JPH02766A - ヒドロキシアルキル化剤の製造方法、得られたヒドロキシアルキル化剤及びその使用方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はヒドロキシアルキル化剤の製造、得られた核剤
及びその利用法に関する。

本発明は下記式； ％式％ 但し　Ｒは１ないし４の炭素原子を含むアルキルを示し
、 ｎは２又は３であり、 記号Ｒ１は同−又は異なっていてもよく、水素又は炭素
原子１ないし４のアルキルを示し、 Ｒ２は炭素原子１ないし４のアルキル、置換された又は
置換されていないフェニル又は −０−（ＣＨ）ｎ−０−Ｃｏ−Ｒ 古 上式中Ｒ，ｎ及びＲ１は、二つの基 −０−（ＣＨ）ｎ−０−Ｃｏ−Ｒ 「 において記号Ｒ，ｎ及びＲ，が同じ意味を有するように
、上記に定義されたものである、を示す、 のヒドロキシアルキル化剤の製造方法を提供する。

より詳細には、本発明は式（Ｉ）において：Ｒがメチル
を示し、 ｎは２であり、 記号Ｒ０の一つは水素を示し、他方は水素又はメチルを
示し、及びＲ２はメチル又は −０−（ＣＨ）−０−Ｃｏ−Ｒ 但し　Ｒはメチルを示し、ｎは２であり、記号Ｒ１の一
つは水素を示し、他方は水素又はメチルを示す、 を示す生成物の製造に関する。

特に詳細には、本発明はジ（２−アセトキシエチル）サ
ルフェート及び２−アセトキシ−エチルメシレートの製
造に関する。

本発明の一態様によれば、式（Ｉ）の生成物は下記式： ％式％（） 但し　Ｒ１はヒドロキシ、炭素原子ｌないし４のアルキ
ル、又は置換されていない又は置換されたフェニルを示
す、 の酸を、過剰量であってもよい下記式：％式％ 但し　Ｒ％ｎ及びＲ，は上記に定義された通りである、 のジエステルと８０°ないし１６０℃の温度で反応させ
、生成した酸（ＲＣＯＯＨ）を生成と同時に、及び必要
に応じて過剰のジエステルを、減圧下で蒸留して除去す
ることにより得られる。

Ｒ２が −０−（ＣＨ）ｎ−０−Ｃｏ−Ｒ 占 を示す式（Ｉ）の生成物もまた、過剰であってもよい式
（■）のエステルに、メチルサルフェートを８０°ない
し１６０°Ｃで作用させ、生じたメチルエステル（ＲＣ
ＯＯＣＨｓ）、及び必要に応じて過剰のジエステルを減
圧下で蒸留して除去することにより得ることができる。

これらの反応の総ては減圧下（好適にはｌＯないし２０
０　ｍｍ　Ｈｇ；１．３ないし２６．６　ｋＰａ）で、
８０°ないし１６０℃の温度に加熱し、そして生成した
＃（ＲＣＯＯＨ）又はそのメチルエステルを、又必要に
応じて一般式（Ｉ［［）の過剰のエステルを、蒸留して
除去することにより行なわれる。

一般に、上記のようにして得られる式（１）の生成物は
引き続き精製することなく使用できる。

本発明は又Ｒ２が −０−（ＣＨ）ｎ−０−ＣＯ−Ｒ 但し　式中Ｒｓｎ及びＲＩは上記に定義された通りであ
る、 を示す式（Ｉ）の生成物を提供し、−層詳細には新規化
合物であるジ（２−アセトキシエチル）サルフェートを
提供するものである。

式（Ｉ）の生成物は、ヒドロキシル化反応ヲ行うのに特
に有用である。例えばそれらは、ｌ−ヒドロキシエチル
−２−メチル−５−二トロイミダゾール（メトロニダゾ
ール）又は１−（２−ヒドロキシプロピル）−２−メチ
ル−５−二トロイミダゾール（セクニダゾール）又は１
−（３−ヒドロキシプロピル）−２−メチル−５−二ト
ロイミダゾール（テルニダゾール）のような顕著な治療
学的性質を有する１−（ヒドロキシアルキル）ニトロイ
ミダゾールを製造するために使用できる。

本発明の別な態様によれば、ｌ−（ヒドロキシアルキル
）ニトロイミダゾールは、式ＣＩ）の生成物を６０℃な
いし１００℃で、下記式：Ｒ４は水素、炭素原子ｌない
し４のアルキル、又は炭素原子２ないし４のアルケニル
を示し、該アルキル又はアルケニル基は、置換されてい
ないか又はフェニル、フェノキシ及び５−ないし６−員
環の酸素含有複素環式基から選択されたー又は二以上の
同−又は異なった基により置換されており：或いはＲ，
は炭素原子６ないし１０のアリールを示し、該アリール
は置換されていないか又はハロゲン、炭素原子ｌないし
４のアルキル、炭素原子ｌないし４のアルコキシ、フェ
ニル、フェノキシ及ヒニトロから選択されたー又は二以
上の同−又は異なりた置換基により置換されており、 或いは又Ｒ６は炭素原子５ないし６のシクロアルキルを
示し； 前記のフェニル、フェノキシ及び複素環式基は置換され
ていないか又はハロゲン、炭素原子１ないし４のアルキ
ル、炭素原子１ないし４のアルコキシ、フェニル、フェ
ノキシ及びニトロから選択されたー又は二以上の同−又
は異なった置換基により置換されており； 及びＸは水素、又はヒドロキシメチル基、アルキル部分
が炭素原子ｌないし４を含むアルコキシメチル基、アシ
ル部分が炭素原子ｌないし４を含むアシルオキシメチル
基、アリルのようなアリル性エチレン基、又はベンジル
のようなアリールメチル基から選択されたー又は二以上
の同−又は異なった置換基により置換されている、 のイミダゾール誘導体と縮合させ、生成物を加水分解又
はアルコリシスし、■−（ヒドロキシアルキル）イミダ
ゾールを単離することから成る方法によって得られる。

縮合は６０″ないし１００℃、ｉ’Ｆ適４．：　ハ８０
　”０の近辺の温度で、及び随時エステル（例えば酢酸
メチル、酢酸エチル）、エーテル（メチルｔｅｒｔ−ブ
チルエーテル）、ケトン（メチルインブチルケトン）又
は芳香族炭化水素（トルエン、キシレン）から選択され
た有機溶剤中で実施される。

一般に、この加水分解又はアルコリシスは水中又はアル
コール（メタノール、エタノール）中で６０°ないし１
００℃の温度で加熱することにより実施される。

こうして得られたｌ−ヒドロキシアルキル−５ニトロイ
ミダゾールは、通常の方法に従って、ｌＯの近辺のｐＨ
で反応混合物から単離される。

式ＣＴＶ）のイミダゾール誘導体は、英国特許第１゜０
２６．６３１号に記載された条件下で製造できる。

下記の実施例は本発明を例示するものである。

実施例　ｌ Ａ、グリコールジアセテート（２９２，３ｙ　；２モル
）及びジメチル硫酸（５０，４ｙ　；０．４モル）を受
器がアセトン／ドライアイス浴中に浸漬されている蒸留
装置中に導入する。装置中の圧力を２００　ｍｒｔｒ　
Ｈｇ（２６，６ｋＰａ）とし、次いで反応混合物を５時
間にわたり１５０℃に加熱する。加熱の際に、酢酸メチ
ルが留去される。反応混合物を約１００℃に冷却し、次
いでｌ　　ｍｍ　Ｈｇ（０，１３ｋＰａ）の圧力下でグ
リコールジアセテート（２０６ｃｃ　）を留去する（浴
の温度：１１０℃；蒸気温度：６５°Ｃ）。

＄１１１１容器中に、ジー（２−アセトキシエチル）サ
ルフェートが淡黄色油状物として回収される。

ジー（２−アセトキシエチル）サルフェートの特性は下
記のとおりであるニ ーｃｍ−’で表した主要な特性吸収を示す赤外吸収スペ
クトルは、１７４０（アセテートＣ−０）；１３５９−
１１９５（Ｃ−０−３ｏ！−０−Ｃ）及び１２４５（Ｃ
−０） その核磁気共鳴スペクトル（３６０Ｍ　Ｈｚ；ＣＤ　ｓ
ＣＮ；化学シフト　ｐｐｍ）：４．４５（ｔ）；４．３
１（ｔ）及び２（ｓ）。

Ｂ、ジ（２−アセトキシエチル）サルフェー）（２゜７
９；０．０１モル）及びｌ−アセトキシメチル−２−メ
チル−４−二トロイミダゾール（１，９９ｙ　；０．０
１モル）を磁気撹拌機が取り付けられた九直フラスコ中
に導入する。反応混合物を８０℃で５時間加熱する。次
いで水（５ｃｃ）を添加し、８０℃で３時間加熱を継続
する。

混合物を冷却後、高性能液体クロマトグラフィー（ＨＰ
ＬＣ）により、メトロニダゾール（１，１０ｇ）及び２
−メチル−４（又は５）−二トロイミダゾール（０，２
８８ｇ）が検出される。

ｌ−アセトキシメチル−２−メチル−４−二トロイミダ
ゾールの転化率は７７．３％である。

メトロニダゾールの収率は、導入されたｌ−アセトキシ
メチル−２−メチル−４−二トロイミダゾールに対し６
４．２％であり、転化されたｌ−アセトキシメチル−２
−メチル−４−二トロイミダゾールに対し８３％である
。

実施例　２ 実施例１の条件下で製造されたジー（２−アセトキシエ
チル）サルフエー）（１０，８９；０．０４モル）、及
び１−アセトキシメチル−２−メチル−４−二トロイミ
ダゾール（７，９６９；０．０４モル）を磁気撹拌機が
取り付けられた丸底フラスコ中に導入する。反応混合物
を８０℃に４時間加熱する。次いでメタノール（２０ｃ
ｃ）を添加し、混合物を還流下に４時間加熱する。得ら
れた溶液を外部較正を用いたＨＰＬＣにより分析すると
、メトロニダゾール（４，８９９）及び２−メチル−４
（又は５）−二トロイミダゾール（０，９５ｇ）が含ま
れていることが示される。

ｌ−アセトキシメチル−２−メチル−４−ニトロイミダ
ゾールの転化率は８１％である。

メトロニダゾールの収率は、導入されたｌ−アセトキシ
メチル−２−メチル−４−二トロイミダゾールに対し７
１．５％であり、転化されたｌ−アセトキシメチル−２
−メチル−４−二トロイミダゾールに対し８８％である
。

実施例　３ １−アセトキシメチル−２−メチル−４−二トロイミダ
ゾール（７，９６９；０．０４モル）及びジ（２−アセ
トキシエチル）サルフエ−）（１０，８ｐ；０．０４モ
ル）を磁気撹拌機が取り付けられた丸底フラスコ中に導
入する。反応混合物を８０℃に４時間加熱する。次いで
メタノール（２０ｃｃ）を添加し、混合物を還流下に４
時間加熱する。混合物を２０℃に冷却した後、濃厚水酸
化ナトリウム（ｄ＝　１．３３０５．５　ｃｃ　）を添
加して、ｐＨを１１．７に調節する。生成する沈殿を濾
過により分離し、メタノール（３ｃｃ）で二回洗う。

乾燥した後に、イミダゾール誘導体の混合物がメトロニ
ダゾール（９８，６％）及び２−メチル−４（又は５）
−二トロイミダゾール（０，６％）（内部標準を用いた
ＨＰＬＣ）から成っている生成物（４゜６１　９）が得
られる。

外部較正を用いたＨＰＬＣにより得られた生成物を分析
すると、メトロニダゾール（２，８５９）及び２−メチ
ル−４（又は５）−二トロイミダゾール（０，０１４９
）を含むことが示される。

外部較正を用いたＨＰＬＣにより炉液を分析すると、メ
トロニダゾール（２，１５ｇ）及び２−メチル−４（又
は５）−二トロイミダゾール（０，９３ｇ）を含むこと
が示される。

ｌ−アセトキシメチル−２−メチル−４−二トロイミダ
ゾールの転化率は８１．４％である。

メトロニダゾールの収率は、転化されたｌ−アセトキシ
メチル−２−メチル−４−二トロイミダゾールに対し９
０％である。

実施例　４ Ａ、グリコールジアセテート（２３，４ｙ　；０．１６
モル）及び濃硫酸（ｄ＝　１．８３Ｘ７．８４９　；０
゜０８モル）を受器がアセトン／ドライアイス浴中に浸
漬されている蒸留装置中に導入する。

装置中の圧力を１５　＋ｍｍ　Ｈｇ（２ｂＰａ）とし、
次いで反応混合物を３時間にわたり１００°Ｃに加熱し
、酢酸（８ｇ）を留去する。

沸騰容器中に、ジ（２−アセトキシエチル）サルフェー
トが淡黄色油状物として回収される。

Ｂ、上記のようにして製造されたジ（２−アセトキシエ
チル）サルフェート及び１−アセトキシメチル−２−メ
チル−４−二トロイミダゾール（５゜１９；０．０２６
モル）を磁気撹拌機が取り付けられた丸底フラスコ中に
導入する。反応混合物を８０°Ｃに６時間加熱する。次
いで水（１３ｃｃ）を添加し、９０℃で４時間加熱を継
続する。

外部較正を用いたＨＰＬＣによる分析によれば、得られ
た溶液中にメトロニダゾール（２，３９９）及び２−メ
チル−４（又は５）−二トロイミダゾール（１，０３ｇ
）が検出される。

ｌ−アセトキシメチル−２−メチル−４−二トロイミダ
ゾールの転化率は６８％である。

メトロニダゾールの収率は導入されたｌ−アセトキシメ
チル−２−メチル−４−ニトロイミダゾールに対し５４
．５％であり、転化されたｌ−アセトキシメチル−２−
メチル−４−ニトロイミダゾールに対し７９％である。

実施例　５ 実施例４の条件下で製造されたジ（２−アセトキシエチ
ル）サルフェート（６ｇ）及び１−アセトキシメチル−
２−メチル−４−二トロイミダゾール（４，３８ｙ　；
０．０２２モル）を磁気撹拌機が取り付けられた丸底フ
ラスコ中に導入する。反応混合物を８０℃に６時間加熱
し、次いでメタノール（ｌｉｃｃ）を添加し、混合物を
還流下に４時間加熱を継続する。

外部較正を用いたＨＰＬＣによれば、得られた溶液中に
はメトロニダゾール（２，４７９）及び２−メチル−４
（又は５）−二トロイミダゾール（０゜８２　ｇ）が検
出される。

ｌ−アセトキシメチル−２−メチル−４−二トロイミダ
ゾールの転化率は７１％である。

メトロニダゾールの収率は導入されたｌ−アセトキシメ
チル−２−メチル−４−二トロイミダゾールに対し６５
．６％であり、転化されたｌ−アセトキシメチル−２−
メチル−４−二トロイミダゾールに対し９３％である。

実施例６ Ａ、グリコールジアセテート（９ｇ；　０．０６２モル
）及びメタンスルホン酸（６９；０．０６２モル）を受
器がアセトン／ドライアイス浴中に浸漬されている蒸留
装置中に導入する。装置中の圧力を１５　ｍｍ　Ｈｇ（
２ｋＰａ）とし、次いで反応混合物を４時間にわたり１
１０℃に加熱する。加熱の際、酢酸（２，８１９）が留
去される。

アセトキシエチレングリコールメシレート（８０重量％
）を含む淡黄色の油状物が沸騰容器中に回収される。

アセトキシエチレングリコールメシレートの特性は下記
のとおりであるニ ーｃｔａ−’で表した主要な特性吸収を示す赤外吸収ス
ペクトルは、１７４０（アセテートｃ＝ｏ）、１３６０
（Ｃ−０）及びｔ　１８０（ｓｏｗ−ｏ）−そのプロト
ン核磁気共鳴スペクトル（３６０ＭＨｚ　；　ＣＤ　Ｉ
　ＣＮ　；化学シフトｐｐｍ）：　４．３６　（ｔ）、
４゜２６Ｑ）、３．０７（ｓ）及び２（ｓ）。

Ｂ、上記のようにして得られたアセトキシエチレングリ
コールメシレート（２，５ｇ）及びｌ−アセトキシメチ
ル−２−メチル−４−ニトロイミダゾ−ル（１，４２７
９；０．０７２モル）を磁気撹拌機が取り付けられた丸
底フラスコ中に導入する。反応混合物を９０℃に６時間
加熱する。次いでエタノール（２０ｃｃ）を添加し、混
合物を還流下に１時間加熱する。

外部較正を用いた高性能液体クロマトグラフィー（ＨＰ
ＬＣ）による分析によれば、得られた溶液はメトロニダ
ゾール（０，９３２９）及び２−メチル−４（又は５）
−二トロイミダゾール（０，１２０ｇ）を含んでいる。

ｌ−アセトキシメチル−２−メチル−４−ニトロイミダ
ゾールの転化率は８７％である。

メトロニダゾールの収率は、導入された１−アセトキシ
メチル−２−メチル−４−二トロイミダゾールに対し７
７％であり、転化された１−アセトキシメチル−２−メ
チル−４−二トロイミダゾールに対し８９％である。

実施例　７ （実施例６の条件下で得られた）アセトキシエチレング
リコールメシレート（２，５９）及びｌ−アセトキシメ
チルー２−メチル−４−二トロイミダゾール（１，４０
５９；０．００７１モル）を磁気撹拌機が取り付けられ
た丸底フラスコ中に導入する。

反応混合物を９０°Ｃに６時間加熱し、次いで水（２０
ｃｃ）を添加し、混合物を８０℃に１時間加熱する。

外部較正を用いたＨＰＬＣによる分析によれば、得られ
た溶液はメトロニダゾール（０，９０７ｇ）及び２−メ
チル−４（又は５）−二トロイミダゾール（０，１１２
ｇ）を含んでいる。

１−アセトキシメチル−２−メチル−４−二トロイミダ
ゾールの転化率は８８％である。

メトロニダゾールの収率は、導入されたｌ−アセトキシ
メチル−２−メチル−４−ニトロイミダゾールに対し７
４％であり、転化されたｌ−アセトキシメチル−２−メ
チル−４−二トロイミダゾールに対し８５％である。

実施例　８ ジ（２−アセトキシエチル）サル７エー、ト（５゜４９
）及びｌ−アセトキシメチル−４−二トロイミダゾール
（１，８５９）を磁気撹拌機が取り付けられた丸底７ラ
スコ中に導入する。キシレン（３０ｃｃ）を添加し、次
いで混合物を８０℃に６時間加熱する。次いで水（３０
ｃｃ）を添加し、反応混合物を還流下に４時間加熱する
。

外部較正を用いた高性能液体クロマトグラフィー（ＨＰ
ＬＣ）による水相の分析によればニー１−アセトキシメ
チル−４−ニトロイミダゾールの転化率は８８％である
。

−１−ヒドロキシエチル−５−ニトロイミダゾールの収
率は、転化されたｌ−アセトキシメチル−４−ニトロイ
ミダゾールに対し９７％である。

本発明の主なる特徴及び態様は以下の通りである。

■、下記式； ％式％ 但し　Ｒは炭素原子ｌないし４のアルキルを示し、ｎは
２又は３であり、 水素又は炭素原子１ないし４のアルキルを示し、 Ｒ１は炭素原子ｌないし４のアルキル、置換されていな
い又は置換されたフェニル、又は −０−（ＣＨ）ｎ−０−Ｃｏ−Ｒ 献 上式中Ｒ，ｎ及びＲ，は、二つの基 −０−（ＣＨ）ｎ−０−Ｃｏ−Ｒ Ｒ。

において記号Ｒ１ｎ及びＲ，が同じ意味を有するように
、上記に定義されたものである、を示す、 のヒドロキシアルキル化剤の製造方法において、下記式
： ％式％ 但し　Ｒ１はヒドロキシ、炭素原子ｌないし４のアルキ
ル、又は置換されていないか又は置換されたフェニルを
示す、 記号Ｒ３は同−又は異なっていてもよく、の酸を過剰量
であってもよい下記式： Ｒ−Ｃｏ−０−（ＣＨ）ｎ−０−Ｃｏ−Ｒ占１ 但し　Ｒ％ｎ及びＲ，は上記に定義された通りである、 のジエステルと８０°ないし１６０℃の温度で反応させ
、反応により生じた酸（ＲＣＯＯＨ）が生成すると共に
核酸、及び必要に応じて過剰のジエステルを減圧下で蒸
留して除去することから成るヒドロキシアルキル化剤の
製造方法。

２、下記式： 但し　Ｒは炭素原子ｌないし４のアルキルを示し、ｎは
２又は３であり、 記号Ｒ３は同−又は異なっていてもよく、水素又は炭素
原子ｌないし４のアルキルを示す、 のヒドロキシアルキル化剤の製造方法において、ジメチ
ル硫酸を、過剰量であってもよく且つＲｌｎ及びＲ２が
上記と同じ意味を有する下記式：％式％ のエステルと８０°ないし１００°Ｃの温度で反応させ
、反応により生じたメチルエステル（Ｒ−Ｃ００ＣＨｓ
）、及び必要に応じて過剰のジエステルを減圧下で蒸留
して除去することから成るヒドロキシアルキル化剤の製
造方法。

３、下記式； ％式％ 但し　Ｒ２はメチル又は −０−（ＣＨ）ｔ−０−Ｃｏ−ＣＨ＊ を示す、 のヒドロキシアルキル化剤の製造方法において、硫酸又
はメタンスルホン酸を下記式： ％式％ 但し　記号Ｒ０の一つは水素を示し、他は水素又はメチ
ルを示す、 のジエステルと反応させ、生じる酢酸を減圧下で蒸留し
て除去する上記１に記載の方法。

４、下記式ニ ドと反応させ、生じる酢酸を減圧下で蒸留して除去する
ことから成る２−アセトキシエチルメシレートを製造す
る上記ｌに記載の方法。

７、下記式： のヒドロキシアルキル化剤の製造方法において、ジメチ
ル硫酸を下記式： ％式％ 但し　記号Ｒ１の一つは水素を示し、他は水素又はメチ
ルを示す、 のジエステルと反応させ、生じる酢酸メチルを減圧下で
蒸留して除去する上記２に記載の方法。

５、硫酸又はジメチル硫酸をグリコールジアセテートと
反応させ、生じる酢酸又は酢酸メチルを減圧下で蒸留し
て除去することから成るジ（２−アセトキシエチル）サ
ルフェートを製造する上記２に記載の方法。

６、メタンスルホン酸をグリコールレジアセテ−但し　
Ｒは炭素原子ｌないし４のアルキルを示し、ｎは２又は
３であり、 記号Ｒ＋は同−又は異なっていてもよく、水素又は炭素
原子ｌないし４のアルキルを示す、 のヒドロキシアルキル化剤。

８、記号Ｒ８の一つは水素を示し、他は水素又はメチル
を示し、Ｒはメチルであり、及びｎは２である上記７に
記載のヒドロキシアルキル化剤。

９、ジー（２−アセトキシエチル）サルフェートである
上記７に記載のヒドロキシアルキル化剤。

１０、上記７に記載の生成物を６０″ないし１００℃で
、下記式： 但し に４ Ｒ４は水素、炭素原子ｌないし４のアルキル、又は炭素
原子２ないし４のアルケニルを示し、該アルキル又はア
ルケニル基は、置換されていないか、又はフェニル、フ
ェノキシ及び５−ないし６−員環の酸素含有複素環式基
から選択されたー又は二以上の同−又は異なった基によ
り置換されており：或いはまた、Ｒ６は炭素原子６ない
しｌＯのアリールを示し、該アリールは置換されていな
いか又はハロゲン、炭素原子１ないし４のアルキル、炭
素原子１ないし４のアルコキシ、フェニル、フェノキシ
及ヒニトロから選択されたー又は二以上の同−又は異な
った置換基により置換されており；或いはまたＲ４は炭
素原子５ないし６のシクロアルキルを示し； 前記のフェニル、フェノキシ及び複素環式基はｒｌＬ換
されていないか又はハロゲン、炭素原子！ないし４のア
ルキル、炭素原子ｌないし４のアルコキシ、フェニル、
フェノキシ及びニトロから選択されたー又は二以上の同
−又は異なった置換基により置換されており： 及びＸは水素、又はヒドロキシメチル基、アルキル部分
が１ないし４の炭素原子を含むアルコキシメチル基、ア
シル部分が１ないし４の炭素原子を含むアシルオキシメ
チル基、アリル形エチレン基、又はアリールメチル基を
示す、 のイミダゾール誘導体と縮合させ、生成物を加水分解又
はアルコリシスし、１−（ヒドロキシアルキル）イミダ
ゾールを単離することから成るｌ−ヒドロキシアルキル
−５−二トロイミダゾールの製造方法。

１１、前記ヒドロキシアルキル化剤において記号Ｒ８の
一つが水素を示し、他が水素又はメチルを示し、Ｒがメ
チルであり、及びｎが２である上記１０に記載の方法。

１２、ジ（２−アセトキシエチル）サルフェートをＲ４
がメチルである前記イミダゾール反応させるｌ−ヒドロ
キシアルキル−２−メチル−５−二トロイミダゾールを
製造する上記ｌＯに記載の方法。

１３、上記ｌに記載の方法により得られた下記式； ％式％ 但し　Ｒは炭素原子ｌないし４のアルキルを示し、ｎは
２又は３であり、 記号Ｒ１は同−又は異なっていてもよく、水素又は炭素
原子１ないし４のアルキルを示し、及び Ｒ５は炭素原子ｌないし４のアルキル、置換されていな
い又は置換されたフェニル基を示す、 の生成物を６０″ないし１００℃で下記式：但し　Ｒ１
及びＸは上記１０に定義された通りである、 のイミダゾール誘導体と反応させ、生成物を加水分解又
はアルコリシスし、１−ヒドロキシアルキル−５−ニト
ロイミダゾールを単離することから成るｌ−ヒドロキシ
アルキル−５−ニトロイミダゾールの製造方法。

１４、下記式： ％式％ 但し　Ｒ３はメチルを示し、及び記号Ｒ１の一つは水素
を示し、及び他は水素又はメチルを示す、 の生成物を下記式： ％式％ 但し　Ｒ４及びＸは上記１３に定義された通りである、 のイミダゾール誘導体と反応させる上記１３に記載の方
法。

１５．２−アセトキシエチルメシレートを下記式： 但し　Ｘは上記１３に定義された通りである、のイミダ
ゾール誘導体と反応させるｌ−ヒドロキシアルキル−５
−二トロイミダゾールを製造する上記１３に記載の方法
。

１６、該反応がエステル、エーテル、ケトン及び芳香族
炭化水素から選択された有機溶剤中で遂行される上記ｌ
Ｏに記載の方法。

１７、該溶剤が酢酸メチル又は酢酸エチル、メチル　ｔ
ｅｒｔ−ブチル　エーテル、メチルイソブチルケトン、
トルエン又はキシレンである上記１６に記載の方法。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記式； ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しＲは炭素原子１ないし４のアルキルを示し、ｎは２
   又は３であり、 記号Ｒ＿１は同一又は異なっていてもよく、水素又は炭
   素原子１ないし４のアルキルを 示し、 Ｒ＿２は炭素原子１ないし４のアルキル、置換されてい
   ない又は置換されたフェニル、 又は ▲数式、化学式、表等があります▼ ここにＲ、ｎ及びＲ＿１は、二つの基 ▲数式、化学式、表等があります▼ において記号Ｒ、ｎ及びＲ＿１が同じ意味を有するよう
   に、上記に定義されたものである、を示す、 のヒドロキシアルキル化剤の製造方法において、下記式
   ： ＨＯ−ＳＯ＿２−Ｒ＿３ 但しＲ＿３はヒドロキシ、炭素原子１ないし４のアルキ
   ル、又は置換されていない又は置換されたフェニルを示
   す、 の酸を過剰量であってもよい下記式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しＲ、ｎ及びＲ＿１は上記に定義された通りである、 のジエステルと８０°ないし１６０℃の温度で反応させ
   、反応により生じた酸（ＲＣＯＯＨ）が生成すると共に
   該酸及び必要に応じて過剰のジエステルを減圧下で蒸留
   することにより除去することを特徴とするヒドロキシア
   ルキル化剤の製造方法。 ２、下記式； ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しＲは炭素原子１ないし４のアルキルを示し、ｎは２
   又は３であり、 記号Ｒ＿１は同一又は異なっていてもよく、水素又は炭
   素原子１ないし４のアルキルを 示す、 のヒドロキシアルキル化剤の製造方法において、ジメチ
   ル硫酸と、過剰量であってもよく且つＲ、ｎ及びＲ＿１
   が上記と同じ意味を有する下記式：▲数式、化学式、表
   等があります▼ のエステルと８０°ないし１００℃の温度で反応させ、
   反応により生じたメチルエステル（Ｒ−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ
   ＿３）及び必要に応じて過剰のジエステルを減圧下で蒸
   留することにより除去することを特徴とするヒドロキシ
   アルキル化剤の製造方法。 ３、下記式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しＲは炭素原子１ないし４のアルキルを示し、ｎは２
   又は３であり、 記号Ｒ＿１は同一又は異なっていてもよく、水素又は炭
   素原子１ないし４のアルキルを 示す、 のヒドロキシアルキル化剤。 ４、特許請求の範囲３項記載の生成物を６０°ないし１
   ００℃で、下記式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しＲ＿４は水素、炭素原子１ないし４のアルキル、又
   は炭素原子２ないし４のアルケニルを示し、該アルキル
   又はアルケニル残基は、置換されていないか又はフェニ
   ル、フェノキシ及び５−ないし６−員環の酸素含有複素
   環式残基から選択された一又は二以上の同一又は異なっ
   た残基により置換されており： 或いは、Ｒ＿４は炭素原子６ないし１０のアリールを示
   し、該アリールは置換されていないか又はハロゲン、炭
   素原子１ないし４のアルキル、炭素原子１ないし４のア
   ルコキシ、フェニル、フェノキシ及びニトロから選択さ
   れた一又は二以上の同一又は異なった置換基により置換
   されていており； 或いはまた、Ｒ＿４は炭素原子５ないし６のシクロアル
   キルを示し； 前記のフエニル、フェノキシ及び複素環式基は置換され
   ていないか又はハロゲン、炭素原子１ないし４のアルキ
   ル、炭素原子１ないし４のアルコキシ、フェニル、フェ
   ノキシ及びニトロから選択された一又は二以上の同一又
   は異なった置換基により置換されており； 及びＸは水素、又はヒドロキシメチル残基、アルキル部
   分が１ないし４の炭素原子を含むアルコキシメチル残基
   、アシル部分が１ないし４の炭素原子を含むアシルオキ
   シメチル残基、アリル形エチレン残基、又はアリールメ
   チル残基を示す、 のイミダゾール誘導体と縮合させ、生成物を加水分解又
   はアルコリシスし、１−（ヒドロキシアルキル）イミダ
   ゾールを単離することを特徴とする１−ヒドロキシアル
   キル−５−ニトロイミダゾールの製造方法。 ５、特許請求の範囲１項記載の方法により得られた下記
   式； ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しＲは炭素原子１ないし４のアルキルを示し、ｎは２
   又は３であり、 記号Ｒ＿１は同一又は異なっていてもよく、水素又は炭
   素原子１ないし４のアルキルを 示し、及び Ｒ＿２は炭素原子１ないし４のアルキル、置換されてい
   ない又は置換されたフェニル基 を示す、 の生成物を６０°ないし１００℃で下記式：▲数式、化
   学式、表等があります▼ 但しＲ＿４及びＸは特許請求の範囲４項に定義された通
   りである、 のイミダゾール誘導体と反応させ、生成物を加水分解又
   はアルコリシスし、１−ヒドロキシアルキル−５−ニト
   ロイミダゾールを単離することを特徴とする１−ヒドロ
   キシアルキル−５−ニトロイミダゾールの製造方法。