JPH0269428A - 液晶化合物及び液晶ポリマー - Google Patents

液晶化合物及び液晶ポリマー

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JPH0269428A
JPH0269428A JP22140088A JP22140088A JPH0269428A JP H0269428 A JPH0269428 A JP H0269428A JP 22140088 A JP22140088 A JP 22140088A JP 22140088 A JP22140088 A JP 22140088A JP H0269428 A JPH0269428 A JP H0269428A
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formula
compound
mmol
crystal compound
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JP22140088A
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Inventor
Toshiharu Uchida
内田 俊治
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Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規な液晶化合物及び液晶ポリマーに関するも
のである。さらに詳しくいえば、本発明はオプトエレク
トロニクス分野、特に電卓、時計などの表示素子、電子
光学シャッター、電子光学絞り、光変調器、光通信光路
切換スイッチ、メモリー、液晶プリンターヘッド、焦点
距離可変レンズなどの種々の電子光学デバイスとして有
用な、強誘電性相であるカイラルスメクチックC相を示
す上に、外的因子に対する応答速度が速くて動画表示が
可能である液晶ポリマー、及びこの液晶ポリマーのモノ
マー前駆体であり、それ自体も速い応答速度を有する液
晶化合物に関するものである。
本発明の液晶ポリマーは、大画面や屈曲加減の表示素子
として高い実用性を有するものである。
〔従来の技術〕
従来、低分子液晶を用いた表示素子は電卓、時計などの
デジタル表示に広く使用されている。これらの利用分野
では、通常、従来の低分子液晶は間隔をミクロンオーダ
ーで制御した2枚のガラス基板の間にはさんで使用され
ている。しかしながら、このような間隙の調整は大型画
面および曲面画面では実現が不可能であった。この難点
を解決する1つの手段として、液晶を高分子化し、それ
自体を成形可能ならしめることが試みられている。
例えば、特開昭55−21479号公報、特開昭63−
99204号公報、及びEP−018448号公報には
、各種のポリアクリレート系の強誘電性高分子液晶が開
示されているが、これらの高分子液晶は電界など外的因
子の変化に対するその透過光量変化等の応答速度が一般
に遅く、未だ満足しうるものは得られていない。
また、前記公開公報に示されている高分子液晶は、ポリ
マー自体は室温では液晶としての性質を示さず、ガラス
転移温度以上で透明化温度未満の温度範囲で加熱して液
晶化しなければならないという欠点を有している。
すなわち、本発明は、下記一般式で示される液晶化合物
を提供するものである。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明の第一の目的は、電界に対する応答が速く動画表
示が可能な液晶化合物を提供することにある。本発明の
第二の目的は、この液晶化合物をモノマー前駆体として
合成されるポリマーであって、上記液晶化合物の特長に
加え、強誘電性相を呈し、また大画面、屈曲画面の表示
素子として有利に使用できるという利点を有する液晶ポ
リマーを提供することにある。
C3t=CH−R (式中、Rは下記一般式 で示される基であり、 kは1〜30の整数であり、 〔課題を解決するための手段〕 本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、トリフルオロメ
チル基を不斉位に有する特定の構造の低分子化合物、及
びその低分子化合物を七ツマー前駆体として用いて製造
されるポリマーが上記目的を達成することを見出し、本
発明を完成するに至った。
Xは−COO−又は一0CO−であり、pは0又は1で
あり、 qはO〜10の整数であり、 *のついたCは不斉炭素原子である。)さらに本発明は
、上記液晶化合物をモノマー前駆体として合成され、下
記一般式で表される繰り返し単位を有する液晶ポリマー
をも提供するものである。
(−CL−CIIO−) ? (式中、Rは先に規定したと同じ意味を有する。)上記
式(1)及び(2)において、kは1〜30の整数であ
るが、好ましくは6〜12の整数である。
以下に、本発明の液晶化合物の一般的な合成方法を示す
ここで、本発明の液晶化合物を表す一般式(%式% をR“として表す。
イ  −一  で−される 8 八 0人下記の反応式
で示されるように、アルケノール(1)をピリジンの存
在下、塩化チオニル等のハロゲン化剤でハロゲン化し、
アルケンハライド(II)を得る。アルケンハライド(
II)と4−(4′−ヒドロキシフェニル)ベンゾニト
リルとを、炭酸カリウム等のアルカリの存在下、メチル
エチルケトン等の溶媒中で反応させ、ニトリル体(In
)を得、次いでこのニトリル体(I[I)を加水分解し
てカルボン酸体(IV)とする。カルボン酸体(IV)
を塩化チオニル等のハロゲン化剤で酸ハライドとした後
、トリエチルアミン等の脱ハロゲン化水素剤の存在下、
光学活性アルコール(V)と反応させて、目的とする液
晶化合物を得る。
112c=cII(CHI)kOH−一→ HzC=C
1l (CHz) mY(1)           
  (II)HzC=CII(CHz)hY + )1
0Φ×騒CN(II) CHlCH(CHz)ko(X心C0OR”→HxC=
CII (CHz)−o(X及CN(I[[) →H2C=CH(CH2)、IO@)@)−COOH(
IV) HzC=C)l (CBz)hoΦX及COCl + 
R”0H(V) →HzC=CH(CHt)i=0ΦX◇C0OR“(式
中、Yはハロゲンである。) ルカリの存在下、適当な溶媒中で反応させて目的とする
液晶化合物を得る。
R“OH→内ss@cn、。
(V) noion f R斃@cH。
→IIO@@OR”  (Vl ) HtC=CII(CHz)hY  +  IO@@OR
“(U) ロ   −  で−される 8 人 のAで−さ る 
1 A の 下記の反応式で示されるように、前記光学活性アルコー
ル(V)をトシル化し、これにビフェニル−4,4′−
ジオールを反応させてヒドロキシル体(Vl)を得る。
このヒドロキシル体(Vl)をアルケンハライド(II
)と、炭酸カリウム等のア下記反応式で示す如く、4′
−アセトキシビフェニル−4−カルボン酸を塩化チオニ
ル等のハロゲン化剤を用いて酸ハライドとし、この酸ハ
ライドと光学活性アルコール(V)とをトリエチルアミ
ン等の脱ハロゲン化水素剤の存在下で反応させてアセト
キシ体を得る。このアセトキシ体をベンジルアミン等の
アルカリでケン化し、ヒドロキシル体(■)を得る。
アルケンハライド(II)と4−ヒドロキシベンゾニト
リルとを、アセトン等の適当な溶媒中で炭酸カリウム等
のアルカリの存在下で反応させ、ニトリル化合物を得る
。次いで、このニトリル化合物を水酸化カリウム等のア
ルカリで加水分解し、カルボン酸体とする。ここで、4
−ヒドロキシベンゾニトリルの代わりに、エステル体、
すなわち4−ヒドロキシ安息香酸エチルエステルを用い
てもよい。このカルボン酸体に塩化チオニル等のハロゲ
ン化剤を加え、トルエン等の溶媒中で加熱し、酸ハライ
ドとする0次いで、この酸ハライドとヒドロキシル体(
■)とをトルエン等の溶媒中でピリジンの存在下に反応
させ、目的とする液晶化合物を得る。
(V) (■) (n) (■) で−される 8 ム の入 (ハ)の方法において、ヒドロキシル体(■)の代わり
に前記ヒドロキシル体(Vl)を用いることにより得る
ことができる。
(ホ   −  で−れる 日 八 の人(■) 下記反応式で示す如く、光学活性アルコール(V)とビ
フェニル−4,4′−ジカルボン酸とをトルエン等の溶
媒中でエステル化触媒の存在下反応させ、カルボン酸体
(■)を得る。
アルケンハライド(n)とハイドロキノンとを炭酸カリ
ウム等のアルカリの存在下で反応させ、ヒドロキシル体
(IX)を得る。
上記カルボン酸体(■)を塩化チオニル等により酸クロ
リド化する。得られた酸クロリドと上記ヒドロキシル体
(IX)とをとリジンの存在下反応させ、目的とする液
晶化合物を得る。
で−される 8 人 のA 4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸エチルエ
ステルと光学活性アルコール(V)をトシル化して得た
R ” 03 S @ C)13とを炭酸カリウム等の
存在下反応させ、エチルエステル体を得る。
このエチルエステル体をアルカリ水溶液等と反応させて
加水分解し、カルボン酸体(X)を得る。
→H00G−@)−@)−C00R“  (■)る 口
 A の入 得られたカルボン酸体(X)を前記カルボン酸体(■)
の代わりに用いて(ホ)の方法と同様の操作を行い、目
的とする液晶化合物を得る。
(ト で−される 8 A の入 CI□=CI (co2)、o@coo@cooR“前
記(ハ)の方法において、ヒドロキシル体を行い、目的
とする液晶化合物を得る。
ヒドロキシル体(XI)は、ヒドロキシル体(■)の製
造方法において、4′−アセトキシビフェニル−4−カ
ルボン酸の代わりに4−アセトキシ安息香酸を用いて同
様の操作を行うことにより得ることができる。
前記(ニ)の方法において、ヒドロキシル体い、目的と
する液晶化合物を得る。
ヒドロキシル体(XII)は、ヒドロキシル体(IV)
の製造方法において、ビフェニル−4,4−ジオールの
代わりにハイドロキノンを用いて同様の操作を行うこと
により得ることができる。
リ  −一  で− れる 8 ム のA前記(ホ)の
方法において、カルボン酸体(■) 800 G@@C
00R”の代わりにカルボン酸体(X I[1,) H
OOC−/(シC00I?”を用いて同様の操作を行い
、目的とする液晶化合物を得る。
カルボン酸体(XIII)は、カルボン酸体(■)の製
造方法において、ビフェニル−4,4′−ジカルボン酸
の代わりにテレフタル酸を用いて同様の操作を行うこと
により得ることができる。
ヌ  6−  で−される EI A の入ル る゛ 8 /′−の入 CHz=CI(CHz)mo短図及C00@C0QR”
前記(ト)の方法において、4−ヒドロキシベンゾニト
リル(又は4−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル)の
代わりに4− (4’ −ヒドロキシフェニル)ベンゾ
ニトリル(又は4′−ヒドロキシビフェニル−4−カル
ボン酸エチルエステル)を用い、目的とする液晶化合物
を得る。
前記(へ)の方法において、カルボン酸体(い、目的と
する液晶化合物を得る。
カルボン酸体(XIV)は、カルボン酸体(X)の製造
方法において、4′−ヒドロキシビフェニル−4−カル
ボン酸エチルエステルの代わりに4−ヒドロキシ安息香
酸エチルエステルを用いて同様の操作を行うことにより
得ることができる。
ヲ  −一  で−  る 8 A の人Cl1z=C
H(CIlzL=0(X及coo@OR8前記(チ)の
方法において、4−ヒドロキシベンゾニトリル(又は4
−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル)の代わりに4−
 (4’−ヒドロキシフェニル)ベンゾニトリル(又は
4′−ヒドロキシビフェニルー4−カルボン酸エチルエ
ステル)を用い、目的とする液晶化合物を得る。
で れる 目 八 〇入 前記(す)の方法において、ハイドロキノンの代わりに
ビフェニル−4,4′−ジオールを用い、目的とする液
晶化合物を得る。
カ で−れる 8 八 の人 前記(ヌ)の方法において、ハイドロキノンの代わりに
ビフェニル−4,4′−ジオールを用い、目的とする液
晶化合物を得る。
本発明に用いられるアルテノール(1)としては、例え
ば、5−ヘキセン−1−オール、7−オクチン−1−オ
ール、9−デセン−1−オール、11−ドデセン−1−
オール、13−テトラデセン−1−オールなどが挙げら
れる。
本発明に用いられる光学活性アルコール(V)としては
、例えば1,1.1−)リフルオロ−2ペンタノール、
1,1.1−1リフルオロ−2−オクタツールなどが好
ましい。
本発明の液晶化合物の具体例としては、例えば下記のも
のが挙げられる。
■ 4−(4’ −(7−オクチニルオキシ)ベンゾイ
ルオキシ)安息香酸1−(トリフルオロメチル)ヘプチ
ルエステル ■ 4− (4’ −(9−デセニルオキシ)ベンゾイ
ルオキシ)安息香酸1−(トリフルオロメチル)ヘプチ
ルエステル ■ 4− (4’ −(13−テトラデセニルオキシ)
ベンゾイルオキシ)安息香酸1−(トリフルオロメチル
)ヘプチルエステル ■ 4   (4’−(9−デセニルオキシ)ベンツイ
ルオキシ)安息香酸1−(トリフルオロメチル)ヘプチ
ルエステル ■ 4− (4’ −(9−デセニルオキシ)フェニル
)安息香酸1−(トリフルオロメチル)ヘプチルエステ
ル ■ 4− [4’ −(4“−(9−デセニルオキシ)
フェニル)ベンゾイルオキシ]安息香酸1−(トリフル
オロメチル)ヘプチルエステル■ 4− [4’ −(
4’ −(9−デセニルオキシ)ベンゾイルオキシ)フ
ェニル]安息香酸1−(トリフルオロメチル)ヘプチル
エステル■ 4−(9−デセニルオキシ)安息香酸4′
(1−(1−リフルオロメチル)へブチルオキシ)フェ
ニルエステル ■ 4− (4’ −(9−デセニルオキシ)フェノキ
シカルボニル)安息香酸1−(トリフルオロメチル)ヘ
プチルエステル [相] 4− [4’ −(4’ −(7−オクチニル
オキシ)フェニル)ベンゾイルオキシ]安息香酸1−(
トリフルオロメチル)ヘプチルエステル■ 4−[4’
 −(4#−(13−テトラデセニルオキシ)ベンゾイ
ルオキシ)フェニル]安息香酸1−(トリフルオロメチ
ル)ヘプチルエステル@  4−(4’−(7−オクチ
ニルオキシ)ベンゾイルオキシ)安息香酸1−(トリフ
ルオロメチル)ブチルエステル ■ 4− (4’ −(9−デセニルオキシ)ベンゾイ
ルオキシ)安息香酸l−(トリフルオロメチル)ブチル
エステル ■ 4− (4’ −(13−テトラデセニルオキシ)
ベンゾイルオキシ)安息香酸l−(トリフルオロメチル
)ブチルエステル ■ 4− (4’ −(9−デセニルオキシ)ベンゾイ
ルオキシ)安息香酸l−(トリフルオロメチル)ブチル
エステル ■ 4− (4’ −(9−デセニルオキシ)フェニル
)安息香酸1−(トリフルオロメチル)ブチルエステル @  4−[4’−(4“−(9−デセニルオキシ)フ
ェニル)ベンゾイルオキシ]安息香酸1−(トリフルオ
ロメチル)ブチルエステル■ 4− [4’ −(4’
 −(9−デセニルオキシ)ベンゾイルオキシ)フェニ
ル]安息香酸1−(トリフルオロメチル)ブチルエステ
ル■ 4−(9−デセニルオキシ)安息香酸4′(1−
()リフルオロメチル)ブチルオキシ)フェニルエステ
ル [相] 4− (4’ −(9−デセニルオキシ)フェ
ノキシカルボニル)安息香酸1−(トリフルオロメチル
)ブチルエステル @  4−[4’−(4“−(7−オクチニルオキシ)
フェニル)ヘンジイルオキシ]安息香酸1−(トリフル
オロメチル)ブチルエステル@  4−[4’−(4’
−(13−テトラデセニルオキシ)ベンゾイルオキシ)
フェニル]安息香酸1−(1−リフルオロメチル)ブチ
ルエステル本発明の液晶ポリマーは、上記の如くして合
成された液晶化合物を塩化メチレン、ジクロロメタン等
の適当な溶媒中でm−クロロ過安息香酸等の過酸でエポ
キシ化して得られるエポキシ体を重合せしめることによ
り得ることができる。
(mは、重合度を表す。) エポキシ体モノマーの重合方法としては公知のカチオン
重合法などを採用することができる。
カチオン重合の触媒として、各種のものが知られている
が、硫酸、リン酸、過塩素酸のようなプロトン酸、三フ
ッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、塩化第
二スズのようなルイス酸、三フッ化ホウ素エーテラート
などが挙げられ、この中で塩化第二スズが好適に用いら
れる。
また、有機アルミニウム錯体等を用いた配位重合を行う
ことも可能である。この場合には数平均分子量30,0
00以上のものが得られる。
重合方法としては、塊状重合、スラリー重合、溶液重合
などの種々の方式が知られており、これらのいずれの方
式を用いてもよいが、溶液重合が好ましい。
重合温度は、触媒の種類に依存し一様ではないが、通常
、0〜30°Cが適当である。
重合時間は重合温度など他の要因によって異なるが、通
常1〜6日間である。
分子量の調節は、公知の分子量調節剤の添加および/又
はモノマーに対する触媒の濃度の調節によって行うこと
ができる。
塊状重合方式においては、前記モノマーと開始剤とを十
分に混合し、その混合物を十分に脱気し、2枚の基板、
例えばガラス基板の間に導入し、加熱することによって
、ポリマーを基板間に密着した状態で直接に固定化する
こともできる。
スラリー重合、溶液重合方式の場合の溶媒としては、公
知の不活性溶媒を用いることができ、なかでもヘキサン
、ジクロロメタン、又はベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族系の溶媒が好適に用いられる。
また、重合反応および前記エポキシ化の反応においては
、必須ではないが、アルゴン、窒素等の不活性ガスで系
を置換して行うことが好ましい。
本発明の液晶ポリマーの好ましい数平均分子量は、1,
000〜500.000である。1,000未満である
と該液晶ポリマーのフィルム、塗膜としての成形性に支
障を生じる場合があり、−方、500,000を超える
と応答速度が遅いなどの好ましくない効果の現れること
がある。そして、数平均分子量の特に好ましい範囲は、
kの値、光学活性基の光学純度などに依存するので一概
に規定できないが、通常2,000〜100.000で
ある。
このようにして得られた液晶ポリマーは、公知の成膜法
、例えばキャスティング法、Tダイ法、インフレーショ
ン法、カレンダー法、延伸法などによってフィルムに成
形して用いることができる。
フィルム状の液晶ポリマーは、2枚の通常のガラス基板
はもとより、大型のガラス基板、曲面状のガラス基板、
ポリエステルフィルムなどの間にはさんで液晶デイスプ
レー、電子光学シャッター電子光学絞りなどの種々のオ
プトエレクトロニクスの分野に利用することができる。
また、適当な溶媒に溶解したポリマー溶液をガラス基板
などの基板面に塗布し、溶媒を蒸発させることによって
、直接基板面上に密着した状態でフィルム化することも
できる。
本発明の液晶化合物及は、電界の変化に対する応答速度
が極めて速いことが確認された。また本発明の液晶ポリ
マーは、その相転移温度の測定から、カイラルスメクチ
ックC相液晶状態を発現するものであり、また、電界に
対する応答速度も速いことが確認された。
本発明の液晶ポリマーにおいては、スメクチック相液晶
の性質と、成形容易であるという典型的なポリマーの性
質とが結合しているので、インテグレーテッドオプティ
クス、オプトエレクトロニクス、情報記憶の分野に数多
くの応用可能性がある。例えば、種々の形状のディジタ
ル表示デイスプレィなどの液晶デイスプレィ、電子光学
シャッター、光通信用光路切換スイッチなどの電子光学
スイッチ、電子光学絞り、メモリー素子、光変調器、液
晶光プリンターヘッド、焦点距離可変レンズなどの種々
の電子光学デバイスとして使用することができる。
なお、必要に応じて、前記本発明の液晶ポリマー同志の
混合、他のポリマーとの混合、安定剤、可塑剤などを含
めた種々の無機、有機および金属類等の添加物の添加な
ど、当業界においてよく知られている数多くの処理方法
により、改善することができる。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明の範囲
はこれら実施例によりなんら限定されるものではない。
なお、得られたポリマーの構造は、NMR,IR1元素
分析により確認し、また相転移温度の測定および相の確
認は、それぞれDSCおよび偏光顕微鏡により行った。
(glassニガラス状態、Cry:結晶状態、SI 
:未同定のスメクチック相(液晶相であるが電界に応答
しない相)、SmC” :カイラルスメクチックC相、
SmA:スメクチックA相、Iso:等吉相、相転移挙
動の数字は相変化温度を℃で表したものである。)電界
応答速度は次のようにして測定した。
−・1゛ の・ 20X10!1111のITO基板2枚の間にポリマー
をはさみ、スペーサーで厚さを25μmに調整し、交流
電場E=2Xl 06V/mをかけ、その際の透過光量
の変化(0→90%)の応答時間を測定した。
(以下余白) 実施例1 〔下記式で表される液晶化合物〕 4− (4’ −(9−デセニルオキシ)ベンゾイルオ
キシ)安息香酸1−(トリフルオロメチル)ヘプチルエ
ステル 4−アセトキシ安息香酸20ミリモル(3,6g)及び
塩化チオニル60ミリモル(7,2g)のトルエン50
d溶液を80°Cで2時間撹拌した後、反応液を減圧濃
縮して酸クロライド体を得た。
(R)−(+) −1,1,1−)リフルオロ−2−オ
クタツール10ミリモル(1,8g)及びトリエチルア
ミン51111のTHF30#f溶液に上記酸クロライ
ド体のTHF溶液を#i、、下した後、10時間攪拌し
た。反応液を濃縮した後、水を加えてエーテル抽出した
。抽出液の濃縮物をカラムクロマトグラフィーにより精
製し、目的とするアセトキシ体2.7gを得た。(収率
78%) 1、■で得たアセトキシ体7ミリモル(2,4g)のエ
ーテル20Odfg液にベンジルアミン70ミリモル(
6,4g)を加えて、5時間攪拌した。反応液を水洗し
た後、カラムクロマトグラフィーにより精製し、目的と
するヒドロキシル体2.1gを得た。(収率99%) 1、■ 4−9−デセニルオキシ  自  のA戒− 9−デセン−1−オール26.0 gにピリジン10滴
を加え、ナスフラスコに入れた。水冷下、塩化チオニル
24.0 gを滴下した0滴下後、70°Cで8.5時
間反応を行った。反応後、ジクロロメタンで希釈し、炭
酸カリウム水溶液で洗浄した。硫酸マグネシウム上で乾
燥した後、減圧濃縮した。
残渣をカラムクロマトグラフィーにより精製し、10−
クロロ−1−デセン27.7 gを得た。(収率95%
) 得られた10−クロロ−1−デセン10. Ogとヨウ
化ナトリウム25gとをメチルエチルケトン(MEK)
中で80’Cで10時間反応させ、ヨウド化した。水洗
、乾燥、溶媒除去を行った後、4−ヒドロキシ安息香酸
エチルエステル11.5g及び炭酸カリウム9.6gを
加え、無水エタノール中で15時間還流した。水酸化カ
リウム水溶液(水酸化カリウム4.0gを含む)を加え
、さらに5時間80℃で加熱した0反応後、塩酸酸性と
してから、減圧濃縮した。残渣に水を加えて懸濁させ、
不溶物を集めて乾燥し、目的とするカルボン酸体9.5
gを得た。(収率60%) 1、■で合成したカルボン酸体3ミリモル(0,83g
)及び塩化チオニル9ミリモル(1,1g)のトルエン
10Inl溶液を80°Cで3時間攪拌した後、反応液
を減圧濃縮し、酸クロライド体を得た0次に、1.■で
得たヒドロキシル体2ミリモル(0,61g)及びトリ
エチルアミンlIn1のTHF 10d溶液中へ、上記
酸クロライド体のTHF5d溶液を滴下した後、室温で
10時間攪拌した。反応液を濃縮した後、水を加えてエ
ーテル抽出した。抽出液を乾燥、濃縮した後、カラムク
ロマトグラフィーにより精製し、目的とする液晶化合物
0.91gを得た。(収f−81%) 得られた液晶化合物の元素分析の結果を下記に示す。
また、得られた液晶化合物の相転移挙動及び電界応答速
度の測定結果を第1表に示し、’H−NMR分析のチャ
ートを第1図に示した。
実施例2 [下記式で表される液晶化合物] 4− [4’ −(4′−(9−デセニルオキシ)フェ
ニル)ベンゾイルオキシ]安息香酸1−(トリフルオロ
メチル)ヘプチルエステル 10−ヨード−1−デセン20ミリモル(5,4g)、
4−(4’−ヒドロキシフェニル)ベンゾニトリル20
ミリモル(3,9g)、及び無水炭酸カリウム80ミリ
モル(fig)のMEK100d!Q濁液を20時間還
流攪拌した。反応液を濾過、濃縮した後、カラムクロマ
トグラフィーにより精製し、目的とするニトリル体4.
0gを得た。(収率60%) 2、■ 4− 4’−9−−セニルオキシ フェ2.■
で得たニトリル体10ミリモル(3,3g)、水酸化カ
リウム40ミリモル(1,3g)、エタノール10Id
、及び水2mi!の混合物を5時間還流攪拌した後、希
塩酸を加えて酸性溶液にした。この酸性溶液に水を加え
て塩化メチレンで抽出した後、抽出液を乾燥、濃縮し、
目的とするカルボン酸体3.2gを得た。(収率91%
) 下した後、10時間攪拌した。反応液を濃縮した後、水
を加えてエーテル抽出した。抽出液を濃縮した後、カラ
ムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする液晶化
合物0.96 gを得た。(収率75%) 得られた液晶化合物の元素分析の結果を下記に示す。
2、■で得たカルボン酸体3ミリモル(1,06g)及
び塩化チオニル9ミリモル(1,1g)のトルエンlO
d溶液を80°Cで2時間攪拌した後、反応液を減圧濃
縮して酸クロライド体を得た。実施例1.■で得たヒド
ロキシル体2ミリモル(0,61g)及びトリエチルア
ミンldのTHF 10d溶液に上記酸クロライド体の
THF311i!溶液を滴また、得られた液晶化合物の
相転移挙動及び電界応答速度の測定結果を第1表に示し
、’H−NMR分析のチャートを第2図に示した。
実施例3 〔下記式で表される液晶化合物〕 4− (4’ −(9−デセニルオキシ)フェニル)安
息香酸1−(トリフルオロメチル)ヘプチルエステル 実施例2.■で得たカルボン酸体5ミリモル(1゜76
g)及び塩化チオニル15ミリモル(1,8g)のトル
エン20−溶液を80″Cで2時間攪拌した後、反応液
を減圧S縮して酸クロライド体を得た。(R)−(+)
−1,1,1−)リフルオロ−2−オクタツール3ミリ
モル(0,55g)及びトリエチルアミン1dのTHF
 10#d!溶液に上記酸クロライド体のTHF5−溶
液を滴下した後、10時間撹拌した0反応液を濃縮した
後、水を加えてエーテル抽出した。抽出液を濃縮した後
、カラムクロマトグラフィーにより精製し、目的とする
液晶化合物1.02 gを得た。(収率66%)得られ
た液晶化合物の元素分析の結果を下記に示す。
また、得られた液晶化合物の相転移挙動及び電界応答速
度の測定結果を第1表に示し、’H−NMR分析のチャ
ートを第3図に示した。
実施例4 〔下記式で表される液晶化合物〕 4− [4’−(4′−(7−オクチニルオキシ)フェ
ニル)ベンゾイルオキシ]安息香酸1−(トリフルオロ
メチル)ブチルエステル 8−ヨード−1−オクテン20ミリモル(4,74g)
、4− (4’−ヒドロキシフェニル)ベンダニトリル
20ミ9 カリウム80ミリモル(11.0g)のMEKloo 
mll懸濁液を20時間撹拌した後、反応液を濾過、濃
縮した。濃縮物をカラムクロマトグラフィーにより精製
し、目的とするニトリル体4. 6 6 gを得た。(
収率76%) (R)−(+)−1.1.1−1−リフルオロ−2−オ
クタツール10ミリモルの代わりに(R)−(+)−1
.1.1−)リフルオロ−2−ペンタノール10ミリモ
ルを用い、実施例1、■と同様の操作を行い、目的とす
るヒドロキシル体1.7gを得た。(収率65%) 4、■で得たニトリル体10ミリモル(3.1g)及び
水酸化カリウム40ミリモルをエタノール15戚及び水
3dの混合溶媒に溶解し、得られた溶液を1時間還流攪
拌した後、希塩酸を加えて酸性にした。得られた酸性溶
液を濾過し、濾液を塩化メチレン、次いでエタノールで
洗浄した後、乾燥し、目的とするカルボン酸体2.9g
を得た。(収率90%) 4、■で得たカルボン酸体7ミリモル(2.3g)と4
.■で得たヒドロキシル体5ミリモル(1.3g)を用
いて実施例1.■と同様の操作を行い、目的とする液晶
化合物2.1gを得た。(収率74%) 得られた液晶化合物の元素分析の結果を下記に示す。
4、■ 4−ヒドロキシ6自  1− トリフルオロメ
チル ブチルエスールのA また、得られた液晶化合物の相転移挙動及び電界応答速
度の測定結果を第1表に示した。
実施例5 〔下記式で表される液晶化合物〕 0ミリモル(5.1g)及び(R)− (+) −1。
1、1−)リフルオロ−2−オクタツールをlOミリモ
ルの代わりに15ミリモル( 2. 8 g )用いて
実施例1.■及び1.■と同様の操作を行い、目的とす
るヒドロキシル体3.5gを得た。(収率:2段階で6
1%) 4− [4’ − (4” − (1 3−テトラデセ
ニルオキシ)ベンゾイルオキシ)フェニル]安息香酸1
−(トリフルオロメチル)ヘプチルエステル4−(13
−テトラデセニルオキシ)安息香酸7ミリモル(2.3
g)と5.■で得たヒドロキシル体5ミリモル(1.9
g)を用いて実施例1.■と同様の操作を行い、目的と
する液晶化合物2.5gを得た.(収率72%) 4−アセトキシ安息香酸20ミリモルの代わりに4−(
4’−アセトキシフェニル)安息香酸2得られた液晶化
合物の元素分析の結果を下記に示す。
また、得られた液晶化合物の相転移挙動及び電界応答速
度の測定結果を第1表に示した。
実施例6 〔下記式で表される繰り返し単位を有する液晶ポリマー
〕 ポリ[4−(4’ −(9,10−エポキシデシルオキ
シ)ベンゾイルオキシ)安息香酸1−(トリフルオロメ
チル)ヘプチルエステル] 6、■ エポキシ化 オロメチル ヘプチルエステルのA 実施例1.■で得た液晶化合物1.0ミリモル(560
mg)及びm−クロロ過安息香酸1.5ミリモル(26
0mg)の塩化メチレン10rnl?W液を反応容器に
導入し、系をアルゴンで置換した後、室温で5時間攪拌
し、−晩装置した。反応液を炭酸カリウム水溶液、水で
洗浄した後、乾燥、濃縮し、目的とするエポキシ体54
0■を得た。(収率93%) 6、■ ポリマーの合成 6、■で得たエポキシ体0.93ミリモル(540mg
)の塩化メチレン1〇−溶液を反応容器に導入し、系を
アルゴン置換した後、塩化第二スズ0゜05ミリモル(
14mg)を加えて室温で5日間攪拌した6反応液を濃
縮した後、カラムクロマトグラフィーにより精製し、目
的とする液晶ポリマー(Mn=1,900)450mg
を得た。(転化率83%) 得られた液晶ポリマーの相転移挙動及び電界応答速度の
測定結果を第2表に示し、IH−NMR分析のチャート
を第4図に示した。
1%) 実施例7 〔下記式で表される繰り返し単位を有する液晶ポリマー
〕 ポリ[4−[4’ −(4’ −(9,10−エポキシ
デシルオキシ)フェニル)ベンゾイルオキシ]安息香酸
1−(トリフルオロメチル)へブチルエステルコ ア、■ エポキシ化 7、■ ポリマーの合成 7、■で得たエポキシ体0.91ミリモル(600mg
)を用い、実施例6.■と同様の操作を行い、目的とす
る液晶ポリマー(Mn=2,200)480mgを得た
。(転化率80%) 得られた液晶ポリマーの相転移挙動及び電界応答速度の
測定結果を第2表に示し、’H−NMR分析のチャート
を第5図に示した。
実施例8 〔下記式で表される繰り返し単位を有する液晶ポリマー
〕 実施例2.■で得た液晶化合物1.0ミリモル(640
mg)を用いて実施例6.■と同様の操作を手内、目的
とするエポキシ体600mgを得た。(収率9ポリ[4
−(4’ −(9,10−エポキシデシルオキシ)フェ
ニル)安息香酸1−(トリフルオロメチル)ヘプチルエ
ステル] 8、■ エポキシ化 リマー〕 実施例3.■で得た液晶化合物1.0ミリモル(520
mg)を用いて実施例6.■と同様の操作を行い、目的
とするエポキシ体520mgを得た。(収率97%) 8、■ ポリマーの合成 8、■で得たエポキシ体0.97ミリモル(520mg
)を用い、実施例6.■と同様の操作を行い、目的とす
る液晶ポリ?−(Mn=2,200)440mgを得た
。(転化率85%) 得られた液晶ポリマーの相転移挙動及び電界応答速度の
測定結果を第2表に示し、’H−NMR分析のチャート
を第6図に示した。
実施例9 〔下記式で表される繰り返し単位を有する液晶ポポリ[
4−[4’ −(4“−(7,8−エポキシオクチルオ
キシ)フェニル)ベンゾイルオキシ]安息香酸1−(1
−リフルオロメチル)ブチルエステル 9、■ エポキシ化及びポリマーの合成実施例4.■で
得た液晶化合物1ミリモル(570a+g)を用いて実
施例6.■及び■と同様の操作を行い、目的とする液晶
ポリマー(Mn=2,400)430mgを得た。(転
化率=2段階で73%) 得られた液晶ポリマーの相転移挙動及び電界応答速度の
測定結果を第2表に示した。
実施例1O 〔下記式で表される繰り返し単位を有する液晶ポリマー
〕 ポリ[4−[4’ −(4′−(13,14−エポキシ
テトラデシルオキシ)ベンゾイルオキシ)フェニル]安
息香酸l−(トリフルオロメチル)ヘプチルエステルJ 10、■ エポキシ化及びポリマーの合成実施例5.■
で得た液晶化合物1ミリモル(690mg)を用いて実
施例6.■及び■と同様の操作を行い、目的とする液晶
ポリマー(Mn=2,600)550mgを得た。(転
化率=2段階で77%) 得られた液晶ポリマーの相転移挙動及び電界応答速度の
測定結果を第2表に示した。
(以下余白) [発明の効果] 本発明によれば、数マイクロ秒オーダーの極めて速い電
界応答速度を有する液晶化合物及び液晶ポリマーを得る
ことができる。特に、本発明の液晶ポリマーは、強誘電
性を示し、またポリマーであることから成形可能である
という利点を有する実用性の高いものである。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図、及び第3図は、それぞれ実施例1.2
、及び3で得られた液晶化合物の’H−NMRチャート
を表すものである。 第4図、第5図、及び第6図は、それぞれ実施例6.7
、及び8で得られた液晶ポリマーのtH−NMRチャー
トを表すものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、下記一般式で示される液晶化合物 CH_2=CH−R(1) (式中、Rは下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される基であり、 kは1〜30の整数であり、 R^1は▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
    化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、又は▲数式、化学
    式、表等があります▼ であり、 Xは−COO−又は−OCO−であり、 pは0又は1であり、 qは0〜10の整数であり、 *のついたCは不斉炭素原子である。) 2、下記一般式で表される繰り返し単位を有する液晶ポ
    リマー。 ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中、Rは下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される基であり、 kは1〜30の整数であり、 R^1は▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
    化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、又は▲数式、化学
    式、表等があります▼であり、 Xは−COO−又は−OCO−であり、 pは0又は1であり、 qは0〜10の整数であり、 *のついたCは不斉炭素原子である。)
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JPH02231460A (ja) * 1989-03-03 1990-09-13 Adeka Argus Chem Co Ltd アルケノキシシアノビフェニル化合物
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JP2006117564A (ja) * 2004-10-20 2006-05-11 Chisso Corp 光重合性化合物およびそれを含む組成物

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