JPH03123758A - 液晶中間体及び液晶ポリマー - Google Patents
液晶中間体及び液晶ポリマーInfo
- Publication number
- JPH03123758A JPH03123758A JP25997789A JP25997789A JPH03123758A JP H03123758 A JPH03123758 A JP H03123758A JP 25997789 A JP25997789 A JP 25997789A JP 25997789 A JP25997789 A JP 25997789A JP H03123758 A JPH03123758 A JP H03123758A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- acid
- formula
- formulas
- coo
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 19
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 15
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 abstract description 8
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 abstract description 7
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 abstract description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 6
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 23
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- -1 (+)-4-hydroxybenzoic acid 2-chloro-2-ethoxycarbonyl-1-methylethyl ester Chemical compound 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 11
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 8
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 7
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JTGCXYYDAVPSFD-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 JTGCXYYDAVPSFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 5
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 4
- 150000001336 alkenes Chemical group 0.000 description 4
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 230000004044 response Effects 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 3-chloroperbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 3
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 3
- 239000005262 ferroelectric liquid crystals (FLCs) Substances 0.000 description 3
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IHTQUKBUJJKNFQ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-acetyloxyphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(OC(=O)C)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 IHTQUKBUJJKNFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDBUZIKSJGRBJP-UHFFFAOYSA-N 4-acetoxy benzoic acid Chemical compound CC(=O)OC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 GDBUZIKSJGRBJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGFSQVPRCWJZQK-UHFFFAOYSA-N 9-Decen-1-ol Chemical compound OCCCCCCCCC=C QGFSQVPRCWJZQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N Boron trifluoride etherate Chemical compound FB(F)F.CCOCC KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 2
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000006196 deacetylation Effects 0.000 description 2
- 238000003381 deacetylation reaction Methods 0.000 description 2
- QNXYZQSFDTZEBK-UHFFFAOYSA-N dodec-11-en-1-ol Chemical compound OCCCCCCCCCCC=C QNXYZQSFDTZEBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- UIZVMOZAXAMASY-UHFFFAOYSA-N hex-5-en-1-ol Chemical compound OCCCCC=C UIZVMOZAXAMASY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIWGJFPJRAEKMK-UHFFFAOYSA-N 1-(2H-benzotriazol-5-yl)-3-methyl-8-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carbonyl]-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione Chemical compound CN1C(=O)N(c2ccc3n[nH]nc3c2)C2(CCN(CC2)C(=O)c2cnc(NCc3cccc(OC(F)(F)F)c3)nc2)C1=O YIWGJFPJRAEKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxyphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 230000000397 acetylating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 101150117004 atg18 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 238000012718 coordination polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- FYXQIMAAEMCZLV-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-(4-hydroxyphenyl)benzoate Chemical compound C1=CC(C(=O)OCC)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 FYXQIMAAEMCZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NUVBSKCKDOMJSU-UHFFFAOYSA-N ethylparaben Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 NUVBSKCKDOMJSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- WXPWPYISTQCNDP-UHFFFAOYSA-N oct-7-en-1-ol Chemical compound OCCCCCCC=C WXPWPYISTQCNDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、液晶中間体及び液晶ポリマーに関するもので
ある。
ある。
さらに詳しくいえば、本発明はオプトエレクトロニクス
分野、特に電卓、時計などの表示素子、電子光学シャッ
ター、電子光学絞り、光変調器、光通信光路切換スイッ
チ、メモリー、液晶プリンターヘッド、焦点距離可変レ
ンズなどの種々の電子光学デバイスとして有用な液晶ポ
リマー及びこの液晶ポリマーの製造用に好適に利用する
ことができる液晶中間体に関するものである。
分野、特に電卓、時計などの表示素子、電子光学シャッ
ター、電子光学絞り、光変調器、光通信光路切換スイッ
チ、メモリー、液晶プリンターヘッド、焦点距離可変レ
ンズなどの種々の電子光学デバイスとして有用な液晶ポ
リマー及びこの液晶ポリマーの製造用に好適に利用する
ことができる液晶中間体に関するものである。
従来、低分子液晶を用いた表示素子は電卓、時計などの
デジタル表示に広く使用されている。これらの利用分野
では、通常、従来の低分子液晶は間隔をミクロンオーダ
ーで制御した2枚のガラス基板の間にはさんで使用され
ている。しかしながら、このような間隙の調整は大型画
面および曲面画面では実現が不可能であった。この難点
を解決する1つの手段として、液晶を高分子化し、それ
自体を成形可能ならしめることが試みられているしかし
ながら、これらの液晶ポリマーにおいては、電界など外
的因子の変化に対するその透過光量変化等の応答速度が
一般に遅く、未だ満足しうるちのは得られていない。
デジタル表示に広く使用されている。これらの利用分野
では、通常、従来の低分子液晶は間隔をミクロンオーダ
ーで制御した2枚のガラス基板の間にはさんで使用され
ている。しかしながら、このような間隙の調整は大型画
面および曲面画面では実現が不可能であった。この難点
を解決する1つの手段として、液晶を高分子化し、それ
自体を成形可能ならしめることが試みられているしかし
ながら、これらの液晶ポリマーにおいては、電界など外
的因子の変化に対するその透過光量変化等の応答速度が
一般に遅く、未だ満足しうるちのは得られていない。
また、現在までに知られている強誘電性液晶ポリマーの
SmC“相温度領域は、一般に2環骨格体では室温より
低温側に狭く現れ、また3環骨格体では、領域は広いが
室温より高温側に現れ、実用性が低かった(特開昭63
−264629号公報)。
SmC“相温度領域は、一般に2環骨格体では室温より
低温側に狭く現れ、また3環骨格体では、領域は広いが
室温より高温側に現れ、実用性が低かった(特開昭63
−264629号公報)。
本発明は、室温付近の幅広い温度領域においてSac”
相を有し、かつ大きな自発分極値を示すなど優れた液晶
特性を有する新規な強誘電性液晶ポリマーを提供するこ
とを目的とする。
相を有し、かつ大きな自発分極値を示すなど優れた液晶
特性を有する新規な強誘電性液晶ポリマーを提供するこ
とを目的とする。
本発明はまた、上記の液晶ポリマーの製造用の中間体と
して好適に利用することができる新規な光学活性化合物
である液晶中間体を提供することを目的とする。
して好適に利用することができる新規な光学活性化合物
である液晶中間体を提供することを目的とする。
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究を重
ねた結果、側鎖に相隣接する異なった種類の特定の光学
活性炭素を有する特定の構造のポリエーテル型ポリマー
が室温付近の幅広い温度領域においてSmC”相を有し
、かつ大きな自発分極値を示すなど優れた液晶特性を有
することを見い出し、その知見に基づいて本発明を完成
するに至った。
ねた結果、側鎖に相隣接する異なった種類の特定の光学
活性炭素を有する特定の構造のポリエーテル型ポリマー
が室温付近の幅広い温度領域においてSmC”相を有し
、かつ大きな自発分極値を示すなど優れた液晶特性を有
することを見い出し、その知見に基づいて本発明を完成
するに至った。
すなわち、本発明は、下記の一般式で表される繰り返し
単位からなる液晶ポリマーを提供するものである。
単位からなる液晶ポリマーを提供するものである。
〔但し、式中のXは−o−−coo−又は単結合であ。
す、Yは−coo−−o−又は−CH=CHCOO−で
あり、rは1〜30の整数であり、nはO〜9の整数で
あ炭素原子を表す。〕 本発明はさらに、上記液晶ポリマーを合成するための中
間体として、下記の一般式で表される液晶中間体を提供
するものである。
あり、rは1〜30の整数であり、nはO〜9の整数で
あ炭素原子を表す。〕 本発明はさらに、上記液晶ポリマーを合成するための中
間体として、下記の一般式で表される液晶中間体を提供
するものである。
は光学活性不斉炭素原子を表す。〕
本発明のポリマーの数平均分子量は、好ましくは1,0
00〜400.000である。1,000未満であると
該ポリマーのフィルム、塗膜としての成形性に支障を生
じる場合があり、一方、4oo、oooを超えると応答
速度が小さいなどの好ましくない効果の現れることがあ
る。そして、数平均分子量の特に好ましい範囲はX、Y
、Hの種類、r、nの値、置換基の光学純度などに依存
するので一概に規定できないが、3,000〜2oo、
oooである。
00〜400.000である。1,000未満であると
該ポリマーのフィルム、塗膜としての成形性に支障を生
じる場合があり、一方、4oo、oooを超えると応答
速度が小さいなどの好ましくない効果の現れることがあ
る。そして、数平均分子量の特に好ましい範囲はX、Y
、Hの種類、r、nの値、置換基の光学純度などに依存
するので一概に規定できないが、3,000〜2oo、
oooである。
以下に、本発明のポリマーの一般的な合成方法を示す。
本発明のポリマーは、下記一般式
〔但し、式中のmは1又は2であり、nはO〜9の整数
であり、p及びqは0又は1であり、じ(ここで、X、
Y、R,r、nは先に規定したと同じ意味を有する。) で示されるモノマーを公知の方法で重合することにより
得ることができる。
であり、p及びqは0又は1であり、じ(ここで、X、
Y、R,r、nは先に規定したと同じ意味を有する。) で示されるモノマーを公知の方法で重合することにより
得ることができる。
これらの七ツマ−は例えば次のようにして得ることがで
きる。
きる。
(1)Xが−0−で、Yが−COO−で、Rが下記の反
応式で示されるように、アルケニルオキシフェニル安息
香酸に5塩化リン等のハロゲン化剤を加え、ヘキサン等
の溶媒中で加熱して酸ハライドとする。次いでこの酸ハ
ライドと(+)−4−ヒドロキシ安息香酸2−クロロ−
2−アルコキシカルボニル−1−メチルエチルエステル
とをTHF等の溶媒中でトリエチルアミン等の存在下に
反応させ、エステル体を得た後、塩化メチレン等の適当
な溶媒中でm−クロロ過安息香酸等の過酸を用いてオキ
シラン化することにより、目的とする七ツマ−を得る。
応式で示されるように、アルケニルオキシフェニル安息
香酸に5塩化リン等のハロゲン化剤を加え、ヘキサン等
の溶媒中で加熱して酸ハライドとする。次いでこの酸ハ
ライドと(+)−4−ヒドロキシ安息香酸2−クロロ−
2−アルコキシカルボニル−1−メチルエチルエステル
とをTHF等の溶媒中でトリエチルアミン等の存在下に
反応させ、エステル体を得た後、塩化メチレン等の適当
な溶媒中でm−クロロ過安息香酸等の過酸を用いてオキ
シラン化することにより、目的とする七ツマ−を得る。
(式中Zはハロゲンである。)
ここで、下記式で表される(+)−4−ヒドロキシ安息
香酸2−クロロ−2−アルコキシカルボニル−1−メチ
ルエチルエステルは次のようにして得られる。
香酸2−クロロ−2−アルコキシカルボニル−1−メチ
ルエチルエステルは次のようにして得られる。
4−アセトキシ安息香酸を塩化チオニル等のハロゲン化
剤でハロゲン化して得られた酸ハライドに光学活性な3
−ヒドロキシ−2−クロロブタン酸アルキルエステル(
R’−OH)をトリエチルアミン等のアルカリの存在下
THF等の溶媒中で反応させてエステル化する。次いで
、エーテル等の溶媒中でベンジルアミンを用いて脱アセ
チル化することにより得られる。このものは液晶ポリマ
ーの合成に好適に用いられる新規な液晶中間体である。
剤でハロゲン化して得られた酸ハライドに光学活性な3
−ヒドロキシ−2−クロロブタン酸アルキルエステル(
R’−OH)をトリエチルアミン等のアルカリの存在下
THF等の溶媒中で反応させてエステル化する。次いで
、エーテル等の溶媒中でベンジルアミンを用いて脱アセ
チル化することにより得られる。このものは液晶ポリマ
ーの合成に好適に用いられる新規な液晶中間体である。
具体的には、(+)−4−ヒドロキシ安息香酸2−クロ
ロ−2−エトキシカルボニル−1−メチルエチルエステ
ルが好適に用いられる。
ロ−2−エトキシカルボニル−1−メチルエチルエステ
ルが好適に用いられる。
(2)Xが一〇−で、Yが−COO−で、Rが下記の反
応式で示されるように、アルケニルオキシ安息香酸に塩
化チオニル等のハロゲン化剤を加え、トルエン等の溶媒
中で加熱して酸ハライドとする。次いでこの酸ハライド
と(+)−4(4′−ヒドロキシフェニル)安息ti酸
2−り。
応式で示されるように、アルケニルオキシ安息香酸に塩
化チオニル等のハロゲン化剤を加え、トルエン等の溶媒
中で加熱して酸ハライドとする。次いでこの酸ハライド
と(+)−4(4′−ヒドロキシフェニル)安息ti酸
2−り。
ロー2−アルコキシカルボニル−1−メチルエチルエス
テルとをTHF等の溶媒中でトリエチルアミン等の存在
下に反応させ、エステル体を得た後、(1)と同様にし
てオキシラン化することにより、目的とする七ツマ−を
得る。
テルとをTHF等の溶媒中でトリエチルアミン等の存在
下に反応させ、エステル体を得た後、(1)と同様にし
てオキシラン化することにより、目的とする七ツマ−を
得る。
ここで、下記式で表される(+) −4−(4’−ヒド
ロキシフェニル)安息香酸2−クロロ−2−アルコキシ
カルボニル−1−メチルエチルエステルは次のようにし
て得られる。
ロキシフェニル)安息香酸2−クロロ−2−アルコキシ
カルボニル−1−メチルエチルエステルは次のようにし
て得られる。
4−(4’−アセトキシフェニル)安息香酸を塩化チオ
ニル等のハロゲン化剤でハロゲン化して得られた酸ハラ
イドに光学活性な3−ヒドロキシ−2−クロロブタン酸
アルキルエステルヲトリエチルアミン等のアルカリの存
在下THF等の溶媒中で反応させてエステル化する。次
いで、エーテル等の溶媒中でベンジルアミンを用いて脱
アセチル化することにより得られる。このものは液晶ポ
リマーの合成に好適に用いられる新規な液晶中間体であ
る。具体的には、(+) −4−(4’−ヒドロキシフ
ェニル)安息香酸2−クロロ−2−へキシルオキシカル
ボニル−1〜メチルエチルエステルが好適に用いられる
。
ニル等のハロゲン化剤でハロゲン化して得られた酸ハラ
イドに光学活性な3−ヒドロキシ−2−クロロブタン酸
アルキルエステルヲトリエチルアミン等のアルカリの存
在下THF等の溶媒中で反応させてエステル化する。次
いで、エーテル等の溶媒中でベンジルアミンを用いて脱
アセチル化することにより得られる。このものは液晶ポ
リマーの合成に好適に用いられる新規な液晶中間体であ
る。具体的には、(+) −4−(4’−ヒドロキシフ
ェニル)安息香酸2−クロロ−2−へキシルオキシカル
ボニル−1〜メチルエチルエステルが好適に用いられる
。
(3)Xが一〇−で、Yが−COO−又は−0−で、)
1zC=CH(CHt) 、−Z (n) (I[) (IV) 下記反応式で示されるように、アルテノール(1)をピ
リジンの存在下、塩化チオニル等のハロゲン化剤でハロ
ゲン化し、アルケンハライド(II)を得る。アルケン
ハライド(II)と化合物(I[[)とを、炭酸カリウ
ム等のアルカリの存在下、2−ブタノン等の適当な溶媒
中で反応させてエーテル体(IV)を得る0次いでこの
エーテル体を塩化メチレン等の適当な溶媒中で、m−ク
ロロ過安息香酸等の過酸でオキシラン化することにより
、目的とするモノマー(Vl)を得る。
1zC=CH(CHt) 、−Z (n) (I[) (IV) 下記反応式で示されるように、アルテノール(1)をピ
リジンの存在下、塩化チオニル等のハロゲン化剤でハロ
ゲン化し、アルケンハライド(II)を得る。アルケン
ハライド(II)と化合物(I[[)とを、炭酸カリウ
ム等のアルカリの存在下、2−ブタノン等の適当な溶媒
中で反応させてエーテル体(IV)を得る0次いでこの
エーテル体を塩化メチレン等の適当な溶媒中で、m−ク
ロロ過安息香酸等の過酸でオキシラン化することにより
、目的とするモノマー(Vl)を得る。
H2C=CH(CHz) −−OH→ H,C=CH(
cut) r−Z(1) (n) (V) アルテノールとしては9−デセン−1−オール、11−
ドデセン−1−オール、7−オクテン−1−オール、5
−ヘキセン−1−オールなどが好ましい。
cut) r−Z(1) (n) (V) アルテノールとしては9−デセン−1−オール、11−
ドデセン−1−オール、7−オクテン−1−オール、5
−ヘキセン−1−オールなどが好ましい。
ここで、上記化合物(1)は、下記の如くして合成され
る。
る。
下記反応式に示す如(,4′−ヒドロキシビフェニル−
4−カルボン酸と光学活性アルコール(Vl)とを、適
当な溶媒、例えばベンゼンなどの溶媒中において、エス
テル化触媒、例えば濃硫酸やP−)ルエンスルホン酸な
どの存在下に、所望の温度で反応させることにより、こ
のエステル化合物(■′)を得る。
4−カルボン酸と光学活性アルコール(Vl)とを、適
当な溶媒、例えばベンゼンなどの溶媒中において、エス
テル化触媒、例えば濃硫酸やP−)ルエンスルホン酸な
どの存在下に、所望の温度で反応させることにより、こ
のエステル化合物(■′)を得る。
1) (III’ )
下記の反応式で示されるように、前記光学活性アルコー
ル(Vl)をトシル化し、これにビフェニル−4,4′
−ジオールを反応させてこのエーテル体(■)を得る。
ル(Vl)をトシル化し、これにビフェニル−4,4′
−ジオールを反応させてこのエーテル体(■)を得る。
る。
下記化合物(IX)を塩化チオニル等により酸クロリド
化する。得られた酸クロリドとエーテル体(■)とをピ
リジンの存在下反応させ、エステル体(X)を得る。以
後は(1)と同様にオキシラン化を行い、目的とするモ
ノマー(XI)を得る。
化する。得られた酸クロリドとエーテル体(■)とをピ
リジンの存在下反応させ、エステル体(X)を得る。以
後は(1)と同様にオキシラン化を行い、目的とするモ
ノマー(XI)を得る。
(IX)
(■)
(4)xが−O−で、Yが−COO−又は−〇−テ、R
が@OC喧唖)g〉である場合 下記反応式で示す如く、アルケンハライド(■)とハイ
ドロキノンとを炭酸カリウム等のアルカリの存在下で反
応させ、エーテル体(■)を得下記の如くして得られる
。
が@OC喧唖)g〉である場合 下記反応式で示す如く、アルケンハライド(■)とハイ
ドロキノンとを炭酸カリウム等のアルカリの存在下で反
応させ、エーテル体(■)を得下記の如くして得られる
。
光学活性アルコール(Vl)とビフェニル−4゜4′−
ジカルボン酸をトルエン等の溶媒中でエスチル化触媒の
存在下反応、させ、上記エステル体(XI)を得る。
ジカルボン酸をトルエン等の溶媒中でエスチル化触媒の
存在下反応、させ、上記エステル体(XI)を得る。
4′−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸エチルニ
ステルト光学活性アルコール(VI)ヲl−シル化して
得たR ’ 03 S @ CHxとを炭酸カリウム等
の存在下反応させ、エーテル体を得る。このエーテル体
をアルカリ水溶液等と反応させ、保護基のエステルを加
水分解し、上記化合物(Xlll)を得る。
ステルト光学活性アルコール(VI)ヲl−シル化して
得たR ’ 03 S @ CHxとを炭酸カリウム等
の存在下反応させ、エーテル体を得る。このエーテル体
をアルカリ水溶液等と反応させ、保護基のエステルを加
水分解し、上記化合物(Xlll)を得る。
前記(2)のRが@coo−@)@)−である七ツマ−
の合成法において、化合物 1(0()()C00R’の 代わりに化合物HO@
OR’を用いて同様に合成を行う。
の合成法において、化合物 1(0()()C00R’の 代わりに化合物HO@
OR’を用いて同様に合成を行う。
(6)xが一〇−テ、Yが一〇−又は−COO−で、R
がを行い、目的とする下記一般式のモノマーを得る。
がを行い、目的とする下記一般式のモノマーを得る。
(5)xが−o−テ、Yが一〇−テ、Rが@coo@で
ある場合 過酸 ハ HtC−CH(CHz)kO@OCO@R”ここで、上
記化合物(X■)は下記の如くして得られる。
ある場合 過酸 ハ HtC−CH(CHz)kO@OCO@R”ここで、上
記化合物(X■)は下記の如くして得られる。
上記(4)における化合物(Xn)の合成において、ビ
フェニル−4,4′−ジカルボン酸の代わりにテレフタ
ル酸を用いて同様の反応を行い、上記エステル体(XV
)を得る。
フェニル−4,4′−ジカルボン酸の代わりにテレフタ
ル酸を用いて同様の反応を行い、上記エステル体(XV
)を得る。
であるモノマーの合成において、ハイドロキノンの代わ
りにビフェニル−4,4′−ジオールを用←nooc@
cooR’ (X V )上記(4)における化合物
(Xln)の合成において、4′−ヒドロキシビフェニ
ル−4−カルボン酸エチルエステルの代わりにp−ヒド
ロキシ安息香酸エチルエステルを用いて同様の反応を行
い、上記エーテル体(XVI)を得る。
りにビフェニル−4,4′−ジオールを用←nooc@
cooR’ (X V )上記(4)における化合物
(Xln)の合成において、4′−ヒドロキシビフェニ
ル−4−カルボン酸エチルエステルの代わりにp−ヒド
ロキシ安息香酸エチルエステルを用いて同様の反応を行
い、上記エーテル体(XVI)を得る。
(7)xが一〇−テ、yカーcoo−又は−〇−テ、R
−h<応を行い、目的とする下記一般式のモノマー(×
■)を得る。
−h<応を行い、目的とする下記一般式のモノマー(×
■)を得る。
次に、このようにして得られた、一種または二種以上の
モノマーを重合して、本発明のポリマーを合成するが、
この際重合方法として公知のカチオン重合法などを採用
することができる。
モノマーを重合して、本発明のポリマーを合成するが、
この際重合方法として公知のカチオン重合法などを採用
することができる。
カチオン重合の触媒として、各種のものが知られている
が、硫酸、リン酸、過塩素酸のようなプロトン酸、三フ
ッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、塩化第
二スズのようなルイス酸、三フッ化ホウ素エーテラート
などが挙げられ、この中で塩化第二スズが好適に用いら
れる。
が、硫酸、リン酸、過塩素酸のようなプロトン酸、三フ
ッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、塩化第
二スズのようなルイス酸、三フッ化ホウ素エーテラート
などが挙げられ、この中で塩化第二スズが好適に用いら
れる。
また、有機アルミニウム錯体等を用いた配位重合を行う
ことも可能である。この場合には数平均分子量30,0
00以上のものが得られる。
ことも可能である。この場合には数平均分子量30,0
00以上のものが得られる。
重合方法としては、塊状重合、スラリー重合、溶液重合
などの種々の方式が知られており、これらのいずれの方
式を用いてもよいが、溶液重合が好ましい。
などの種々の方式が知られており、これらのいずれの方
式を用いてもよいが、溶液重合が好ましい。
重合温度は、触媒の種類に依存し一様ではないが、通常
、0〜30°Cが適当である。
、0〜30°Cが適当である。
重合時間は重合温度など他の要因によって異なるが、通
常1〜6日間である。
常1〜6日間である。
分子量の調節は、公知の分子量調節剤の添加および/ま
たはモノマーに対する触媒の濃度の調節によって行うこ
とができる。
たはモノマーに対する触媒の濃度の調節によって行うこ
とができる。
塊状重合方式においては、前記モノマーと開始剤とを十
分に混合し、その混合物を十分に脱気し、2枚の基板、
例えばガラス基板の間に導入し、加熱することによって
、ポリマーを基板間に密着した状態で直接に固定化する
こともできる。
分に混合し、その混合物を十分に脱気し、2枚の基板、
例えばガラス基板の間に導入し、加熱することによって
、ポリマーを基板間に密着した状態で直接に固定化する
こともできる。
スラリー重合、溶液重合方式の場合の溶媒としては、公
知の不活性溶媒を用いることができ、なかでもヘキサン
、塩化メチレン、又はベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香族系の溶媒が好適に用いられる。
知の不活性溶媒を用いることができ、なかでもヘキサン
、塩化メチレン、又はベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香族系の溶媒が好適に用いられる。
また、重合反応および前記オキシラン化の反応において
は、必須ではないが、アルゴン、窒素等の不活性ガスで
系を置換して行うことが好ましい。
は、必須ではないが、アルゴン、窒素等の不活性ガスで
系を置換して行うことが好ましい。
このようにして得られたポリマーは、公知の成膜法、例
えばキャスティング法、Tダイ法、インフレーション法
、カレンダー法、延伸法などによってフィルムに成形し
て用いることができる。フィルム状のポリマーは、2枚
の通常のガラス基板はもとより、大型のガラス基板、曲
面状のガラス基板、ポリエステルフィルムなどの間には
さんで液晶デイスプレー、電子光学シャッター、電子光
学絞りなどの種々のオプトエレクトロニクスの分野に利
用することができる。また、適当な溶媒に溶解したポリ
マー溶液をガラス基板などの基板面に塗布し、溶媒を蒸
発させることによって、直接基板面上に密着した状態で
フィルム化することもできる。
えばキャスティング法、Tダイ法、インフレーション法
、カレンダー法、延伸法などによってフィルムに成形し
て用いることができる。フィルム状のポリマーは、2枚
の通常のガラス基板はもとより、大型のガラス基板、曲
面状のガラス基板、ポリエステルフィルムなどの間には
さんで液晶デイスプレー、電子光学シャッター、電子光
学絞りなどの種々のオプトエレクトロニクスの分野に利
用することができる。また、適当な溶媒に溶解したポリ
マー溶液をガラス基板などの基板面に塗布し、溶媒を蒸
発させることによって、直接基板面上に密着した状態で
フィルム化することもできる。
本発明のポリマーは、その相転移温度の測定から、カイ
ラルスメクチックC相液晶状態が、室温付近の幅広い温
度領域で実現することが確認された。
ラルスメクチックC相液晶状態が、室温付近の幅広い温
度領域で実現することが確認された。
本発明のポリマーにおいては、スメクチック相液晶の性
質と、成形容易であるという典型的なポリマーの性質と
が結合しているので、インテグレーテッドオブティクス
、オプトエレクトロニクス、情報記憶の分野に数多くの
応用可能性がある。例えば、種々の形状のディジタル表
示デイスプレィなどの液晶デイスプレィ、電子光学シャ
ッター光通信用光路切換スイッチなどの電子光学スイッ
チ、電子光学絞り、メモリー素子、光変調器、液晶光プ
リンターヘッド、焦点距離可変レンズなどの種々の電子
光学デバイスとして使用することができる。
質と、成形容易であるという典型的なポリマーの性質と
が結合しているので、インテグレーテッドオブティクス
、オプトエレクトロニクス、情報記憶の分野に数多くの
応用可能性がある。例えば、種々の形状のディジタル表
示デイスプレィなどの液晶デイスプレィ、電子光学シャ
ッター光通信用光路切換スイッチなどの電子光学スイッ
チ、電子光学絞り、メモリー素子、光変調器、液晶光プ
リンターヘッド、焦点距離可変レンズなどの種々の電子
光学デバイスとして使用することができる。
なお、必要に応じて、前記ポリマー同志の混合、他のポ
リマーとの混合、安定剤、可塑剤などを含めた種々の無
機、有機および金属類等の添加物の添加など、当業界に
おいてよく知られている数多くの処理方法により、改善
することができる。
リマーとの混合、安定剤、可塑剤などを含めた種々の無
機、有機および金属類等の添加物の添加など、当業界に
おいてよく知られている数多くの処理方法により、改善
することができる。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明の範囲
はこれら実施例によりなんら限定されるものではない。
はこれら実施例によりなんら限定されるものではない。
なお、得られたポリマーの構造は、NMR1■R1元素
分析により確認し、また相転移温度の測定および相のi
認は、それぞれDSCおよび偏光顕微鏡により行った。
分析により確認し、また相転移温度の測定および相のi
認は、それぞれDSCおよび偏光顕微鏡により行った。
(gニガラス状態、Cry:結晶状態、SmC” :
カイラルスメクチックC相、SmA :スメクチックA
相、Iso:等吉相、相転移挙動の数字は相変化温度を
°Cで表したものである。) 電界応答速度および自発分極値は次のようにして測定し
た。
カイラルスメクチックC相、SmA :スメクチックA
相、Iso:等吉相、相転移挙動の数字は相変化温度を
°Cで表したものである。) 電界応答速度および自発分極値は次のようにして測定し
た。
帯 心”声の渭
20×10IIIInのITO基板2枚の間にポリマー
をはさみ、スペーサーで厚さを25μ艶に調整し、交流
電場E=2X 10’ V/mをかけ、その際の透過光
量の変化(0→90%)の応答時間を測定した。
をはさみ、スペーサーで厚さを25μ艶に調整し、交流
電場E=2X 10’ V/mをかけ、その際の透過光
量の変化(0→90%)の応答時間を測定した。
l1」」口1λ虹定
面積0.2dのITO円形透明電極付ガラス基板でポリ
マーを挟持し、スペーサーで厚さを10μmに調整した
。波高値200■の三角波状に変化する電圧を印加し、
この時観測される分極反転電流の信号から、自発分極値
を求めた。
マーを挟持し、スペーサーで厚さを10μmに調整した
。波高値200■の三角波状に変化する電圧を印加し、
この時観測される分極反転電流の信号から、自発分極値
を求めた。
実施例1
4−アセトキシ安息香酸9ミリモル(1,6g)及び塩
化チオニル18ミリモル(2,1g)のトルエン30J
li!溶液を2時間還流攪拌後、減圧濃縮して酸クロラ
イド体を得た。次に3−アセトキシ−2−クロロブタン
酸エチルエステルの不斉加水分解により合成した(+)
−3−ヒドロキシ−2−クロロブタン酸エチルエステ
ル2.9ミリモル(480■)及びトリエチルアミン1
dのTHF 10戚溶液に上記酸クロライド体のTHF
5#tl!溶液を滴下後、室温で5時間攪拌した。減圧
濃縮後、水を加えてエーテル抽出した。乾燥後、エーテ
ルを追加して100j!l!溶液とした後、ベンジルア
ミン20ミリモルを加えて、3時間攪拌した。水洗、乾
燥、濃縮を行った後、カラムクロマトグラフィーにより
精製し、目的とするヒドロキシ体630■(収率76%
、〔α〕管=+35.6° (CHC13)を得た。
化チオニル18ミリモル(2,1g)のトルエン30J
li!溶液を2時間還流攪拌後、減圧濃縮して酸クロラ
イド体を得た。次に3−アセトキシ−2−クロロブタン
酸エチルエステルの不斉加水分解により合成した(+)
−3−ヒドロキシ−2−クロロブタン酸エチルエステ
ル2.9ミリモル(480■)及びトリエチルアミン1
dのTHF 10戚溶液に上記酸クロライド体のTHF
5#tl!溶液を滴下後、室温で5時間攪拌した。減圧
濃縮後、水を加えてエーテル抽出した。乾燥後、エーテ
ルを追加して100j!l!溶液とした後、ベンジルア
ミン20ミリモルを加えて、3時間攪拌した。水洗、乾
燥、濃縮を行った後、カラムクロマトグラフィーにより
精製し、目的とするヒドロキシ体630■(収率76%
、〔α〕管=+35.6° (CHC13)を得た。
得られた化合物の元素分析結果は分子量286゜71と
して、計算値はC:54.46%、H: 5.27%、
実測値はC:54.3%、H: 5.4%であった。ま
た、’H−NMR分析のチャートを第1図に示した。
して、計算値はC:54.46%、H: 5.27%、
実測値はC:54.3%、H: 5.4%であった。ま
た、’H−NMR分析のチャートを第1図に示した。
実施例2
ポリ 4− 4’−4“−910−エボ−GCH,CI
I(9− 4−(4’−ヒドロキシフェニル)安息香酸をアセチル
化して合成した4−(4’−アセトキシフェニル)安息
香酸9ミリモル(2,3g)及び(+)−3−ヒドロキ
シ−2−クロロフ゛タン酸ヘキシルエステル3ミリモル
(670+og)!用いて実施例1と同様に合成した。
I(9− 4−(4’−ヒドロキシフェニル)安息香酸をアセチル
化して合成した4−(4’−アセトキシフェニル)安息
香酸9ミリモル(2,3g)及び(+)−3−ヒドロキ
シ−2−クロロフ゛タン酸ヘキシルエステル3ミリモル
(670+og)!用いて実施例1と同様に合成した。
(収量810■、収率64%、Ccx〕%’ =+25
−5 ’ (CFICIs)) ヲ4だ。
−5 ’ (CFICIs)) ヲ4だ。
得られた化合物の元素分析結果は分子!418゜92と
して、計算値はC: 65.94%、H: 6.50%
、実測値はC:65.9%、H: 6.6%であった。
して、計算値はC: 65.94%、H: 6.50%
、実測値はC:65.9%、H: 6.6%であった。
実施例3
4− (4’ −(9−デセニルオキシ)フェニル1安
息香酸2ミリモル(704mg)のエーテル2(ld懸
濁液に五塩化リン2.2ミリモルを加えて2時間撹拌後
、濾過、濃縮を行った。濃縮物にヘキサンを加えて70
℃まで加熱し、固形物を溶解後、静置して結晶を析出さ
せた。結晶を濾別後、乾燥して酸クロライド体を得た。
息香酸2ミリモル(704mg)のエーテル2(ld懸
濁液に五塩化リン2.2ミリモルを加えて2時間撹拌後
、濾過、濃縮を行った。濃縮物にヘキサンを加えて70
℃まで加熱し、固形物を溶解後、静置して結晶を析出さ
せた。結晶を濾別後、乾燥して酸クロライド体を得た。
実施例1で合成したヒドロキシ体1ミリモル(287■
)及びトリエチルアミン1dのT HF 5 xlQ’
4液に上記酸りロライド体のTHF2d溶液を滴下後、
室温で5時間攪拌した。減圧濃縮後、カラムクロマトグ
ラフィーにより精製し、アルケン体470■(収率76
%、〔α〕’、’ = +14.8° (CHCI3)
)を得た。
)及びトリエチルアミン1dのT HF 5 xlQ’
4液に上記酸りロライド体のTHF2d溶液を滴下後、
室温で5時間攪拌した。減圧濃縮後、カラムクロマトグ
ラフィーにより精製し、アルケン体470■(収率76
%、〔α〕’、’ = +14.8° (CHCI3)
)を得た。
得られた化合物の相転移挙動を次に示す。
より精製し、目的とするポリマー135mg(収率77
%、GPCによるPS換算値 Mn−2800、(α〕
管=+12.6 @(CHCI3))を得た。
%、GPCによるPS換算値 Mn−2800、(α〕
管=+12.6 @(CHCI3))を得た。
’H−NMR分析のチャートを第2図に示した。
得られたポリマーの相転移挙動及び自発分極値を次に示
す。
す。
■で合成したアルケン体0.29ミリモル(180■)
及びm−クロロ過安息香酸0.43ミリモル(110m
1g)の塩化メチレン10d溶液をアルゴン置換後、室
温で5時間攪拌した。反応液を炭酸カリウム水溶液で洗
浄後、乾燥、−a縮し、エポキシ体175■(収率95
%)を得た。
及びm−クロロ過安息香酸0.43ミリモル(110m
1g)の塩化メチレン10d溶液をアルゴン置換後、室
温で5時間攪拌した。反応液を炭酸カリウム水溶液で洗
浄後、乾燥、−a縮し、エポキシ体175■(収率95
%)を得た。
■±ユヱニ金底
■で得たエポキシ体(エポキシモノマー)175mgの
塩化メチレン8dl液をアルゴン置換後場化第二スズ0
.03ミリモルを加えて室温で4日間攪拌した。濃縮物
をカラムクロマトグラフィーに実施例4 ■4− 4’ −4”−9−デセニルオキシ)ベン゛イ
ルオキシ フェニル ′自 −ロ4−(9−デセニ
ルオキシ)安息香酸2ミリモル(550■)及び塩化チ
オニル6ミリルエン20d溶液を2時間還流攪拌後、減
圧濃縮して酸クロライド体を得た。実施例2で合成した
ヒドロキシ体1ミ′リモル(420mg)及びトリエチ
ルアミンldのTHF10111溶液に上記酸クロライ
ド体のTI(F!M!溶液を滴下後、5時間攪拌した。
塩化メチレン8dl液をアルゴン置換後場化第二スズ0
.03ミリモルを加えて室温で4日間攪拌した。濃縮物
をカラムクロマトグラフィーに実施例4 ■4− 4’ −4”−9−デセニルオキシ)ベン゛イ
ルオキシ フェニル ′自 −ロ4−(9−デセニ
ルオキシ)安息香酸2ミリモル(550■)及び塩化チ
オニル6ミリルエン20d溶液を2時間還流攪拌後、減
圧濃縮して酸クロライド体を得た。実施例2で合成した
ヒドロキシ体1ミ′リモル(420mg)及びトリエチ
ルアミンldのTHF10111溶液に上記酸クロライ
ド体のTI(F!M!溶液を滴下後、5時間攪拌した。
濃縮物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、アル
ケン体585■(収率86%、〔α〕り= +1 6.
2 @(CHCI:+))を得た。
ケン体585■(収率86%、〔α〕り= +1 6.
2 @(CHCI:+))を得た。
得られた化合物の相転移挙動を次に示す。
■で合成したアルケン体0.50ミリモル(340■)
を用いて実施例3の■と同様にしてエポキシ体340■
(収率98%)を得た。
を用いて実施例3の■と同様にしてエポキシ体340■
(収率98%)を得た。
■fJ」≧二色底
■で得たエポキシモノマー340■を用いて実施例3の
■と同様にして目的とするポリマー280■(収率82
%、GPCによるPS換算値 Mn−2 6 0 0、
(α)%’=+17.8° (CHC1+))を得た。
■と同様にして目的とするポリマー280■(収率82
%、GPCによるPS換算値 Mn−2 6 0 0、
(α)%’=+17.8° (CHC1+))を得た。
得られた化合物の相転移挙動及び自発分極値を次に示す
。
。
本発明によると、室温付近の幅広い温度領域において、
Sac′″相を有し、かつ大きな自発分極を示す強誘電
性液晶ポリマーと、該液晶ポリマーの中間体等として好
適に利用することができる液晶中間体を提供することが
できる。
Sac′″相を有し、かつ大きな自発分極を示す強誘電
性液晶ポリマーと、該液晶ポリマーの中間体等として好
適に利用することができる液晶中間体を提供することが
できる。
第1図は実施例1で得られた液晶中間体の’H−NMR
スペクトルのチャート、第2図は実施例3で得られた液
晶ポリマーのIH−NMRスペクトルのチャートをを表
す。
スペクトルのチャート、第2図は実施例3で得られた液
晶ポリマーのIH−NMRスペクトルのチャートをを表
す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記の一般式で表される液晶中間体。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、式中のmは1又は2であり、nは0〜9の整数
であり、p及びqは0又は1であり、C^*は光学活性
不斉炭素原子を表す。〕2、下記の一般式で表される繰
り返し単位からなる液晶ポリマー。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、式中のXは−O−、−COO−又は単結合であ
り、Yは−COO−、−O−又は−CH=CHCOO−
であり、rは1〜30の整数であり、nは0〜9の整数
であり、Rは▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
、表等があります▼ であり、C^*は光学活性不斉炭素原子を表す。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25997789A JPH03123758A (ja) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | 液晶中間体及び液晶ポリマー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25997789A JPH03123758A (ja) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | 液晶中間体及び液晶ポリマー |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03123758A true JPH03123758A (ja) | 1991-05-27 |
Family
ID=17341563
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25997789A Pending JPH03123758A (ja) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | 液晶中間体及び液晶ポリマー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03123758A (ja) |
-
1989
- 1989-10-06 JP JP25997789A patent/JPH03123758A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0228703B1 (en) | Ferroelectric liquid crystal polymer | |
EP0274128B1 (en) | Liquid-crystalline polymer | |
JPH0778218B2 (ja) | 液晶ポリマ−組成物 | |
EP0348873B1 (en) | Ferroelectric liquid-crystalline polymer and epoxide usable for preparing the ferroelectric liquid-crystalline polymer | |
JPS63264629A (ja) | ポリマー | |
JPS6372784A (ja) | 強誘電性高分子液晶 | |
JPH02101049A (ja) | 液晶化合物及び液晶ポリマー | |
JPS63161005A (ja) | ポリマ− | |
JPS6399204A (ja) | ポリマ− | |
JPH0245450A (ja) | 液晶化合物及び液晶ポリマー | |
JPH03123758A (ja) | 液晶中間体及び液晶ポリマー | |
JPH01156971A (ja) | 新規化合物 | |
JP2765942B2 (ja) | 液晶性ポリマー及びその製造に用いられるエポキシ化合物 | |
JP2001213919A (ja) | 側鎖型液晶ポリマーおよびその製造方法 | |
JP2001354734A (ja) | 側鎖型液晶ポリマーおよびその製造方法 | |
JPS62277412A (ja) | 新規重合体 | |
JPH0269428A (ja) | 液晶化合物及び液晶ポリマー | |
JP2795918B2 (ja) | 液晶化合物及び液晶ポリマー | |
JPH01131234A (ja) | 液晶重合体 | |
JPS63273608A (ja) | 液晶ポリマ− | |
JPS63280742A (ja) | 高分子液晶化合物 | |
JPH01234414A (ja) | 液晶性架橋ポリマー | |
JPH0364321A (ja) | 液晶性高分子及びその中間体 | |
JPH01234413A (ja) | 液晶ポリマー | |
JPH02640A (ja) | 液晶重合体 |