JPH0263132A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPH0263132A JPH0263132A JP21430988A JP21430988A JPH0263132A JP H0263132 A JPH0263132 A JP H0263132A JP 21430988 A JP21430988 A JP 21430988A JP 21430988 A JP21430988 A JP 21430988A JP H0263132 A JPH0263132 A JP H0263132A
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- JP
- Japan
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- via holes
- pads
- semiconductor device
- probe needles
- semiconductor substrate
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000000523 sample Substances 0.000 abstract description 18
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
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- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は半導体基板の表面と裏面とを接続するバイア
ホールを複数有する半導体装置に関し、特にバイアホー
ルの基板表裏面の導通チエツクを容易にするものである
。
ホールを複数有する半導体装置に関し、特にバイアホー
ルの基板表裏面の導通チエツクを容易にするものである
。
第4図は従来の半導体装置を示す平面図で、図において
、(1)はソース電極、(2)はドレイン電極、(3)
はゲート電極、(4)はソース電極(1)を半導体基板
裏面と電気的に接続するためのバイアホール、(6)は
プローブ針(6)が接触できる面積を持つパッドである
。
、(1)はソース電極、(2)はドレイン電極、(3)
はゲート電極、(4)はソース電極(1)を半導体基板
裏面と電気的に接続するためのバイアホール、(6)は
プローブ針(6)が接触できる面積を持つパッドである
。
このような構造の半導体装置においてバイアホール(4
)が半導6体基板の表面と裏面で、完全に導通している
かは例えば第4図に示すように、バイアホール(4)の
半導体基板表面側に前記バイアホール(4)に電気的に
接続して設けられたパッド(5)にプローブ針(6)を
接続し、■という電圧をパッド(5)と半導体基板裏面
に印加して電流の有無により判定していた。そして、こ
の半導体装置が有するバイアホールの数だけの導通チエ
ツクが必要であった。
)が半導6体基板の表面と裏面で、完全に導通している
かは例えば第4図に示すように、バイアホール(4)の
半導体基板表面側に前記バイアホール(4)に電気的に
接続して設けられたパッド(5)にプローブ針(6)を
接続し、■という電圧をパッド(5)と半導体基板裏面
に印加して電流の有無により判定していた。そして、こ
の半導体装置が有するバイアホールの数だけの導通チエ
ツクが必要であった。
従来の半導体装置は以上のように構成されていたので、
バイアホールの数が多くなってくるとその数と同数のバ
イアホール導通チエツクを実施する必要があり、測定時
間が増大するという問題点があった。
バイアホールの数が多くなってくるとその数と同数のバ
イアホール導通チエツクを実施する必要があり、測定時
間が増大するという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、バイアホールの基板表裏面導通チエツクが短
時間で行うことができる半導体装置を得ることを目的と
する。
たもので、バイアホールの基板表裏面導通チエツクが短
時間で行うことができる半導体装置を得ることを目的と
する。
この発明に係る半導体装置は半導体基板表面の任意の2
つのバイアホールの間に1つ以上の抵抗とプローブ針接
触用パッドを2つ以上′を設けたものである。
つのバイアホールの間に1つ以上の抵抗とプローブ針接
触用パッドを2つ以上′を設けたものである。
この発明における半導体装置は半導体基板表面の任意の
複数のバイアホールの間に1つ以上の抵抗とプローブ針
接触用パッド2つ以上を設け、このパッドにプローブ針
をそれぞれ接触させ、前記プローブ針間に任意の電圧を
印加し、流れる電流をモニターすることにより、複数の
バイアホールの導通状態を電流値により同時に判断する
。。
複数のバイアホールの間に1つ以上の抵抗とプローブ針
接触用パッド2つ以上を設け、このパッドにプローブ針
をそれぞれ接触させ、前記プローブ針間に任意の電圧を
印加し、流れる電流をモニターすることにより、複数の
バイアホールの導通状態を電流値により同時に判断する
。。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第1図はこの発明の一実施例を示す半導体装置の平面図
で、図において、(1)はソース電極、(2)はドレイ
ン電極、(3)はゲート電極、(4)はソース電極(1
)を半導体基板の裏面と導通させるために設けられたバ
イアホール、(5)はプローブ針が接触できる面積を有
するパッドである。
で、図において、(1)はソース電極、(2)はドレイ
ン電極、(3)はゲート電極、(4)はソース電極(1
)を半導体基板の裏面と導通させるために設けられたバ
イアホール、(5)はプローブ針が接触できる面積を有
するパッドである。
第2図は、バイアホール(4)により半導体基板表裏面
が導通しているかをチエツクするための構成図で、図に
おいて、(6)はプローブ針である。
が導通しているかをチエツクするための構成図で、図に
おいて、(6)はプローブ針である。
第3図(a)〜(e)は第2図の導通チエツク構成図を
電気回路図に置き換えた説明図である。
電気回路図に置き換えた説明図である。
次に第2図、第3図を用いて、1記構成による半導体装
置(こおけるバイアホール(4a)(4b)の導通チエ
ツクの方法を説明する。
置(こおけるバイアホール(4a)(4b)の導通チエ
ツクの方法を説明する。
まず第2図に示すように、パッド(5a)、 (5b)
にプローブ針(6)をそれぞれ接触させ、この2本
のプローブ針(6)間に任意の電圧Vを印加する。この
時、R1、R2* R3の抵抗値に応じた電流がモニタ
ーできる。次に第3図を用いて、バイアホール(軸’)
C4b’)の状態によりモニターできる電流がどのよう
に変化するかを説明する。
にプローブ針(6)をそれぞれ接触させ、この2本
のプローブ針(6)間に任意の電圧Vを印加する。この
時、R1、R2* R3の抵抗値に応じた電流がモニタ
ーできる。次に第3図を用いて、バイアホール(軸’)
C4b’)の状態によりモニターできる電流がどのよう
に変化するかを説明する。
まず、バイアホール(4a)(4b)のいずれも基板表
裏面で導通している場合の回路図を第3図(b)に示す
。モニタ電流■は次の(1)式で表せる。
裏面で導通している場合の回路図を第3図(b)に示す
。モニタ電流■は次の(1)式で表せる。
1 =V/(Rs /R2) −−(1)次に、バ
イアホール(4a)(4b)のいずれも基板表裏面で導
通していない場合の回路図を第3図(C)に示す。モニ
タ電流Iは次の(2)式で表せる。
イアホール(4a)(4b)のいずれも基板表裏面で導
通していない場合の回路図を第3図(C)に示す。モニ
タ電流Iは次の(2)式で表せる。
1 = V/(Rt+ Rz )・”・・・−−(2)
次に、バイアホール(4b)のみが導通している場合の
回路図を第3図(d)に示す。モニタ電流Iは次の(3
)式で表せる。
次に、バイアホール(4b)のみが導通している場合の
回路図を第3図(d)に示す。モニタ電流Iは次の(3
)式で表せる。
1 = V/R,・・・ (3)
最後に、バイアホール(4a)のみが導通している場合
の回路図を第3図(e)に示す。モニタ電流Iは次の(
4)式で表せる。
の回路図を第3図(e)に示す。モニタ電流Iは次の(
4)式で表せる。
I = V/(R1/ (R2+Rs) ・旧”・・・
(4)以上に示したように、バイアホール(4a)(4
b)の状態に応じてモニタ電流Iが異なるため、パッド
(5a) (5b)にプローブ針(6)をそれぞれ接触
させて電圧Vを印加し、モニタ電流Iを判定するだけで
2つのバイアホール(4a) (4b)間の状態が同時
に判断ができる。
(4)以上に示したように、バイアホール(4a)(4
b)の状態に応じてモニタ電流Iが異なるため、パッド
(5a) (5b)にプローブ針(6)をそれぞれ接触
させて電圧Vを印加し、モニタ電流Iを判定するだけで
2つのバイアホール(4a) (4b)間の状態が同時
に判断ができる。
なお、上記実施例では抵抗を3つ設けて、2つのバイア
ホールの状態を同時に判別する場合について説明したが
、同時に判別するバイアホールの数は2つを越えてもよ
く、また抵抗の数や回路構成は任意であってもよい。
ホールの状態を同時に判別する場合について説明したが
、同時に判別するバイアホールの数は2つを越えてもよ
く、また抵抗の数や回路構成は任意であってもよい。
以上のようにこの発明によれば、2つのバイアホール間
に複数の抵抗と2つのパッドを設け、このパッド間に任
意の電圧Vを印加しこの時のプローブ針に流れる電流を
モニタすることにより、2つのバイアホールの半導体基
板表裏面における導通チエツクが同時に実施でき、従来
の半分の時間で評価が完了できる。
に複数の抵抗と2つのパッドを設け、このパッド間に任
意の電圧Vを印加しこの時のプローブ針に流れる電流を
モニタすることにより、2つのバイアホールの半導体基
板表裏面における導通チエツクが同時に実施でき、従来
の半分の時間で評価が完了できる。
第1図はこの発明の半導体装置の一実施例を説明するた
めの平面図、第2図はバイアホールの導通をチエツクす
るための構成図、第3図(a)〜(e)は第2図の各接
触状態を示す説明図、第4図は従来の半導体装置の平面
図である。 図において、(1)はソース電極、(2)はドレイン電
極、(3)はゲート電極、(4)はバイアホール、(5
)はパッド、(6)はプローブ針である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
めの平面図、第2図はバイアホールの導通をチエツクす
るための構成図、第3図(a)〜(e)は第2図の各接
触状態を示す説明図、第4図は従来の半導体装置の平面
図である。 図において、(1)はソース電極、(2)はドレイン電
極、(3)はゲート電極、(4)はバイアホール、(5
)はパッド、(6)はプローブ針である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 半導体基板上に形成された複数のバイアホールを有す
る半導体装置において、前記バイアホールの中の任意の
2つ以上のバイアホールを1組とし各組の複数バイアホ
ールを少なくとも1つ以上の抵抗と、2つ以上のパッド
により電気的に接続したことを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21430988A JPH0263132A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21430988A JPH0263132A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0263132A true JPH0263132A (ja) | 1990-03-02 |
Family
ID=16653610
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21430988A Pending JPH0263132A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0263132A (ja) |
-
1988
- 1988-08-29 JP JP21430988A patent/JPH0263132A/ja active Pending
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