JPH0273060A - インドール系化合物の製造法 - Google Patents
インドール系化合物の製造法Info
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- JPH0273060A JPH0273060A JP22441488A JP22441488A JPH0273060A JP H0273060 A JPH0273060 A JP H0273060A JP 22441488 A JP22441488 A JP 22441488A JP 22441488 A JP22441488 A JP 22441488A JP H0273060 A JPH0273060 A JP H0273060A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、医薬、農薬等の分野において、重要な製）告
中間体となるインドール−７−カルホン酸エステル類の
製造法に関する。
中間体となるインドール−７−カルホン酸エステル類の
製造法に関する。
［従来の技術］
インドール−７−カルボン
リン−７−カルボン酸エステル類（これらを７−位にカ
ルボン酸エステル基を有するインドール系化合物という
ことがある）は、医薬、農薬等の分野においてその製造
原料として極めて重要である。そして、これまで知られ
ている製造法としては、１−アセチルインドリンを出発
原料として５−位に臭素化を行った後、７−位をニトロ
化し、還元、脱臭素を行い、７−ジアツインドリンとし
た後、加水分解して、メチルエステル化することにより
インドリン−７−カルボン酸メチルエステルを合成する
方法がある（Ｊ、 Ｏｒｑ、 Ｃｈｅｍ、、２０．１５
３８（１９５５）、 Ｔｅｔｒａｔ＋ｅｄｒｎ、 ２３
．３８２３（１９６７））。
ルボン酸エステル基を有するインドール系化合物という
ことがある）は、医薬、農薬等の分野においてその製造
原料として極めて重要である。そして、これまで知られ
ている製造法としては、１−アセチルインドリンを出発
原料として５−位に臭素化を行った後、７−位をニトロ
化し、還元、脱臭素を行い、７−ジアツインドリンとし
た後、加水分解して、メチルエステル化することにより
インドリン−７−カルボン酸メチルエステルを合成する
方法がある（Ｊ、 Ｏｒｑ、 Ｃｈｅｍ、、２０．１５
３８（１９５５）、 Ｔｅｔｒａｔ＋ｅｄｒｎ、 ２３
．３８２３（１９６７））。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、上記の方法では、１−アセチルインドリ
ンからの工程数が長く、また５−位に置換基を入れた後
に７−位に置換基を導入するという反応選択性に乏しい
方法を使用していることから、経演的に効率のよいもの
ではない。
ンからの工程数が長く、また５−位に置換基を入れた後
に７−位に置換基を導入するという反応選択性に乏しい
方法を使用していることから、経演的に効率のよいもの
ではない。
このような見地から、本発明者らは、上記の問題点を解
決すべく鋭意研究を重ねた結果、７−位にＴＩ（ＯＣＯ
ＣＦ３ ） ２塁を有する化合物を使用し、１工程で収
率良く、しかも、位置選択的にインドリン−７−カルボ
ン酸エステル類を製造する方法を見い出し、本発明に到
達した。
決すべく鋭意研究を重ねた結果、７−位にＴＩ（ＯＣＯ
ＣＦ３ ） ２塁を有する化合物を使用し、１工程で収
率良く、しかも、位置選択的にインドリン−７−カルボ
ン酸エステル類を製造する方法を見い出し、本発明に到
達した。
従って、本発明の目的は、インドリンより収率良くかつ
短い工程で位置選択的にインドリン−７−カルボン酸エ
ステル類おるいはインドール−７−カルホン酸エステル
類を製造する方法を提供するものでおる。
短い工程で位置選択的にインドリン−７−カルボン酸エ
ステル類おるいはインドール−７−カルホン酸エステル
類を製造する方法を提供するものでおる。
［課題を解決するための手段］
すなわち、本発明は、下記一般式（２）（但し、式中Ｒ
１は−ＣＯＲ３であってＲ３は１価の基を示し、Ｒ２は
置換基でおり、ｎはＯ又は１〜５の整数を示す）で表さ
れる化合物を酢酸パラジウム及び低級アルコール溶媒の
存在下に一酸化炭素雰囲気中で反応させ、下記一般式（
１ａ）又は（１ｂ） （１ａ＞ （ｌｂ）（但し、式中
Ｒ１は水素又は−ＣＯＲ３であって、Ｒ２、Ｒ３及びｎ
は萌述と同じであり、Ｒ４はアルキル基を示す）で表さ
れる７−位にカルボン酸エステル基を有するインドール
系化合物の製造法でおる。
１は−ＣＯＲ３であってＲ３は１価の基を示し、Ｒ２は
置換基でおり、ｎはＯ又は１〜５の整数を示す）で表さ
れる化合物を酢酸パラジウム及び低級アルコール溶媒の
存在下に一酸化炭素雰囲気中で反応させ、下記一般式（
１ａ）又は（１ｂ） （１ａ＞ （ｌｂ）（但し、式中
Ｒ１は水素又は−ＣＯＲ３であって、Ｒ２、Ｒ３及びｎ
は萌述と同じであり、Ｒ４はアルキル基を示す）で表さ
れる７−位にカルボン酸エステル基を有するインドール
系化合物の製造法でおる。
本発明方法において、原料として使用される一般式（２
）の化合物は、インドリン骨格の７−位にタリウムピス
トリフルオロアセテート基が置換した化合物で必って、
１−位に置換基を有し、２−〜６−位には置換基を有し
ても有しなくともよい。そしで、その１−位の置換基Ｒ
は−ＣＯＲ３で示されるカルボニル基を有する１価の基
でおり、Ｒ３としては水素、低級アルキル基、アリール
基、水酸基、アルコキシ基又はアミン基等であり、好ま
しくは炭素数１〜３のアルキル基、フェニル基、炭素数
１〜３のアルキル基が置換したアリール基、炭素数１〜
３のアルコキシ基又はアミノ基である。また、２−〜６
−位の置換基Ｒ２は低級アルキル基又はアリール基等の
１価の基であり、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基
、又は、フェニル基である。
）の化合物は、インドリン骨格の７−位にタリウムピス
トリフルオロアセテート基が置換した化合物で必って、
１−位に置換基を有し、２−〜６−位には置換基を有し
ても有しなくともよい。そしで、その１−位の置換基Ｒ
は−ＣＯＲ３で示されるカルボニル基を有する１価の基
でおり、Ｒ３としては水素、低級アルキル基、アリール
基、水酸基、アルコキシ基又はアミン基等であり、好ま
しくは炭素数１〜３のアルキル基、フェニル基、炭素数
１〜３のアルキル基が置換したアリール基、炭素数１〜
３のアルコキシ基又はアミノ基である。また、２−〜６
−位の置換基Ｒ２は低級アルキル基又はアリール基等の
１価の基であり、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基
、又は、フェニル基である。
この一般式（２）で示される化合物の合成は、特に制限
されるものではないが、例えば、Ｃｈｅｍ、 Ｐｈａｒ
ｍ、 Ｂｕｌｌ、、 ３５．３１４６（１９８７）に２
説された方法及びの反応条件で行うことができる。
されるものではないが、例えば、Ｃｈｅｍ、 Ｐｈａｒ
ｍ、 Ｂｕｌｌ、、 ３５．３１４６（１９８７）に２
説された方法及びの反応条件で行うことができる。
また、一般式（１ａ）又は（１ｂ）で示される目的物は
、インドール骨格の７−位にアルコキシ力ルホニル基が
置換した化合物であって、１−位及び２−〜６−位にそ
れぞれ前記と同様の置換基を有することかできる。しか
しながら、１−位の置換基Ｒ１は水素で必ってもよい。
、インドール骨格の７−位にアルコキシ力ルホニル基が
置換した化合物であって、１−位及び２−〜６−位にそ
れぞれ前記と同様の置換基を有することかできる。しか
しながら、１−位の置換基Ｒ１は水素で必ってもよい。
本発明方法にあける反応は、反応基質である一般式（２
）のタリウム化合物と酢酸パラジウムにより、反応系内
で二価のパラジウムがタリウム−炭素結合間に作用して
起きるトランスメタレーション反応によって交換反応が
生じ、続いて一酸化炭素挿入反応、エステル化反応が逐
次的に起って進むものである。酢酸パラジウムの使用量
は、反応基質に対し通常０．０５〜０．５当量、好まし
くは０．１〜０−１３当量程度がよい。反応溶媒として
使用する低級アルコール類としては、メタツル、エチル
アルコール、ロープロピルアルコール、１ｓｏ−プロピ
ルアルコール等が挙げられるが、特にメタノール、エチ
ルアルコールがよく、その使用量は５〜３０重量倍、好
ましくは１０〜１５Φ量倍かよい。反応温度は６０〜１
２０℃が好ましく、特に８０’Ｃ程度がよいので、反応
溶媒として使用するアルコール類の種類によっては若干
の加圧下で行なわれる。反応時間は触媒サイクルの終点
であるパラジウム（０）が析出するまでの時間であり、
一般的には１〜６時間程度であるが、反応基質の種類に
よって変わる。
）のタリウム化合物と酢酸パラジウムにより、反応系内
で二価のパラジウムがタリウム−炭素結合間に作用して
起きるトランスメタレーション反応によって交換反応が
生じ、続いて一酸化炭素挿入反応、エステル化反応が逐
次的に起って進むものである。酢酸パラジウムの使用量
は、反応基質に対し通常０．０５〜０．５当量、好まし
くは０．１〜０−１３当量程度がよい。反応溶媒として
使用する低級アルコール類としては、メタツル、エチル
アルコール、ロープロピルアルコール、１ｓｏ−プロピ
ルアルコール等が挙げられるが、特にメタノール、エチ
ルアルコールがよく、その使用量は５〜３０重量倍、好
ましくは１０〜１５Φ量倍かよい。反応温度は６０〜１
２０℃が好ましく、特に８０’Ｃ程度がよいので、反応
溶媒として使用するアルコール類の種類によっては若干
の加圧下で行なわれる。反応時間は触媒サイクルの終点
であるパラジウム（０）が析出するまでの時間であり、
一般的には１〜６時間程度であるが、反応基質の種類に
よって変わる。
また、この反応系内に触媒としてクロムヘキサカルボニ
ル鏡体を添加することにより、インドリン−７−カルボ
ン酸エステル類の収率向上が出来る。
ル鏡体を添加することにより、インドリン−７−カルボ
ン酸エステル類の収率向上が出来る。
ざらに、本発明方法において、反応系内に添加剤として
クロムヘキサカルボニル錯体あるいはモリブデンヘキサ
カルボニル鏡体を添加することにより、この反応系内の
一酸化炭素分圧を高めることができ、これによって反応
を容易に進行させることができ、インドリン−７−カル
ボン酸エステル類の収率を向上させることができる。そ
の使用量は０．１〜１．０当量が好ましい。
クロムヘキサカルボニル錯体あるいはモリブデンヘキサ
カルボニル鏡体を添加することにより、この反応系内の
一酸化炭素分圧を高めることができ、これによって反応
を容易に進行させることができ、インドリン−７−カル
ボン酸エステル類の収率を向上させることができる。そ
の使用量は０．１〜１．０当量が好ましい。
反応終了後、不溶性沈澱物を濾過した後、濾液を減圧化
で留去して得られた粗生成物を再結晶あるいはカラムク
ロマトグラフィーにより精製する。
で留去して得られた粗生成物を再結晶あるいはカラムク
ロマトグラフィーにより精製する。
このようにして先ず生成されるのはインドリン−７−カ
ルボン酸エステル類であるが、このインドリン−７−カ
ルホン酸エステル類は、これを酸化脱水素反応させるこ
とにより容易にインドール−７−カルボン酸エステル類
に変わるので、このインドリン−７−カルホン酸エステ
ル類からインドール７−カルボン酸エステル類を容易に
製造することかできる。
ルボン酸エステル類であるが、このインドリン−７−カ
ルホン酸エステル類は、これを酸化脱水素反応させるこ
とにより容易にインドール−７−カルボン酸エステル類
に変わるので、このインドリン−７−カルホン酸エステ
ル類からインドール７−カルボン酸エステル類を容易に
製造することかできる。
［実施例］
以下、実施例に基づいて、本発明方法を具体的に説明す
るが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例
に限定されるものではない。
るが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例
に限定されるものではない。
実施例１
酸化タリウム２５９ （０，０５５モル）にトリフロロ
酢酸１４８ ｇ （１，２９８モル）とを加え、２４時
間加熱還流下に反応させ、次いで冷却して不溶分を濾過
して除去した。得られた濾液に１−アセチルインドリン
１２ 、７ ｇ（０，０７９モル）を加え、２４時間室
温下に攪拌して反応させた。反応終了後、減圧下に溶媒
を留去し、得られた結晶をトリフロロ酢酸３０ｇで洗浄
濾過し、ざらに、５％メタノール／ジクロルメタン溶液
５０ｍで洗浄濾過し、（１−アセチル−２，３−ジヒド
ロインドール−７−イール）タリウムピストリフルオロ
アセテート３９．５ｇ（収率８５％、０．０６７モル）
を得た。
酢酸１４８ ｇ （１，２９８モル）とを加え、２４時
間加熱還流下に反応させ、次いで冷却して不溶分を濾過
して除去した。得られた濾液に１−アセチルインドリン
１２ 、７ ｇ（０，０７９モル）を加え、２４時間室
温下に攪拌して反応させた。反応終了後、減圧下に溶媒
を留去し、得られた結晶をトリフロロ酢酸３０ｇで洗浄
濾過し、ざらに、５％メタノール／ジクロルメタン溶液
５０ｍで洗浄濾過し、（１−アセチル−２，３−ジヒド
ロインドール−７−イール）タリウムピストリフルオロ
アセテート３９．５ｇ（収率８５％、０．０６７モル）
を得た。
このようにして得られた原料の（１−アセチル２．３−
ジヒドロインドール−７−イル）タリウムピストリフル
オロアセテート２ Ｂ ９ 、４ｎｌ’ｊ （０，４９
ミリモル）をメタノール３．０戒に溶解し、これにのク
ロロヘキサカルボニル錯体５４ 、 ＯＩｎ’ｊ （０
，２５ミリモル）と酢酸パラジウム２２ 、０＃Ｉｇ（
０，０９８ミリモル）とを加え、−酸化炭素雰囲気中８
０’Ｃで３時間撹拌下に反応させた。反応終了後、冷却
して不溶性沈澱物を濾過し、得られた濾液を減圧下に濃
縮して粗生成物を得た。このようにして得られた粗生成
物を塩化エチレン−メタノール（９９：１゜Ｖ／Ｖ）混
合溶媒を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し、溶出類に順次７−メドキシカルポ
ニルインドリン９．４１ｎｇ＜収率１１％）との１−ア
セチル−７−メドキシカルボニルインドリン 得られた１−アセチル−７−メトキシカルボニルインド
リンについて、ざらにメタノールを使用して再結晶し、
無色プリズム状の結晶を得た。得られた結晶について、
その融点、赤外吸収スペクトル、１Ｈ−Ｎ Ｍ Ｒ、質
量分析及び元素分析を行った。結果は下記の通りである
。
ジヒドロインドール−７−イル）タリウムピストリフル
オロアセテート２ Ｂ ９ 、４ｎｌ’ｊ （０，４９
ミリモル）をメタノール３．０戒に溶解し、これにのク
ロロヘキサカルボニル錯体５４ 、 ＯＩｎ’ｊ （０
，２５ミリモル）と酢酸パラジウム２２ 、０＃Ｉｇ（
０，０９８ミリモル）とを加え、−酸化炭素雰囲気中８
０’Ｃで３時間撹拌下に反応させた。反応終了後、冷却
して不溶性沈澱物を濾過し、得られた濾液を減圧下に濃
縮して粗生成物を得た。このようにして得られた粗生成
物を塩化エチレン−メタノール（９９：１゜Ｖ／Ｖ）混
合溶媒を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し、溶出類に順次７−メドキシカルポ
ニルインドリン９．４１ｎｇ＜収率１１％）との１−ア
セチル−７−メドキシカルボニルインドリン 得られた１−アセチル−７−メトキシカルボニルインド
リンについて、ざらにメタノールを使用して再結晶し、
無色プリズム状の結晶を得た。得られた結晶について、
その融点、赤外吸収スペクトル、１Ｈ−Ｎ Ｍ Ｒ、質
量分析及び元素分析を行った。結果は下記の通りである
。
融点：１０３〜１０４℃
ＩＲ（にＢｒ） ： １７２０， １６５８， １４３
６． １３９８ｃｍ−１’Ｈ−ＮＨＲ（ＣＤＣｌ２）δ
：２．２１（３Ｈ， Ｓ）、 ３．０９（２Ｈ， ｔ。
６． １３９８ｃｍ−１’Ｈ−ＮＨＲ（ＣＤＣｌ２）δ
：２．２１（３Ｈ， Ｓ）、 ３．０９（２Ｈ， ｔ。
Ｊ＝８Ｈｚ）、 ３．８６（３Ｎ， Ｓ）、 ４．１３
（２Ｈ， ｔ， Ｊ＝８Ｈｚ）。
（２Ｈ， ｔ， Ｊ＝８Ｈｚ）。
７、０３（ＩＮ， ｔ， Ｊ＝７．５Ｈｚ）、 ７．２
７（ＩＨ， ｂｒ−ｄ。
７（ＩＨ， ｂｒ−ｄ。
Ｊ＝７．５Ｈｚ）、 ７．４３（ＩＨ， ｂｒ−ｄ，
Ｊ＝７．５Ｈｚ）ＭＳ（ｍ／ｚ）： ２１９［Ｈ ］ 元素分析値（Ｃ１２Ｈ１３Ｎ０３として）計篩値：Ｃ：
６５．７７； Ｈ：５．９７； Ｎ：６．８８実験値：
Ｃ：６５． ７７；旧５．９８； Ｎ：６．４９実施
例２〜５ 酢酸パラジウム（Ｐｄ（ＯＡＣ）２ ）と添加剤の種類
及び使用量を第１表に示すように変え、上記実施例１と
同様にして７−メドキシカルポニルインドリン（化合物
Ａ）と１−アセチル−７−メドキシカルポニルインドリ
ン（化合物Ｂ）を合成し、その収率を求めた。結果を第
１表に示す。
Ｊ＝７．５Ｈｚ）ＭＳ（ｍ／ｚ）： ２１９［Ｈ ］ 元素分析値（Ｃ１２Ｈ１３Ｎ０３として）計篩値：Ｃ：
６５．７７； Ｈ：５．９７； Ｎ：６．８８実験値：
Ｃ：６５． ７７；旧５．９８； Ｎ：６．４９実施
例２〜５ 酢酸パラジウム（Ｐｄ（ＯＡＣ）２ ）と添加剤の種類
及び使用量を第１表に示すように変え、上記実施例１と
同様にして７−メドキシカルポニルインドリン（化合物
Ａ）と１−アセチル−７−メドキシカルポニルインドリ
ン（化合物Ｂ）を合成し、その収率を求めた。結果を第
１表に示す。
経済的に有利である。
Claims (1)
- （１）下記一般式（２） ▲数式、化学式、表等があります▼（２） （但し、式中Ｒ＿１は−ＣＯＲ＿３であってＲ＿３は１
価の基を示し、Ｒ＿２は置換基であり、ｎは０又は１〜
５の整数を示す）で表される化合物を酢酸パラジウム及
び低級アルコール溶媒の存在下に一酸化炭素雰囲気中で
反応させ、下記一般式（１ａ）又は（１ｂ）▲数式、化
学式、表等があります▼（１ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（１ｂ） （但し、式中Ｒ＿１は水素又は−ＣＯＲ＿３であって、
Ｒ＿２、Ｒ＿３及びｎは前述と同じであり、Ｒ＿４はア
ルキル基を示す）で表される化合物を製造することを特
徴とする７−位にカルボン酸エステル基を有するインド
ール系化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22441488A JPH0273060A (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | インドール系化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22441488A JPH0273060A (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | インドール系化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0273060A true JPH0273060A (ja) | 1990-03-13 |
Family
ID=16813400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22441488A Pending JPH0273060A (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | インドール系化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0273060A (ja) |
-
1988
- 1988-09-09 JP JP22441488A patent/JPH0273060A/ja active Pending
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