JPH0275614A - 液状硬化性樹脂組成物 - Google Patents
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Landscapes
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は液状硬化性樹脂組成物に関し、更に詳細には光
フアイバー用ハード材やテープ状ファイバー用バンドリ
ング材として好適な液状硬化性樹脂組成物に関する。
フアイバー用ハード材やテープ状ファイバー用バンドリ
ング材として好適な液状硬化性樹脂組成物に関する。
光ファイバーの製造においてはガラスファイバーの熱溶
融紡糸直後に保護補強を目的として樹脂被覆が施されて
いる。
融紡糸直後に保護補強を目的として樹脂被覆が施されて
いる。
この樹脂被覆としては、光フアイバー表面にまず柔軟な
第1次の被覆層を設けその外側により聞11性の高い第
2次の被覆層を設けた構造がよく知られている。また、
これら樹脂被覆された光ファイバーを数本釜ぺてさらに
樹脂被覆して固定化したテープ状ファイバーもよく知ら
れている。
第1次の被覆層を設けその外側により聞11性の高い第
2次の被覆層を設けた構造がよく知られている。また、
これら樹脂被覆された光ファイバーを数本釜ぺてさらに
樹脂被覆して固定化したテープ状ファイバーもよく知ら
れている。
そして、この第1次の被覆層を形成するための樹脂組成
物をソフト材、第2次の被覆層を形成するための樹脂組
成物を・・−ド材、複数の光ファイバーを固定するだめ
の樹脂組成物をバンドリング材という。
物をソフト材、第2次の被覆層を形成するための樹脂組
成物を・・−ド材、複数の光ファイバーを固定するだめ
の樹脂組成物をバンドリング材という。
これらの樹脂被覆方法としては、液状樹脂組成物を塗布
し、熱あるいは光、特に紫外線により硬化させる方法が
よく用いられている。
し、熱あるいは光、特に紫外線により硬化させる方法が
よく用いられている。
近年、光ファイバーの線引速度の高速化の要求が高まり
、以前にも増してハード材又はバンドリング材に対する
硬化速度の高度化の要求が強まっている。
、以前にも増してハード材又はバンドリング材に対する
硬化速度の高度化の要求が強まっている。
ポリエーテル系のウレタンアクリレートは、他のポリエ
ステル系、?リオレフイン系またはポリカーボネート系
に比べて硬化速度が高いという利点があるが、そのもの
だけでは粘度が高すぎ、また得られる硬化物のヤング率
が低く前記光ファイバーの・・−ド材またはバンドリン
グ材としては不適当である。
ステル系、?リオレフイン系またはポリカーボネート系
に比べて硬化速度が高いという利点があるが、そのもの
だけでは粘度が高すぎ、また得られる硬化物のヤング率
が低く前記光ファイバーの・・−ド材またはバンドリン
グ材としては不適当である。
そこで、従来ではポリエーテル系のウレタンアクリレー
トに反応性希釈剤を混合することによって粘度全低下さ
せることが行われている。しかし目的の硬化速度を得る
ために反応性希釈剤としてビニルピロリドンやビニルカ
プロラクタム等のビニルモノマーtJcJ5tに添加す
ると得られる硬化物の吸水率が高くなりすぎ、ハード材
又はバンドリング材として適さなくなる。また反応性希
釈剤として3官能以上の多官能アクリルモノマーを混合
すると、硬化速度が上昇し、硬化物のヤング率も上昇す
るが、目的の硬化速度とヤング率を与えるまで添加情を
増やすと硬化物の靭性が損なわれる。
トに反応性希釈剤を混合することによって粘度全低下さ
せることが行われている。しかし目的の硬化速度を得る
ために反応性希釈剤としてビニルピロリドンやビニルカ
プロラクタム等のビニルモノマーtJcJ5tに添加す
ると得られる硬化物の吸水率が高くなりすぎ、ハード材
又はバンドリング材として適さなくなる。また反応性希
釈剤として3官能以上の多官能アクリルモノマーを混合
すると、硬化速度が上昇し、硬化物のヤング率も上昇す
るが、目的の硬化速度とヤング率を与えるまで添加情を
増やすと硬化物の靭性が損なわれる。
本発明は・・−ド材又はバンドリング材として、特に低
粘度で硬化速度が速く、靭性の高い光フアイバー用ハー
ド材又はバンドリング材に適した組成物を提供すること
を目的とする。
粘度で硬化速度が速く、靭性の高い光フアイバー用ハー
ド材又はバンドリング材に適した組成物を提供すること
を目的とする。
本発明は、前記課題を解決するものとして、(、)ポリ
オキシアルキレン構造を有するウレタン(メタ)アクリ
レート (b)トリシクロデカン構造を有するウレタン(メタ)
アクリレート (C)反応性希釈剤及び (d)重合開始剤 を含有することを特徴とする液状硬化性樹脂組成物を提
供するものである。
オキシアルキレン構造を有するウレタン(メタ)アクリ
レート (b)トリシクロデカン構造を有するウレタン(メタ)
アクリレート (C)反応性希釈剤及び (d)重合開始剤 を含有することを特徴とする液状硬化性樹脂組成物を提
供するものである。
本発明の組成物の(、)成分であるポリオキシアルキレ
ン構造を有するウレタン(メタ)アクリレート(以下「
ウレタン(メタ)アジリレート(a)」と称す。)は、
ポリオキシアルキレン構造を有するジオール、?リイン
シアネート及び水酸基を有する(メタ)アクリレート化
合物を反応させることにより得られる。
ン構造を有するウレタン(メタ)アクリレート(以下「
ウレタン(メタ)アジリレート(a)」と称す。)は、
ポリオキシアルキレン構造を有するジオール、?リイン
シアネート及び水酸基を有する(メタ)アクリレート化
合物を反応させることにより得られる。
以下に、上記のウレタン(メタ)アクリレート(、)の
製法を例示する。
製法を例示する。
〔製法1〕
ポリオキシアルキレン構造を有するジオールとジインシ
アネートとを反応させて得られる中間体のインシアネー
ト基に、水酸基を有する(メタ)アクリレート’を反応
させる方法。
アネートとを反応させて得られる中間体のインシアネー
ト基に、水酸基を有する(メタ)アクリレート’を反応
させる方法。
〔製法2〕
ジインシア不一トと水酸基を有する(メタ)アクリレー
トを反応させることにより得られる付加体のインシアネ
ート基に、ポリオキシアルキレン構造を有するシ゛オー
ルを反応させる方法。
トを反応させることにより得られる付加体のインシアネ
ート基に、ポリオキシアルキレン構造を有するシ゛オー
ルを反応させる方法。
〔製法3〕
ジイソシアネート、ポリオキシアルキレン構造を有する
ジオールおよび水酸基を有する(メタ)アクリレートを
同時に反応させる方法。
ジオールおよび水酸基を有する(メタ)アクリレートを
同時に反応させる方法。
〔製法4〕
1分子中に、(メタ)アクリロイル基とインシアネート
基を有する化合物に、ポリオキシアルキレン構造を有す
るゾオールヲ反応させる方法。
基を有する化合物に、ポリオキシアルキレン構造を有す
るゾオールヲ反応させる方法。
上記製法1〜4に用いられるポリオキシアルキレン構造
を有するジオールとしては、例えばポリエチレングリコ
ール、?リデロビレングリコール、?リテトラメチレン
グリコール、畝りへブタメチレングリコール、?リヘキ
サメチレングリコール、?リデカメチレングリコール、
2a以上のイオン重合性環状化合物を開環共重合させて
得られるポリエーテルジオール等を挙げることができる
。
を有するジオールとしては、例えばポリエチレングリコ
ール、?リデロビレングリコール、?リテトラメチレン
グリコール、畝りへブタメチレングリコール、?リヘキ
サメチレングリコール、?リデカメチレングリコール、
2a以上のイオン重合性環状化合物を開環共重合させて
得られるポリエーテルジオール等を挙げることができる
。
ここで、イオン重合性環状化合物としては、エチレンオ
キシド、ゾロピレンオキ7ド、ブテン−1−オキシド、
イソブテンオキシド、3.3−ビスクロロメチルオキセ
タン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トリオキサン
、テトラオキサン、3−メチルテトラヒドロフラン、2
−メチルテトラヒドロフラン、シクロヘキセンオキシド
、スチレンオキシド、エピクロルヒドリン、グリシゾル
メタクリレート、グリシゾルアクリレート、アリルグリ
シゾルエーテル、アリルグリシゾルカーゴネート、ブタ
ジェンモノオキシド、インプレンモノオキシド、ビニル
オキセタン、ビニルテトラヒドロフラン、ビニルシクロ
ヘキセンオキシド、フェニルグリシゾルエーテル、ブチ
ルグリシゾルエーテル、安息香酸グリシゾルエステル等
の環状エーテル類等が挙げられる。
キシド、ゾロピレンオキ7ド、ブテン−1−オキシド、
イソブテンオキシド、3.3−ビスクロロメチルオキセ
タン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トリオキサン
、テトラオキサン、3−メチルテトラヒドロフラン、2
−メチルテトラヒドロフラン、シクロヘキセンオキシド
、スチレンオキシド、エピクロルヒドリン、グリシゾル
メタクリレート、グリシゾルアクリレート、アリルグリ
シゾルエーテル、アリルグリシゾルカーゴネート、ブタ
ジェンモノオキシド、インプレンモノオキシド、ビニル
オキセタン、ビニルテトラヒドロフラン、ビニルシクロ
ヘキセンオキシド、フェニルグリシゾルエーテル、ブチ
ルグリシゾルエーテル、安息香酸グリシゾルエステル等
の環状エーテル類等が挙げられる。
また、上記イオン重合性環状化合物と、エチレンイミン
等の環状イミン類、p−ゾロビオラクトン、グリコール
酸ラクチド等の環状ラクトン類又はゾメチルシクロボリ
シロキサン等の環状シロキサン類とを開環共重合させた
ポリエーテルジオールを使用することもできる。
等の環状イミン類、p−ゾロビオラクトン、グリコール
酸ラクチド等の環状ラクトン類又はゾメチルシクロボリ
シロキサン等の環状シロキサン類とを開環共重合させた
ポリエーテルジオールを使用することもできる。
なお、2種以上のイオン重合性環状化合物の具体的な組
合せとしては、テトラヒドロフランとブローレンオキシ
ド、テトラヒドロ7ランとエチレンオキシド、fロビレ
ンオキシドとエチレンオキシド、3−メチルテトラヒド
ロフランとテトラヒドロフラン等を挙げることができる
。
合せとしては、テトラヒドロフランとブローレンオキシ
ド、テトラヒドロ7ランとエチレンオキシド、fロビレ
ンオキシドとエチレンオキシド、3−メチルテトラヒド
ロフランとテトラヒドロフラン等を挙げることができる
。
また、2m以上のイオン重合性環状化合物の開環共重合
体は、ランダムに結合してぃてもよい。
体は、ランダムに結合してぃてもよい。
さらに、破りオキシアルキレン構造を有するジオールと
しては、前記ポリオキシアルキレン構造を有するジオー
ルとフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン
酸、フマール酸、アゾピン酸、セバシン酸等の二塩基酸
とを反応して得られる?リエステルゾオール、前記ポリ
オキシアルキレン構造を有するジオールとε−カプロラ
クトンとを反応して得られる破りカブロラクトンジオー
ル等ヲ使用することもできる。
しては、前記ポリオキシアルキレン構造を有するジオー
ルとフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン
酸、フマール酸、アゾピン酸、セバシン酸等の二塩基酸
とを反応して得られる?リエステルゾオール、前記ポリ
オキシアルキレン構造を有するジオールとε−カプロラ
クトンとを反応して得られる破りカブロラクトンジオー
ル等ヲ使用することもできる。
これらのポリオキシアルキレン構造ヲ有スるジオールは
、例えばPTMGlooo(三菱化成工業■)、PEG
1000(同)、PPG1000(旭オーリン■);
PPG2000(同)、EXC):N0L2020(同
)、EXCENOL 1020 (同)、PEG100
0(日本油脂■)、ユニセーフDC1100(同)、ユ
ニセーフDC1800(同)、PEG1000(採土ケ
谷化学)、PPTGlooo(同)、PTG 4 Q
O(同)、PEG1000(同)、PTGL 2000
(同)、PTGL 300.0 (同)等の市販品とし
ても入手することができる。
、例えばPTMGlooo(三菱化成工業■)、PEG
1000(同)、PPG1000(旭オーリン■);
PPG2000(同)、EXC):N0L2020(同
)、EXCENOL 1020 (同)、PEG100
0(日本油脂■)、ユニセーフDC1100(同)、ユ
ニセーフDC1800(同)、PEG1000(採土ケ
谷化学)、PPTGlooo(同)、PTG 4 Q
O(同)、PEG1000(同)、PTGL 2000
(同)、PTGL 300.0 (同)等の市販品とし
ても入手することができる。
ポリオキシアルキレン構造を有するジオールには、ポリ
オキシアルキレン構造を有さないジオール及び/又はシ
アミンを併用することができる。
オキシアルキレン構造を有さないジオール及び/又はシ
アミンを併用することができる。
ポリオキシアルキレン構造を有さないジオールとしては
、世1えばエチレングリコール、ゾロピレングリコール
、テトラメチレングリコール、1.6−ヘキサンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサン
ジメタノール、スピログリコール等の低分子量ジオール
、上記低分子量ジオールとフタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、マレイン酸、フマール酸、アゾピン酸、セ
バシン酸等の二塩基酸とを反応して得られるポリエステ
ルゾオール、エチレングリコール、テトラメチレングリ
コール、1.6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリ
コール、1.4−シクロヘキサンジメタノール、1.4
−ブタンジオール等のジオールを反応させて得られる?
リカデロラクトンゾオール、DN−980(日本?リウ
レタン■)、DN−981(同)、DN−982(同)
、DN−983(同)、pc−sooo(米国PPG社
)等の?リカーボネートジオールが挙げられる。
、世1えばエチレングリコール、ゾロピレングリコール
、テトラメチレングリコール、1.6−ヘキサンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサン
ジメタノール、スピログリコール等の低分子量ジオール
、上記低分子量ジオールとフタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、マレイン酸、フマール酸、アゾピン酸、セ
バシン酸等の二塩基酸とを反応して得られるポリエステ
ルゾオール、エチレングリコール、テトラメチレングリ
コール、1.6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリ
コール、1.4−シクロヘキサンジメタノール、1.4
−ブタンジオール等のジオールを反応させて得られる?
リカデロラクトンゾオール、DN−980(日本?リウ
レタン■)、DN−981(同)、DN−982(同)
、DN−983(同)、pc−sooo(米国PPG社
)等の?リカーボネートジオールが挙げられる。
上記シアミンとしては、例えばエチレンシアミン、テト
ラメチレンシアミン、ヘキサメチレンシアミン、ノQラ
ーフェニレンゾアミン、4.4′−ジアミノジフェニル
メタン、ヘテロ原子を含むシアミン、ポリオキシアルキ
レン構造を有するシアミンなどが挙げられる。
ラメチレンシアミン、ヘキサメチレンシアミン、ノQラ
ーフェニレンゾアミン、4.4′−ジアミノジフェニル
メタン、ヘテロ原子を含むシアミン、ポリオキシアルキ
レン構造を有するシアミンなどが挙げられる。
上記製法1〜3に用いられるジインシアネートとしては
、2.4−)ルエンゾイソシアネート、2.6−)ルエ
ンゾイソシアネート、1.3−キシレンジイソシアネー
ト、1.4−キシレンジイソシアネート、1.5−ナフ
タレンジイソシアネート、m−フ二二しンゾイソシアネ
ート、p−フ二二しンゾイソシアネート、3.3′−ゾ
メチル−4,4′−ゾフェニルメタンジイソシアネート
、4.4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、3.
3′−ジメチルフェニレンジイソシアネート、4.4′
−ビフエニレンゾイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ンシア不一ト、インフオロンゾイソシアネート、ゾシク
ロヘキンルメタンゾインシアネート、メチレンビス(4
−シクロヘキシルイソシアネート)、水添ジフェニルメ
タンジイソシアネート、2,2.4−トリメチルヘキサ
メチレンジイソシアネート、ビス(2−イソシアネート
エチル)フマレート、6−インゾロビル−1,3−フエ
ニルゾインシアネート、4−ゾフェニルデロノQンゾイ
ン7アネート、リジンジイソシアネート等を挙げること
ができる。
、2.4−)ルエンゾイソシアネート、2.6−)ルエ
ンゾイソシアネート、1.3−キシレンジイソシアネー
ト、1.4−キシレンジイソシアネート、1.5−ナフ
タレンジイソシアネート、m−フ二二しンゾイソシアネ
ート、p−フ二二しンゾイソシアネート、3.3′−ゾ
メチル−4,4′−ゾフェニルメタンジイソシアネート
、4.4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、3.
3′−ジメチルフェニレンジイソシアネート、4.4′
−ビフエニレンゾイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ンシア不一ト、インフオロンゾイソシアネート、ゾシク
ロヘキンルメタンゾインシアネート、メチレンビス(4
−シクロヘキシルイソシアネート)、水添ジフェニルメ
タンジイソシアネート、2,2.4−トリメチルヘキサ
メチレンジイソシアネート、ビス(2−イソシアネート
エチル)フマレート、6−インゾロビル−1,3−フエ
ニルゾインシアネート、4−ゾフェニルデロノQンゾイ
ン7アネート、リジンジイソシアネート等を挙げること
ができる。
上記製法1〜3に用いられる水酸基を有する(メタ)ア
クリレートとしては、例えば2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレ
ート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレー
ト、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールゾロノQンゾ(メタ)アクリレート
、トリメチロールエタンゾ(メタ)アクリレート、ペン
タエ リ ス リ ト − ル ト リ
(メ タ ) ア り リ し − ト
、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレー
ト、1.4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート
、4−ヒドロキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート
、1.6−ヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート
、ネオペンチルグリコールモノ(メタ)アクリレ一ト、
グリセリンゾ(メタ)アクリレート、下記式で表わされ
る(メタ)アクリレート、さらにアルキルグリシゾルエ
ーテル、アリールグリシゾルエーテル、グリシゾル(メ
タ)アクリレート等のグリシゾル基含有化合物と(メタ
)アクリル酸との付加反応にょシ得られる化合物も挙げ
ることができる。
クリレートとしては、例えば2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレ
ート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレー
ト、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールゾロノQンゾ(メタ)アクリレート
、トリメチロールエタンゾ(メタ)アクリレート、ペン
タエ リ ス リ ト − ル ト リ
(メ タ ) ア り リ し − ト
、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレー
ト、1.4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート
、4−ヒドロキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート
、1.6−ヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート
、ネオペンチルグリコールモノ(メタ)アクリレ一ト、
グリセリンゾ(メタ)アクリレート、下記式で表わされ
る(メタ)アクリレート、さらにアルキルグリシゾルエ
ーテル、アリールグリシゾルエーテル、グリシゾル(メ
タ)アクリレート等のグリシゾル基含有化合物と(メタ
)アクリル酸との付加反応にょシ得られる化合物も挙げ
ることができる。
0 R1
(式中、R1はHまたはCI(、であり、nは1〜5で
ある) 上記製法4に用いられる1分子中に(メタ)アクリロイ
ル基とインシアネート基を有する化合物としては、下記
式で表わされる化合物が挙げられる。
ある) 上記製法4に用いられる1分子中に(メタ)アクリロイ
ル基とインシアネート基を有する化合物としては、下記
式で表わされる化合物が挙げられる。
H2C=C−C−NC0
(式中、R監はHまたはCH,である)上記製法1の実
施態様を示す ポリオキシアルキレン構造を有するジオールの水酸基1
当量あたりのフィンシアネートの使用量は、約05〜2
モルである。この反応においては、通常、ナフテン酸銅
、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ラウリル酸n
−ブチルスズ、トリエチルアミン等の触媒を反応原料の
総量100重量部に対して0.01〜1重量部用いて反
応を行う。この反応における反応温度は、通常0〜80
″Cである。
施態様を示す ポリオキシアルキレン構造を有するジオールの水酸基1
当量あたりのフィンシアネートの使用量は、約05〜2
モルである。この反応においては、通常、ナフテン酸銅
、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ラウリル酸n
−ブチルスズ、トリエチルアミン等の触媒を反応原料の
総量100重量部に対して0.01〜1重量部用いて反
応を行う。この反応における反応温度は、通常0〜80
″Cである。
このようVCして得られる中間体のイソシアネート基に
対して、水酸基を有する(メタ)アクリレートの使用量
は、該中間体のインシアネート基1当量に対して約1モ
ルであり、その反応条件は、前記の中間体の合成におけ
る反応条件と同様である。
対して、水酸基を有する(メタ)アクリレートの使用量
は、該中間体のインシアネート基1当量に対して約1モ
ルであり、その反応条件は、前記の中間体の合成におけ
る反応条件と同様である。
次に上記製法2の実施態様を示す。
フィンシアネート1モルに対して水酸基を有する(メタ
)アクリレート0.5〜2モルを製法1と同様の反応条
件で反応させて得られる付加体のインシアネート基1当
量に対して、ポリオキシアルキレン構造を有するジオー
ルの水酸基が約1当量となるように使用し、製法1と同
様の反応条件で反応させる。
)アクリレート0.5〜2モルを製法1と同様の反応条
件で反応させて得られる付加体のインシアネート基1当
量に対して、ポリオキシアルキレン構造を有するジオー
ルの水酸基が約1当量となるように使用し、製法1と同
様の反応条件で反応させる。
次に上記製法3の実施態様を示す。
ポリオキシアルキレン構造を有するジオールの水酸基1
当量あたりのフィンシアネートの使用量は0.5〜2モ
ルである。
当量あたりのフィンシアネートの使用量は0.5〜2モ
ルである。
また水酸基を有する(メタ)アクリレートの使用量は、
ポリオキシアルキレン構造を有するジオールの水酸基と
の合計水酸基量がゾイノシア坏−トのインシアネート基
の量の0.9〜1.1倍になる様に選ぶ。
ポリオキシアルキレン構造を有するジオールの水酸基と
の合計水酸基量がゾイノシア坏−トのインシアネート基
の量の0.9〜1.1倍になる様に選ぶ。
但し、製法1および2において、1分子中に2以上の水
酸基を有する(メタ)アクリレート化合物を使用する場
合の水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物の使用
litは、1分子中の水酸基数で上記使用f!:′t−
除した量を用いる必要がある。
酸基を有する(メタ)アクリレート化合物を使用する場
合の水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物の使用
litは、1分子中の水酸基数で上記使用f!:′t−
除した量を用いる必要がある。
次に上記製法4の実施態様を示す。
1分子中に(メタ)アクリロイル基とイソシアネート基
を有する化合物の使用′jjkは、インシアネート基の
量がポリオキシアルキレン構造を有するジオールの水酸
基量の0.9〜1.1倍になるように選ぶ。
を有する化合物の使用′jjkは、インシアネート基の
量がポリオキシアルキレン構造を有するジオールの水酸
基量の0.9〜1.1倍になるように選ぶ。
上記製法1〜3の実施に際し、ポリオキシアルキレン構
造を有するジオールの一部をポリオキシアルキレン構造
を有さないジオールまたはシアミンで置換えて併用する
場合には、ポリオキシアルキレン構造を有するジオール
、ポリオキシアルキレン構造を有さないジオール並びに
シアミンの水酸基及びアミノ基の和1当量あたシゾイソ
シアネート約0.5〜2モル使用する。
造を有するジオールの一部をポリオキシアルキレン構造
を有さないジオールまたはシアミンで置換えて併用する
場合には、ポリオキシアルキレン構造を有するジオール
、ポリオキシアルキレン構造を有さないジオール並びに
シアミンの水酸基及びアミノ基の和1当量あたシゾイソ
シアネート約0.5〜2モル使用する。
さらに、上記製法1〜3を実施する際には、ジオールに
対して二官能以外の?リオール、シアミンに対して二官
能以外のポリアミン又はフィンシアネートに対して二官
能以外のぼりインシアネートを生成物がゲル化しない程
度に併用することができ、通常、その併用量は、ジオー
ル、シアミン又はシイソシアネ−トラ00重量部に対し
て5〜30重量部である。ここにおける三官能以外のf
+)オールとしては、例えばグリセリンとプロピレン
オキサイドの付加生成物、グリセリン、1,2゜3−/
−eメタントリオール、1,2.3−ブタントリオール
、トリ(2−ヒドロキシ?リオキシデロビル)、??リ
シロキサン、?リカプロラクトントリオール、?リカゾ
ロラクトンテトラオール、1分子中に2個を超える数の
水酸基を有する液状ポリブタジエン又はこの水添物等を
挙げることができる。三官能以外の?リアミンとしては
、例えばジエチレントリアミン、1 .2 .3−トリ
アミノゾロノQン、?リオキシプロピレンアミン等を挙
げることができ、三官能以外の?ジイソシアネートとし
ては、’INえばポリメチレン?リフェニルインシアネ
ート、トリフェニルメタン4 、4’。
対して二官能以外の?リオール、シアミンに対して二官
能以外のポリアミン又はフィンシアネートに対して二官
能以外のぼりインシアネートを生成物がゲル化しない程
度に併用することができ、通常、その併用量は、ジオー
ル、シアミン又はシイソシアネ−トラ00重量部に対し
て5〜30重量部である。ここにおける三官能以外のf
+)オールとしては、例えばグリセリンとプロピレン
オキサイドの付加生成物、グリセリン、1,2゜3−/
−eメタントリオール、1,2.3−ブタントリオール
、トリ(2−ヒドロキシ?リオキシデロビル)、??リ
シロキサン、?リカプロラクトントリオール、?リカゾ
ロラクトンテトラオール、1分子中に2個を超える数の
水酸基を有する液状ポリブタジエン又はこの水添物等を
挙げることができる。三官能以外の?リアミンとしては
、例えばジエチレントリアミン、1 .2 .3−トリ
アミノゾロノQン、?リオキシプロピレンアミン等を挙
げることができ、三官能以外の?ジイソシアネートとし
ては、’INえばポリメチレン?リフェニルインシアネ
ート、トリフェニルメタン4 、4’。
4″−トリイソシアネート等を挙げることがではエチレ
ン性不飽和基を、通常、0.8〜8重禁%、好ましくは
1〜5重世%官有するものであり、その数平均分子量は
、1000〜70QOであることが好ましく、特に15
00〜5oooの範囲が好ましい。ウレタン(メタ)ア
クリレート(a)の数平均分子量が1000未満である
と、得られる組成物の硬化物の破断伸びが減少し、靭性
が低下しやすぐなると共に、低温でのヤング率が上昇し
ゃすくなシ、7000をこえると、組成物の粘度が高く
なシ取扱いにくくなる。捷た、ウレタン(メタ)アクリ
レート(&)中に占める?リオキシアルキレン構造の割
合は50〜98重f%であることが好IL<、特に60
〜93重量%の範囲が好ましく、70〜90重鷺%の範
囲が最も好ましい。ウレタン(メタ)アクリレート(&
)中に占める?リオキシアルキレン構造の割合が50重
量%未満であると硬化物の低温でのヤング率が上昇しや
すくなり、光フアイバー用被覆材料として使用した場合
に伝送損失の原因となりやすい。
ン性不飽和基を、通常、0.8〜8重禁%、好ましくは
1〜5重世%官有するものであり、その数平均分子量は
、1000〜70QOであることが好ましく、特に15
00〜5oooの範囲が好ましい。ウレタン(メタ)ア
クリレート(a)の数平均分子量が1000未満である
と、得られる組成物の硬化物の破断伸びが減少し、靭性
が低下しやすぐなると共に、低温でのヤング率が上昇し
ゃすくなシ、7000をこえると、組成物の粘度が高く
なシ取扱いにくくなる。捷た、ウレタン(メタ)アクリ
レート(&)中に占める?リオキシアルキレン構造の割
合は50〜98重f%であることが好IL<、特に60
〜93重量%の範囲が好ましく、70〜90重鷺%の範
囲が最も好ましい。ウレタン(メタ)アクリレート(&
)中に占める?リオキシアルキレン構造の割合が50重
量%未満であると硬化物の低温でのヤング率が上昇しや
すくなり、光フアイバー用被覆材料として使用した場合
に伝送損失の原因となりやすい。
ウレタン(メタ)アクリレート(&)中の?リオキシア
ルキレン構造についてfi、t’リオいられるジオール
としては?リテトラメチレングリコール及びテトラヒド
ロフランと3−メチルテトラヒドロフランの共重合ジオ
ールが好ましい。
ルキレン構造についてfi、t’リオいられるジオール
としては?リテトラメチレングリコール及びテトラヒド
ロフランと3−メチルテトラヒドロフランの共重合ジオ
ールが好ましい。
同様に、ジイソシアネートとしては、2゜4−トリレン
ジイソシアネート、インホロンジイソシアネート、水添
ビスフェノールムシイソシアネート、2,2.4−トリ
メチルへキサメチレンジイソシア不一トが、特にインホ
ロンジイソシアネートが好ましい。
ジイソシアネート、インホロンジイソシアネート、水添
ビスフェノールムシイソシアネート、2,2.4−トリ
メチルへキサメチレンジイソシア不一トが、特にインホ
ロンジイソシアネートが好ましい。
同様に水酸基を有する(メタ)アクリレートとしては、
ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシゾロビルア
クリレート、ヒドロキシブチルアクリレート又は下記式
で表わされるアクリレートが好ましい。
ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシゾロビルア
クリレート、ヒドロキシブチルアクリレート又は下記式
で表わされるアクリレートが好ましい。
(式中、R1はHまたはCH3であ5 、flは1〜5
である) 以上説明したウレタン(メタ)アクリレート(a)は、
本発明の組成物に114〜70重童%、特に16〜60
重量%の範囲で配合することが好ましい。ウレタン(メ
タ)アクリレ−) (a)の割合が14重量%未満であ
ると、得られる組成物の硬化物の破断伸びが減少し、ま
た70重量%を超えると硬化物の室温付近におけるヤン
グ率が減少すると共に組成物の粘度が上昇し、取扱い性
が悪くなりゃすい。
である) 以上説明したウレタン(メタ)アクリレート(a)は、
本発明の組成物に114〜70重童%、特に16〜60
重量%の範囲で配合することが好ましい。ウレタン(メ
タ)アクリレ−) (a)の割合が14重量%未満であ
ると、得られる組成物の硬化物の破断伸びが減少し、ま
た70重量%を超えると硬化物の室温付近におけるヤン
グ率が減少すると共に組成物の粘度が上昇し、取扱い性
が悪くなりゃすい。
本発明の組成物の(b)成分であるトリシクロデカン構
造を有するウレタン(メタ)アクリレート(以下「ウレ
タン(メタ)アクリレート(b) Jと称する)の製法
としては、ウレタン(メタ)アクリレート(a)の製法
として前記に例示した製法1〜4において、?リオキシ
アルキレン構造を有するジオールをトリシクロデカン構
造を有するジオールに代えた方法を挙げることができる
。
造を有するウレタン(メタ)アクリレート(以下「ウレ
タン(メタ)アクリレート(b) Jと称する)の製法
としては、ウレタン(メタ)アクリレート(a)の製法
として前記に例示した製法1〜4において、?リオキシ
アルキレン構造を有するジオールをトリシクロデカン構
造を有するジオールに代えた方法を挙げることができる
。
上記方法で用いられるトリシクロデカン構造を有するジ
オールとしては、トリシクロデカンジメタノール、トリ
シクロデカンジェタノールなどのトリシクロデカンシア
ルコール、トリシクロデカンシアルコールのε−カプロ
ラクトン付加体ゾオール、トリシクロデカ/シアルコー
ルの(畝り)アルキレンオキサイド付加体ジオール等を
挙げることができる。
オールとしては、トリシクロデカンジメタノール、トリ
シクロデカンジェタノールなどのトリシクロデカンシア
ルコール、トリシクロデカンシアルコールのε−カプロ
ラクトン付加体ゾオール、トリシクロデカ/シアルコー
ルの(畝り)アルキレンオキサイド付加体ジオール等を
挙げることができる。
また、ジイソシアネート及び水酸基を有する(メタ)ア
クリレートとしては、前記タレ様のものを挙けることが
できる。
クリレートとしては、前記タレ様のものを挙けることが
できる。
−また、ウレタン(メタ)アクリレート(b)の実施態
様としては、前記ウレタン(メタ)アクリレート(a)
の製法1〜4の実施態様tこおいて、?リオキシアルキ
レン構造を有するジオールをトリシクロデカン構造を有
するジオールに代えた実施態様を挙げることができる。
様としては、前記ウレタン(メタ)アクリレート(a)
の製法1〜4の実施態様tこおいて、?リオキシアルキ
レン構造を有するジオールをトリシクロデカン構造を有
するジオールに代えた実施態様を挙げることができる。
なお、ウレタン(メタ)アクリレート(b)の製造に際
しては、トリシクロデカン構造を有するジオールの一部
全下記式で表わされるジオールに置き換えることもでき
る。
しては、トリシクロデカン構造を有するジオールの一部
全下記式で表わされるジオールに置き換えることもでき
る。
HO+R20+−!R3モOR’−)−、OH+CH2
す2又は−CM、−6【トを表わし、R3はを表わし、
X及びyは平均値であシ、それぞれ0,1≦X≦15及
び0.1≦y≦15を満たす数である。〕 ウレタン(メタ)アクリレート(b)は、エチレン性不
飽和基を1、通常、1.3〜8重t%、好ましくは2〜
7重i%で含有するものであり、また数平均分子量は5
00〜1000であることが好ましく、特に700〜9
00の範囲が好ましい。ウレタン(メタ)アクリレート
(b)の数平均分子量が500未満であると、後記する
(c)反応性希釈剤への溶解性が惑くなり、捷た、ウレ
タン(メタ)アクリレート(b)の数平均分子量が10
00を超えると、組成物の粘度が上昇し、取り扱い性が
悠くなる。
す2又は−CM、−6【トを表わし、R3はを表わし、
X及びyは平均値であシ、それぞれ0,1≦X≦15及
び0.1≦y≦15を満たす数である。〕 ウレタン(メタ)アクリレート(b)は、エチレン性不
飽和基を1、通常、1.3〜8重t%、好ましくは2〜
7重i%で含有するものであり、また数平均分子量は5
00〜1000であることが好ましく、特に700〜9
00の範囲が好ましい。ウレタン(メタ)アクリレート
(b)の数平均分子量が500未満であると、後記する
(c)反応性希釈剤への溶解性が惑くなり、捷た、ウレ
タン(メタ)アクリレート(b)の数平均分子量が10
00を超えると、組成物の粘度が上昇し、取り扱い性が
悠くなる。
ウレタン(メタ)アクリレート(b)甲のトリシクロデ
カン構造の割合は、好ましくは、15重f%以上であり
、さらに好ましくは、20重量%以上である。ウレタン
(メタ)アクリレート(b)中の該構造の割合が15重
t%未満であると、得られる硬化物の靭性が損なわれる
。
カン構造の割合は、好ましくは、15重f%以上であり
、さらに好ましくは、20重量%以上である。ウレタン
(メタ)アクリレート(b)中の該構造の割合が15重
t%未満であると、得られる硬化物の靭性が損なわれる
。
トリシクロデカン構造を有するジオールとしては、トリ
シクロデカンジメタノールが最も好ましい。ジイソシア
ネート及び水酸基を有する化合物の好ましい例は、ウレ
タン(メタ)アクリレート(a)の場合と同様である。
シクロデカンジメタノールが最も好ましい。ジイソシア
ネート及び水酸基を有する化合物の好ましい例は、ウレ
タン(メタ)アクリレート(a)の場合と同様である。
以上説明したウレタン(メタ)アクリレート(b)ti
、本発明の組成物に5〜40重it%、特に10〜35
重量%の範囲で配合することが好tしく、ウレタン(メ
タ)アクリレート(b)の割合が5重量%未満であると
、得られる硬化物の靭性が損われる。ウレタン(メタ)
アクリレート(b)の割合が40重量%を超えると、組
成物の粘度が上昇し、取シ扱い性が悪くなる。
、本発明の組成物に5〜40重it%、特に10〜35
重量%の範囲で配合することが好tしく、ウレタン(メ
タ)アクリレート(b)の割合が5重量%未満であると
、得られる硬化物の靭性が損われる。ウレタン(メタ)
アクリレート(b)の割合が40重量%を超えると、組
成物の粘度が上昇し、取シ扱い性が悪くなる。
本発明において、ウレタン(メタ)アクリレート(a)
及び(b)は、既に説明したように、それぞれ別々に製
造することができるが、下記に例示する製法5〜8によ
りウレタン(メタ)アクリレート(a)及び(b)を同
時に製造することもできる。
及び(b)は、既に説明したように、それぞれ別々に製
造することができるが、下記に例示する製法5〜8によ
りウレタン(メタ)アクリレート(a)及び(b)を同
時に製造することもできる。
〔製法5〕
ポリオキシアルキレン構造を有するゾオールト、トリシ
クロデカン構造を有するジオールを順に又は混合して、
ジイソシアネートに反応させて得られる中間体のインシ
アネート基に水酸基を有する(メタ)アクリレートを反
応させる方法。
クロデカン構造を有するジオールを順に又は混合して、
ジイソシアネートに反応させて得られる中間体のインシ
アネート基に水酸基を有する(メタ)アクリレートを反
応させる方法。
〔製法6〕
ジイソシアネートと水酸基を有する(メタ)アクリレー
トを反応させることにより得られる付加体のインシアネ
ート基にポリオキシアルキレン構造を有するジオールと
トリシクロデカン構造を有するジオールを順に又は混合
して反応させる方法。
トを反応させることにより得られる付加体のインシアネ
ート基にポリオキシアルキレン構造を有するジオールと
トリシクロデカン構造を有するジオールを順に又は混合
して反応させる方法。
〔製法7〕
ジイソシアネート、ポリオキシアルキレン構造を有する
ジオール、トリシクロデカン構造を有するジオール及び
水酸基を有する(メタ)アクリレートを同時に反応させ
る方法。
ジオール、トリシクロデカン構造を有するジオール及び
水酸基を有する(メタ)アクリレートを同時に反応させ
る方法。
〔製法8〕
1分子中に(メタ)アクリロイル基とインシアネート基
を有する化合物とポリオキシアルキレン構造を有するジ
オールとトリシクロデカン構造を有するジオールを順に
又は混合して反応させる方法。
を有する化合物とポリオキシアルキレン構造を有するジ
オールとトリシクロデカン構造を有するジオールを順に
又は混合して反応させる方法。
上記製法5〜8は例えば各々ウレタン(メタ)アクリレ
ート(a)の製法である製法1〜3の好lしい実施態様
の場合と同様にして実施することかできる。
ート(a)の製法である製法1〜3の好lしい実施態様
の場合と同様にして実施することかできる。
本発明の組成物には、上記ウレタン(メタ)アクリレー
ト(a)及び(b)以外のプレポリマーを本発明の効果
が損なわれない範囲で併用することができる。
ト(a)及び(b)以外のプレポリマーを本発明の効果
が損なわれない範囲で併用することができる。
ここでウレタン(メタ)アクリレート(息)及び(b)
以外のルポリマーとしては、?リカグロラクトンゾオー
ル、ポリカービネートゾオール、?リエステルゾオール
及びシアミンから選ばれる化合物を前記ジイソシアネー
トと前記水酸基を有する(メタ)アクリレートとを反応
させることにより得られるプレポリマー’に挙げること
ができる。
以外のルポリマーとしては、?リカグロラクトンゾオー
ル、ポリカービネートゾオール、?リエステルゾオール
及びシアミンから選ばれる化合物を前記ジイソシアネー
トと前記水酸基を有する(メタ)アクリレートとを反応
させることにより得られるプレポリマー’に挙げること
ができる。
ウレタン(メタ)アジリレート(a)及び(b)以外の
プレポリマーとしては、さらに?ジイソシアネートと、
水酸基を有する(メタ)アクリレートとのウレタン化反
応によシ生成した重合体化合物が挙げられる。このよう
な重合体化合物の具体例としては、トルエンジインシア
ネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート(
モル比1:2)のウレタン化反応生成物、ジフェニルメ
タンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(ツタ)
アクリレート(モル比1:2)のウレタン化反応生成物
、イソホロンジイソシアネートと2−とドロキシエチル
(メタ)アクリレート(モル比1:2)のウレタン化反
応生成物等を挙げることができる。
プレポリマーとしては、さらに?ジイソシアネートと、
水酸基を有する(メタ)アクリレートとのウレタン化反
応によシ生成した重合体化合物が挙げられる。このよう
な重合体化合物の具体例としては、トルエンジインシア
ネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート(
モル比1:2)のウレタン化反応生成物、ジフェニルメ
タンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(ツタ)
アクリレート(モル比1:2)のウレタン化反応生成物
、イソホロンジイソシアネートと2−とドロキシエチル
(メタ)アクリレート(モル比1:2)のウレタン化反
応生成物等を挙げることができる。
本発明における(c)成分である反応性希釈剤としては
、単官能性化合物及び多官能性化合物のいずれも用いら
れる。比較的弾性率の低い硬化物を所望する場合には主
として単官能性化合物が用いられるが、多官能性化合物
を適轟な割合で併用することにより硬化物の弾性率を調
節することもできる。これら単官能性化合物及び多官能
性化合物は特に限定するものでなく、次のようなものを
例示することができる。
、単官能性化合物及び多官能性化合物のいずれも用いら
れる。比較的弾性率の低い硬化物を所望する場合には主
として単官能性化合物が用いられるが、多官能性化合物
を適轟な割合で併用することにより硬化物の弾性率を調
節することもできる。これら単官能性化合物及び多官能
性化合物は特に限定するものでなく、次のようなものを
例示することができる。
単官能性化合物二N−ビニルピロリドン、N−ビニル−
C−カノロラクタム、2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、
フトキシエテル(メタ)アクリレート、エチルジエチレ
ングリコール(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシ
ル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アク
リレート、フェノキンエチル(メタ)アクリレート、?
リエチレングリコール(メタ)アクリレート、?リゾロ
ビレングリコール(メタ)アクリレート、メチルトリエ
チレンノブリコール(メタ)アクリレート、インボルニ
ル(ツタ)アクリレート、ジアセトン(メタ)アクリル
アミド、インシトキシメチル(メタ)アクリルアミド、
N、N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、t−オクチ
ル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノエテル(メ
タ)アクリレート、ジエチルアミンエチル(メタ)アク
リレート、(ツタ)アクリロイルモルホリン、ジシクロ
ペンテニル(メタ)アクリレート、4キ≠≠−4寸(清
−(−I4→4→」i5→〒トリシクロデカニル(メタ
)アクリレートおよび下記式で表わされる化合物。
C−カノロラクタム、2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、
フトキシエテル(メタ)アクリレート、エチルジエチレ
ングリコール(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシ
ル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アク
リレート、フェノキンエチル(メタ)アクリレート、?
リエチレングリコール(メタ)アクリレート、?リゾロ
ビレングリコール(メタ)アクリレート、メチルトリエ
チレンノブリコール(メタ)アクリレート、インボルニ
ル(ツタ)アクリレート、ジアセトン(メタ)アクリル
アミド、インシトキシメチル(メタ)アクリルアミド、
N、N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、t−オクチ
ル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノエテル(メ
タ)アクリレート、ジエチルアミンエチル(メタ)アク
リレート、(ツタ)アクリロイルモルホリン、ジシクロ
ペンテニル(メタ)アクリレート、4キ≠≠−4寸(清
−(−I4→4→」i5→〒トリシクロデカニル(メタ
)アクリレートおよび下記式で表わされる化合物。
〔式中、R1は前記と同じ意味を有し、R5は炭素原子
数2〜6、好ましくは2〜4のアルキレン基であり、R
6は水素原子又は炭素原子数1〜12のアルキル基であ
り、mはO〜12である。〕 〔式中、Rムは前記のとおりであり、R7は炭素原子数
2〜8のアルキレン基であり、pは1〜8である。〕 /R11 〔式中 Hl、R7およびpは前記のとお9であり R
JIは水素原子又はメチル基である〕了ローニクスM1
11 (東亜合成化学展)M113(同)、M114(
同)、M117(同)、KAYARADTCl 10S
(日本化薬製)、R629(同)、R644(同)、ビ
スコート3700(大阪有機化学制) 多官能性化合物:トリメチロールグロノ9フトリ(メタ
)アクリレート、ヘンタエリスリトールトリ(メタ)ア
クリレート、エチレングリコールゾ(メタ)アクリレー
ト、テトラエチレングリコールゾ(メタ)アクリレート
、破りエチレングリコールゾ(メタ)アクリレート、1
.4−ブタンゾオールゾ(メタ)アクリレート、1.6
−ヘキサンゾオールゾ(メタ)アクリレート、ネオペン
チルグリコールゾ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロノψントリオキシエチル(メタ)アクリレート、
トリノクロデカンゾメタノールゾ(メタ)アクリレート
、ゾンクロペンタゾエンゾ(メタ)アクリレート、ゾシ
クロペンタンゾ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒ
ドロキシエチル)インシアヌレートトリ(メタ)アク1
/L/−ト、l−リス(2−ヒドロキシエチル)イソシ
アヌレートゾ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA
のジグリシジルエーテルに(メタ)アクリレートを付加
させた工?キシ(メタ)アクリレート ユビマ−UV S A 1002 (三菱油化膜)、5
A2007(同)、ビスコ−ドア 00 (大阪有機化
学制)、KAYARAD R−604(日本化薬製)
、DPCA−20(同)、DPCA−30(同)、DP
CA−60(同)、DPCA−120(同)、HX−6
20(同)、D−310(同)、D−330(同)、ア
ローニクスM−210(東亜合成化学展)、M−215
(同)、M−315(同)、M−325(同) 本発明に用いる(c)成分には、N−ビニルeロリドン
、N−ビニル−ε−カゾロラクタムなどのN−ビニルラ
クタム類を含むことが好ましい。このN−ビニルラクタ
ム類を使用する場合には、組成物の3〜20重t%、特
に5〜15重景%となる範囲で用いることが好ましい。
数2〜6、好ましくは2〜4のアルキレン基であり、R
6は水素原子又は炭素原子数1〜12のアルキル基であ
り、mはO〜12である。〕 〔式中、Rムは前記のとおりであり、R7は炭素原子数
2〜8のアルキレン基であり、pは1〜8である。〕 /R11 〔式中 Hl、R7およびpは前記のとお9であり R
JIは水素原子又はメチル基である〕了ローニクスM1
11 (東亜合成化学展)M113(同)、M114(
同)、M117(同)、KAYARADTCl 10S
(日本化薬製)、R629(同)、R644(同)、ビ
スコート3700(大阪有機化学制) 多官能性化合物:トリメチロールグロノ9フトリ(メタ
)アクリレート、ヘンタエリスリトールトリ(メタ)ア
クリレート、エチレングリコールゾ(メタ)アクリレー
ト、テトラエチレングリコールゾ(メタ)アクリレート
、破りエチレングリコールゾ(メタ)アクリレート、1
.4−ブタンゾオールゾ(メタ)アクリレート、1.6
−ヘキサンゾオールゾ(メタ)アクリレート、ネオペン
チルグリコールゾ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロノψントリオキシエチル(メタ)アクリレート、
トリノクロデカンゾメタノールゾ(メタ)アクリレート
、ゾンクロペンタゾエンゾ(メタ)アクリレート、ゾシ
クロペンタンゾ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒ
ドロキシエチル)インシアヌレートトリ(メタ)アク1
/L/−ト、l−リス(2−ヒドロキシエチル)イソシ
アヌレートゾ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA
のジグリシジルエーテルに(メタ)アクリレートを付加
させた工?キシ(メタ)アクリレート ユビマ−UV S A 1002 (三菱油化膜)、5
A2007(同)、ビスコ−ドア 00 (大阪有機化
学制)、KAYARAD R−604(日本化薬製)
、DPCA−20(同)、DPCA−30(同)、DP
CA−60(同)、DPCA−120(同)、HX−6
20(同)、D−310(同)、D−330(同)、ア
ローニクスM−210(東亜合成化学展)、M−215
(同)、M−315(同)、M−325(同) 本発明に用いる(c)成分には、N−ビニルeロリドン
、N−ビニル−ε−カゾロラクタムなどのN−ビニルラ
クタム類を含むことが好ましい。このN−ビニルラクタ
ム類を使用する場合には、組成物の3〜20重t%、特
に5〜15重景%となる範囲で用いることが好ましい。
さらに、(c)成分としては脂環式構造を有するエチレ
ン性不飽和七ツマ−を使用することが、硬化物の耐水性
、耐熱水性、耐酸性、耐アルカリ住専がさらに向上し、
長期信頼性がより向上することから好ましい。かがる脂
環式構造を有するエチレン性不飽和千ツマ−としては、
例えばインゲルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペ
ンテニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(
メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレ
ート、トリシクロデヵンゾメタノールゾ(メタ)アクリ
レート等が挙げられ、中でも特にイソボルニルアクリレ
ート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートが
好ましい。
ン性不飽和七ツマ−を使用することが、硬化物の耐水性
、耐熱水性、耐酸性、耐アルカリ住専がさらに向上し、
長期信頼性がより向上することから好ましい。かがる脂
環式構造を有するエチレン性不飽和千ツマ−としては、
例えばインゲルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペ
ンテニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(
メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレ
ート、トリシクロデヵンゾメタノールゾ(メタ)アクリ
レート等が挙げられ、中でも特にイソボルニルアクリレ
ート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートが
好ましい。
上記(e)成分は、本発明の組成物に20〜70重清%
、特に25〜60i量%の範囲で配合することが好まし
い。
、特に25〜60i量%の範囲で配合することが好まし
い。
本発明に用いられる(d)成分の重合開始剤としては、
特に限定されず、例えば1−ヒドロキシシクロへキシル
フェニルケトン、2.2−ジメトキシ−2−ツエニルア
セトフエノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサ
ントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン
、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバソール
、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノ
ン、4.4’−ソメトキシペンゾフェノン、4.4’−
シアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン
ゾロビルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジ
ルジメチルケタール、1−(4−インゾロビルフェニル
)−2−ヒl’oキシー2−1+ルゾロノ9ンー1−オ
ン、2−ヒトo キシ−2−) f ルー 1−7エニ
ルプロノ9ンー1−オン、チオキサントン系化合物、2
−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル〕−2−
モルホリノーゾロノQンー1−オン、2、’4.6−ト
+))チルベンゾイルジフェニルフォスフインオキサイ
ド等が挙げられ、特に好1L、、<ul−ヒドロキシシ
クロへキシルフェニルケトン、ペンゾルジメチルケタノ
ール、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)7エ二ル
〕−2−モルホリノーゾロノQ7−1−オフ、2,4.
6−)リメチルペンゾイルゾフェニルフォスフィンオキ
サイド等の光重合開始剤が挙げられる。
特に限定されず、例えば1−ヒドロキシシクロへキシル
フェニルケトン、2.2−ジメトキシ−2−ツエニルア
セトフエノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサ
ントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン
、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバソール
、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノ
ン、4.4’−ソメトキシペンゾフェノン、4.4’−
シアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン
ゾロビルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジ
ルジメチルケタール、1−(4−インゾロビルフェニル
)−2−ヒl’oキシー2−1+ルゾロノ9ンー1−オ
ン、2−ヒトo キシ−2−) f ルー 1−7エニ
ルプロノ9ンー1−オン、チオキサントン系化合物、2
−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル〕−2−
モルホリノーゾロノQンー1−オン、2、’4.6−ト
+))チルベンゾイルジフェニルフォスフインオキサイ
ド等が挙げられ、特に好1L、、<ul−ヒドロキシシ
クロへキシルフェニルケトン、ペンゾルジメチルケタノ
ール、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)7エ二ル
〕−2−モルホリノーゾロノQ7−1−オフ、2,4.
6−)リメチルペンゾイルゾフェニルフォスフィンオキ
サイド等の光重合開始剤が挙げられる。
これらの光重合開始剤は1種又は2種以上を組合せて用
いられ、盛典に応じて本発明の効果を妨げない範囲でア
ミン系化合物等の増感剤(光重合促進剤)を併用するこ
とができる。また、光重合開始剤以外に熱重合開始剤を
用いることもできる。
いられ、盛典に応じて本発明の効果を妨げない範囲でア
ミン系化合物等の増感剤(光重合促進剤)を併用するこ
とができる。また、光重合開始剤以外に熱重合開始剤を
用いることもできる。
上記(d)成分の使用量は、通常、0.1〜10重t%
、好ましくは1〜5重量%である。
、好ましくは1〜5重量%である。
また、本発明の組成物には、(−)〜(d)成分以外に
添加剤として二?キシ樹脂、?リアミド、?リアミ ト
イミド、?リウレタン、ポリプタジエン、クロロゾレン
、?リエーテル、?リエステル、ペンタジェン誘導体、
スチレン/ブタジェン/スチレンブロック共重合体、ス
チレン/エチレン/ブチレン/メチレンズロック共重合
体、スチレン/インプレン/スチレンブロック共重合体
、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、フッ素系オリ
ゴマー、シリコーン系オリゴマー、?リスルフイド系オ
リゴマー等も配合できる。さらに酸化防止剤、着色剤、
紫外線吸収剤、シランカップリング剤、熱重合禁止剤、
レベリング剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィ
ラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、塗面改良剤等を配合
することもできる。
添加剤として二?キシ樹脂、?リアミド、?リアミ ト
イミド、?リウレタン、ポリプタジエン、クロロゾレン
、?リエーテル、?リエステル、ペンタジェン誘導体、
スチレン/ブタジェン/スチレンブロック共重合体、ス
チレン/エチレン/ブチレン/メチレンズロック共重合
体、スチレン/インプレン/スチレンブロック共重合体
、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、フッ素系オリ
ゴマー、シリコーン系オリゴマー、?リスルフイド系オ
リゴマー等も配合できる。さらに酸化防止剤、着色剤、
紫外線吸収剤、シランカップリング剤、熱重合禁止剤、
レベリング剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィ
ラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、塗面改良剤等を配合
することもできる。
このようにして調製される本発明の組成物の粘度は、通
常、1000〜20000 cp/25℃、好ましくは
2000〜10000cp / 25℃であり、硬化後
のヤング率は、通常、10〜90 kf/ mm2であ
る。
常、1000〜20000 cp/25℃、好ましくは
2000〜10000cp / 25℃であり、硬化後
のヤング率は、通常、10〜90 kf/ mm2であ
る。
以下本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本
発明は、これら実施例に限定されるものではない。
発明は、これら実施例に限定されるものではない。
製造例1
反応容器にトリシクロデカンジメタノールジアクリレー
ト(三菱油化波、ユぎマーUvS人1002)720
f、イソホロンゾイソシアイ:−ト1144y、シブチ
ル錫ゾラウレート4t、フェノチアゾンα49.及び2
.6−ゾーt−ブチル−4−メチルフェノール1fを仕
込んだ。反応容器を氷水で冷却しながら、これにヒドロ
キシエチルアクリレート863tを内温か20″Cを超
えない様にして、内液を攪拌しながら添加した。添加終
了後、内温を5〜20℃に保持し、1時間攪拌を継続し
た後、トリシクロデカンジメタノール160fを内温か
50℃を超えない様にして、内液を攪拌しながら添加し
た。添加終了後、内温を40〜50℃に保持し1時間攪
拌を継続した後、数平均分子量3000の?リテトラメ
チレングリコール(保土谷化学製PTG3000)18
35Fを内温を40〜50℃に保持して残留インシアネ
ートが0.1重量%以下になるまで攪拌を継続した。得
られたウレタンアクリレート(、)の溶液をPU−1と
する。PU−1のウレタンアクリレートとトリシクロデ
カンジメタノールジアクリレートの重量比は(100:
18)である。
ト(三菱油化波、ユぎマーUvS人1002)720
f、イソホロンゾイソシアイ:−ト1144y、シブチ
ル錫ゾラウレート4t、フェノチアゾンα49.及び2
.6−ゾーt−ブチル−4−メチルフェノール1fを仕
込んだ。反応容器を氷水で冷却しながら、これにヒドロ
キシエチルアクリレート863tを内温か20″Cを超
えない様にして、内液を攪拌しながら添加した。添加終
了後、内温を5〜20℃に保持し、1時間攪拌を継続し
た後、トリシクロデカンジメタノール160fを内温か
50℃を超えない様にして、内液を攪拌しながら添加し
た。添加終了後、内温を40〜50℃に保持し1時間攪
拌を継続した後、数平均分子量3000の?リテトラメ
チレングリコール(保土谷化学製PTG3000)18
35Fを内温を40〜50℃に保持して残留インシアネ
ートが0.1重量%以下になるまで攪拌を継続した。得
られたウレタンアクリレート(、)の溶液をPU−1と
する。PU−1のウレタンアクリレートとトリシクロデ
カンジメタノールジアクリレートの重量比は(100:
18)である。
製造例2
反応容器にトリシクロデカンジメタノールジアクリレー
ト720f、イソホロンソインシアネ−1−1255f
、シブチル錫ゾラウレート4f、フェノチアゾン0.4
2及び2.6−ノーt−7”チル−4−メチルフェノー
ル12を仕込んだ。反応容器を氷水で冷却しながら、こ
れにヒドロキシエチルアクリレート921ftl−内温
が20℃を超えない様にして内液を攪拌しながら添加し
た。添加終了後、内温を5〜20℃に保持し、1時間攪
拌を継続した後、トリシクロデカンゾメタノール160
vを内温か50°Cを超えない様にして、内液を攪拌し
ながら添加した。添加終了後、内温を40〜50℃に保
持し、1時間攪拌を継続した後、数平均分子量2000
のポリテトラメチレングリコール(三菱化成製、 PT
MG 2000 )1725Fを内温を40〜50℃に
保持して残留イソシアネートが0.1重量%以下になる
まで攪拌を継続した。
ト720f、イソホロンソインシアネ−1−1255f
、シブチル錫ゾラウレート4f、フェノチアゾン0.4
2及び2.6−ノーt−7”チル−4−メチルフェノー
ル12を仕込んだ。反応容器を氷水で冷却しながら、こ
れにヒドロキシエチルアクリレート921ftl−内温
が20℃を超えない様にして内液を攪拌しながら添加し
た。添加終了後、内温を5〜20℃に保持し、1時間攪
拌を継続した後、トリシクロデカンゾメタノール160
vを内温か50°Cを超えない様にして、内液を攪拌し
ながら添加した。添加終了後、内温を40〜50℃に保
持し、1時間攪拌を継続した後、数平均分子量2000
のポリテトラメチレングリコール(三菱化成製、 PT
MG 2000 )1725Fを内温を40〜50℃に
保持して残留イソシアネートが0.1重量%以下になる
まで攪拌を継続した。
得うれたウレタンアクリレート体)の溶・液をPU−2
とする。PU−2のウレタンアクリ・レートとトリシク
ロデカンジメタノールジアクリレートの重量比は(10
0:17.7)である。
とする。PU−2のウレタンアクリ・レートとトリシク
ロデカンジメタノールジアクリレートの重量比は(10
0:17.7)である。
製造例3
反応容器にトリシクロデカンゾメタノールゾアクリレー
)13772.インホロンジイソシアネート2310F
、ゾゾテル錫ゾラウレート7t1 フェノチアゾンα7
を及び2゜6−ゾーt−ブチル−4−メチルフェノール
2ft−仕込んだ。反応容器を氷水で冷却しながら、こ
れにヒドロキシエチル了クリレート16582を内温が
20’Cを超えないようにして、内液を攪拌しながら添
加した。添加終了後、内温を5〜20℃に保持し、1時
間攪拌を継続した後、トリシクロデカンジメタノール3
86fを内温か50℃を超えない様にして、内液を攪拌
しながら添加した。添加終了後、内温を40〜50℃に
保持し、1時間攪拌を継続した後、数平均分子量200
0のポリテトラメチレングリコール(三菱化成製。
)13772.インホロンジイソシアネート2310F
、ゾゾテル錫ゾラウレート7t1 フェノチアゾンα7
を及び2゜6−ゾーt−ブチル−4−メチルフェノール
2ft−仕込んだ。反応容器を氷水で冷却しながら、こ
れにヒドロキシエチル了クリレート16582を内温が
20’Cを超えないようにして、内液を攪拌しながら添
加した。添加終了後、内温を5〜20℃に保持し、1時
間攪拌を継続した後、トリシクロデカンジメタノール3
86fを内温か50℃を超えない様にして、内液を攪拌
しながら添加した。添加終了後、内温を40〜50℃に
保持し、1時間攪拌を継続した後、数平均分子量200
0のポリテトラメチレングリコール(三菱化成製。
PTMG 2000 ) 2288 tと数平均分子量
2000の10ピレンオキサイドとテトラヒドロフラン
の共重合ジオール(保土谷化学製。
2000の10ピレンオキサイドとテトラヒドロフラン
の共重合ジオール(保土谷化学製。
PPTG2000 ) 256 fをノ員に添加し内温
を40〜50℃に保持して残留インシアネートが01重
薫%以下になるまで攪拌を継続した。
を40〜50℃に保持して残留インシアネートが01重
薫%以下になるまで攪拌を継続した。
得られたウレタンアクリレート(a)の溶液ヲPU−3
とする。PU−3のウレタンアクリレートとトリシクロ
デカンジメタノールジアクリレートの重量比は(100
:20)である。
とする。PU−3のウレタンアクリレートとトリシクロ
デカンジメタノールジアクリレートの重量比は(100
:20)である。
実施例1〜3
表1に示す組成で各成分を混合し、40〜50℃で3時
間攪拌し、組成物を得た。
間攪拌し、組成物を得た。
以下余白
本1: IRGACUREl 84(チバガイギー社製
)1−ヒドロキシシクロへキシルフェニ ルケトン 車2 : IRGACURE90y(チバガイギー社製
)2−メチル−1−(4−(メチルチオ フェニル)〕〕2−モルホリノゾロノ9ンー1−オ ン3 : LUCIRIN LR8728(BASF社
製)2.4.6−ドリメチルベンゾイルゾ フエニルフオスフインオキサイト 本4 : IRGANOX1035(チバガイギー社製
)2.2−チオ−ジエチレンビス〔3− (3,5−シーt−ブチル−4−ヒド ロキシフェニル)fロビオネート〕 * 5 :TlNUVlN770(チバガイギー社製)
ビス(2,2,6,6−テトラメチル −4−ピペリゾル)セパケート 本6 : IRGANOX1076(チバガイギー社製
)オクタデシル−3−(3,5−シーを 一ブチルー4−ヒドロキシフェニル) ゾロビオネート 試験例 光フアイバー用線引装置を用いて各実施例で調製した組
成物を光ファイバーに線引き速度を変化させて塗布し、
さらに紫外線を照射することにより被覆光ファイバーを
得た。
)1−ヒドロキシシクロへキシルフェニ ルケトン 車2 : IRGACURE90y(チバガイギー社製
)2−メチル−1−(4−(メチルチオ フェニル)〕〕2−モルホリノゾロノ9ンー1−オ ン3 : LUCIRIN LR8728(BASF社
製)2.4.6−ドリメチルベンゾイルゾ フエニルフオスフインオキサイト 本4 : IRGANOX1035(チバガイギー社製
)2.2−チオ−ジエチレンビス〔3− (3,5−シーt−ブチル−4−ヒド ロキシフェニル)fロビオネート〕 * 5 :TlNUVlN770(チバガイギー社製)
ビス(2,2,6,6−テトラメチル −4−ピペリゾル)セパケート 本6 : IRGANOX1076(チバガイギー社製
)オクタデシル−3−(3,5−シーを 一ブチルー4−ヒドロキシフェニル) ゾロビオネート 試験例 光フアイバー用線引装置を用いて各実施例で調製した組
成物を光ファイバーに線引き速度を変化させて塗布し、
さらに紫外線を照射することにより被覆光ファイバーを
得た。
この被覆光ファイバーの芯材の平均光ファイバー径は約
125μm被覆光ファイバーの外径は210μmであっ
た。
125μm被覆光ファイバーの外径は210μmであっ
た。
くグル分率の測定〉
被覆光ファイバーt−4c!!Lの長さに切断し、重量
を秤量した後初期重量をWoとする。ソックスレー抽出
装置で、メチルエチルケトンを抽出剤として用い12時
間抽出した。
を秤量した後初期重量をWoとする。ソックスレー抽出
装置で、メチルエチルケトンを抽出剤として用い12時
間抽出した。
その後、被覆光ファイバーを真空乾燥機にて、50℃で
12時間乾燥した後、室温に1時間放置した後、重量を
秤量した(乾燥重量をWlとする)。
12時間乾燥した後、室温に1時間放置した後、重量を
秤量した(乾燥重量をWlとする)。
更にその被覆光ファイバーを700℃の電気炉で30分
間焼成し、被覆層を除去し、光ファイバーのみを回収し
、重量を秤量した(光フアイバー重量t″WFとする)
。
間焼成し、被覆層を除去し、光ファイバーのみを回収し
、重量を秤量した(光フアイバー重量t″WFとする)
。
被覆光ファイバーの被覆層のゲル分率は下記式から算出
した。
した。
0−WF
く引張物性の測定〉
被覆光ファイバーから光フアイバーストリッツ9−(古
河電気工業製、 FrTgt、5−21)を用いて、光
ファイバー(芯材)のみを抜き取り1cIILの長さの
中空の被覆を得た。この中空の被覆のそれぞれの端部に
金具を中空の被覆が金具の平面部に垂直となるように接
着剤で接着した。次いで、中空の被覆に接着した金具を
引張シ試験機のチャックにはさみ、引張り試験を行なっ
た。なお、引張り試験においてヤング率は、引張り速度
I n+rn / IItin 、破断伸び及び破断応
力は50 C1n / mi nの引張シ速度で試験し
た値から求めた。結果を表2に示す。
河電気工業製、 FrTgt、5−21)を用いて、光
ファイバー(芯材)のみを抜き取り1cIILの長さの
中空の被覆を得た。この中空の被覆のそれぞれの端部に
金具を中空の被覆が金具の平面部に垂直となるように接
着剤で接着した。次いで、中空の被覆に接着した金具を
引張シ試験機のチャックにはさみ、引張り試験を行なっ
た。なお、引張り試験においてヤング率は、引張り速度
I n+rn / IItin 、破断伸び及び破断応
力は50 C1n / mi nの引張シ速度で試験し
た値から求めた。結果を表2に示す。
本発明の組成物は、低粘度で硬化速度が高くしかも硬化
物が強靭であるため、光ファイバーのハード材およびバ
ンドリング材として潰れたものである。
物が強靭であるため、光ファイバーのハード材およびバ
ンドリング材として潰れたものである。
以上
出願人 デソト インコーボレーテツド日本合成ゴム
株式会社
株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)ポリオキシアルキレン構造を有するウレタン
(メタ)アクリレート (b)トリシクロデカン構造を有するウレタン(メタ)
アクリレート (c)反応性希釈剤及び (d)重合開始剤 を含有することを特徴とする液状硬化性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63226228A JP2610491B2 (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | 液状硬化性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63226228A JP2610491B2 (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | 液状硬化性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0275614A true JPH0275614A (ja) | 1990-03-15 |
JP2610491B2 JP2610491B2 (ja) | 1997-05-14 |
Family
ID=16841902
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63226228A Expired - Lifetime JP2610491B2 (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | 液状硬化性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2610491B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0339314A (ja) * | 1989-06-27 | 1991-02-20 | Borden Inc | 放射線硬化可能なマトリックス材料、該材料を含む光ファイバリボン及び該光ファイバリボンの調製方法 |
JP2001042184A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-02-16 | Alcatel | 最適な取扱い特性を有する光ファイバリボンマトリックス材料 |
JP2002274895A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-25 | Jsr Corp | 光ファイバ用硬化性樹脂組成物 |
JP2006193596A (ja) * | 2005-01-13 | 2006-07-27 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 樹脂成形体、その製造方法、及びその用途 |
JP2007034069A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Nidec Copal Corp | レンズ鏡筒 |
JP2009263672A (ja) * | 2001-01-12 | 2009-11-12 | Dsm Ip Assets Bv | 照射硬化可能な組成物およびそれによってコーティングされた生成物 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63233907A (ja) * | 1987-03-23 | 1988-09-29 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 歯科用材料 |
-
1988
- 1988-09-09 JP JP63226228A patent/JP2610491B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63233907A (ja) * | 1987-03-23 | 1988-09-29 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 歯科用材料 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0339314A (ja) * | 1989-06-27 | 1991-02-20 | Borden Inc | 放射線硬化可能なマトリックス材料、該材料を含む光ファイバリボン及び該光ファイバリボンの調製方法 |
JP2001042184A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-02-16 | Alcatel | 最適な取扱い特性を有する光ファイバリボンマトリックス材料 |
JP2009263672A (ja) * | 2001-01-12 | 2009-11-12 | Dsm Ip Assets Bv | 照射硬化可能な組成物およびそれによってコーティングされた生成物 |
JP2002274895A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-25 | Jsr Corp | 光ファイバ用硬化性樹脂組成物 |
JP2006193596A (ja) * | 2005-01-13 | 2006-07-27 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 樹脂成形体、その製造方法、及びその用途 |
JP4690053B2 (ja) * | 2005-01-13 | 2011-06-01 | 日本合成化学工業株式会社 | 樹脂成形体、その製造方法、及びその用途 |
JP2007034069A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Nidec Copal Corp | レンズ鏡筒 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2610491B2 (ja) | 1997-05-14 |
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