JPH0245450A - 液晶化合物及び液晶ポリマー - Google Patents

液晶化合物及び液晶ポリマー

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JPH0245450A
JPH0245450A JP19455588A JP19455588A JPH0245450A JP H0245450 A JPH0245450 A JP H0245450A JP 19455588 A JP19455588 A JP 19455588A JP 19455588 A JP19455588 A JP 19455588A JP H0245450 A JPH0245450 A JP H0245450A
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JP
Japan
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liquid crystal
formula
compound
mmol
crystal compound
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JP19455588A
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English (en)
Inventor
Toshiharu Uchida
内田 俊治
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Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0245450A publication Critical patent/JPH0245450A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明は新規な液晶化合物及び液晶ポリマーに関するも
のである。さらに詳しくいえば、本発明は、オプトエレ
クトロニクス分野、特に電卓、時計などの表示素子、電
子光学シャ・ンター、電子光学絞り、光変調器、光通信
光路切換スイッチ、メモリー、液晶プリンターヘッド、
焦点距離可変レンズなどの種々の電子光学デバイスとし
て有用な、常温付近でも強誘電性を示す上に、外的因子
に対する応答速度が速くて動画表示が可能である液晶化
合物及び液晶ポリマーに関するものである。特に、本発
明の液晶ポリマーは、大画面や屈曲画面の表示素子とし
て高い実用性を有するものである。
【従来の技術〕
従来、低分子液晶を用いた表示素子は電卓、時計などの
デジタル表示に広く使用されている。これらの利用分野
では、通常、従来の低分子液晶は間隔をミクロンオーダ
ーで制御した2枚のガラス基板の間に挟んで使用されて
いる。しかしながら、このような間隙の調整は大型画面
および曲面画面では実現が不可能であった。この難点を
解決する1つの手段として、液晶を高分子化し、それ自
体を成形可能ならしめることが試みられている0例えば
、特開昭55−21479号公報、特開昭63−992
04号公報、及びEP−0184482号公報には、各
種のポリアクリレート系の強誘電性高分子液晶が開示さ
れているが、これらの高分子液晶は強誘電性を示す温度
領域が高く、実用性において必ずしも満足しうるものと
は言い難かった。さらに、これらの高分子液晶には、電
界など外的因子の変化に対するその透過光量変化等の応
答速度が一般に遅いという難点もあった。 また、前記特開昭55−21479号公報に示されてい
る高分子液晶は、ポリマー自体は室温では液晶としての
性質を示さず、ガラス転移温度以上で透明化温度未満の
温度範囲で加熱して液晶化しなければならないという欠
点を有している。 〔発明が解決しようとする課雌〕 本発明の第一の目的は、常温付近でも強誘電性を示す上
に、外的因子に対する応答が速く動画表示が可能な液晶
化合物を提供することにある。本発明の第二の目的は、
この液晶化合物をモノマー前駆体として合成されるポリ
マーであって、上記液晶化合物の特長に加え、大画面、
屈曲画面の表示素子として有利に使用できるという利点
を有する液晶ポリマーを提供することにある。 〔課題を解決するための手段〕 本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、710ゲン置換
ベンゼン環を分子内に有する特定構造の低分子化合物、
及びその低分子化合物を七ツマー前駆体として用いて製
造されるポリマーが常温付近で強誘電性を示し、かつ電
界応答速度も極めて速いことを見い出し、本発明を完成
するに至った。 すなわち、本発明は、下記−数式で示される液晶化合物
を提供するものである。 C1l□=CI (C11g) kO−A−COO−B
−(−C−)−0−R”鋪 (式中、kは1〜30の整数であり、 −G−CIl□C110→− ここで、a及びbは、それぞれ独立に0〜4の整数であ
り、互いに同一であっても異なっていてもよくζaとb
の和がOになることはなく、Yはハロゲンであり、互い
に同一であっても異なっていてもよく、 AとBとは互いに同一であっても異なっていてもよ く
 、 mは0又は1であり、 R8は不斉炭素を1個以上含む炭素数3〜10の光学活
性基である。) さらに本発明は、上記液晶性化合物をモノマー前駆体と
して合成され、下記−数式で表される繰り返し単位を有
する数平均分子量1,000〜5oo、oooの液晶ポ
リマーをも提供するものである。 (式中、k、A、B、m、及びR′″は、先に規定した
と同じ意味を有する。) 上記式(1)及び(2)において、kは1〜30の整数
であり、好ましくは6〜12の整数である。 上記式(1)及び(2)において、A及びBの具体例と
しては、例えば下式で表される基が挙げられる。 上記式(1)及び(2)において、光学活性基「の具体
例としては、例えば下記−数式で示される基が挙げられ
る。 上記式(3)で表される光学活性基のうち、好ましいも
のの具体例としては、例えば2−メチルブチル基、2−
フルオロオクチル基、2−クロロ−1−メチルプロピル
基、2−シアノブチル基、1−(トリフルオロメチル)
へブチル基が挙げられる。 以下に、本発明の液晶化合物の一般的な合成方法を示す
。 (式中、R1及びR2はそれぞれ−C1h、ハロゲン、
CN又は−CF、を表し、互いに同一であっても異なっ
ていてもよく、 tはO又は1であり、 S及びUはそれぞれO〜Bの整数を表し、ただし上記式
で表される光学活性基中の総炭素数は3〜10の範囲で
あり、 ただし、R1が−C113でLがOである場合、又はも
が1でR2が−011,である場合には、UはOではな
い。 (イ)  1  、mが1である 1 人 の入戊 (イ■) CIIZ=CII(CIIZ)kO−A’ −COO−
(@)、−COOR”の合成 (A’は、先に規定した基Aのうち、少な(とも1個の
ハロゲンにより置換された基を意味する。 下記の反応式で示されるように、アルテノール(1)を
ピリジンの存在下、塩化チオニル等のハロゲン化剤でハ
ロゲン化し、アルケンハライド(If)を得る。アルケ
ンハライド(n)と化合物(rl)とを、炭酸カリウム
等のアルカリの存在下、メチルエチルケトン等の適当な
溶媒中で反応させてニトリル体(IV)を得る0次いで
このニトリル体(IV)をエタノール等の溶媒中で水酸
化カリウム等のアルカリで加水分解し、カルボン酸体(
■)を得る。 一方、式(Vl)の化合物と光学活性アルコール(■)
とを、適当な溶媒、例えばベンゼンなどの溶媒中におい
て、エステル化触媒、例えば濃硫酸やP−)ルエンスル
ホン酸などの存在下に反応させてエステル化し、ヒドロ
キシル体(■)を得る。 次いで、カルボン酸体(V)を酸クロライド体とした後
、この酸クロライド体とヒドロキシル体(■)とをテト
ラヒドロフラン等の溶媒中でトリエチルアミンの存在下
反応させ、目的とする液晶化合物(IK)を得る。 CHt2CB(CHz)hOH−−→ CHt=CH(
CHz)ml(1)               (
n)(イ■) CHz=CII(C1lt)kO−(@)r−COO−
B’ −COOR” (7)合成(B’は、先に規定し
た基Bのうち、少なくとも1個のハロゲンにより置換さ
れた基を意味する。 下記反応式に示される如く、まずニトリル化合物(X)
を水酸化カリウム等のアルカリで加水分解し、カルボン
酸体(XI)を得る。カルボン酸体(XI)と光学活性
アルコール(■)とをエステル化し、ヒドロキシル体(
XI[)を得る。ただし、化学的に不安定な光学活性基
を導入する場合には、カルボン酸体(X I )を−旦
アセトキシ体に変換する。 一方、アルケンハライド(rl)と式(lの化合物とを
反応させてエーテル化し、カルボン酸体(XI[)を得
る。 次いで、カルボン酸体(XII[)をヒドロキシル体(
Xll)と反応させてエステル化し、目的とする液晶化
合物(XIV)を得る。 (イ■) CHz=CII(CHz)mO−A’ −COO−8’
 −COOR”ノ合成下記反応式で表される如く、上記
カルボン酸体(V)を上記ヒドロキシル体(X■)と反
応させ゛てエステル化することにより、目的とする液晶
化合物(XV)を得ることができる。 ↓               ↑ (Cl、COO−8’ −COOH+ R”Oll  
−+  CHICoo−B’ −COOR” )底 (口の) 上記(イ■)の合成方法において、ヒドロキシル体(■
)の代わりに下記ヒドロキシル体(X■)を用い、同様
の反応を行うことにより、目的とする液晶化合物(X■
)を得ることができる。 ここで、ヒドロキシル体(XV[)は、下記の反応式で
示されるように、前記光学活性アルコール(■)をトシ
ル化し、これに下記化合物(X■)反応させることによ
り得られる。 こごで、ヒドロキシル体(XIX)は、下記の反応式で
示されるように、前記光学活性アルコール(■)をトシ
ル化し、これに下記化合物(XX I )を反応させる
ことにより得られる。 (口■) C112=CII(CIIZ)kO−(@)、−COO
−B’−OR”の合成上記(イ■)の合成方法において
、ヒドロキシル体(Xll)の代わりに下記ヒドロキシ
ル体(X■)を用い、同様の反応を行うことにより、目
的とする液晶化合物(XX)を得ることができる。 応弐で示されるようにして合成される。 → 110−8’  −OR” (口■) CIl□−C1l (CIl z) 1=o−八’  
−COO−B’  −OR”の合成 上記(イ■)の合成方法において、ヒドロキシル体(X
ll)の代わりに下記ヒドロキシル体(X■)を用い、
同様の反応を行うことにより、目的とする液晶化合物(
XXn)を得ることができる。 なお、上記反応式中、rはl又は2の整数を表す。 本発明に用いられるアルケノール(1)の好適な具体例
としては、例えば、7−オクテン−1−オール、9−デ
セン−1−オールへ8−ノネン−1−オール、11−ド
デセン−1−オール、及び13−テトラデセン−1−オ
ールが挙げられる。 本発明に用いられる光学活性アルコール(■)の具体例
としては、例えば(+1−2−メチルブタノール、(−
)−2−メチルブタノール、(+)−2−クロロブタノ
ール、(−)−2−クロロブタノール、(+)−2−メ
チルペンタノール、(−)−2−メチルペンタノール メチルペンタノール、(−)−3−メチルペンタノール
、(+)−4−メチルヘキサノール、()−4−メチル
ヘキサノール、(+)−2−クロロプロパツール、(−
12−クロロプロパツール、(’+)−1−メチルヘプ
タツール、(=)−t−メチルへフ゛タノール、(+)
−6−メチルオクタツール、(−)−6−メチルオクタ
ツール、D)−2−シアノフ′タノール、(−)−2−
シアノフ゛タノール、(+)−2−フ′タノール、()
−2−フ′タノール、(+)−2−ペンタノール、(−
)−2−ペンタノール、(+12−オクタツール、(−
1−2−オクタツール、(+)=2−フルオロオクタツ
ール、(−12−フルオロオクタツール、(−1−)−
2−フルオロヘキサノール、(−)−2−フルオロヘキ
サノール、(−1−)−2−フルオロノナノール、(−
)−2フルオロノナノール、(+)−2−クロロ−3=
メチルペンタノール、(−に2−クロロ−3メチルペン
タノール、(十lー3ークロロー2ブクノール、(−1
−3−クロロ−2−ブタノール、及びR−(+)−1,
1,l、−1−リフルオロ−2−オクタツールが挙げら
れる 好ましくは(−)−2−メチルブタノール、(−)−2
−フルオロ−1−オクタツール、(−)−3−クロロ−
2−ブタノール、及びR−(+)−1,1,1,−)リ
フルオロ−2−オクタツールが用いられる。 本発明に用いられる上記ニトリル化合物(III)(H
O−A’ −CN )の好適な具体例としては、例えば
4−シアノ−2−フルオロフェノール、4−シアノ−3
−フルオロフェノール、4−シアノ−2−クロロフェノ
ール、及び4−シアノ−3−クロロフェノールが挙げら
れる。 本発明に用いられる上記化合物(Vl)酸及び4′−ヒ
ドロキシビフェニル−4−カルボン酸である。 本発明に用いられる上記ニトリル化合物(X)(lo−
8’ −CN )の好適な具体例としては、例えば4−
シアノ−2−フルオロフェノール°、4−シアノ−3−
フルオロフェノール、4−シアノ−2クロロフエノール
、及び4−シアノ−3−クロロフェノールが挙げられる
。 本発明に用いられる上記化合物(X■)(lo−(@)
、OH)は、ハイドロキノン及び4゜4′−ジヒドロキ
シビフェニルである。 本発明に用いられる上記化合物(XX l )(110
−8’ −OR)の好適な具体例としては、例えば2−
フルオロハイドロキノン及び2−クロロハイドロキノン
が挙げられる。 本発明の液晶化合物の具体例としては、例えば下記のも
のが挙げられる。 ■ 4− (4’ −(9−デセニルオキシ)−3−フ
ルオロベンゾイルオキシ)安息香酸2−メチルブチルエ
ステル ■ 4− (4’ −(9−デセニルオキシ)−3″−
フルオロベンゾイルオキシ)安息香酸2−フルオロオク
チルエステル ■ 4−(4’−(13−テトラデセニルオキシ)−3
′−フルオロベンゾイルオキシ)安息香酸2−クロロ−
1−メチルプロピルエステル■ 4− (4’ −(9
−デセニルオキシ)−2′−フルオロベンゾイルオキシ
)安息香酸2−シアノブチルエステル ■ 4− (4’ −(9−デセニルキシ)−2′フル
オロベンゾイルオキシ)安息香酸2−メチルブチルエス
テル ■ 4− (4’ −(9−デセニルオキシ)−2′フ
ルオロベンゾイルオキシ)安息香酸1− ()リフルオ
ロメチル)ヘプチルエステル ■ 4−(9−デセニルオキシ)−2−フルオロ安息香
酸4’−(2−メチルブトキシ)フェニルエステル ■ 4− [4’ −(4” −(9−デセニルオキシ
)−3“−フルオロベンゾイルオキシ)フェニル]安息
香酸2−メチルブチルエステル■ 4− (4’ −(
9−デセニルオキシ)ベンゾイルオキシ)−2−フルオ
ロ安息香酸2−メチルブチルエステル [相] 4− (4’ −(9−デセニルオキシ)ベン
ゾイルオキシ)−3−フルオロ安りロ、香酸2−メチル
ブチルエステル ■ 4−[4’ −(4“−(9−デセニルオキシ)フ
ェニル)ベンゾイルオキシ]〜3−フルオロ安息香酸2
−メチルブチルエステル @  4−E4’−(4“−(9−デセニルオキシ)フ
ェニル)ベンゾイルオキシ]−2−フルオロ安息香82
−メチルブチルエステル @  4−[4’−+4”−(7−オクチニルオキシ)
フェニル)ベンゾイルオキシ]−2−フルオロ安息香酸
2−フルオロオクチルエステル[相] 4−[4’ −
(13−テトラデセニルオキシ)ベンゾイルオキシ)−
2−フルオロ安息香162−クロロ−1−メチルプロピ
ルエステル■ 4− +4’ −(9−デセニルオキシ
)ベンゾイルオキシ)−3−フルオロ安息香酸l−(ト
リフルオロメチル)へブチルエステル @)  4−(4’−(7−オクチニルオキシ)−3−
フルオロベンゾイルオキシ)安息香酸2−フル才ロオク
チルエステル 本発明の液晶ポリマーは、上記の如くして合成された液
晶化合物をジクロロメタン等の適当な溶媒中でm−クロ
ロ過安息香酸等の過酸でエポキシ化して得られるエポキ
シ体を重合せしめることにより得ることができる。 C1,・CH(CH□)hO−A−COO−8−(−C
−)−−0〜R0次に、このようにして得られた、一種
または二種以上のエポキシ体モノマーを重合して、本発
明の液晶ポリマーを合成するが、この際重合方法として
公知のカチオン重合法などを採用することができる。 カチオン重合の触媒として、各種のものが知られている
が、硫酸、リン酸、過塩素酸のようなプロトン酸、三フ
ッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、塩化第
二スズのようなルイス酸、三フフ化ホウ素エーテラート
などが挙げられ、この中で塩化第二スズが好適に用いら
れる。 また、有機アルミニウム錯体等を用いた配位重合を行う
ことも可能である。ごの場合には数平均分子量30,0
00以上のものが得られる。 重合方法としては、塊状重合、スラリー重合、溶液重合
などの種々の方式が知られており、これらのいずれの方
式を用いてもよいが、溶液重合が好ましい。 重合温度は、触媒の種類に依存し一様ではないが、通常
、0〜30゛Cが適当である。 重合時間は重合温度など他の要因によって異なるが、通
常1〜6日間である。 分子量の調節は、公知の分子M調節剤の添加及び/又は
七ツマ−に対する触媒の濃度の調節によって行うことが
できる。 塊状重合方式においては、前記モノマーと開始剤とを十
分に混合し、その混合物を十分に脱気し、2枚の基板、
例えばガラス基板の間に導入し、加熱することによって
、ポリマーを基板間に密着した状態で直接に固定化する
こともできる。 スラリー重合、溶液重合方式の場合の溶媒としては、公
知の不活性溶媒を用いることができ、なかでもヘキサン
、ジクロロメタン、又はヘンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族系の溶媒が好適に用いられる。 また、重合反応および前記エポキシ化の反応においては
、必須ではないが、アルゴン、窒素等の不活性ガスで系
を置換して行うことが好ましい。 本発明の液晶ポリマーの数平均分子量は、1゜000〜
500,000である。l、000未満であると該液晶
ポリマーのフィルム、塗膜としての成形性に支障を生じ
る場合があり、一方、50o、oooを超えると応答速
度が遅いなどの好ましくない効果の現れることがある。 そして、数平均分子量の特に好ましい範囲はA及びBの
種類、kの値、R“の光学純度などに依存するので一概
に規定できないが、通常2,000〜too、000で
ある。 このようにして得られた液晶ポリマーは、公知の成膜法
、例えばキャスティング法、Tダイ法、インフレーショ
ン法、カレンダー法、延伸法などによってフィルムに成
形して用いることができる。 フィルム状のポリマーは、2枚の通常のガラス基板はも
とより、大型のガラス基板、曲面状のガラス基板、ポリ
エステルフィルムなどの間にはさんで液晶デイスプレー
、電子光学シャッター、電子光学絞りなどの種々のオプ
トエレクトロニクスの分野に利用することができる。ま
た、適当な溶媒に熔解したポリマー溶液をガラス基板な
どの基板面に塗布し、溶媒を蒸発させることによって、
直接基板面上に密着した状態でフィルム化することもで
きる。 本発明の液晶化合物及び液晶ポリマーは、その相転移温
度の測定から、カイラルスメクチックC相液晶状態が、
常温付近を含む広い温度領域で実現するごとが確認され
た。また、常温付近における応答時間も速いことが確認
された。 本発明の液晶ポリマーにおいては、スメクチッり相液晶
の性質と、成形容易であるという典型的なポリマーの性
質とが結合しているので、インテグレーテッドオプティ
クス、オプトエレクトロニクス、情報記憶の分野に数多
くの応用可能性がある。例えば、種々の形状のディジタ
ル表示デイスプレィなどの液晶デイスプレィ、電子光学
シャッター、光通信用光路切換スイッチなどの電子光学
スイッチ、電子光学絞り、メモリー素子、光変調器、液
晶光プリンターヘッド、焦点距離可変レンズなどの種々
の電子光学デバイスとして使用することができる。 なお、必要に応じて、前記液晶ポリマー同志の混合、他
のポリマーとの混合、安定剤、可塑剤などを含めた種々
の無機、有機および金属類等の添加物の添加など、当業
界においてよく知られている数多くの処理方法により、
改善することができる。 (以下空白) 〔実施例〕 以下、本発明を実施例により説明するが、本発明の範囲
はこれら実施例によりなんら限定されるものではない。 なお、得られた液晶化合物、液晶ポリマーの構造は、N
MR,、IR,元素分析により確認し、また相転移温度
の測定及び相の確認は、それぞれDSC及び偏光顕微鏡
により行った。(glasSニガラス状態、Cry:結
晶状態、SmA:スメクチックA相、l5or等方相、
相転移挙動の数字は相変化温度を°Cで表したものであ
る。)電界応答速度は次のようにして測定した。 Ipfhlにゝ1 のゞ 20X10■のITO基板2枚の間に液晶化合物又は液
晶ポリマーを挟み、スペーサーで厚さを25μmに調製
し、交流電場E=2Xl ObV/mをかけ、その際の
透過光量の変化(0→90%)の応答時間を測定した。 実施例1 〔下記式で表される液晶化合物〕 4− (4’ −(9−デセニルオキシ)−3′−フル
オロベンゾイルオキシ)安息香酸2−メチルブチルエス
テル IO−ヨード−I−デセン26.8ミリモル(7゜1g
)、4−シアノ−2−フルオロフェノール26.8ミリ
モル(3,7g)及び炭酸カリウム107ミリモル(1
4,8g)のMEK (メチルエチルケトン)100m
!溶液を10時間還流撹拌した。反応液を濾過及び濃縮
した後、カラムクロマトグラフィーにより精製し、目的
とするニトリル体5.5gを得た。(収率75%) p−ヒドロキシ安息香酸4.0g及び(−)−2−メチ
ルブタノール12.5gを硫酸の存在下、トルエン中で
、水を除去しながら6時間還流した。 次に、反応液を水洗し、硫酸を除去した。その後、乾燥
、濃縮、及びカラムクロマトグラフィーによる精製を行
い、目的とするヒドロキシル体5.0gz3 = C室温で液体、〔α)D4.9° (CDCl2))を
得た。(収率83%) 1、■ 4−9−−”セニルオキシ −3−フルオロベ
ンゾニトリルのA 1、■で得たニトリル体20ミリモル(5,5g)及び
水酸化カリウム80ミリモルをエタノール2(ld及び
水4dからなる混合溶媒に熔解し、得られた溶液を4時
間還流攪拌した6次いで反応液に希塩酸を加えて酸性に
した。得られた酸性溶液に水を加えて塩化メチレンにて
抽出した後、乾燥及び濃縮し、目的とするカルボン酸体
5.6gを得た。 (収率94%) 1、■ Ii−4’−9−デセニルオキシ −31,■
で得たカルボン酸体3.4ミリモル(1,0g)及び塩
化チオニル10.2ミリモル(1,2g)のクロロホル
ム1OI11溶液を3時間還流攪拌した後、反応液を減
圧fj4縮し、酸クロライド体を得た。 次に、1.■で得たヒドロキシル体3.4ミリモル及び
トリエチルアミン1dのTHF (テトラヒドロフラン
)10−溶液中へ、上記酸クロライド体のT HF 5
 d溶液を滴下し、次いで室温で10時間撹拌した0反
応液を濃縮した後、水を加えてエーテル抽出した。抽出
液を乾燥、濃縮した後、カラムクロマトグラフィーによ
り精製し、目的とする液晶化合物1.50 gを得た。 (収率91%)得られた液晶化合物の元素分析の結果を
下記に示す。 また、得られた液晶化合物の相転移挙動及び電界応答速
度の測定結果を第1表に示し、’ H−NMl?分析の
チャートを第1図に示した。 実施例2 〔下記式で表される液晶化合物〕 4− [4’ −(4’ −(9−デセニルオキシ)3
#−フルオロベンゾイルオキシ)フェニル]安息香酸2
−メチルブチルエステル 41−ヒドロキシビフェニル−4−カルホン酸93ミリ
モル(20g)及び(S) −(−) −2メチルブタ
ノ一ル4ロアミリモル(41g)を濃硫酸2dの存在下
、ベンゼン150d中で、水を除去しながら25時間還
流した。反応液を濃縮し、トルエン−ヘキサン混合溶媒
より再結晶し、目的とするヒドロキシル体26.0g 
(m、p、116〜117.8’C1〔a’J o =
4.35@(CHC13)を得た。(収率98%) また、得られた液晶化合物の相転移挙動及び電界応答速
度の測定結果を第1表に示し、’11−NMR分析のチ
ャートを第2図に示した。 実施例3 〔下記式で表される液晶化合物〕 実施例】、■で得たカルボン酸体3.4ミリモル(1,
0g)と2.■で得たヒドロキシル体3.4ミリモル(
0,97g)を用いて、実施例1.■と同様の操作を行
い、目的とする液晶化合物1.46 gを得た。(収率
79%) 得られた液晶化合物の元素分析の結果を下記に示す。 4− (4’ −(9−デセニルオキシ)ベンゾイルオ
キシ]−2−フルオロ安息香酸2〜メチルブチルエステ
ル 3、■ 2−フルオロ−4−ヒドロキシル体自  の合
成 2−フルオロ−4−ヒドロキシベンゾニトIJル20ミ
リモル(5,5g)及び水酸化カリウム80ミリモルを
、エタノール2〇−及び水2dの混合溶媒に溶解し、得
られた溶液を4時間還流攪拌した後、希塩酸を加えて酸
性にした。得られた反応溶液に水を加えた後、塩化メチ
レンにて抽出し、抽出液を乾燥及び′a縮し、目的とす
るカルボン酸体5.6gを得た。(収率94%) 3、■で得たカルボン酸体20ミリモル(3,1g)と
2−メチル−1−ブタノール40ミリモル(3,5g)
を硫酸の存在下、トルエン中で水を、除去しながら5時
間還流した。反応液を濃縮した後、カラムクロマトグラ
フィーにより精製し、目的とするヒドロキシル体2.9
gを得た。(収率64%) 3、■  −9−一゛セニルオキシ  自  の威 9−デセン−1−オール26.0 gにピリジン10滴
を加え、ナスフラスコに入れた。水冷下、塩化チオニル
24.0 gを滴下した0滴下後、70°Cで8.5時
間反応を行った。反応後、ジクロロメタンで反応液を希
釈し、炭酸カリウム水溶液で洗浄した。硫酸マグネシウ
ム上で乾燥した後、減圧濃縮した。残渣をカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、lO−クロロ−1−デセン
27.7 gを得た。(収率95%) 得られたlO−クロロ−1−デセンl O,Ogとヨウ
化ナトリウム25gとを2−ブタノン中で80°Cr1
O時間反応させ、ヨード化した。水洗、乾燥、溶媒除去
を行った後、p−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル1
1.5g、炭酸カリウム9.6gを加え、無水エタノー
ル中で15時間還流した。 水酸化カリウム水溶液(水酸化カリウム4゜Ogを含む
)を加え、さらに5時間80゛Cで加熱した。 反応後、塩酸酸性としてから、減圧濃縮した。残渣に水
を加えて懸濁させ、不溶物を集めて乾燥し、目的とする
カルボン酸体9.5gを得た。(収率60%) 3、■ 4− 4’−9−−’セニルオキシ ベン3、
■で得られたカルボン酸体3.0ミリモル(0゜85g
)及び塩化チオニル9.0ミリモル(1,1g)のトル
エン20d溶液を80°Cで2時間撹拌した後、反応液
を減圧濃縮し、酸クロライド体を得た。次に、3.■で
得たヒドロキシル体1.5ミリモル(0,34g)及び
トリエチルアミン1mlのTHFlOd溶液中へ、上記
酸クロライド体のTHF5Inl溶液を滴下し、次いで
混合液を室温で10時間攪拌した。反応液を濃縮した後
、水を加えてエーテル抽出した。抽出液を乾燥、濃縮し
た後、カラムクロマトグラフィーにより精製し、目的と
する液晶化合物0.57 gを得た。(収率79%)得
られた液晶化合物の元素分析の結果を下記に示す。 また、得られた液晶化合物の相転移挙動及び電界応答速
度の測定結果を第1表に示し、 ’H−NMR分析のチ
ャートを第3図に示した。 実施例4 〔下記式で表される液晶化合物の合成〕4− [4’ 
−(4’ −(7−オクチニルオキシ)フェニル)ベン
ゾイルオキシ〕−2−フルオロ安息香酸2−フルオロオ
クチルエステル 8−ヨード−1−オクテン20ミリモル(4,74g)
、4−(4’−ヒドロキシフェニル)ベンダニトリル2
0ミ9 カリウム80ミリモル(11.0g)のMEKloo 
d懸濁液を20時間還流攪拌し、次いで反応液を濾過、
濃縮した。′a縮物をカラムクロマトグラフィーにより
精製し、目的とするニトリル体4.66gを得た。(収
率76、%) 4、■で得たニトリル体10ミリモル(3.1g)及び
水酸化カリウム40ミリモルをエタノール15 In1
及び水3 mlからなる混合溶媒に溶解し、得られた溶
液を1時間還流攪拌した後、希塩酸を加えて酸性にした
。得られた溶液について、順次濾過、塩化メチレンによ
る洗浄、エタノールによる洗浄、乾燥を行い、目的とす
るカルボン酸体2.9gを得た。(収率90%) 4−ヒドロキシ−2−フルオロ安息香酸をアセトキシ化
して得た4−アセトキン−2−フルオロ安息香酸20ミ
リモル(3.96g)及び塩化チオニル60ミリモル(
7.2g)のトルエン50d溶液を80°Cで2時間攪
拌し、反応液を減圧′a縮し、酸クロライド体を得た。 (−)−2−フルオロ1−オクタツール15ミリモル(
2.2g)及びトリエチルアミン2I11のTHF30
−溶液に上記酸クロライド体のT I( F 5 m溶
液を滴下し、次いで室温で8時間攪拌した。反応液を濃
縮した後、水を加えてエーテル抽出した。抽出液を乾燥
した後、ヘンシルアミン0. 1モル(10.7g)を
加えて10時間攪拌した。反応液を炭酸カリウム?8液
で洗浄した後、乾燥、am、及びカラムクロマl−グラ
フィーによる精製を行い、目的とするヒドロキシル体2
.9gを得た。(収率68%) 4、■ 4−ヒドロキシ−2−フルオロ−自  2−フ
ルオロオクチルエステルのム ロ″自  2−フルオロオクチルエステル4、■で得た
カルボン酸体7ミリモルと4.■で得たヒドロキシル体
5ミリモルを用いて実施例3.■と同様の操作を行い、
目的とする液晶化合物2.3gを得た。(収率77%) 得られた液晶化合物の元素分析の結果を下記に示す。 5、■ 4−ヒドロキシ−2−フルオロ′″″I″+2
4ーアセトキシ−2−フルオlコ安息香酸20ミリモル
と(−1−3−クロロ−2−ブタノール15ミリモルを
用いて実施例4.■と同様の操作を行い、目的とするヒ
ドロキシル体2.2gを得た。 (収率59%) また、得られた液晶化合物の相転移挙動及び電界応答速
度の測定結果を第1表に示した。 実施例5 〔下記式で表される液晶化合物〕 4−(13−テトラデセニルオキシ)安息香酸7ミリモ
ルと5.■で得たヒドロキシル体5ミリモルを用いて実
施例3,■と同様の操作を行い、目的とする液晶化合物
2.2gを得た。(収率80%)4− f4’ − (
13〜テトラデセニルオキシ)ヘンジイルオキシ)−2
−フルオロ安息香酸2−クロロ−1−メチルプロピルエ
ステル 得られた液晶化合物の元素分析の結果を下記に示す。 また、得られた液晶化合物の相転移挙動及び電界応答速
度の測定結果を第1表に示した。 ロー2〜オクタツール15ミリモルを用いて実施例4.
■と同様の操作を行い、目的とするヒドロキシル体2.
5gを得た。(収率52%)実施例6 [下記式で表される液晶化合物の合成]4− (4’ 
−(9−デセニルオキシ)ベンゾイルオキシ)−3−フ
ルオロ安息香酸2−トリフルオロメチルヘプチルエステ
ル 実施例3.■と同様にして合成したP−(9−デセニル
オキシ)安息香酸5ミリモルと6.■で得たヒドロキシ
ル体3ミリモルを用いて実施例3.■と同様の操作を行
い、目的とする液晶化合物1.2gを得た。(収率69
%) 得られた液晶化合物の元素分析の結果を下記に示す。 4−アセトキシ−2−フルオロ安息香酸20ミリモルと
(R)−(+)−1,1,1−1−リフルオまた、得ら
れた液晶化合物の相転移挙動及び電界応答速度の測定結
果を第1表に示した。 実施例7 〔下記式で表される繰り返し単位を有する液晶ポリマー
〕 ポリ[4−(4’ −(9,10−エポキシデシルオキ
シ)−31−フルオロベンゾイルオキシ)安息香酸2−
メチルブチルエステル〕 7、■ エポキシ化 実施例1.■で得た液晶化合物1.5ミリモル(730
tag)及びm−クロロ過安息香酸1.8ミリモル(3
1(1+g)の塩化メチレン1(ld溶液を反応容器に
入れ、アルゴン置換した後、室温で5時間攪拌し、次い
で一晩放置した。反応液を炭酸カリウム水溶液、次いで
水で洗浄した後、乾燥、濃縮し、目的とするエポキシ体
550mgを得た。(収率73%) 7、■ ポリマーの合成 7、■で得たエポキシ体1.1ミリモルの塩化メチレン
10m溶液を反応容器に入れ、雰囲気をアルゴン置換し
た。次いで、塩化第二スズ0.06ミリモル(16mg
)を加えて室温で5日間攪拌した。 反応液を濃縮し、次いでカラムクロマトグラフィーによ
り精製し、目的とする液晶ポリマー(Mn=1,500
)450mgを得た。(転化率81%) 得られた液晶ポリマーの相転移挙動及び電界応答速度の
測定結果を第2表に示し、’H−NMR分析のチャート
を第4図に示した。 実施例8 〔下記式で表される繰り返し単位を有する液晶ポリマー
の合成〕 ポリ[4−[4’ −(4″−(9,10−エポキシデ
シルオキシ)−3’−フルオロベンゾイルオキシ)フェ
ニル]安息香酸2−メチルブチルエステル] 8、■ エポキシ化 的とする液晶ポリマー(Mn=2,900)64011
Igを得た。(転化率89%) 得られた液晶ポリマーの相転移挙動及び電界応答速度の
測定結果を第2表に示し、’ H−N M R分析のチ
ャートを第5図に示した。 実施例9 〔下記式で表される繰り返し単位を有する液晶ポリマー
の合成〕 実施例2■で得た液晶化合物1.25ミリモル(700
mg)を用いて実施例7.■と同様の操作を行い、目的
とするエポキシ体660s+gを得た。 (収率91%) ポリ[4−(4’ −(9,10−エポキシデシルオキ
シ)ベンゾイルオキシ)−2−フルオロ安息香酸2−メ
チルブチルエステル] 9、■ エポキシ化 8、■ ポリマーの合成 8、■で得たエポキシ体1.14ミリモル(660鵬g
)を用い、実施例7.■と同様の操作を行い、目実施例
3.■で得た液晶化合物0.80ミリモル(390mg
)を用い実施例7.■と同様の操作を行い、目的とする
エポキシ体370e+gを得た。(収率93%) 9、■ ポリマーの合成 9、■で得たエポキシ体0.74ミリモル(370mg
)を用い実施例7.■と同様の操作を行い、目的とする
液晶ボリア −(Mn= 1. 900) 330mg
を得た。(転化率88%) 得られた液晶ポリマーの相転移挙動及び電界応答速度の
測定結果を第2表に示し、’H−NMR分析のチャート
を第6図に示した。 実施例1O 〔下記式で表される繰り返し単位を有する液晶ポリマー
の合成〕 ポリ[4−[4’ −(4’ −(7,8−エポキシオ
クチルオキシ)フェニル)ペンゾイルオキン]2−フル
オロ安息香酸2−フルオロオクチルエステル1 10、■ エポキシ化及びポリマーの合成実施例4.■
で得た液晶化合物2ミリモルを用いて実施例7.■及び
7.■と同様の操作を行い、目的とするン夜晶ポリ’?
  (Mn=2.500)910mgを得た。(転化率
:2段階で75%)得られた液晶ポリマーの相転移挙動
及び電界応答速度の測定結果を第2表に示した。 実施例11 〔下記式で表される繰り返し単位を有する液晶ポリマー
の合成〕 ポリ[4−[4’ −(13,l 4−エポキシテトラ
デシルオキシ)ベンゾイルオキシ)−2−フルオロ安息
香酸2−クロrj−1−メチルプロピルエステル] 11、■ エポキシ化及びポリマーの合成実施例5.■
で得た液晶化合物2ミリモルを用いて実施例7.■及び
7.■と同様の操作を行い、目的とする液晶ポリマー(
Mn=2,200)800gggを得た。(転化率:2
段階で69%)得られた液晶ポリマーの相転移挙動及び
電界応答速度の測定結果を第2表に示した。 実施例12 〔下記式で表される繰り返し単位を有する液晶ポリマー
の合成〕 目的とするエポキシ体525mgを得た。(収率88%
) 12、■ ポリマーの合成 12、■で得たエポキシ体0.88ミリモル(525m
g)を用いて実施例7.■と同様の操作を行い、目的と
する液晶ポリ?−(Mn=2,300)400ggを得
た。(転化率ニア6%) 得られた液晶ポリマーの相転移挙動及び電界応答速度の
測定結果を第2表に示した。 (以下余白) ポリ[4−(4’ −(9,10−エポキシデシルオキ
シ)ベンゾイルオキシ)−2−フルオロ安息!酸1−(
トリフルオロメチノリへブチルエステル]1′2.■ 
エポキシ化 実施例6.■で得た液晶化合物1.0ミリモル(580
mg)を用いて実施例7.■と同様の操作を行い、〔発
明の効果〕 本発明によれば、室温付近を含む広い温度領域で強誘電
性(Srsじ相)を示し、電界応答速度も極めて速い液
晶化合物及び液晶ポリマーを得ることができる。なかで
も、本発明の液晶ポリマーは、0〜40°Cを含む温度
温度領域で強誘電性を示すものであり、また成形可能で
あることからも、極めて実用性の高いも、のである。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図、及び第3図は、それぞれ実施例1.2
、及び3で得られた液晶化合物の’H−NMRチ中−ト
を表ナー ト4図、第5図、及び第6図は、それぞれ実施例7.8
、及び9で得られた液晶ポリマーの’HNMRチャート
を表す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、下記一般式で示される液晶化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中、kは1〜30の整数であり、 Aは▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化
    学式、表等があります▼であり、Bは▲数式、化学式、
    表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があります
    ▼であり、ここで、a及びbは、それぞれ独立に0〜4
    の整数であり、互いに同一であっても異なっていてもよ
    く、aとbの和が0になることはなく、 Yはハロゲンであり、互いに同一であっても異なってい
    てもよく、 AとBとは互いに同一であっても異なっていてもよく、 mは0又は1であり、 R^*は不斉炭素を1個以上含む炭素数3〜10の光学
    活性基である。) 下記一般式で表される繰り返し単位を有す る数平均分子量1,000〜500,000の液晶ポリ
    マー。 ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中、kは1〜30の整数であり、 Aは▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化
    学式、表等があります▼であり、Bは▲数式、化学式、
    表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があります
    ▼であり、ここで、a及びbは、それぞれ独立に0〜4
    の整数であり、互いに同一であっても異なっていてもよ
    く、aとbの和が0になることはなく、 Yはハロゲンであり、互いに同一であっても異なってい
    てもよく、 AとBとは互いに同一であっても異なっていてもよく、 mは0又は1であり、 R^*は不斉炭素を1個以上含む炭素数3〜10の光学
    活性基である。)
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0515972A1 (de) * 1991-05-25 1992-12-02 MERCK PATENT GmbH Polymerisierbare Flüssigkristallmaterialien und ferroelektrische smektische, flüssigkristalline Phasen aufweisende Polymerzusammensetzungen
US5187298A (en) * 1990-05-18 1993-02-16 Basf Aktiengesellschaft Monomers and their use for the production of a laser-optical recording element which can be repeatedly erased and recorded on
US5187248A (en) * 1989-05-26 1993-02-16 Basf Aktiengesellschaft Monomers and their use for the production of a laser-optical recording element which can be repeatedly erased and recorded on
US5207946A (en) * 1989-07-26 1993-05-04 Showa Shell Sekiyu K.K. Liquid crystal compounds
JP2006117564A (ja) * 2004-10-20 2006-05-11 Chisso Corp 光重合性化合物およびそれを含む組成物
US11698313B2 (en) 2017-04-24 2023-07-11 Igus Gmbh System for line monitoring in an energy chain

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