JPH0273060A - インドール系化合物の製造法 - Google Patents
インドール系化合物の製造法Info
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Landscapes
- Indole Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、医薬、農薬等の分野において、重要な製)告
中間体となるインドール−7−カルホン酸エステル類の
製造法に関する。
中間体となるインドール−7−カルホン酸エステル類の
製造法に関する。
[従来の技術]
インドール−7−カルボン
リン−7−カルボン酸エステル類(これらを7−位にカ
ルボン酸エステル基を有するインドール系化合物という
ことがある)は、医薬、農薬等の分野においてその製造
原料として極めて重要である。そして、これまで知られ
ている製造法としては、1−アセチルインドリンを出発
原料として5−位に臭素化を行った後、7−位をニトロ
化し、還元、脱臭素を行い、7−ジアツインドリンとし
た後、加水分解して、メチルエステル化することにより
インドリン−7−カルボン酸メチルエステルを合成する
方法がある(J、 Orq、 Chem、、20.15
38(1955)、 Tetrat+edrn、 23
.3823(1967))。
ルボン酸エステル基を有するインドール系化合物という
ことがある)は、医薬、農薬等の分野においてその製造
原料として極めて重要である。そして、これまで知られ
ている製造法としては、1−アセチルインドリンを出発
原料として5−位に臭素化を行った後、7−位をニトロ
化し、還元、脱臭素を行い、7−ジアツインドリンとし
た後、加水分解して、メチルエステル化することにより
インドリン−7−カルボン酸メチルエステルを合成する
方法がある(J、 Orq、 Chem、、20.15
38(1955)、 Tetrat+edrn、 23
.3823(1967))。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上記の方法では、1−アセチルインドリ
ンからの工程数が長く、また5−位に置換基を入れた後
に7−位に置換基を導入するという反応選択性に乏しい
方法を使用していることから、経演的に効率のよいもの
ではない。
ンからの工程数が長く、また5−位に置換基を入れた後
に7−位に置換基を導入するという反応選択性に乏しい
方法を使用していることから、経演的に効率のよいもの
ではない。
このような見地から、本発明者らは、上記の問題点を解
決すべく鋭意研究を重ねた結果、7−位にTI(OCO
CF3 ) 2塁を有する化合物を使用し、1工程で収
率良く、しかも、位置選択的にインドリン−7−カルボ
ン酸エステル類を製造する方法を見い出し、本発明に到
達した。
決すべく鋭意研究を重ねた結果、7−位にTI(OCO
CF3 ) 2塁を有する化合物を使用し、1工程で収
率良く、しかも、位置選択的にインドリン−7−カルボ
ン酸エステル類を製造する方法を見い出し、本発明に到
達した。
従って、本発明の目的は、インドリンより収率良くかつ
短い工程で位置選択的にインドリン−7−カルボン酸エ
ステル類おるいはインドール−7−カルホン酸エステル
類を製造する方法を提供するものでおる。
短い工程で位置選択的にインドリン−7−カルボン酸エ
ステル類おるいはインドール−7−カルホン酸エステル
類を製造する方法を提供するものでおる。
[課題を解決するための手段]
すなわち、本発明は、下記一般式(2)(但し、式中R
1は−COR3であってR3は1価の基を示し、R2は
置換基でおり、nはO又は1〜5の整数を示す)で表さ
れる化合物を酢酸パラジウム及び低級アルコール溶媒の
存在下に一酸化炭素雰囲気中で反応させ、下記一般式(
1a)又は(1b) (1a> (lb)(但し、式中
R1は水素又は−COR3であって、R2、R3及びn
は萌述と同じであり、R4はアルキル基を示す)で表さ
れる7−位にカルボン酸エステル基を有するインドール
系化合物の製造法でおる。
1は−COR3であってR3は1価の基を示し、R2は
置換基でおり、nはO又は1〜5の整数を示す)で表さ
れる化合物を酢酸パラジウム及び低級アルコール溶媒の
存在下に一酸化炭素雰囲気中で反応させ、下記一般式(
1a)又は(1b) (1a> (lb)(但し、式中
R1は水素又は−COR3であって、R2、R3及びn
は萌述と同じであり、R4はアルキル基を示す)で表さ
れる7−位にカルボン酸エステル基を有するインドール
系化合物の製造法でおる。
本発明方法において、原料として使用される一般式(2
)の化合物は、インドリン骨格の7−位にタリウムピス
トリフルオロアセテート基が置換した化合物で必って、
1−位に置換基を有し、2−〜6−位には置換基を有し
ても有しなくともよい。そしで、その1−位の置換基R
は−COR3で示されるカルボニル基を有する1価の基
でおり、R3としては水素、低級アルキル基、アリール
基、水酸基、アルコキシ基又はアミン基等であり、好ま
しくは炭素数1〜3のアルキル基、フェニル基、炭素数
1〜3のアルキル基が置換したアリール基、炭素数1〜
3のアルコキシ基又はアミノ基である。また、2−〜6
−位の置換基R2は低級アルキル基又はアリール基等の
1価の基であり、好ましくは炭素数1〜3のアルキル基
、又は、フェニル基である。
)の化合物は、インドリン骨格の7−位にタリウムピス
トリフルオロアセテート基が置換した化合物で必って、
1−位に置換基を有し、2−〜6−位には置換基を有し
ても有しなくともよい。そしで、その1−位の置換基R
は−COR3で示されるカルボニル基を有する1価の基
でおり、R3としては水素、低級アルキル基、アリール
基、水酸基、アルコキシ基又はアミン基等であり、好ま
しくは炭素数1〜3のアルキル基、フェニル基、炭素数
1〜3のアルキル基が置換したアリール基、炭素数1〜
3のアルコキシ基又はアミノ基である。また、2−〜6
−位の置換基R2は低級アルキル基又はアリール基等の
1価の基であり、好ましくは炭素数1〜3のアルキル基
、又は、フェニル基である。
この一般式(2)で示される化合物の合成は、特に制限
されるものではないが、例えば、Chem、 Phar
m、 Bull、、 35.3146(1987)に2
説された方法及びの反応条件で行うことができる。
されるものではないが、例えば、Chem、 Phar
m、 Bull、、 35.3146(1987)に2
説された方法及びの反応条件で行うことができる。
また、一般式(1a)又は(1b)で示される目的物は
、インドール骨格の7−位にアルコキシ力ルホニル基が
置換した化合物であって、1−位及び2−〜6−位にそ
れぞれ前記と同様の置換基を有することかできる。しか
しながら、1−位の置換基R1は水素で必ってもよい。
、インドール骨格の7−位にアルコキシ力ルホニル基が
置換した化合物であって、1−位及び2−〜6−位にそ
れぞれ前記と同様の置換基を有することかできる。しか
しながら、1−位の置換基R1は水素で必ってもよい。
本発明方法にあける反応は、反応基質である一般式(2
)のタリウム化合物と酢酸パラジウムにより、反応系内
で二価のパラジウムがタリウム−炭素結合間に作用して
起きるトランスメタレーション反応によって交換反応が
生じ、続いて一酸化炭素挿入反応、エステル化反応が逐
次的に起って進むものである。酢酸パラジウムの使用量
は、反応基質に対し通常0.05〜0.5当量、好まし
くは0.1〜0−13当量程度がよい。反応溶媒として
使用する低級アルコール類としては、メタツル、エチル
アルコール、ロープロピルアルコール、1so−プロピ
ルアルコール等が挙げられるが、特にメタノール、エチ
ルアルコールがよく、その使用量は5〜30重量倍、好
ましくは10〜15Φ量倍かよい。反応温度は60〜1
20℃が好ましく、特に80’C程度がよいので、反応
溶媒として使用するアルコール類の種類によっては若干
の加圧下で行なわれる。反応時間は触媒サイクルの終点
であるパラジウム(0)が析出するまでの時間であり、
一般的には1〜6時間程度であるが、反応基質の種類に
よって変わる。
)のタリウム化合物と酢酸パラジウムにより、反応系内
で二価のパラジウムがタリウム−炭素結合間に作用して
起きるトランスメタレーション反応によって交換反応が
生じ、続いて一酸化炭素挿入反応、エステル化反応が逐
次的に起って進むものである。酢酸パラジウムの使用量
は、反応基質に対し通常0.05〜0.5当量、好まし
くは0.1〜0−13当量程度がよい。反応溶媒として
使用する低級アルコール類としては、メタツル、エチル
アルコール、ロープロピルアルコール、1so−プロピ
ルアルコール等が挙げられるが、特にメタノール、エチ
ルアルコールがよく、その使用量は5〜30重量倍、好
ましくは10〜15Φ量倍かよい。反応温度は60〜1
20℃が好ましく、特に80’C程度がよいので、反応
溶媒として使用するアルコール類の種類によっては若干
の加圧下で行なわれる。反応時間は触媒サイクルの終点
であるパラジウム(0)が析出するまでの時間であり、
一般的には1〜6時間程度であるが、反応基質の種類に
よって変わる。
また、この反応系内に触媒としてクロムヘキサカルボニ
ル鏡体を添加することにより、インドリン−7−カルボ
ン酸エステル類の収率向上が出来る。
ル鏡体を添加することにより、インドリン−7−カルボ
ン酸エステル類の収率向上が出来る。
ざらに、本発明方法において、反応系内に添加剤として
クロムヘキサカルボニル錯体あるいはモリブデンヘキサ
カルボニル鏡体を添加することにより、この反応系内の
一酸化炭素分圧を高めることができ、これによって反応
を容易に進行させることができ、インドリン−7−カル
ボン酸エステル類の収率を向上させることができる。そ
の使用量は0.1〜1.0当量が好ましい。
クロムヘキサカルボニル錯体あるいはモリブデンヘキサ
カルボニル鏡体を添加することにより、この反応系内の
一酸化炭素分圧を高めることができ、これによって反応
を容易に進行させることができ、インドリン−7−カル
ボン酸エステル類の収率を向上させることができる。そ
の使用量は0.1〜1.0当量が好ましい。
反応終了後、不溶性沈澱物を濾過した後、濾液を減圧化
で留去して得られた粗生成物を再結晶あるいはカラムク
ロマトグラフィーにより精製する。
で留去して得られた粗生成物を再結晶あるいはカラムク
ロマトグラフィーにより精製する。
このようにして先ず生成されるのはインドリン−7−カ
ルボン酸エステル類であるが、このインドリン−7−カ
ルホン酸エステル類は、これを酸化脱水素反応させるこ
とにより容易にインドール−7−カルボン酸エステル類
に変わるので、このインドリン−7−カルホン酸エステ
ル類からインドール7−カルボン酸エステル類を容易に
製造することかできる。
ルボン酸エステル類であるが、このインドリン−7−カ
ルホン酸エステル類は、これを酸化脱水素反応させるこ
とにより容易にインドール−7−カルボン酸エステル類
に変わるので、このインドリン−7−カルホン酸エステ
ル類からインドール7−カルボン酸エステル類を容易に
製造することかできる。
[実施例]
以下、実施例に基づいて、本発明方法を具体的に説明す
るが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例
に限定されるものではない。
るが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例
に限定されるものではない。
実施例1
酸化タリウム259 (0,055モル)にトリフロロ
酢酸148 g (1,298モル)とを加え、24時
間加熱還流下に反応させ、次いで冷却して不溶分を濾過
して除去した。得られた濾液に1−アセチルインドリン
12 、7 g(0,079モル)を加え、24時間室
温下に攪拌して反応させた。反応終了後、減圧下に溶媒
を留去し、得られた結晶をトリフロロ酢酸30gで洗浄
濾過し、ざらに、5%メタノール/ジクロルメタン溶液
50mで洗浄濾過し、(1−アセチル−2,3−ジヒド
ロインドール−7−イール)タリウムピストリフルオロ
アセテート39.5g(収率85%、0.067モル)
を得た。
酢酸148 g (1,298モル)とを加え、24時
間加熱還流下に反応させ、次いで冷却して不溶分を濾過
して除去した。得られた濾液に1−アセチルインドリン
12 、7 g(0,079モル)を加え、24時間室
温下に攪拌して反応させた。反応終了後、減圧下に溶媒
を留去し、得られた結晶をトリフロロ酢酸30gで洗浄
濾過し、ざらに、5%メタノール/ジクロルメタン溶液
50mで洗浄濾過し、(1−アセチル−2,3−ジヒド
ロインドール−7−イール)タリウムピストリフルオロ
アセテート39.5g(収率85%、0.067モル)
を得た。
このようにして得られた原料の(1−アセチル2.3−
ジヒドロインドール−7−イル)タリウムピストリフル
オロアセテート2 B 9 、4nl’j (0,49
ミリモル)をメタノール3.0戒に溶解し、これにのク
ロロヘキサカルボニル錯体54 、 OIn’j (0
,25ミリモル)と酢酸パラジウム22 、0#Ig(
0,098ミリモル)とを加え、−酸化炭素雰囲気中8
0’Cで3時間撹拌下に反応させた。反応終了後、冷却
して不溶性沈澱物を濾過し、得られた濾液を減圧下に濃
縮して粗生成物を得た。このようにして得られた粗生成
物を塩化エチレン−メタノール(99:1゜V/V)混
合溶媒を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し、溶出類に順次7−メドキシカルポ
ニルインドリン9.41ng<収率11%)との1−ア
セチル−7−メドキシカルボニルインドリン 得られた1−アセチル−7−メトキシカルボニルインド
リンについて、ざらにメタノールを使用して再結晶し、
無色プリズム状の結晶を得た。得られた結晶について、
その融点、赤外吸収スペクトル、1H−N M R、質
量分析及び元素分析を行った。結果は下記の通りである
。
ジヒドロインドール−7−イル)タリウムピストリフル
オロアセテート2 B 9 、4nl’j (0,49
ミリモル)をメタノール3.0戒に溶解し、これにのク
ロロヘキサカルボニル錯体54 、 OIn’j (0
,25ミリモル)と酢酸パラジウム22 、0#Ig(
0,098ミリモル)とを加え、−酸化炭素雰囲気中8
0’Cで3時間撹拌下に反応させた。反応終了後、冷却
して不溶性沈澱物を濾過し、得られた濾液を減圧下に濃
縮して粗生成物を得た。このようにして得られた粗生成
物を塩化エチレン−メタノール(99:1゜V/V)混
合溶媒を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し、溶出類に順次7−メドキシカルポ
ニルインドリン9.41ng<収率11%)との1−ア
セチル−7−メドキシカルボニルインドリン 得られた1−アセチル−7−メトキシカルボニルインド
リンについて、ざらにメタノールを使用して再結晶し、
無色プリズム状の結晶を得た。得られた結晶について、
その融点、赤外吸収スペクトル、1H−N M R、質
量分析及び元素分析を行った。結果は下記の通りである
。
融点:103〜104℃
IR(にBr) : 1720, 1658, 143
6. 1398cm−1’H−NHR(CDCl2)δ
:2.21(3H, S)、 3.09(2H, t。
6. 1398cm−1’H−NHR(CDCl2)δ
:2.21(3H, S)、 3.09(2H, t。
J=8Hz)、 3.86(3N, S)、 4.13
(2H, t, J=8Hz)。
(2H, t, J=8Hz)。
7、03(IN, t, J=7.5Hz)、 7.2
7(IH, br−d。
7(IH, br−d。
J=7.5Hz)、 7.43(IH, br−d,
J=7.5Hz)MS(m/z): 219[H ] 元素分析値(C12H13N03として)計篩値:C:
65.77; H:5.97; N:6.88実験値:
C:65. 77;旧5.98; N:6.49実施
例2〜5 酢酸パラジウム(Pd(OAC)2 )と添加剤の種類
及び使用量を第1表に示すように変え、上記実施例1と
同様にして7−メドキシカルポニルインドリン(化合物
A)と1−アセチル−7−メドキシカルポニルインドリ
ン(化合物B)を合成し、その収率を求めた。結果を第
1表に示す。
J=7.5Hz)MS(m/z): 219[H ] 元素分析値(C12H13N03として)計篩値:C:
65.77; H:5.97; N:6.88実験値:
C:65. 77;旧5.98; N:6.49実施
例2〜5 酢酸パラジウム(Pd(OAC)2 )と添加剤の種類
及び使用量を第1表に示すように変え、上記実施例1と
同様にして7−メドキシカルポニルインドリン(化合物
A)と1−アセチル−7−メドキシカルポニルインドリ
ン(化合物B)を合成し、その収率を求めた。結果を第
1表に示す。
経済的に有利である。
Claims (1)
- (1)下記一般式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (但し、式中R_1は−COR_3であってR_3は1
価の基を示し、R_2は置換基であり、nは0又は1〜
5の整数を示す)で表される化合物を酢酸パラジウム及
び低級アルコール溶媒の存在下に一酸化炭素雰囲気中で
反応させ、下記一般式(1a)又は(1b)▲数式、化
学式、表等があります▼(1a) ▲数式、化学式、表等があります▼(1b) (但し、式中R_1は水素又は−COR_3であって、
R_2、R_3及びnは前述と同じであり、R_4はア
ルキル基を示す)で表される化合物を製造することを特
徴とする7−位にカルボン酸エステル基を有するインド
ール系化合物の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22441488A JPH0273060A (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | インドール系化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22441488A JPH0273060A (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | インドール系化合物の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0273060A true JPH0273060A (ja) | 1990-03-13 |
Family
ID=16813400
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22441488A Pending JPH0273060A (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | インドール系化合物の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0273060A (ja) |
-
1988
- 1988-09-09 JP JP22441488A patent/JPH0273060A/ja active Pending
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