JPH0278555A - 液体噴射記録ヘッドおよび該ヘッド用基体並びに該ヘッドを具備する液体噴射記録装置 - Google Patents
液体噴射記録ヘッドおよび該ヘッド用基体並びに該ヘッドを具備する液体噴射記録装置Info
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 97
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 23
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 63
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 26
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 8
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 abstract description 6
- 238000000059 patterning Methods 0.000 abstract description 6
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 abstract description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910003862 HfB2 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910010165 TiCu Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 abstract 1
- 210000003128 head Anatomy 0.000 description 11
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002482 Cu–Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 210000004709 eyebrow Anatomy 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
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- B41J2/135—Nozzles
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- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1629—Manufacturing processes etching wet etching
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14016—Structure of bubble jet print heads
- B41J2/14088—Structure of heating means
- B41J2/14112—Resistive element
- B41J2/14129—Layer structure
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
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- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1604—Production of bubble jet print heads of the edge shooter type
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1628—Manufacturing processes etching dry etching
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、記録液体を吐出口から吐出して飛翔液滴を形
成し、当該飛翔液滴により記録を行う液体噴射ヘッドお
よび該ヘッド用基体並びに該ヘッドを具備する液体噴射
記録装置に関する。
成し、当該飛翔液滴により記録を行う液体噴射ヘッドお
よび該ヘッド用基体並びに該ヘッドを具備する液体噴射
記録装置に関する。
［従来の技術］
従来の液体噴射記録ヘッドの配線部の共通電極は、通常
、例えば特開昭５β−６３４５７号公報に記載されてい
るようなものである。第１図は従来の液体噴射記録ヘッ
ド用基体の主要部の一例を示す模式的上面図である。
、例えば特開昭５β−６３４５７号公報に記載されてい
るようなものである。第１図は従来の液体噴射記録ヘッ
ド用基体の主要部の一例を示す模式的上面図である。
また、第８図のＢ−Ｂ’ での模式的断面図を第９図に
示す０図中、１１は液体噴射記録ヘッド用基体である。
示す０図中、１１は液体噴射記録ヘッド用基体である。
また、３は支持体１５上に形成されＨｆＢ、からなる発
熱抵抗層、４はＡＪ２の共通電極用配線層、５はＡｆＬ
の個別電極用配線層、６は５ｉｎ２からなる耐酸化性の
保護層、７はＴａからなる耐キヤビテーシヨン用の保護
層、８は感光性ポリミドからなる耐インク性の保護層で
ある。
熱抵抗層、４はＡＪ２の共通電極用配線層、５はＡｆＬ
の個別電極用配線層、６は５ｉｎ２からなる耐酸化性の
保護層、７はＴａからなる耐キヤビテーシヨン用の保護
層、８は感光性ポリミドからなる耐インク性の保護層で
ある。
発熱抵抗層３、各配線層４．５および各保護層６．７．
８が液体を吐出口から吐出するために利用される熱エネ
ルギーを発生する電気変換体を形成している。
８が液体を吐出口から吐出するために利用される熱エネ
ルギーを発生する電気変換体を形成している。
この液体噴射記録ヘッド用基体１１の主要部の完成後、
点線部１２に銅が積層されたガラスエポキシ基板からな
る共通電極部材１３を接着し、さらにワイヤーポーディ
ングによりこの共通電極部材１３と共通電極用配線４と
を接続する。この状態を第１０図および第１１図に示す
。第１０図は模式的上面図であり、第１１図は、第１０
図のＣ−Ｃ’断面における模式的断面図である０両図に
おいて、第８図および第９図と同符号を符したものは各
々同じものを示す、また＄１１図中、１４はワイヤーボ
ンディングにより接続されたワイヤーである。
点線部１２に銅が積層されたガラスエポキシ基板からな
る共通電極部材１３を接着し、さらにワイヤーポーディ
ングによりこの共通電極部材１３と共通電極用配線４と
を接続する。この状態を第１０図および第１１図に示す
。第１０図は模式的上面図であり、第１１図は、第１０
図のＣ−Ｃ’断面における模式的断面図である０両図に
おいて、第８図および第９図と同符号を符したものは各
々同じものを示す、また＄１１図中、１４はワイヤーボ
ンディングにより接続されたワイヤーである。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、上記した従来の例では、その製造工程に
おいて、記録液体噴射部の作製工程と別に配線部（共通
電極１３等）を作成し、その後これらをワイヤーボンデ
ィング等により接続する方法が採られていたため、工程
が複雑であり、工程終了後もワイヤーボンディングがは
ずれてしまうことがあるという課題があった。
おいて、記録液体噴射部の作製工程と別に配線部（共通
電極１３等）を作成し、その後これらをワイヤーボンデ
ィング等により接続する方法が採られていたため、工程
が複雑であり、工程終了後もワイヤーボンディングがは
ずれてしまうことがあるという課題があった。
特に、被記録部材の１行分の幅に対応して吐出口が設け
られている所謂フルラインタイプの液体噴射記録ヘッド
においては、該吐出口の数の分だけワイヤーボンディン
グを行わなければならないので、工程的に非常に複雑で
精度と確実性とを要求され、また該工程終了後もワイヤ
ーボンディングの数が多い分だけそのワイヤの離脱に起
因するヘッドの故障が生じやすく、しかも該液体噴射記
録ヘッドの幅に対応する共通電極部材を苦労して作成し
なければならないといった種々の問題が生じやすかワた
。
られている所謂フルラインタイプの液体噴射記録ヘッド
においては、該吐出口の数の分だけワイヤーボンディン
グを行わなければならないので、工程的に非常に複雑で
精度と確実性とを要求され、また該工程終了後もワイヤ
ーボンディングの数が多い分だけそのワイヤの離脱に起
因するヘッドの故障が生じやすく、しかも該液体噴射記
録ヘッドの幅に対応する共通電極部材を苦労して作成し
なければならないといった種々の問題が生じやすかワた
。
本発明は、前記した課題を解消し、工程的に非常に簡単
に低コストで作成することができ、しかも電気的接続な
どに関する高い精度と確実性とをもつ液体噴射記録ヘッ
ドおよび該ヘッド用基体並びに該ヘッドを具備する液体
噴射記録装置を提供することを目的とする。
に低コストで作成することができ、しかも電気的接続な
どに関する高い精度と確実性とをもつ液体噴射記録ヘッ
ドおよび該ヘッド用基体並びに該ヘッドを具備する液体
噴射記録装置を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
本発明の液体記録噴射ヘッド用基体は、支持体と、
該支持体上に設けられ１発熱抵抗層と該発熱抵抗層に接
続された共通電極用配線層および個別電極用配線層とこ
れらの各層の保護層とを有する電気熱変換体の複数と、 前記共通電極用配線層の上に設けられた絶縁層と、 該絶縁層に設けられたスルーホールによって該絶縁層を
介して前記複数の共通電極用配線層に共通に接続された
共通電極と を有することを特徴とする。
続された共通電極用配線層および個別電極用配線層とこ
れらの各層の保護層とを有する電気熱変換体の複数と、 前記共通電極用配線層の上に設けられた絶縁層と、 該絶縁層に設けられたスルーホールによって該絶縁層を
介して前記複数の共通電極用配線層に共通に接続された
共通電極と を有することを特徴とする。
前記特徴においては、前記保護層および前記絶縁層とし
て、同一の膜が用いられていることが望ましい。
て、同一の膜が用いられていることが望ましい。
本発明の液体噴射記録ヘッドは、上記の特徴を有する液
体噴射記録ヘッド用基体上に、前記共通電極用配線層と
前記個別電極用配線層との間に形成される発熱部に対応
して液路が形成されており、該発熱部が発生する熱エネ
ルギーを利用して前記液路に連通ずる吐出口から液体を
吐出することを特徴とする。
体噴射記録ヘッド用基体上に、前記共通電極用配線層と
前記個別電極用配線層との間に形成される発熱部に対応
して液路が形成されており、該発熱部が発生する熱エネ
ルギーを利用して前記液路に連通ずる吐出口から液体を
吐出することを特徴とする。
本発明の液体噴射記録装置は、上記の特徴を有する液体
噴射記録ヘッドと、該液体噴射記録ヘッドを駆動するた
めの電源のスイッチ手段とを具備することを特徴とする
特 ［作用］ 本発明の液体噴射記録ヘッド用基体は、記録液体噴射部
と配線部とを同時工程で作製することができるので、工
程的に非常に簡単に低コストで作成することができる。
噴射記録ヘッドと、該液体噴射記録ヘッドを駆動するた
めの電源のスイッチ手段とを具備することを特徴とする
特 ［作用］ 本発明の液体噴射記録ヘッド用基体は、記録液体噴射部
と配線部とを同時工程で作製することができるので、工
程的に非常に簡単に低コストで作成することができる。
さらに、本発明の液体噴射記録ヘッド用基体によれば、
共通電極用配線層と共通電極とをスルーホールによって
接続したので、記録液体噴射部と配線部との接続の信頼
性を向上させることができる。
共通電極用配線層と共通電極とをスルーホールによって
接続したので、記録液体噴射部と配線部との接続の信頼
性を向上させることができる。
また、本発明によれば、上述のような液体噴射記録ヘッ
ド用基体を用いて液体噴射記録ヘッドを作製したので、
安価で信頼性に優れた液体噴射記録ヘッドを提供するこ
とができる。
ド用基体を用いて液体噴射記録ヘッドを作製したので、
安価で信頼性に優れた液体噴射記録ヘッドを提供するこ
とができる。
さらに、本発明によれば、該液体噴射記録ヘッドを用い
て液体噴射記録装置を作製したので、安価で信頼性に優
れた液体噴射記録装置を提供することができる。
て液体噴射記録装置を作製したので、安価で信頼性に優
れた液体噴射記録装置を提供することができる。
［実施例］
（実施例１）
以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。第１図
は本発明の一実施例の液体噴射記録ヘッド用基体の主要
部の概略を示す模式的上面図であり、第２図は第１図の
Ａ−Ａ’での模式的断面図である。第１図および第２図
において、１は液体噴射部、２は配線部である。
は本発明の一実施例の液体噴射記録ヘッド用基体の主要
部の概略を示す模式的上面図であり、第２図は第１図の
Ａ−Ａ’での模式的断面図である。第１図および第２図
において、１は液体噴射部、２は配線部である。
第２図の６ａは液体噴射部１側の耐酸化性の保護層であ
り、６ｂは配線部２側の層間絶縁層であるが、共にＳｉ
ｎ、で形成されており、同一の工程で同時に作成されて
いる。また、８ａは液体噴射部１側の耐インク性の保護
層であり、８ｂは配線部２側の眉間絶縁層であるが、共
に感光性ポリイミドを用いて作成されており、やはり同
一の工程で同時に作成されている。
り、６ｂは配線部２側の層間絶縁層であるが、共にＳｉ
ｎ、で形成されており、同一の工程で同時に作成されて
いる。また、８ａは液体噴射部１側の耐インク性の保護
層であり、８ｂは配線部２側の眉間絶縁層であるが、共
に感光性ポリイミドを用いて作成されており、やはり同
一の工程で同時に作成されている。
次に本実施例の製造工程について説明する。
■まず、発熱抵抗層３として、厚さ１０００人のＨｆＢ
ｚ膜をスパッタリング法で作成し、しかる後に第１図の
パターンとなるように弗酸硝酸系のウェットエツチング
でＨｆＢｚ膜のバターニングを行う。
ｚ膜をスパッタリング法で作成し、しかる後に第１図の
パターンとなるように弗酸硝酸系のウェットエツチング
でＨｆＢｚ膜のバターニングを行う。
■共通電極用配線層４および個別電極用配線層５として
、厚さ５０００人のＡ２膜をスパッタリング法で作成し
、しかる後第１図のパターンとなるように酢酸、硝酸、
リン酸系ウェットエツチングでＡ１膜のバターニングを
行う。
、厚さ５０００人のＡ２膜をスパッタリング法で作成し
、しかる後第１図のパターンとなるように酢酸、硝酸、
リン酸系ウェットエツチングでＡ１膜のバターニングを
行う。
■耐酸化性の保護層６ａおよび層間絶縁層６ｂとして、
厚さ２μｍのＳ ｉ ０２膜をスパッタリング法で作成
し、しかる後、ＣＦ４ガスを用いたりアクティブ、イオ
ンエツチングを行い、スルホール９を作る。
厚さ２μｍのＳ ｉ ０２膜をスパッタリング法で作成
し、しかる後、ＣＦ４ガスを用いたりアクティブ、イオ
ンエツチングを行い、スルホール９を作る。
■耐キャビテーション用保護層７として、厚さ５０００
人のＴａ膜をスパッタリング法で作成し、配線層４と配
線層５との間の発熱部を覆うように弗酸硝酸系ウェット
エツチングでＴａ膜のバターニングを行う。
人のＴａ膜をスパッタリング法で作成し、配線層４と配
線層５との間の発熱部を覆うように弗酸硝酸系ウェット
エツチングでＴａ膜のバターニングを行う。
■耐インク性の保護層８ａおよび層間絶縁層８ｂとして
厚さ２μｍの感光性ポリイミド（東し社製フォトニース
）を塗布し、第２図に示されたようなフォトリソグラフ
ィー技術によるバターニングを行い、スルホール９を作
る。
厚さ２μｍの感光性ポリイミド（東し社製フォトニース
）を塗布し、第２図に示されたようなフォトリソグラフ
ィー技術によるバターニングを行い、スルホール９を作
る。
■共通電極１０として厚さｓ ｏ ｏ 、ｏ人のＴｉ・
Ｃｕ膜をスパッタリング法で作成し、第１図のパターン
となるようにウェットエツチングによるＴ１Ｃｕ１ｉの
バターニングを行う、ここで共通電極１０は、−辺の長
さが５０μｍのスルホール９（スルホールの形状は四角
形に限らず例えば円形であってもよい）を通って共通Ｘ
ｉ用配線層４と接続される。
Ｃｕ膜をスパッタリング法で作成し、第１図のパターン
となるようにウェットエツチングによるＴ１Ｃｕ１ｉの
バターニングを行う、ここで共通電極１０は、−辺の長
さが５０μｍのスルホール９（スルホールの形状は四角
形に限らず例えば円形であってもよい）を通って共通Ｘ
ｉ用配線層４と接続される。
■最後に、共通電極１０に、厚さ１０μｍのＣｕ−Ｎｉ
−Ａｕ合金膜のメツキを行う、これは、共通電極１０の
導電率を高めるためである。
−Ａｕ合金膜のメツキを行う、これは、共通電極１０の
導電率を高めるためである。
以上のようにして、第１図および第２図に示したような
液体噴射記録ヘッド用基体を得ることができた。
液体噴射記録ヘッド用基体を得ることができた。
（実施例２）
第３図は、第２図の共通電極１０の周辺部に関する他の
実施例を示す模式的断面図である。
実施例を示す模式的断面図である。
本例では、有機材料からなる保護層Ｂａ、８ｂが保護層
６ａ、６ｂを覆うように設けられているので、ピンホー
ルの少ない保護層８ａ、８ｂが配線層５に対して強固に
密着し、その結果強度的に優れた液体噴射記録ヘッド用
基体を得ることができる。
６ａ、６ｂを覆うように設けられているので、ピンホー
ルの少ない保護層８ａ、８ｂが配線層５に対して強固に
密着し、その結果強度的に優れた液体噴射記録ヘッド用
基体を得ることができる。
（実施例３）
第４図は、第２図の共通電極１０の周辺部に関する更に
他の実施例を示す模式的断面図である。
他の実施例を示す模式的断面図である。
本例では、保護層６ａ、６ｂと保護層８ａ。
８ｂとが段階状に設けられているので、共通電極１０の
ステップカバレージが良好であり、その結果電気的接続
性に優れた液体噴射記録ヘッド用基体を得ることができ
る。
ステップカバレージが良好であり、その結果電気的接続
性に優れた液体噴射記録ヘッド用基体を得ることができ
る。
（実施例４）
第５図は、以上のようにして作成された液体噴射記録ヘ
ッド用基体を用いて作成された本発明の液体噴射記録ヘ
ッドを示す模式的分解斜視図である。
ッド用基体を用いて作成された本発明の液体噴射記録ヘ
ッドを示す模式的分解斜視図である。
第５図において、１６は配線層４と配線層５との間に形
成された熱エネルギー発生体の発熱部であり、該発熱部
１６に対応して吐出口１７に連通し共通液室１８を含む
液路が形成される。
成された熱エネルギー発生体の発熱部であり、該発熱部
１６に対応して吐出口１７に連通し共通液室１８を含む
液路が形成される。
１９は該波路を形成するための天板であり、該天板１９
には共通液室１８に対応して凹部２０と該共通液室！８
に記録液体を供給するための供給口２１が設けられてい
る。
には共通液室１８に対応して凹部２０と該共通液室！８
に記録液体を供給するための供給口２１が設けられてい
る。
１０は第１図および第２図に示された共通電極を模式的
に示したものであり、該共通電極１０および個別電極用
配線層５（第５図では不図示）が駆動用回路部品２２に
接続される。
に示したものであり、該共通電極１０および個別電極用
配線層５（第５図では不図示）が駆動用回路部品２２に
接続される。
（実施例５）
第６図は、本発明の他の液体噴射記録ヘッドを示す模式
的斜視図（吐出口とは反対側から見た図）である。
的斜視図（吐出口とは反対側から見た図）である。
本例の液体噴射記録ヘッドは被記録部材の１行分の幅に
対応して吐出口が設けられている所謂フルラインタイプ
のものであり、第５図と同じ符号を用いたものは、それ
ぞれ同じ部材を示している。２３は、第５図の液路の壁
を形成している部材と天板１９とを一体的に表した部材
である。
対応して吐出口が設けられている所謂フルラインタイプ
のものであり、第５図と同じ符号を用いたものは、それ
ぞれ同じ部材を示している。２３は、第５図の液路の壁
を形成している部材と天板１９とを一体的に表した部材
である。
なお、前記した例では、吐出口から記録液体が吐出する
方向と液路の熱エネルギー発生体の発熱部が設けられた
個所へ記録液体が供給される方向とがほぼ同じである液
体噴射記録ヘッドを挙げたが、本発明はこれに限られる
ものではない１本発明は、例えば前記２つの方向が互い
に異なる（例えばほぼ垂直である）液体噴射記録ヘッド
に対しても適用できるものである。
方向と液路の熱エネルギー発生体の発熱部が設けられた
個所へ記録液体が供給される方向とがほぼ同じである液
体噴射記録ヘッドを挙げたが、本発明はこれに限られる
ものではない１本発明は、例えば前記２つの方向が互い
に異なる（例えばほぼ垂直である）液体噴射記録ヘッド
に対しても適用できるものである。
また、本発明の液体噴射記録ヘッドを構成する各層の材
料や作成方法等は前記した実施例に記載されたものに限
らず、液体噴射記録ヘッドを作成する際に通常用いられ
る材料や作成方法等を適宜用いることができる。
料や作成方法等は前記した実施例に記載されたものに限
らず、液体噴射記録ヘッドを作成する際に通常用いられ
る材料や作成方法等を適宜用いることができる。
（実施例６）
第７図は、本発明に係る液体噴射記録ヘッドを具備する
液体噴射記録装置の模式的斜視図である０図において、
１０００は装置本体、１１００は液体噴射記録ヘッドを
駆動するための電源のスイッチ、１２００は操作パネル
である。
液体噴射記録装置の模式的斜視図である０図において、
１０００は装置本体、１１００は液体噴射記録ヘッドを
駆動するための電源のスイッチ、１２００は操作パネル
である。
［発明の効果］
以上詳述したように、本発明によれば、液体噴射記録ヘ
ッド用基体の液体噴射部と配線部とを気。
ッド用基体の液体噴射部と配線部とを気。
相法を用いて同時工程で作成することができ、しかもヘ
ッドの作成工程終了後もワイヤーボンディングのワイヤ
が外れてしまうことがあるといった従来の問題が生じる
こともない、したがって、本発明によれば、工程的に非
常に簡単に低コストで作成することができ、しかも電気
的接続などに関する高い精度と確実性とをもつ液体噴射
記録ヘッド用基体を提供することができる。なお、本発
明では、液体噴射記録ヘッドの液体噴射部の保護層と配
線部の眉間絶縁層とを同一の工程で同時に作成した場合
、ヘッドの作成工程の簡略化に一層の効果がある。
ッドの作成工程終了後もワイヤーボンディングのワイヤ
が外れてしまうことがあるといった従来の問題が生じる
こともない、したがって、本発明によれば、工程的に非
常に簡単に低コストで作成することができ、しかも電気
的接続などに関する高い精度と確実性とをもつ液体噴射
記録ヘッド用基体を提供することができる。なお、本発
明では、液体噴射記録ヘッドの液体噴射部の保護層と配
線部の眉間絶縁層とを同一の工程で同時に作成した場合
、ヘッドの作成工程の簡略化に一層の効果がある。
また、本発明によれば、このような液体噴射記録ヘッド
用基体を用いて液体噴射記録ヘッドを作製することによ
り、安価で信頼性に優れた液体噴射記録ヘッドを提供す
ることができる。
用基体を用いて液体噴射記録ヘッドを作製することによ
り、安価で信頼性に優れた液体噴射記録ヘッドを提供す
ることができる。
さらに、本発明によれば、該液体噴射記録ヘッドを用い
て液体噴射記録装置を作製することにより、安価で信頼
性に優れた液体噴射記録装置を提供することができる。
て液体噴射記録装置を作製することにより、安価で信頼
性に優れた液体噴射記録装置を提供することができる。
第１図は本発明の一実施例の液体噴射記録ヘッド用基体
の主要部の概略を示す模式的上面図、第２図は第１図の
Ａ−Ａ’での模式的断面図、第３図および第４図は夫々
第２図の共通電８ｉ１０の周辺部に関する他の実施例を
示す模式的断面図、第５図は本発明の液体噴射記録ヘッ
ドの一例を示す模式的分解斜視図、第６図は本発明の液
体噴射記録ヘッドの他の例を示す模式的斜視図、第７図
は本発明に係る液体噴射記録ヘッドを具備する液体噴射
記録装置の模式的斜視図、第８図は従来の液体噴射記録
ヘッド用基体の主要部の一例の概略を示す模式的上面図
、第９図は第８図のＢ−Ｂ’での模式的断面図、第１０
図は第８図の液体の噴射記録ヘッド用基体の主要部に共
通電極部材を設はワイヤボンディングを施したものの模
式的上面図、第１１図は第１０図のｃ−ｃ’での模式的
断面図である。 １・・・液体噴射部、２・・・・配線部、３．・・・発
熱抵抗層、４・・・共通電極用配線層、５・・・個別電
極用配線層、６，６ａ・・・５ｉ０２からなる耐酸化性
の保護層、７・・・Ｔａからなる耐キヤビテーシヨン用
の保護層、８，８ａ・・・感光性ポリミドからなる耐イ
ンク性の保護層、６ｂ、８ｂ・・・層間絶縁層、９・・
・スルホール、１０・・・共通電極、１１・・・液体噴
射記録ヘッド、１２・・・共通電極部材の配置位置、１
３・・・共通電極部材、１４・・・ワイヤ、１５・・・
支持体、１６・・・発熱部、１７・・・吐出口、１８・
・・共通液室、１９・・・天板、２０・・・凹部、２１
・・・供給口、２２・・・駆動用回路部品、２３・・・
液路の壁と天板とを一体的にした部材、１０００・・・
液体噴射記録装置本体、１１００・・・液体噴射記録ヘ
ッドを駆動するための電源のスイッチ、１２００・・・
操作パネル。 第３図 １ｎ 第７図
の主要部の概略を示す模式的上面図、第２図は第１図の
Ａ−Ａ’での模式的断面図、第３図および第４図は夫々
第２図の共通電８ｉ１０の周辺部に関する他の実施例を
示す模式的断面図、第５図は本発明の液体噴射記録ヘッ
ドの一例を示す模式的分解斜視図、第６図は本発明の液
体噴射記録ヘッドの他の例を示す模式的斜視図、第７図
は本発明に係る液体噴射記録ヘッドを具備する液体噴射
記録装置の模式的斜視図、第８図は従来の液体噴射記録
ヘッド用基体の主要部の一例の概略を示す模式的上面図
、第９図は第８図のＢ−Ｂ’での模式的断面図、第１０
図は第８図の液体の噴射記録ヘッド用基体の主要部に共
通電極部材を設はワイヤボンディングを施したものの模
式的上面図、第１１図は第１０図のｃ−ｃ’での模式的
断面図である。 １・・・液体噴射部、２・・・・配線部、３．・・・発
熱抵抗層、４・・・共通電極用配線層、５・・・個別電
極用配線層、６，６ａ・・・５ｉ０２からなる耐酸化性
の保護層、７・・・Ｔａからなる耐キヤビテーシヨン用
の保護層、８，８ａ・・・感光性ポリミドからなる耐イ
ンク性の保護層、６ｂ、８ｂ・・・層間絶縁層、９・・
・スルホール、１０・・・共通電極、１１・・・液体噴
射記録ヘッド、１２・・・共通電極部材の配置位置、１
３・・・共通電極部材、１４・・・ワイヤ、１５・・・
支持体、１６・・・発熱部、１７・・・吐出口、１８・
・・共通液室、１９・・・天板、２０・・・凹部、２１
・・・供給口、２２・・・駆動用回路部品、２３・・・
液路の壁と天板とを一体的にした部材、１０００・・・
液体噴射記録装置本体、１１００・・・液体噴射記録ヘ
ッドを駆動するための電源のスイッチ、１２００・・・
操作パネル。 第３図 １ｎ 第７図
Claims (4)
- （１）支持体と、 該支持体上に設けられ、発熱抵抗層と該発熱抵抗層に接
続された共通電極用配線層および個別電極用配線層とこ
れらの各層の保護層とを有する電気熱変換体の複数と、 前記共通電極用配線層の上に設けられた絶縁層と、 該絶縁層に設けられたスルーホールによって該絶縁層を
介して前記複数の共通電極用配線層に共通に接続された
共通電極と を有することを特徴とする液体噴射記録ヘッド用基体。 - （２）前記保護層と前記絶縁層として、同一の膜が用い
られていることを特徴とする請求項１記載の液体記録噴
射ヘッド用基体。 - （３）請求項１または２記載の液体噴射記録ヘッド用基
体上に、前記共通電極用配線層と前記個別電極用配線層
との間に形成される発熱部に対応して液路が形成されて
おり、該発熱部が発生する熱エネルギーを利用して前記
液路に連通する吐出口から液体を吐出することを特徴と
する液体噴射記録ヘッド。 - （４）請求項３記載の液体噴射記録ヘッドと、該液体噴
射記録ヘッドを駆動するための電源のスイッチ手段とを
具備することを特徴とする液体噴射記録装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63-136864 | 1988-06-03 | ||
| JP13686488 | 1988-06-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0278555A true JPH0278555A (ja) | 1990-03-19 |
| JP2755994B2 JP2755994B2 (ja) | 1998-05-25 |
Family
ID=15185306
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1141879A Expired - Fee Related JP2755994B2 (ja) | 1988-06-03 | 1989-06-03 | 液体噴射記録ヘッドおよび該ヘッド用基体並びに該ヘッドを具備する液体噴射記録装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5157418A (ja) |
| EP (2) | EP0534495B1 (ja) |
| JP (1) | JP2755994B2 (ja) |
| DE (2) | DE68927268T2 (ja) |
| ES (1) | ES2091990T3 (ja) |
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| JPH04229276A (ja) * | 1990-05-16 | 1992-08-18 | Lexmark Internatl Inc | サーマル式ドロップ・オン・デマンド・インクジェット・プリントヘッド |
| JP2008074040A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Brother Ind Ltd | 液体移送装置 |
| JP2008207351A (ja) * | 2007-02-23 | 2008-09-11 | Sii Printek Inc | ヘッドチップユニット及びヘッドチップユニットの製造方法、インクジェットヘッド、並びに、インクジェットプリンタ |
| JP2011037262A (ja) * | 2009-07-17 | 2011-02-24 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド用基板及びその製造方法及び、液体吐出ヘッド用基板を用いた液体吐出ヘッド及びその製造方法 |
| CN102398422A (zh) * | 2010-08-26 | 2012-04-04 | 佳能株式会社 | 用于液体喷射头的基板和液体喷射头的制造方法 |
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| JP2752486B2 (ja) * | 1989-12-29 | 1998-05-18 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドおよびその検査方法ならびにインクジェット記録装置 |
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| ES2082129T3 (es) * | 1990-02-26 | 1996-03-16 | Canon Kk | Aparato de impresion con cabezal magnetico que tiene un substrato de cableado. |
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| DE4214554C2 (de) * | 1992-04-28 | 1995-07-06 | Eastman Kodak Co | Mehrschichtiger elektrothermischer Tintendruckkopf |
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-
1989
- 1989-06-02 DE DE68927268T patent/DE68927268T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-06-02 EP EP92117487A patent/EP0534495B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-02 ES ES92117487T patent/ES2091990T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-02 DE DE68917790T patent/DE68917790T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-02 EP EP89110057A patent/EP0344809B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-03 JP JP1141879A patent/JP2755994B2/ja not_active Expired - Fee Related
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1991
- 1991-03-07 US US07/668,686 patent/US5157418A/en not_active Expired - Lifetime
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| ES2091990T3 (es) | 1996-11-16 |
| DE68917790T2 (de) | 1995-01-05 |
| EP0344809B1 (en) | 1994-08-31 |
| JP2755994B2 (ja) | 1998-05-25 |
| EP0534495B1 (en) | 1996-09-25 |
| EP0344809A1 (en) | 1989-12-06 |
| DE68927268T2 (de) | 1997-02-20 |
| US5157418A (en) | 1992-10-20 |
| DE68917790D1 (de) | 1994-10-06 |
| DE68927268D1 (de) | 1996-10-31 |
| EP0534495A1 (en) | 1993-03-31 |
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| Date | Code | Title | Description |
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080306 Year of fee payment: 10 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090306 Year of fee payment: 11 |
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