JP2754804B2 - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
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- JP2754804B2 JP2754804B2 JP1301747A JP30174789A JP2754804B2 JP 2754804 B2 JP2754804 B2 JP 2754804B2 JP 1301747 A JP1301747 A JP 1301747A JP 30174789 A JP30174789 A JP 30174789A JP 2754804 B2 JP2754804 B2 JP 2754804B2
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁性基板の上にコイルや磁気コアを薄膜技
術によって形成した薄膜磁気ヘッドに関するものであ
る。
術によって形成した薄膜磁気ヘッドに関するものであ
る。
従来の技術 第７図は従来の薄膜磁気ヘッドを示す断面図である。
第７図において１はフェライト等の磁性材料よって構成
された基板、２は基板１の上に形成され、磁気ギャップ
となるギャップ層で、ギャップ層２は二酸化けい素やア
ルミナ等の非磁性物をスパッタリングする事によって形
成されている。３はギャップ層２の上に形成された層間
絶縁層で、層間絶縁層３はフォトレジスト等によって構
成されている。４は層間絶縁層３の上に形成されたコイ
ル層、５はコイル層４を覆うように層間絶縁層３の上に
形成された層間絶縁層、６は層間絶縁層５の上に形成さ
れた磁性層で、磁性層６は基板１とともに磁気回路を構
成している。磁性層６はパーマロイ等の金属磁性物をス
パッタリングする事により構成されている。７は積層さ
れた薄膜を保護するように形成された保護層である。以
上の様に構成された薄膜磁気ヘッドは第７図に示す矢印
のように磁束は流れる。又トラック幅は第８図に示す磁
性層６の先端の幅ａをどの位にするかで調整していた。
第８図は保護層７を形成する前の薄膜磁気ヘッドの平面
図である。
第７図において１はフェライト等の磁性材料よって構成
された基板、２は基板１の上に形成され、磁気ギャップ
となるギャップ層で、ギャップ層２は二酸化けい素やア
ルミナ等の非磁性物をスパッタリングする事によって形
成されている。３はギャップ層２の上に形成された層間
絶縁層で、層間絶縁層３はフォトレジスト等によって構
成されている。４は層間絶縁層３の上に形成されたコイ
ル層、５はコイル層４を覆うように層間絶縁層３の上に
形成された層間絶縁層、６は層間絶縁層５の上に形成さ
れた磁性層で、磁性層６は基板１とともに磁気回路を構
成している。磁性層６はパーマロイ等の金属磁性物をス
パッタリングする事により構成されている。７は積層さ
れた薄膜を保護するように形成された保護層である。以
上の様に構成された薄膜磁気ヘッドは第７図に示す矢印
のように磁束は流れる。又トラック幅は第８図に示す磁
性層６の先端の幅ａをどの位にするかで調整していた。
第８図は保護層７を形成する前の薄膜磁気ヘッドの平面
図である。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、前記従来の構成では磁性層６から媒体
対向面に飛び出した磁束は基板１の磁性層６と対向する
部分Ｃのみに入り込まず、第９図に示すように基板のか
なり広い範囲に入り込んでいるので、実際に磁気記録媒
体にデータを書き込むと、磁気記録媒体上のデータトラ
ックの幅は磁性膜の幅ａよりもかなり幅広いものとな
る。従って磁気記録媒体のデータトラックの間を広くと
らなければ、記録の際に隣接するデータトラックのデー
タを壊したり、又は再生の際にノイズ多くなり、S/N比
が悪くなるという不具合が生じる事があった。そのため
に磁気記録媒体のデータトラックの間を広くとる必要が
あり、磁気記録媒体の面密度の向上の妨げとなってい
た。実際には書き込んだデータトラックの幅は磁性層６
の幅ａの1.3倍になっている。
対向面に飛び出した磁束は基板１の磁性層６と対向する
部分Ｃのみに入り込まず、第９図に示すように基板のか
なり広い範囲に入り込んでいるので、実際に磁気記録媒
体にデータを書き込むと、磁気記録媒体上のデータトラ
ックの幅は磁性膜の幅ａよりもかなり幅広いものとな
る。従って磁気記録媒体のデータトラックの間を広くと
らなければ、記録の際に隣接するデータトラックのデー
タを壊したり、又は再生の際にノイズ多くなり、S/N比
が悪くなるという不具合が生じる事があった。そのため
に磁気記録媒体のデータトラックの間を広くとる必要が
あり、磁気記録媒体の面密度の向上の妨げとなってい
た。実際には書き込んだデータトラックの幅は磁性層６
の幅ａの1.3倍になっている。
本発明は前記従来の問題点を解決しようとするもの
で、磁性層の幅と磁気記録媒体上のデータトラックの幅
をほぼ同じにする事ができ、データトラック間を狭くす
る事ができるので、磁気記録媒体の記録密度を向上させ
る事ができる薄膜磁気ヘッドを提供する事を目的として
いる。
で、磁性層の幅と磁気記録媒体上のデータトラックの幅
をほぼ同じにする事ができ、データトラック間を狭くす
る事ができるので、磁気記録媒体の記録密度を向上させ
る事ができる薄膜磁気ヘッドを提供する事を目的として
いる。
課題を解決するための手段 この目的を達成するため磁性材料によって構成された
下部磁性部を形成する工程と、前記下部磁性部上にギャ
ップ層とコイル層を形成する工程と、前記コイル層上に
下部磁性部と磁気回路を構成する上部磁性層を形成する
工程を含む薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記上
部磁性層を形成した後に前記上部磁性層の媒体対向面に
合わせて薄膜磁気ヘッドの媒体対向面近傍部分のみを前
記下部磁性部の中途に至るまで除去して、前記下部磁性
部よりなる対向部を形成するようにした。
下部磁性部を形成する工程と、前記下部磁性部上にギャ
ップ層とコイル層を形成する工程と、前記コイル層上に
下部磁性部と磁気回路を構成する上部磁性層を形成する
工程を含む薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記上
部磁性層を形成した後に前記上部磁性層の媒体対向面に
合わせて薄膜磁気ヘッドの媒体対向面近傍部分のみを前
記下部磁性部の中途に至るまで除去して、前記下部磁性
部よりなる対向部を形成するようにした。
作用 この構成により製造された薄膜磁気ヘッドは、ほとん
どの磁束が下部磁性部の対向部と磁性層との間で出入り
するようになる。
どの磁束が下部磁性部の対向部と磁性層との間で出入り
するようになる。
実施例 第１図は本発明の一実施例における薄膜磁気ヘッドを
示す断面図である。第１図において８はMn−Znフェライ
トやNi−Znフェライトのような磁性材料によって構成さ
れた基板で、基板８には第２図に示すように媒体対向面
となる側に磁性層対向部8aが設けられている。磁性層対
向部8aは後述の磁性層13の幅と同じ幅になるように基板
８の媒体対向面側に切欠8b,8cを設ける事によって形成
されている。第１図において９は基板８の切欠部8b,8c
以外の部分に設けられたギャップ層、10はギャップ層９
の上に形成された層間絶縁層、11は層間絶縁層10の上に
形成されたコイル層、12はコイル層11を覆う様に層間絶
縁層10の上に形成された層間絶縁層、13は磁性層で、磁
性層13の媒体対向面側は磁性層対向部8aに対向してい
る。14は積層された薄膜を保護する様に設けられた保護
層である。
示す断面図である。第１図において８はMn−Znフェライ
トやNi−Znフェライトのような磁性材料によって構成さ
れた基板で、基板８には第２図に示すように媒体対向面
となる側に磁性層対向部8aが設けられている。磁性層対
向部8aは後述の磁性層13の幅と同じ幅になるように基板
８の媒体対向面側に切欠8b,8cを設ける事によって形成
されている。第１図において９は基板８の切欠部8b,8c
以外の部分に設けられたギャップ層、10はギャップ層９
の上に形成された層間絶縁層、11は層間絶縁層10の上に
形成されたコイル層、12はコイル層11を覆う様に層間絶
縁層10の上に形成された層間絶縁層、13は磁性層で、磁
性層13の媒体対向面側は磁性層対向部8aに対向してい
る。14は積層された薄膜を保護する様に設けられた保護
層である。
以上の様に構成された薄膜磁気ヘッドの製造方法につ
いて説明する。先ず基板８に二酸化けい素やアルミナ等
の非磁性物をスパッタリングする事によってギャップ層
９を形成する。次にギャップ層９の上にフォトレジスト
を塗布し、紫外線を照射して所定の形状に硬化させ、層
間絶縁層10を形成する。次に層間絶縁層10の上に銅等の
良導体をスパッタリングする事によって、導電層を形成
し、その導電層をエッチングして渦巻上のコイル層11を
形成する。次にコイル層11を覆うようにフォトレジスト
を塗布し、紫外線を照射する事によって硬化させ、層間
絶縁層12を形成する。次にコイル層11や層間絶縁層10,1
2頭の薄膜を積層した側に一面に金属磁性物をスパッタ
リングする事により金属磁性膜を形成する。次にこの金
属磁性膜の上にフォトレジストを塗布し、所定の場合の
フォトレジストに紫外線を照射する。次に現像液にフォ
トレジストを浸して洗うと、紫外線が照射された部分だ
けが残り、他の部分では洗い流される。次にイオンミー
リング等でエッチングを行って、磁性層13を形成する。
次に磁性層13を形成した側に一面にフォトレジストを塗
布する。そして紫外線を媒体対向面の端部の内で、磁性
層13以外の部分に照射して、その部分を現像液によって
取り除く。次にイオンミーリングによってフォトレジス
トを取り除いた部分を基板８に達するまでエッチング
し、基板８に磁性層対向部8aを形成する。この様子を第
３図に示す。第３図は薄膜磁気ヘッドを媒体対向面側か
ら見た平面図である。最後に保護層14を形成する。
いて説明する。先ず基板８に二酸化けい素やアルミナ等
の非磁性物をスパッタリングする事によってギャップ層
９を形成する。次にギャップ層９の上にフォトレジスト
を塗布し、紫外線を照射して所定の形状に硬化させ、層
間絶縁層10を形成する。次に層間絶縁層10の上に銅等の
良導体をスパッタリングする事によって、導電層を形成
し、その導電層をエッチングして渦巻上のコイル層11を
形成する。次にコイル層11を覆うようにフォトレジスト
を塗布し、紫外線を照射する事によって硬化させ、層間
絶縁層12を形成する。次にコイル層11や層間絶縁層10,1
2頭の薄膜を積層した側に一面に金属磁性物をスパッタ
リングする事により金属磁性膜を形成する。次にこの金
属磁性膜の上にフォトレジストを塗布し、所定の場合の
フォトレジストに紫外線を照射する。次に現像液にフォ
トレジストを浸して洗うと、紫外線が照射された部分だ
けが残り、他の部分では洗い流される。次にイオンミー
リング等でエッチングを行って、磁性層13を形成する。
次に磁性層13を形成した側に一面にフォトレジストを塗
布する。そして紫外線を媒体対向面の端部の内で、磁性
層13以外の部分に照射して、その部分を現像液によって
取り除く。次にイオンミーリングによってフォトレジス
トを取り除いた部分を基板８に達するまでエッチング
し、基板８に磁性層対向部8aを形成する。この様子を第
３図に示す。第３図は薄膜磁気ヘッドを媒体対向面側か
ら見た平面図である。最後に保護層14を形成する。
以上の様に構成された薄膜磁気ヘッドの媒体対向面の
磁束の流れを第３図に示す。
磁束の流れを第３図に示す。
第３図に示す矢印の様に磁性層13から出た磁束はほと
んど磁性層対向部8aに入り込む。従って本実施例の薄膜
磁気ヘッドで磁気記録媒体に記録した時のデータトラッ
ク幅は第４図に示す磁性層の幅Ｍとほぼ同じである。こ
の事を以下に述べる実験によって説明する。先ず磁気記
録媒体に薄膜磁気ヘッドで１データトラックを記録し
た。次のそのデータトラックを記録した時と同じ薄膜磁
気ヘッドで、再生したその再生出力を測定した。次に薄
膜磁気ヘッドをそのデータトラックから磁気記録媒体の
半径方向にずらしていき、その度に再生出力を測定し
た。この結果を第５図及び第６図に示す。第５図及び第
６図は従来及び本実施例の薄膜磁気ヘッドを用いた時の
測定結果である。第５図及び第６図において、縦軸は薄
膜磁気ヘッドをずらさない時の再生出力を１とした時の
相対的な再生出力をとっている。横軸は、薄膜磁気ヘッ
ドの磁性層の幅を１とした時のずれ量をとった。第５図
に示すように従来の薄膜磁気ヘッドでは、ずれ量が１を
越えても、すなわち磁性層の幅分磁気ヘッドがずれても
再生出力が出ている。そしてずれ量が磁性層の幅の約1.
3倍で再生出力が出なくなっている。これは磁性層の幅
の約1.3倍の幅で、データトラックが形成されていると
考えられる。一方第１図に示す薄膜磁気ヘッドではずれ
量が磁性層の約1.1倍の所で再生出力が出なくなってい
る。すなわち磁性層の幅の約1.1倍の幅でデータトラッ
クが形成されていると考えられる。
んど磁性層対向部8aに入り込む。従って本実施例の薄膜
磁気ヘッドで磁気記録媒体に記録した時のデータトラッ
ク幅は第４図に示す磁性層の幅Ｍとほぼ同じである。こ
の事を以下に述べる実験によって説明する。先ず磁気記
録媒体に薄膜磁気ヘッドで１データトラックを記録し
た。次のそのデータトラックを記録した時と同じ薄膜磁
気ヘッドで、再生したその再生出力を測定した。次に薄
膜磁気ヘッドをそのデータトラックから磁気記録媒体の
半径方向にずらしていき、その度に再生出力を測定し
た。この結果を第５図及び第６図に示す。第５図及び第
６図は従来及び本実施例の薄膜磁気ヘッドを用いた時の
測定結果である。第５図及び第６図において、縦軸は薄
膜磁気ヘッドをずらさない時の再生出力を１とした時の
相対的な再生出力をとっている。横軸は、薄膜磁気ヘッ
ドの磁性層の幅を１とした時のずれ量をとった。第５図
に示すように従来の薄膜磁気ヘッドでは、ずれ量が１を
越えても、すなわち磁性層の幅分磁気ヘッドがずれても
再生出力が出ている。そしてずれ量が磁性層の幅の約1.
3倍で再生出力が出なくなっている。これは磁性層の幅
の約1.3倍の幅で、データトラックが形成されていると
考えられる。一方第１図に示す薄膜磁気ヘッドではずれ
量が磁性層の約1.1倍の所で再生出力が出なくなってい
る。すなわち磁性層の幅の約1.1倍の幅でデータトラッ
クが形成されていると考えられる。
以上のように本実施例によれば、基板８の媒体対向面
側の端部において、磁性層13の対向する部分以外を切り
欠いて、磁性層対向部8aを設けた事により、磁性層13か
ら飛び出した磁束はほとんど磁性層対向部8aに入り込む
ので、磁気記録媒体上のデータトラックの幅をほぼ磁性
層13の幅Ｍに等しくする事が出来る。従ってデータトラ
ック間を狭くする事ができ、磁性記録媒体の記憶容量を
大きくすることができる。
側の端部において、磁性層13の対向する部分以外を切り
欠いて、磁性層対向部8aを設けた事により、磁性層13か
ら飛び出した磁束はほとんど磁性層対向部8aに入り込む
ので、磁気記録媒体上のデータトラックの幅をほぼ磁性
層13の幅Ｍに等しくする事が出来る。従ってデータトラ
ック間を狭くする事ができ、磁性記録媒体の記憶容量を
大きくすることができる。
発明の効果 本発明は磁性材料によって構成された下部磁性部を形
成する工程と、前記下部磁性部上にギャップ層とコイル
層を形成する工程と、前記コイル層上に下部磁性部と磁
気回路を構成する上部磁性層を形成する工程を含む薄膜
磁気ヘッドの製造方法であって、前記上部磁性層を形成
した後に前記上部磁性層の媒体対向面に合わせて薄膜磁
気ヘッドの媒体対向面近傍部分のみを前記下部磁性部の
中途に至るまで除去して、前記下部磁性部よりなる対向
部を形成するようにした事により、下部磁性部と上部磁
性膜は同じタイミングで、かつ媒体対向面において同じ
幅で切断され、しかも同時に切断するために下部磁性部
と上部磁性膜の対向部におけるずれなどはほとんど存在
しなくなる。したがって、下部磁性部と上部磁性膜との
間で発生するもれ磁界は、下部磁性部と上部磁性膜との
幅差及びずれがほとんどないために極小であり、このた
め本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法により製造された
薄膜磁気ヘッドを使用すれば、ほとんどの磁束が基板の
媒体対向面側を切り欠いて残った部分のみに出入りする
ようになり、磁気記録媒体に作成されるデータトラック
の幅をほぼ磁性層の幅と同じにする事ができるので、デ
ータトラック間を狭くすることができ、磁気記録媒体の
記憶容量を大きくする事ができる。さらに、媒体対向面
近傍部分のみを除去するので、コイル層等はエッチング
によるダメージを受けることはなく、従って、薄膜磁気
ヘッドとして信頼性が高く、歩留まりの良い、製造コス
トを安くすることが可能となる。
成する工程と、前記下部磁性部上にギャップ層とコイル
層を形成する工程と、前記コイル層上に下部磁性部と磁
気回路を構成する上部磁性層を形成する工程を含む薄膜
磁気ヘッドの製造方法であって、前記上部磁性層を形成
した後に前記上部磁性層の媒体対向面に合わせて薄膜磁
気ヘッドの媒体対向面近傍部分のみを前記下部磁性部の
中途に至るまで除去して、前記下部磁性部よりなる対向
部を形成するようにした事により、下部磁性部と上部磁
性膜は同じタイミングで、かつ媒体対向面において同じ
幅で切断され、しかも同時に切断するために下部磁性部
と上部磁性膜の対向部におけるずれなどはほとんど存在
しなくなる。したがって、下部磁性部と上部磁性膜との
間で発生するもれ磁界は、下部磁性部と上部磁性膜との
幅差及びずれがほとんどないために極小であり、このた
め本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法により製造された
薄膜磁気ヘッドを使用すれば、ほとんどの磁束が基板の
媒体対向面側を切り欠いて残った部分のみに出入りする
ようになり、磁気記録媒体に作成されるデータトラック
の幅をほぼ磁性層の幅と同じにする事ができるので、デ
ータトラック間を狭くすることができ、磁気記録媒体の
記憶容量を大きくする事ができる。さらに、媒体対向面
近傍部分のみを除去するので、コイル層等はエッチング
によるダメージを受けることはなく、従って、薄膜磁気
ヘッドとして信頼性が高く、歩留まりの良い、製造コス
トを安くすることが可能となる。
第１図は本発明の一実施例における薄膜磁気ヘッド示す
断面図、第２図は本実施例の薄膜磁気ヘッドの基板示す
斜視図、第３図は本実施例の薄膜磁気ヘッドを媒体対向
面側から見た平面図、第４図は本実施例の薄膜磁気ヘッ
ドの保護層を形成するまえの平面図、第５図及び第６図
はそれぞれ従来及び本実施例における薄膜磁気ヘッドの
ずれ量と再生出力関係を示すグラフ、第７図は従来の薄
膜磁気ヘッドを示す断面図、第８図は保護層を形成する
前の従来の薄膜磁気ヘッドの断面図、第９図は薄膜軸ヘ
ッドの磁束の流れを示す平面図である。 ８……基板 8a……磁性層対向部 8b,8c……切欠部 ９……ギャップ層 10,12……層間絶縁層 11……コイル層 13……磁性層 14……保護層
断面図、第２図は本実施例の薄膜磁気ヘッドの基板示す
斜視図、第３図は本実施例の薄膜磁気ヘッドを媒体対向
面側から見た平面図、第４図は本実施例の薄膜磁気ヘッ
ドの保護層を形成するまえの平面図、第５図及び第６図
はそれぞれ従来及び本実施例における薄膜磁気ヘッドの
ずれ量と再生出力関係を示すグラフ、第７図は従来の薄
膜磁気ヘッドを示す断面図、第８図は保護層を形成する
前の従来の薄膜磁気ヘッドの断面図、第９図は薄膜軸ヘ
ッドの磁束の流れを示す平面図である。 ８……基板 8a……磁性層対向部 8b,8c……切欠部 ９……ギャップ層 10,12……層間絶縁層 11……コイル層 13……磁性層 14……保護層
Claims (1)
- 【請求項１】磁性材料によって構成された下部磁性部を
形成する工程と、前記下部磁性部上にギャップ層とコイ
ル層を形成する工程と、前記コイル層上に下部磁性部と
磁気回路を構成する上部磁性層を形成する工程を含む薄
膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記上部磁性層を形
成した後に前記上部磁性層の媒体対向面に合わせて薄膜
磁気ヘッドの媒体対向面近傍部分のみを前記下部磁性部
の中途に至るまで除去して、前記下部磁性部よりなる対
向部を形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1301747A JP2754804B2 (ja) | 1989-11-20 | 1989-11-20 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1301747A JP2754804B2 (ja) | 1989-11-20 | 1989-11-20 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03162706A JPH03162706A (ja) | 1991-07-12 |
| JP2754804B2 true JP2754804B2 (ja) | 1998-05-20 |
Family
ID=17900680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1301747A Expired - Lifetime JP2754804B2 (ja) | 1989-11-20 | 1989-11-20 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2754804B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5452164A (en) * | 1994-02-08 | 1995-09-19 | International Business Machines Corporation | Thin film magnetic write head |
| US5438747A (en) * | 1994-03-09 | 1995-08-08 | International Business Machines Corporation | Method of making a thin film merged MR head with aligned pole tips |
| JP2784431B2 (ja) * | 1994-04-19 | 1998-08-06 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 薄膜磁気書込みヘッド、読取り／書込み磁気ヘッド、ディスク駆動装置及び薄膜磁気書込みヘッドの製造方法 |
| US6091582A (en) * | 1997-03-28 | 2000-07-18 | Hitachi, Ltd. | Thin film magnetic recording head with very narrow track width performing high density recording at high driving frequency |
| JPH117608A (ja) * | 1997-04-25 | 1999-01-12 | Fujitsu Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| JPH11353614A (ja) | 1998-06-08 | 1999-12-24 | Nec Corp | 薄膜磁気ヘッド及びこれを用いた磁気記憶装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5916115A (ja) * | 1982-07-20 | 1984-01-27 | Canon Inc | 薄膜磁気ヘツド |
| JPH0264908A (ja) * | 1988-08-31 | 1990-03-05 | Canon Inc | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
-
1989
- 1989-11-20 JP JP1301747A patent/JP2754804B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03162706A (ja) | 1991-07-12 |
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