JPS5858346B2 - 置換ベンズアミド化合物の製造方法 - Google Patents
置換ベンズアミド化合物の製造方法Info
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- JPS5858346B2 JPS5858346B2 JP3862882A JP3862882A JPS5858346B2 JP S5858346 B2 JPS5858346 B2 JP S5858346B2 JP 3862882 A JP3862882 A JP 3862882A JP 3862882 A JP3862882 A JP 3862882A JP S5858346 B2 JPS5858346 B2 JP S5858346B2
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 150000003936 benzamides Chemical class 0.000 title 1
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- -1 benzamide compound Chemical class 0.000 claims description 9
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 6
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N benzene carboxamide Natural products NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VSFMRYPUCAYEBS-UHFFFAOYSA-N (1-ethylaziridin-2-yl)methanamine Chemical compound CCN1CC1CN VSFMRYPUCAYEBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- IOHPVZBSOKLVMN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1CCC1=CC=CC=C1 IOHPVZBSOKLVMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- UNRBEYYLYRXYCG-UHFFFAOYSA-N (1-ethylpyrrolidin-2-yl)methanamine Chemical compound CCN1CCCC1CN UNRBEYYLYRXYCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQAILWDRVDGLGY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-5-sulfamoylbenzoic acid Chemical class COC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1C(O)=O SQAILWDRVDGLGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 2
- BGRJTUBHPOOWDU-NSHDSACASA-N (S)-(-)-sulpiride Chemical compound CCN1CCC[C@H]1CNC(=O)C1=CC(S(N)(=O)=O)=CC=C1OC BGRJTUBHPOOWDU-NSHDSACASA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000767 anti-ulcer Effects 0.000 description 1
- 150000001541 aziridines Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- ZQSFLXDMGBSJKV-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxy-5-sulfamoylbenzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC(S(N)(=O)=O)=CC=C1OC ZQSFLXDMGBSJKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 230000000506 psychotropic effect Effects 0.000 description 1
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229960004940 sulpiride Drugs 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Pyrrole Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は置換ベンズアミド化合物の製造方法に関し、更
に詳細には式(I) で表わされるl−エチル−2−(2−メトキシ−5−ス
ルファモイルベンズアミドメチル)ピロリジンの新規な
製造方法に関する。
に詳細には式(I) で表わされるl−エチル−2−(2−メトキシ−5−ス
ルファモイルベンズアミドメチル)ピロリジンの新規な
製造方法に関する。
本発明の方法により製造される式(I)で表わされる化
合物は、一般各をスルピリド (5ulpiride )と称し、医薬として、就中優
れた抗潰瘍作用と共に向精神作用をも有し、現在当該分
野において広く使用されているものである。
合物は、一般各をスルピリド (5ulpiride )と称し、医薬として、就中優
れた抗潰瘍作用と共に向精神作用をも有し、現在当該分
野において広く使用されているものである。
従来より、式(I)で表わされる1−エチル−2−(2
−メトキシ−5−スルファモイルベンズアミドメチル)
ピロリジンの製造方法としては、例えば (1)2−メトキシ−5−スルファモイル安息香酸の反
応性誘導体と1−エチル−2−アミノメチルピロリジン
とを反応させる方法(特公昭44−23496号)、 (ii) 2−メトキシ−5−スルファモイル安息香
酸の反応性誘導体とピロクジン類とを反応させる方法(
特公昭55−32704号、特開昭48−29764号
、同49−85038号、同49−85039号など)
、 (iii) 安息香酸誘導体と1−エチル−2−アミ
ノメチルピロリジンを反応させた後、側鏡な導入す※※ る方法(特開昭49−47751号、同4954361
号、同49−75573号、同49−86362号など
)等が知られている。
−メトキシ−5−スルファモイルベンズアミドメチル)
ピロリジンの製造方法としては、例えば (1)2−メトキシ−5−スルファモイル安息香酸の反
応性誘導体と1−エチル−2−アミノメチルピロリジン
とを反応させる方法(特公昭44−23496号)、 (ii) 2−メトキシ−5−スルファモイル安息香
酸の反応性誘導体とピロクジン類とを反応させる方法(
特公昭55−32704号、特開昭48−29764号
、同49−85038号、同49−85039号など)
、 (iii) 安息香酸誘導体と1−エチル−2−アミ
ノメチルピロリジンを反応させた後、側鏡な導入す※※ る方法(特開昭49−47751号、同4954361
号、同49−75573号、同49−86362号など
)等が知られている。
しかしながら、これら公知の方法は、例えば種種の反応
性誘導体の製造が煩雑であり、且つ収率の面においても
必ずしも満足できるものではなく、決して好ましい方法
とは言い難い。
性誘導体の製造が煩雑であり、且つ収率の面においても
必ずしも満足できるものではなく、決して好ましい方法
とは言い難い。
そこで本発明者らは、本発明の目的化合物である式(I
)で表わされる1−エチル−2−(2−メトキシ−5−
スルファモイルベンズアミドメチル)ピロリジンを得る
為に鋭意研究を行ない検討を重ねた結果、従来公知の製
造方法に比較して出発反応物質を異にした、全く別異の
反応様式にしたがい目的化合物を得ることが出来ること
を見出し、本発明を完成した。
)で表わされる1−エチル−2−(2−メトキシ−5−
スルファモイルベンズアミドメチル)ピロリジンを得る
為に鋭意研究を行ない検討を重ねた結果、従来公知の製
造方法に比較して出発反応物質を異にした、全く別異の
反応様式にしたがい目的化合物を得ることが出来ること
を見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明によれば、次に示す反応工程を経て目的化
合物を生成することができる。
合物を生成することができる。
本発明の製造方法に係る出発物質の一つである一般式(
III)で表わされる安息香酸誘導体としては、Rがハ
ロゲン、水酸基、低級アルコキシ基などを挙げることが
できる。
III)で表わされる安息香酸誘導体としては、Rがハ
ロゲン、水酸基、低級アルコキシ基などを挙げることが
できる。
これらの内、ハロゲンの場合には主にクロルが用いられ
、また低級アルコキシ基の場合にはメトキシ、エトキシ
、プロポキシ、ブトキシ基などの直鎖又は分枝鎖を有す
る1から4個の炭素原子を有するものが主として用いら
れる。
、また低級アルコキシ基の場合にはメトキシ、エトキシ
、プロポキシ、ブトキシ基などの直鎖又は分枝鎖を有す
る1から4個の炭素原子を有するものが主として用いら
れる。
また、他方の出発物質である1−エチル−2アミノメチ
ルアジリジンは、公知のアジリジン化合物から容易に製
造することができる公知の化合物である。
ルアジリジンは、公知のアジリジン化合物から容易に製
造することができる公知の化合物である。
本発明によれば、一般式([I)で表わされる安息香酸
誘導体と1−エチル−2−アミノメチルアジリジンの反
応は、通常の酸アミド結合を生ぜしめる公知方法により
行なわれ、例えば不活性有機溶媒中にて、常温乃至は反
応混合物の還流温度で反応を行うことにより、式(n)
で表わされる中間体化合物を得ることができる。
誘導体と1−エチル−2−アミノメチルアジリジンの反
応は、通常の酸アミド結合を生ぜしめる公知方法により
行なわれ、例えば不活性有機溶媒中にて、常温乃至は反
応混合物の還流温度で反応を行うことにより、式(n)
で表わされる中間体化合物を得ることができる。
本反応においては、式(III)で表わされる安息香酸
誘導体1モルに対して、1−エチル−2−アミノメチル
アジリジンを等モル量乃至やや過剰量用いれば充分であ
る。
誘導体1モルに対して、1−エチル−2−アミノメチル
アジリジンを等モル量乃至やや過剰量用いれば充分であ
る。
又、使用される不活性有機溶媒としては、例えばメタノ
ール、エタノール、ベンゼン、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジメチルスルホキシド、ジメトキシエタンな
どを挙げることができる。
ール、エタノール、ベンゼン、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジメチルスルホキシド、ジメトキシエタンな
どを挙げることができる。
このようにして得られた式(II)で表わされる中間体
化合物は、反応混合物中から単離することなくそのまま
、或いは反応混合物中から溶媒抽出などの公知の手段を
属いて単離した後、次の反応へ進めることができる。
化合物は、反応混合物中から単離することなくそのまま
、或いは反応混合物中から溶媒抽出などの公知の手段を
属いて単離した後、次の反応へ進めることができる。
式(II)で表わされる中間体化合物とエチレンとの反
応は、上述した不活性有機溶媒を用いて、式(II)で
表わされる中間体化合物を溶解した後、攪拌下エチレン
を添加することにより行われる。
応は、上述した不活性有機溶媒を用いて、式(II)で
表わされる中間体化合物を溶解した後、攪拌下エチレン
を添加することにより行われる。
本反応は、通常溶媒の沸点乃至はそれ以上の温度で、好
ましくは350℃位迄の加熱条件下で行われ、この際、
反応体が発生する圧力は、密閉容器中でそのまま加圧条
件として利用できる。
ましくは350℃位迄の加熱条件下で行われ、この際、
反応体が発生する圧力は、密閉容器中でそのまま加圧条
件として利用できる。
使用される反応物質の一方であるエチレンは、式(I[
)の中間体化合物に対し過剰量用いられ、斯る反応に要
する時間は圧力、温度などにより多少の影響を受けるが
、凡そ30分から6時間で終了する。
)の中間体化合物に対し過剰量用いられ、斯る反応に要
する時間は圧力、温度などにより多少の影響を受けるが
、凡そ30分から6時間で終了する。
また、本反応を実施するに当り、少量の塩基、例えばア
ルカリ金属水酸化物などを反応溶液中に添加することも
可能である。
ルカリ金属水酸化物などを反応溶液中に添加することも
可能である。
反応終了後、生成した目的化合物を反応混合物中から分
離、精製するには、格別な方法を用いる必要はなく、当
該分野において斯る目的の為に通常用いられる周知の手
段、例えば溶媒抽出、結晶化等の方法を適宜選択して用
いることにより精製物を容易に得ることができる。
離、精製するには、格別な方法を用いる必要はなく、当
該分野において斯る目的の為に通常用いられる周知の手
段、例えば溶媒抽出、結晶化等の方法を適宜選択して用
いることにより精製物を容易に得ることができる。
次に実施例を挙げて、更に本発明を具体的に説明する。
実施例 1
2−メトキシ−5−スルファモイル安息香酸エチルエス
テル101をエタノール80TLl中に溶解した後、こ
の溶解液に更に1−エチル−2−アミノメチルアジリジ
ン10f?を加えた。
テル101をエタノール80TLl中に溶解した後、こ
の溶解液に更に1−エチル−2−アミノメチルアジリジ
ン10f?を加えた。
この混合物を攪拌下に60〜65℃で一昼夜反応させ、
次いで、この反応液を120℃迄加熱し、エチレンを連
続的に約2時間通過させた。
次いで、この反応液を120℃迄加熱し、エチレンを連
続的に約2時間通過させた。
反応終了後、溶媒を減圧下留去し、残渣をジメチルホル
ムアミドから再結晶することにより1−エチル−2−(
2メトキシ−5−スルファモイルベンズアミドメチル)
ピロリジン5.61が得られた。
ムアミドから再結晶することにより1−エチル−2−(
2メトキシ−5−スルファモイルベンズアミドメチル)
ピロリジン5.61が得られた。
このものの融点は184.5〜185℃であった。
実施例 2
2−メトキシ−スルファモイル安息香酸エチルエステル
ICIをジメチルスルホキシド60m1中に溶解した後
、この溶解液に更に1−エチル−2−アミノメチルアジ
リジン10グを加えた。
ICIをジメチルスルホキシド60m1中に溶解した後
、この溶解液に更に1−エチル−2−アミノメチルアジ
リジン10グを加えた。
この混合溶液を攪拌下に60〜65℃で一昼夜反応させ
、次いで、この反応液に少量の水酸化ナトリウムを添加
し、エチレンを連続的に通過させながら150℃迄加熱
した。
、次いで、この反応液に少量の水酸化ナトリウムを添加
し、エチレンを連続的に通過させながら150℃迄加熱
した。
約2時間後反応を止め、この反応液を減圧下に溶媒留去
し、得られた残渣をエタノールで再結晶することにより
、1−エチル−2−(2−))キシ−5−スルファモイ
ルベンズアミドメチル)ピロリジンを7.31得た。
し、得られた残渣をエタノールで再結晶することにより
、1−エチル−2−(2−))キシ−5−スルファモイ
ルベンズアミドメチル)ピロリジンを7.31得た。
このものの融点は185〜186℃であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式(III) (式中、Rはハロゲン、水酸基、低級アルコキシ基を意
味する) で表わされる化合物に、1−エチル−2−アミノメチル
アジリジンを反応させ、式(n) で表わされる化合物を得、次いで不活性有機溶媒中にて
エチレンと反応させることにより、式(I)で表わされ
るl−エチル−2−(2−メトキシ−5−スルファモイ
ルベンズアミドメチル)ピロリジンを生成することを特
徴とする、置換ベンズアミド化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3862882A JPS5858346B2 (ja) | 1982-03-11 | 1982-03-11 | 置換ベンズアミド化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3862882A JPS5858346B2 (ja) | 1982-03-11 | 1982-03-11 | 置換ベンズアミド化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58157765A JPS58157765A (ja) | 1983-09-19 |
JPS5858346B2 true JPS5858346B2 (ja) | 1983-12-24 |
Family
ID=12530498
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3862882A Expired JPS5858346B2 (ja) | 1982-03-11 | 1982-03-11 | 置換ベンズアミド化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5858346B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS626332A (ja) * | 1985-07-03 | 1987-01-13 | Hitachi Ltd | ソフトウエアの品質評価方式 |
-
1982
- 1982-03-11 JP JP3862882A patent/JPS5858346B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS626332A (ja) * | 1985-07-03 | 1987-01-13 | Hitachi Ltd | ソフトウエアの品質評価方式 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58157765A (ja) | 1983-09-19 |
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