JPS5858346B2 - 置換ベンズアミド化合物の製造方法 - Google Patents
置換ベンズアミド化合物の製造方法Info
- Publication number
- JPS5858346B2 JPS5858346B2 JP3862882A JP3862882A JPS5858346B2 JP S5858346 B2 JPS5858346 B2 JP S5858346B2 JP 3862882 A JP3862882 A JP 3862882A JP 3862882 A JP3862882 A JP 3862882A JP S5858346 B2 JPS5858346 B2 JP S5858346B2
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- ethyl
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- substituted benzamide
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は置換ベンズアミド化合物の製造方法に関し、更
に詳細には式(I) で表わされるl−エチル−2−(2−メトキシ−5−ス
ルファモイルベンズアミドメチル)ピロリジンの新規な
製造方法に関する。
に詳細には式(I) で表わされるl−エチル−2−(2−メトキシ−5−ス
ルファモイルベンズアミドメチル)ピロリジンの新規な
製造方法に関する。
本発明の方法により製造される式(I)で表わされる化
合物は、一般各をスルピリド (5ulpiride )と称し、医薬として、就中優
れた抗潰瘍作用と共に向精神作用をも有し、現在当該分
野において広く使用されているものである。
合物は、一般各をスルピリド (5ulpiride )と称し、医薬として、就中優
れた抗潰瘍作用と共に向精神作用をも有し、現在当該分
野において広く使用されているものである。
従来より、式(I)で表わされる1−エチル−2−(2
−メトキシ−5−スルファモイルベンズアミドメチル)
ピロリジンの製造方法としては、例えば (1)2−メトキシ−5−スルファモイル安息香酸の反
応性誘導体と1−エチル−2−アミノメチルピロリジン
とを反応させる方法(特公昭44−23496号)、 (ii) 2−メトキシ−5−スルファモイル安息香
酸の反応性誘導体とピロクジン類とを反応させる方法(
特公昭55−32704号、特開昭48−29764号
、同49−85038号、同49−85039号など)
、 (iii) 安息香酸誘導体と1−エチル−2−アミ
ノメチルピロリジンを反応させた後、側鏡な導入す※※ る方法(特開昭49−47751号、同4954361
号、同49−75573号、同49−86362号など
)等が知られている。
−メトキシ−5−スルファモイルベンズアミドメチル)
ピロリジンの製造方法としては、例えば (1)2−メトキシ−5−スルファモイル安息香酸の反
応性誘導体と1−エチル−2−アミノメチルピロリジン
とを反応させる方法(特公昭44−23496号)、 (ii) 2−メトキシ−5−スルファモイル安息香
酸の反応性誘導体とピロクジン類とを反応させる方法(
特公昭55−32704号、特開昭48−29764号
、同49−85038号、同49−85039号など)
、 (iii) 安息香酸誘導体と1−エチル−2−アミ
ノメチルピロリジンを反応させた後、側鏡な導入す※※ る方法(特開昭49−47751号、同4954361
号、同49−75573号、同49−86362号など
)等が知られている。
しかしながら、これら公知の方法は、例えば種種の反応
性誘導体の製造が煩雑であり、且つ収率の面においても
必ずしも満足できるものではなく、決して好ましい方法
とは言い難い。
性誘導体の製造が煩雑であり、且つ収率の面においても
必ずしも満足できるものではなく、決して好ましい方法
とは言い難い。
そこで本発明者らは、本発明の目的化合物である式(I
)で表わされる1−エチル−2−(2−メトキシ−5−
スルファモイルベンズアミドメチル)ピロリジンを得る
為に鋭意研究を行ない検討を重ねた結果、従来公知の製
造方法に比較して出発反応物質を異にした、全く別異の
反応様式にしたがい目的化合物を得ることが出来ること
を見出し、本発明を完成した。
)で表わされる1−エチル−2−(2−メトキシ−5−
スルファモイルベンズアミドメチル)ピロリジンを得る
為に鋭意研究を行ない検討を重ねた結果、従来公知の製
造方法に比較して出発反応物質を異にした、全く別異の
反応様式にしたがい目的化合物を得ることが出来ること
を見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明によれば、次に示す反応工程を経て目的化
合物を生成することができる。
合物を生成することができる。
本発明の製造方法に係る出発物質の一つである一般式(
III)で表わされる安息香酸誘導体としては、Rがハ
ロゲン、水酸基、低級アルコキシ基などを挙げることが
できる。
III)で表わされる安息香酸誘導体としては、Rがハ
ロゲン、水酸基、低級アルコキシ基などを挙げることが
できる。
これらの内、ハロゲンの場合には主にクロルが用いられ
、また低級アルコキシ基の場合にはメトキシ、エトキシ
、プロポキシ、ブトキシ基などの直鎖又は分枝鎖を有す
る1から4個の炭素原子を有するものが主として用いら
れる。
、また低級アルコキシ基の場合にはメトキシ、エトキシ
、プロポキシ、ブトキシ基などの直鎖又は分枝鎖を有す
る1から4個の炭素原子を有するものが主として用いら
れる。
また、他方の出発物質である1−エチル−2アミノメチ
ルアジリジンは、公知のアジリジン化合物から容易に製
造することができる公知の化合物である。
ルアジリジンは、公知のアジリジン化合物から容易に製
造することができる公知の化合物である。
本発明によれば、一般式([I)で表わされる安息香酸
誘導体と1−エチル−2−アミノメチルアジリジンの反
応は、通常の酸アミド結合を生ぜしめる公知方法により
行なわれ、例えば不活性有機溶媒中にて、常温乃至は反
応混合物の還流温度で反応を行うことにより、式(n)
で表わされる中間体化合物を得ることができる。
誘導体と1−エチル−2−アミノメチルアジリジンの反
応は、通常の酸アミド結合を生ぜしめる公知方法により
行なわれ、例えば不活性有機溶媒中にて、常温乃至は反
応混合物の還流温度で反応を行うことにより、式(n)
で表わされる中間体化合物を得ることができる。
本反応においては、式(III)で表わされる安息香酸
誘導体1モルに対して、1−エチル−2−アミノメチル
アジリジンを等モル量乃至やや過剰量用いれば充分であ
る。
誘導体1モルに対して、1−エチル−2−アミノメチル
アジリジンを等モル量乃至やや過剰量用いれば充分であ
る。
又、使用される不活性有機溶媒としては、例えばメタノ
ール、エタノール、ベンゼン、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジメチルスルホキシド、ジメトキシエタンな
どを挙げることができる。
ール、エタノール、ベンゼン、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジメチルスルホキシド、ジメトキシエタンな
どを挙げることができる。
このようにして得られた式(II)で表わされる中間体
化合物は、反応混合物中から単離することなくそのまま
、或いは反応混合物中から溶媒抽出などの公知の手段を
属いて単離した後、次の反応へ進めることができる。
化合物は、反応混合物中から単離することなくそのまま
、或いは反応混合物中から溶媒抽出などの公知の手段を
属いて単離した後、次の反応へ進めることができる。
式(II)で表わされる中間体化合物とエチレンとの反
応は、上述した不活性有機溶媒を用いて、式(II)で
表わされる中間体化合物を溶解した後、攪拌下エチレン
を添加することにより行われる。
応は、上述した不活性有機溶媒を用いて、式(II)で
表わされる中間体化合物を溶解した後、攪拌下エチレン
を添加することにより行われる。
本反応は、通常溶媒の沸点乃至はそれ以上の温度で、好
ましくは350℃位迄の加熱条件下で行われ、この際、
反応体が発生する圧力は、密閉容器中でそのまま加圧条
件として利用できる。
ましくは350℃位迄の加熱条件下で行われ、この際、
反応体が発生する圧力は、密閉容器中でそのまま加圧条
件として利用できる。
使用される反応物質の一方であるエチレンは、式(I[
)の中間体化合物に対し過剰量用いられ、斯る反応に要
する時間は圧力、温度などにより多少の影響を受けるが
、凡そ30分から6時間で終了する。
)の中間体化合物に対し過剰量用いられ、斯る反応に要
する時間は圧力、温度などにより多少の影響を受けるが
、凡そ30分から6時間で終了する。
また、本反応を実施するに当り、少量の塩基、例えばア
ルカリ金属水酸化物などを反応溶液中に添加することも
可能である。
ルカリ金属水酸化物などを反応溶液中に添加することも
可能である。
反応終了後、生成した目的化合物を反応混合物中から分
離、精製するには、格別な方法を用いる必要はなく、当
該分野において斯る目的の為に通常用いられる周知の手
段、例えば溶媒抽出、結晶化等の方法を適宜選択して用
いることにより精製物を容易に得ることができる。
離、精製するには、格別な方法を用いる必要はなく、当
該分野において斯る目的の為に通常用いられる周知の手
段、例えば溶媒抽出、結晶化等の方法を適宜選択して用
いることにより精製物を容易に得ることができる。
次に実施例を挙げて、更に本発明を具体的に説明する。
実施例 1
2−メトキシ−5−スルファモイル安息香酸エチルエス
テル101をエタノール80TLl中に溶解した後、こ
の溶解液に更に1−エチル−2−アミノメチルアジリジ
ン10f?を加えた。
テル101をエタノール80TLl中に溶解した後、こ
の溶解液に更に1−エチル−2−アミノメチルアジリジ
ン10f?を加えた。
この混合物を攪拌下に60〜65℃で一昼夜反応させ、
次いで、この反応液を120℃迄加熱し、エチレンを連
続的に約2時間通過させた。
次いで、この反応液を120℃迄加熱し、エチレンを連
続的に約2時間通過させた。
反応終了後、溶媒を減圧下留去し、残渣をジメチルホル
ムアミドから再結晶することにより1−エチル−2−(
2メトキシ−5−スルファモイルベンズアミドメチル)
ピロリジン5.61が得られた。
ムアミドから再結晶することにより1−エチル−2−(
2メトキシ−5−スルファモイルベンズアミドメチル)
ピロリジン5.61が得られた。
このものの融点は184.5〜185℃であった。
実施例 2
2−メトキシ−スルファモイル安息香酸エチルエステル
ICIをジメチルスルホキシド60m1中に溶解した後
、この溶解液に更に1−エチル−2−アミノメチルアジ
リジン10グを加えた。
ICIをジメチルスルホキシド60m1中に溶解した後
、この溶解液に更に1−エチル−2−アミノメチルアジ
リジン10グを加えた。
この混合溶液を攪拌下に60〜65℃で一昼夜反応させ
、次いで、この反応液に少量の水酸化ナトリウムを添加
し、エチレンを連続的に通過させながら150℃迄加熱
した。
、次いで、この反応液に少量の水酸化ナトリウムを添加
し、エチレンを連続的に通過させながら150℃迄加熱
した。
約2時間後反応を止め、この反応液を減圧下に溶媒留去
し、得られた残渣をエタノールで再結晶することにより
、1−エチル−2−(2−))キシ−5−スルファモイ
ルベンズアミドメチル)ピロリジンを7.31得た。
し、得られた残渣をエタノールで再結晶することにより
、1−エチル−2−(2−))キシ−5−スルファモイ
ルベンズアミドメチル)ピロリジンを7.31得た。
このものの融点は185〜186℃であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式(III) (式中、Rはハロゲン、水酸基、低級アルコキシ基を意
味する) で表わされる化合物に、1−エチル−2−アミノメチル
アジリジンを反応させ、式(n) で表わされる化合物を得、次いで不活性有機溶媒中にて
エチレンと反応させることにより、式(I)で表わされ
るl−エチル−2−(2−メトキシ−5−スルファモイ
ルベンズアミドメチル)ピロリジンを生成することを特
徴とする、置換ベンズアミド化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3862882A JPS5858346B2 (ja) | 1982-03-11 | 1982-03-11 | 置換ベンズアミド化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3862882A JPS5858346B2 (ja) | 1982-03-11 | 1982-03-11 | 置換ベンズアミド化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58157765A JPS58157765A (ja) | 1983-09-19 |
JPS5858346B2 true JPS5858346B2 (ja) | 1983-12-24 |
Family
ID=12530498
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3862882A Expired JPS5858346B2 (ja) | 1982-03-11 | 1982-03-11 | 置換ベンズアミド化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5858346B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS626332A (ja) * | 1985-07-03 | 1987-01-13 | Hitachi Ltd | ソフトウエアの品質評価方式 |
-
1982
- 1982-03-11 JP JP3862882A patent/JPS5858346B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS626332A (ja) * | 1985-07-03 | 1987-01-13 | Hitachi Ltd | ソフトウエアの品質評価方式 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58157765A (ja) | 1983-09-19 |
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