である。
【0028】図4において、パーマロイ、Co系アモル
ファス磁性膜或いはFe系合金磁性膜等の軟磁性材料で
成膜された下部シールド層41の上に、Al23、Al
N或いはSiO2等の非磁性絶縁材料を用いて下部ギャ
ップ絶縁層42が成膜されている。更にその上に、Fe
Mn系合金膜、PtMn系合金膜等の材料である反強磁
性層401、FeNi系合金膜、パーマロイ、Co、F
eCo合金膜等を材料とする固定磁性層402、Cu等
を材料とする非磁性導電層403、固定磁性層402と
同様の材料とするフリー磁性層404及びTa等を材料
とするキャップ層405が夫々薄膜で順次積層成膜さ
れ、イオンミリング等のエッチング工程で左右両側端部
が傾斜した面を持つように削り取られてGMR素子43
が形成されている。尚、下部ギャップ絶縁層42の上に
反強磁性層401を形成したが、反強磁性層401の特
性を安定化させるために、下部ギャップ絶縁層42の上
にTa等の金属膜を介して反強磁性層401を成膜して
も良い。次に、そのGMR素子43の傾斜した左右両側
端面に接し、且つその厚さがGMR素子43の積層膜厚
と略同一になるようにCo系アモルファス磁性膜或いは
Fe系合金磁性膜等の軟磁性材料等の磁気抵抗効果を有
しない軟磁性中間層44が成膜形成され、更にその軟磁
性中間層44のMR素子43に接している側面とは逆の
左右両側端部の端面に接するように、硬質磁性膜からな
る縦バイアス層45が成膜されている。縦バイアス層4
5及び軟磁性中間層44の上及びGMR素子43の上面
と両側面の交線である稜線に接するようにTa、W等を
材料とした電極リード層46が成膜形成されている。次
に、電極リード層46とMR素子43の露出した部分の
上に、下部ギャップ絶縁層42と同様の非磁性絶縁材料
を用いて上部ギャップ絶縁層47が成膜され、更に、上
部ギャップ絶縁層47の上に、下部シールド層41と同
じような軟磁性材料を用いて上部シールド層48を成膜
形成し、再生用磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド49を構
成する。
【0029】磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド部49の再
生ヘッドトラック幅は、GMR素子43上の間隔40と
なり、軟磁性中間層44は磁気抵抗効果を有しないの
で、再生ヘッドギャップ幅は間隔40で決まることにな
り、サーボ等システム的な設計の観点から決定される
が、本実施の形態の場合には、機械的寸法の再生ヘッド
トラック幅と磁気的再生ヘッドトラック幅とは略同一と
なる。
【0030】また、図5は、本実施の形態2の他の一例
を示すGMR素子の近傍の正面概略図である。前述と同
様に、下部シールド層(図示せず)の上に成膜された下
部ギャップ絶縁層51の上にGMR素子52が積層成膜
形成されている。そのGMR素子52の左右両側端面に
接してGMR素子52の積層膜厚と略同一の厚みを有し
て軟磁性材料からなる左右一対の軟磁性中間層53が成
膜されている。更に、軟磁性中間層53の上に、GMR
素子52とは接しないところに、FeMn系合金膜、N
iMn系合金膜等の反強磁性膜或いはPtMn系合金膜
等の硬質磁性膜からなる左右一対の縦バイアス層54が
成膜形成され、その上にGMR素子52の上面と両側面
とが交わる稜線に接するようにして電極リード層55が
フォトレジストを塗布して成膜形成されている。
【0031】尚、図6に示すように、電極リード層46
はGMR素子43の一部の上面にかかるようにしても良
い。この時、GMR素子の露出した部分の幅61が再生
ヘッドトラック幅となる。
【0032】GMR素子43のバルクハウゼンノイズを
低減する効果を持つ縦バイアス層45は、軟磁性中間層
44を介してGMR素子43に対向しており、直接GM
R素子43とは接していないが、介在する軟磁性中間層
44は軟磁性材料で形成されているため、磁気的には縦
バイアス層45とGMR素子43とは結合されているこ
とになり、縦バイアス層45による縦バイアス磁界は有
効にGMR素子43に印加され、バルクハウゼンノイズ
は抑制される。更に、前述の従来例のように、GMR素
子と縦バイアス層が直接接している場合、その接してい
る面近傍のGMR素子は大きな縦バイアス層の磁界を受
け、フリー磁性層の磁化回転が阻害され、磁界の変化に
対するGMR素子の抵抗変化量が小さくなる。縦バイア
ス層と接している面から離れると、外部磁界の変化に対
するGMR素子の磁化の方向は回転し、抵抗変化を発生
するが、磁化の回転が阻害される領域(以下、この領域
を不安定領域と言う)から阻害されない領域(以下、安
定領域と言う)へは連続的に変化し、且つ、縦バイアス
層とGMR素子の接触面の状態及び縦バイアス層の特性
不安定領域とバラツキ等により、磁化の回転の不安定領
域と安定領域との距離にバラツキが生じて、オフトラッ
ク特性を劣化させる要因となる。上述の本実施の形態に
おいては、縦バイアス層と軟磁性中間層とが接している
ため、この不安定領域がなく、オフトラック特性を向上
させることができる。
【0033】以上のように本実施の形態2によれば、高
記録密度化に伴う狭トラック幅化に対応して、再生用磁
気抵抗硬化型薄膜磁気ヘッドのGMR素子の幅を小さく
しても、軟磁性中間層を介在させることによって、GM
R素子の左右にある一対の縦バイアス層の間隔を大きく
とることができ、記録信号を再生する時の再生感度を低
下させることなく、また、縦バイアス層がGMR素子と
接しているときと同じようにバルクハウゼンノイズを抑
制することができる。更に、GMR素子の左右両側に接
して軟磁性中間層が形成されているため、記録信号再生
時のオフトラックによる隣接トラックの信号磁界をノイ
ズ、所謂クロストークノイズとして再生することがな
い。また、GMR素子の全積層膜厚は非常に薄い(約5
0nm程度)積層膜であり、膜厚の小さいGMR素子の
形成のためのレジストの膜厚は非常に薄くてよいという
ことから、形成されるGMR素子の幅は精度高く形成す
ることができ、従って、GMR素子の幅で決まることに
なる再生ヘッドトラック幅は非常に良好な精度で形成で
きることになる。また、この時、電極リード層の厚さを
大きくして電極リード層の抵抗値を小さくすることがで
き、発熱を抑制することができるという効果もある。
【0034】尚、本実施の形態においては、GMR素子
を構成する反強磁性層をGMR素子の最下層に形成した
時の例を記述したが、実施の形態1に示すように、反強
磁性層をGMR素子の最上層に形成しても良いというこ
とは言うまでもない。
【0035】
【発明の効果】以上のように本発明は、記録トラック幅
及び隣接トラック間隔を小さくした高記録密度化に対応
して、再生用磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの磁気抵抗
効果素子の幅を小さくし、且つ、GMR素子の左右両側
に軟磁性層を介して縦バイアス層を形成することによっ
て、或いは、磁気抵抗効果素子の上面を所定の再生ヘッ
ドトラック幅を有する凸型の形状に形成することによっ
て、再生時に隣接トラックの記録信号を再生するノイ
ズ、所謂クロストークノイズを低減させ、また、GMR
素子の左右両側にある一対の縦バイアス層の間隔が、磁
気抵抗効果素子の幅が小さくなっても、磁気抵抗効果素
子の幅或いは有効な磁気抵抗効果を有する部分の幅以上
にすることができ、左右にある一対の縦バイアス層の間
隔が小さいことによる再生感度の低下を抑制することが
できるという、高記録密度化に有効な効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1を示す再生用磁気抵抗効
果型薄膜磁気ヘッドの正面概略図
【図2】本発明の実施の形態1の他の一例を示すGMR
素子近傍の正面概略図
【図3】本発明の実施の形態1の他の例を示すGMR素
子近傍の正面概略図
【図4】本発明の実施の形態2を示すGMR素子近傍の
正面概略図
【図5】本発明の実施の形態2の他の一例を示すGMR
素子の正面概略図
【図6】本発明の実施の形態2の他の例を示すGMR素
子の正面概略説明図
【図7】従来の薄膜磁気ヘッドを示す斜視図
【図8】従来の薄膜磁気ヘッドの再生ヘッド部における
GMR素子近傍を示す正面概略図
【符号の説明】
1、43、52、73 磁気抵抗効果素子(GMR素
子) 2 第1の平面 3 第2の平面 4 端面 5、45、54、74 縦バイアス層 6、46、55、75 電極リード層 11、41、71 下部シールド層 12、42、51、72 下部ギャップ絶縁層 13、404、804 フリー磁性層 14、403、803 非磁性導電層 15、402、802 固定磁性層 16、401、801 反強磁性層 31、405、805 キャップ層 32 中間介在層 40 間隔 44、53 軟磁性中間層 47、76 上部ギャップ絶縁層 48、77 上部シールド層 49、78 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド 61 幅 81、82 トラック幅 700 誘導型薄膜磁気ヘッド 701 記録ギャップ層 702 上部磁極 703 巻線コイル

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下部シールド層と上部シールド層との間
    に絶縁材を介して磁気抵抗効果素子を有し、前記磁気抵
    抗効果素子の左右両側端部に接して設けられた縦バイア
    ス層と、信号電流を流すための電極リード層からなる磁
    気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドにおいて、 下部シールド層の上に成膜された下部ギャップ絶縁層の
    上に、フリー磁性層、非磁性導電層、固定磁性層及び反
    強磁性層が順次成膜形成された磁気抵抗効果素子が、そ
    の上面に所定の再生ヘッドトラック幅を有する反強磁性
    層の第1の平面と、前記第1の平面に対し段差のある固
    定磁性層或いは非磁性導電層のいずれかの面が露出した
    第2の平面とを有し、前記下部ギャップ絶縁層から前記
    第2の平面までの厚さに略等しい厚さを有するように、
    前記磁気抵抗効果素子の左右両側端面に接した縦バイア
    ス層を形成したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
  2. 【請求項2】 磁気記録媒体からの記録磁界を抵抗変化
    として検出する磁気抵抗効果素子の左右両側端面に接
    し、且つ、前記磁気抵抗効果素子の膜厚と略同一の厚さ
    を有する軟磁性材料からなり、磁気抵抗効果のない軟磁
    性中間層と、前記軟磁性中間層に接している縦バイアス
    層と、からなる構成を有することを特徴とする薄膜磁気
    ヘッド。
  3. 【請求項3】 前記縦バイアス層が強磁性層或いは反強
    磁性層からなることを特徴とする請求項2に記載の薄膜
    磁気ヘッド。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7230803B2 (en) 2001-10-22 2007-06-12 Hitachi, Ltd. Magnetic head with magnetic domain control structure having anti-ferromagnetic layer and plural magnetic layers
JPWO2018025590A1 (ja) * 2016-08-02 2019-05-30 コニカミノルタ株式会社 含窒素複素環化合物の製造方法及び含窒素複素環化合物

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