JPH0252430B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0252430B2 JPH0252430B2 JP18797987A JP18797987A JPH0252430B2 JP H0252430 B2 JPH0252430 B2 JP H0252430B2 JP 18797987 A JP18797987 A JP 18797987A JP 18797987 A JP18797987 A JP 18797987A JP H0252430 B2 JPH0252430 B2 JP H0252430B2
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- JP
- Japan
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- discharge
- laser
- capacitor
- corona
- ionization
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- Expired - Lifetime
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
＜産業上の利用分野＞
本発明は、放電励起エキシマレーザに関し、特
に誘電体の交換が容易な小型の電極一体型平板コ
ンデンサをレーザ放電管内に備え、かつ予備電離
装置を最適化することにより、レーザ出力を短パ
ルス、高出力、高繰返し化した装置に関する。
に誘電体の交換が容易な小型の電極一体型平板コ
ンデンサをレーザ放電管内に備え、かつ予備電離
装置を最適化することにより、レーザ出力を短パ
ルス、高出力、高繰返し化した装置に関する。
＜従来の技術＞
従来この種の装置としては第２図に示すものが
知られている。ここで１は平板コンデンサ、２は
コンデンサ誘電体、３はレーザ放電管、４は放電
電極、５は予備電離装置、６は高電圧スイツチを
示す。この装置は、ブルムライン型回路（A.D.
Blumlein，U.S.Patent No.2465840，March29，
1948）を有しており、放電の立上りを急峻にする
ことを可能としている。そのためこの装置は短時
間のパルス放電が可能で、短パルスレーザ光の発
生が期待できる利点を有していた。
知られている。ここで１は平板コンデンサ、２は
コンデンサ誘電体、３はレーザ放電管、４は放電
電極、５は予備電離装置、６は高電圧スイツチを
示す。この装置は、ブルムライン型回路（A.D.
Blumlein，U.S.Patent No.2465840，March29，
1948）を有しており、放電の立上りを急峻にする
ことを可能としている。そのためこの装置は短時
間のパルス放電が可能で、短パルスレーザ光の発
生が期待できる利点を有していた。
＜発明の解決しようとする問題点＞
しかしながら、上記従来のレーザ装置において
は、ブルムライン回路を構成する平板コンデンサ
がレーザ放電管の外部にあること及び予備電離部
での不正な絶縁破壊を避ける目的のため、放電電
極まわりの寸法が大きくなり、回路のインダクタ
ンスが増加する。このため放電の立上りが遅くな
り、本来可能な短パルス放電が難かしくなるとい
う重大な問題があつた。
は、ブルムライン回路を構成する平板コンデンサ
がレーザ放電管の外部にあること及び予備電離部
での不正な絶縁破壊を避ける目的のため、放電電
極まわりの寸法が大きくなり、回路のインダクタ
ンスが増加する。このため放電の立上りが遅くな
り、本来可能な短パルス放電が難かしくなるとい
う重大な問題があつた。
＜問題点を解決するための手段＞
上記従来の問題点を解決するために、本発明で
はブルムライン回路を構成する平板コンデンサを
小型化し、さらにこれを放電電極と一体化してレ
ーザ放電管内に封入し、かつコロナ型予備電装置
を放電陰極の表面に接して配置する構造を採つ
た。
はブルムライン回路を構成する平板コンデンサを
小型化し、さらにこれを放電電極と一体化してレ
ーザ放電管内に封入し、かつコロナ型予備電装置
を放電陰極の表面に接して配置する構造を採つ
た。
＜作用＞
本発明によれば、高いレーザガス圧のもとでも
電極まわりの寸法を最小限に抑え、インダクタン
スを小さくすることが可能で、さらにコロナ型予
備電離装置の最適配置と相まつて均一で強力な短
パルス放電を得ることが可能である。
電極まわりの寸法を最小限に抑え、インダクタン
スを小さくすることが可能で、さらにコロナ型予
備電離装置の最適配置と相まつて均一で強力な短
パルス放電を得ることが可能である。
＜実施例＞
第１図に本発明装置の断面図を示す。ここで１
は平板コンデンサ、２はコンデンサ誘電体、３は
レーザ放電管、４は放電陰極、５は放電陽極、６
はコロナ型予備電離装置、７は高電圧スイツチを
示す。本装置では放電電極まわりの寸法を最小限
に抑え、強力な短パルス放電を実現するため、ブ
ルムライン回路を構成する平板コンデンサ１を高
耐圧のレーザ放電管内３に封入している。平板コ
ンデンサ１は誘電体を金属平板ではさむことによ
つて構成されており、さらに金属板の先端を放電
電極４，５に加工することにより、コンデンサと
電極とが一体化されている。この構造及び絶縁し
たコロナ予備電離装置６を陰極表面４に接して配
置することにより、高ガス圧においても均一で強
力な短パルス放電を得ることが容易となる。また
装置の小型化に伴なつてレーザ共振器も短共振器
化でき、この効果とも相まつて短パルス、高出力
レーザパルスの発生が実現される。さらに放電の
短パルス化により、従来不可欠であつたレーザガ
ス循環装置を付けることなく、高繰返し放電を行
なうことが可能となる。現在本装置では、厚さが
0.125mmのポリイミド膜をコンデンサ誘電体とし
て使用することにより、コンデンサ容量は2nFで
あり、レーザの予想される利得を考慮して適当と
考えられる6nsの放電が得られるように電極まわ
りのインダクタンスを設定している。またレーザ
共振器長は24cmに固定している。この条件におい
て、レーザ光パルス幅1ns、レーザ光尖頭出力
1Mw以上、繰返し500Hz以上のレーザ発振を得て
いる。さらにコンデンサ容量、電極まわりのイン
ダクタンス、充電電圧等のパラメータを変化させ
ることにより、一層の短パルス化、高出力化の可
能性がある。
は平板コンデンサ、２はコンデンサ誘電体、３は
レーザ放電管、４は放電陰極、５は放電陽極、６
はコロナ型予備電離装置、７は高電圧スイツチを
示す。本装置では放電電極まわりの寸法を最小限
に抑え、強力な短パルス放電を実現するため、ブ
ルムライン回路を構成する平板コンデンサ１を高
耐圧のレーザ放電管内３に封入している。平板コ
ンデンサ１は誘電体を金属平板ではさむことによ
つて構成されており、さらに金属板の先端を放電
電極４，５に加工することにより、コンデンサと
電極とが一体化されている。この構造及び絶縁し
たコロナ予備電離装置６を陰極表面４に接して配
置することにより、高ガス圧においても均一で強
力な短パルス放電を得ることが容易となる。また
装置の小型化に伴なつてレーザ共振器も短共振器
化でき、この効果とも相まつて短パルス、高出力
レーザパルスの発生が実現される。さらに放電の
短パルス化により、従来不可欠であつたレーザガ
ス循環装置を付けることなく、高繰返し放電を行
なうことが可能となる。現在本装置では、厚さが
0.125mmのポリイミド膜をコンデンサ誘電体とし
て使用することにより、コンデンサ容量は2nFで
あり、レーザの予想される利得を考慮して適当と
考えられる6nsの放電が得られるように電極まわ
りのインダクタンスを設定している。またレーザ
共振器長は24cmに固定している。この条件におい
て、レーザ光パルス幅1ns、レーザ光尖頭出力
1Mw以上、繰返し500Hz以上のレーザ発振を得て
いる。さらにコンデンサ容量、電極まわりのイン
ダクタンス、充電電圧等のパラメータを変化させ
ることにより、一層の短パルス化、高出力化の可
能性がある。
＜発明の効果＞
以上説明したように、本発明の短パルスエキシ
マレーザ装置は、ブルムライン回路を構成する平
板コンデンサを小型化し、さらにこの放電電極と
一体化してレーザ放電管内に封入し、かつコロナ
型予備電離装置を放電陰極の表面に接して配置す
る構成としてもので、本発明により従来不可能で
あつた放電励起エキシマレーザの短パルス、高出
力、高繰返し化が実現できる。これにより、光化
学、XUVレーザ発生、レーザ核融合等の短パル
ス紫外光を必要とする分野へのスエキシマレーザ
の応用が容易となる。
マレーザ装置は、ブルムライン回路を構成する平
板コンデンサを小型化し、さらにこの放電電極と
一体化してレーザ放電管内に封入し、かつコロナ
型予備電離装置を放電陰極の表面に接して配置す
る構成としてもので、本発明により従来不可能で
あつた放電励起エキシマレーザの短パルス、高出
力、高繰返し化が実現できる。これにより、光化
学、XUVレーザ発生、レーザ核融合等の短パル
ス紫外光を必要とする分野へのスエキシマレーザ
の応用が容易となる。
第１図は、本発明装置の断面図である。１は平
板コンデンサ、２はコンデンサ誘電体、３はレー
ザ放電管、４は放電陰極、５は放電陽極、６はコ
ロナ予備電離装置、７は高電圧スイツチ。第２図
は、従来のブルムライン型放電励起エキシマレー
ザ装置の断面図である。１は平板コンデンサ、２
はコンデンサ誘電体、３はレーザ放電管、４は放
電電極、５は予備電離装置、６は高電圧スイツチ
である。
板コンデンサ、２はコンデンサ誘電体、３はレー
ザ放電管、４は放電陰極、５は放電陽極、６はコ
ロナ予備電離装置、７は高電圧スイツチ。第２図
は、従来のブルムライン型放電励起エキシマレー
ザ装置の断面図である。１は平板コンデンサ、２
はコンデンサ誘電体、３はレーザ放電管、４は放
電電極、５は予備電離装置、６は高電圧スイツチ
である。
Claims (1)
- １ 放電励起エキシマレーザにおいて、主放電回
路内のコンデンサ１を放電電極４，５と一体化し
て放電管３内に封入せしめ、均一な放電を得るた
めのコロナ型予備電離装置６を放電陰極４の表面
に接して設けたことを特徴とする、短パルスエキ
シマレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18797987A JPS6431484A (en) | 1987-07-28 | 1987-07-28 | Short pulse excimer laser |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18797987A JPS6431484A (en) | 1987-07-28 | 1987-07-28 | Short pulse excimer laser |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6431484A JPS6431484A (en) | 1989-02-01 |
| JPH0252430B2 true JPH0252430B2 (ja) | 1990-11-13 |
Family
ID=16215489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18797987A Granted JPS6431484A (en) | 1987-07-28 | 1987-07-28 | Short pulse excimer laser |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6431484A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015198457A1 (ja) * | 2014-06-26 | 2015-12-30 | ギガフォトン株式会社 | ガスレーザ装置及びコンデンサ |
-
1987
- 1987-07-28 JP JP18797987A patent/JPS6431484A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6431484A (en) | 1989-02-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |