JPH0251892B2 - - Google Patents
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- JPH0251892B2 JPH0251892B2 JP205683A JP205683A JPH0251892B2 JP H0251892 B2 JPH0251892 B2 JP H0251892B2 JP 205683 A JP205683 A JP 205683A JP 205683 A JP205683 A JP 205683A JP H0251892 B2 JPH0251892 B2 JP H0251892B2
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明は広い液晶温度範囲をもつ、誘電異方性
が正の液晶物質及びそれらを含む液晶組成物に関
する。 液晶表示素子は液晶物質の特性である光学異方
性及び誘電異方性を利用したものである。液晶表
示素子にはTN(ねじれネマチツク)型、DS(動
的散乱)型、ゲスト・ホスト型、DAP型など
種々の方式のものがあり、それぞれの方式により
使用される液晶物質に要求される特性は異る。し
かしいずれの方式に於ても液晶物質は水分、熱、
空気、光などに安定であることが必要であり、又
出来るだけ広い温度範囲で液晶相を示す物質が望
ましい。しかし現在のところ単一の化合物ではこ
の様な条件をみたす様なものはなく、数種の液晶
物質又は非液晶物質を混合して一応実用に耐える
様な物を得ているのが現状である。又、これらの
物質は水分、光、熱、空気等に対しても安定でな
ければならないのは勿論であり、更に表示素子を
駆動させる必要なしきい電圧、飽和電圧がなるべ
く低いこと、又応答速度を早くするためには粘度
が出来るだけ低いことが望ましい。ところで液晶
温度範囲を高温の方に広くするためには高融点の
液晶物質を成分として使用する必要があるが、一
般に高融点の液晶物質は粘度が高く、従つてそれ
を含む液晶組成物も粘度が高くなるので、高温、
例えば80℃位まで使用出来る様な液晶表示素子の
応答速度、特に低温でのそれは著しくおそくなる
傾向にあつた。しかるに本発明者らは高い液晶温
度範囲をもちながら低粘度の液晶物質を見つけ本
発明に到つた。 即ち本発明は一般式 (上式中Rは炭素数1〜5のアルキル基を、Xは
F又はClを示し、nは1又は2である)で表わさ
れるトランス−4−(トランス−4−シクロヘキ
シル)−シクロヘキサンカルボン酸−4−ハロゲ
ノフエニルエステル及びそれを少くとも一種含有
する液晶組成物である。 本発明の化合物()の融点は80℃前後にあ
り、N−I点は170℃ないしは280℃と高く、広い
温度範囲にわたり液晶相を示し、更に他の液晶化
合物との相溶性も優れている。又粘度も低いので
液晶組成物の成分として加えることによりその液
晶組成物の粘度を高くせずに透明点を上げること
が出来る。 次に本発明の化合物の製造法を示す。まず既知
の方法で製造された4−(トランス−アルコキシ
メチルシクロヘキシル安息香酸をイソアミルアル
コール溶媒中、金属ナトリウムの作用で還元して
トランス−4−(トランス−4−アルコキシメチ
ルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン酸と
する。これを塩化チオニルにて酸塩化物とし、つ
いで4−ハロゲノフエノール誘導体をピリジン中
で作用させれば、目的のトランス−4−(トラン
ス−4−アルコキシメチルシクロヘキシル)−シ
クロヘキサンカルボン酸−4−ハロゲノフエニル
エステル誘導体が得られる。化学式で示すと 実施例 1 〔トランス−4−(トランス−4−メトキシメ
チルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン
酸−4−フルオロフエニルエステル(式()
においてR=CH3、X=F、n=1のもの)の
製造〕 (i) トランス−4−(トランス−4−メトキシメ
チルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン
酸の製造 4−(トランス−4−メトキシメチルシクロ
ヘキシル安息香酸10gをイソアミルアルコール
2500mlと共にかくはんし、90℃まで加熱する。
金属ナトリウム30gを加えると激しく反応しは
じめる。そのまま還流をつづけながら3時間で
金属ナトリウムを更に120g加えると反応液は
しだいに均一になる。反応終了後、放冷して
100℃にする。次に水を加えながらイソアミル
アルコールを留去する。水は2000ml加えた。次
いで6N塩酸を2加え完全に酸性にする。析
出した沈澱を過、水洗し、よく乾燥してつぎ
の反応に用いた。 (ii) エステル化 トランス−4−(トランス−4−メトキシメ
チルシクロヘキシル)−シクロヘキサンカルボ
ン酸2.6g(0.01モル)に塩化チオニル10mlを
加え加温する。均一になるまで一時間位かかる
が更に30分〜1時間位加温した後、減圧にして
過剰の塩化チオニルを留去する。残つた油状物
がトランス−4−(トランス−4−メトキシメ
チルシクロヘキシル)−シクロヘキサンカルボ
ン酸酸塩化物である。一方、4−フルオロフエ
ノール1.1g(0.01モル)をピリジン10mlに溶
かし、これに上記の酸塩化物を加える。反応液
をよく撹拌し1晩放置してからトルエン100ml
を加え、分液漏斗でそのトルエン層を、まず
6N塩酸で、ついで2N苛性ソーダ溶液で、最後
に水で中性になるまで洗浄する。それを無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、トルエン層を減圧で留
去する。析出した結晶をエタノールで再結晶す
ると目的物であるトランス−4−(トランス−
4−メトキシメチルシクロヘキシル)シクロヘ
キサンカルボン酸−4−フルオロフエニルエス
テルが得られる。収量2.1g、収率57%。C−
N点84.1〜86.4℃、N−I点168.9℃であつた。 実施例 2、3 実施例1と全く同様な方法で、実施例1に於け
る4−フルオロフエノールの代りに4−クロロフ
エノール又は4−フルオロ−4′−ヒドロキシビフ
エニルを用いて第1表の実施例2、3に示すトラ
ンス−4−(トランス−4−アルコキシメチルシ
クロヘキシル)シクロヘキサンカルボン酸−4−
ハロゲノフエニルエステル誘導体を合成した。こ
れらの物性値を第1表に示す。
が正の液晶物質及びそれらを含む液晶組成物に関
する。 液晶表示素子は液晶物質の特性である光学異方
性及び誘電異方性を利用したものである。液晶表
示素子にはTN(ねじれネマチツク)型、DS(動
的散乱)型、ゲスト・ホスト型、DAP型など
種々の方式のものがあり、それぞれの方式により
使用される液晶物質に要求される特性は異る。し
かしいずれの方式に於ても液晶物質は水分、熱、
空気、光などに安定であることが必要であり、又
出来るだけ広い温度範囲で液晶相を示す物質が望
ましい。しかし現在のところ単一の化合物ではこ
の様な条件をみたす様なものはなく、数種の液晶
物質又は非液晶物質を混合して一応実用に耐える
様な物を得ているのが現状である。又、これらの
物質は水分、光、熱、空気等に対しても安定でな
ければならないのは勿論であり、更に表示素子を
駆動させる必要なしきい電圧、飽和電圧がなるべ
く低いこと、又応答速度を早くするためには粘度
が出来るだけ低いことが望ましい。ところで液晶
温度範囲を高温の方に広くするためには高融点の
液晶物質を成分として使用する必要があるが、一
般に高融点の液晶物質は粘度が高く、従つてそれ
を含む液晶組成物も粘度が高くなるので、高温、
例えば80℃位まで使用出来る様な液晶表示素子の
応答速度、特に低温でのそれは著しくおそくなる
傾向にあつた。しかるに本発明者らは高い液晶温
度範囲をもちながら低粘度の液晶物質を見つけ本
発明に到つた。 即ち本発明は一般式 (上式中Rは炭素数1〜5のアルキル基を、Xは
F又はClを示し、nは1又は2である)で表わさ
れるトランス−4−(トランス−4−シクロヘキ
シル)−シクロヘキサンカルボン酸−4−ハロゲ
ノフエニルエステル及びそれを少くとも一種含有
する液晶組成物である。 本発明の化合物()の融点は80℃前後にあ
り、N−I点は170℃ないしは280℃と高く、広い
温度範囲にわたり液晶相を示し、更に他の液晶化
合物との相溶性も優れている。又粘度も低いので
液晶組成物の成分として加えることによりその液
晶組成物の粘度を高くせずに透明点を上げること
が出来る。 次に本発明の化合物の製造法を示す。まず既知
の方法で製造された4−(トランス−アルコキシ
メチルシクロヘキシル安息香酸をイソアミルアル
コール溶媒中、金属ナトリウムの作用で還元して
トランス−4−(トランス−4−アルコキシメチ
ルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン酸と
する。これを塩化チオニルにて酸塩化物とし、つ
いで4−ハロゲノフエノール誘導体をピリジン中
で作用させれば、目的のトランス−4−(トラン
ス−4−アルコキシメチルシクロヘキシル)−シ
クロヘキサンカルボン酸−4−ハロゲノフエニル
エステル誘導体が得られる。化学式で示すと 実施例 1 〔トランス−4−(トランス−4−メトキシメ
チルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン
酸−4−フルオロフエニルエステル(式()
においてR=CH3、X=F、n=1のもの)の
製造〕 (i) トランス−4−(トランス−4−メトキシメ
チルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン
酸の製造 4−(トランス−4−メトキシメチルシクロ
ヘキシル安息香酸10gをイソアミルアルコール
2500mlと共にかくはんし、90℃まで加熱する。
金属ナトリウム30gを加えると激しく反応しは
じめる。そのまま還流をつづけながら3時間で
金属ナトリウムを更に120g加えると反応液は
しだいに均一になる。反応終了後、放冷して
100℃にする。次に水を加えながらイソアミル
アルコールを留去する。水は2000ml加えた。次
いで6N塩酸を2加え完全に酸性にする。析
出した沈澱を過、水洗し、よく乾燥してつぎ
の反応に用いた。 (ii) エステル化 トランス−4−(トランス−4−メトキシメ
チルシクロヘキシル)−シクロヘキサンカルボ
ン酸2.6g(0.01モル)に塩化チオニル10mlを
加え加温する。均一になるまで一時間位かかる
が更に30分〜1時間位加温した後、減圧にして
過剰の塩化チオニルを留去する。残つた油状物
がトランス−4−(トランス−4−メトキシメ
チルシクロヘキシル)−シクロヘキサンカルボ
ン酸酸塩化物である。一方、4−フルオロフエ
ノール1.1g(0.01モル)をピリジン10mlに溶
かし、これに上記の酸塩化物を加える。反応液
をよく撹拌し1晩放置してからトルエン100ml
を加え、分液漏斗でそのトルエン層を、まず
6N塩酸で、ついで2N苛性ソーダ溶液で、最後
に水で中性になるまで洗浄する。それを無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、トルエン層を減圧で留
去する。析出した結晶をエタノールで再結晶す
ると目的物であるトランス−4−(トランス−
4−メトキシメチルシクロヘキシル)シクロヘ
キサンカルボン酸−4−フルオロフエニルエス
テルが得られる。収量2.1g、収率57%。C−
N点84.1〜86.4℃、N−I点168.9℃であつた。 実施例 2、3 実施例1と全く同様な方法で、実施例1に於け
る4−フルオロフエノールの代りに4−クロロフ
エノール又は4−フルオロ−4′−ヒドロキシビフ
エニルを用いて第1表の実施例2、3に示すトラ
ンス−4−(トランス−4−アルコキシメチルシ
クロヘキシル)シクロヘキサンカルボン酸−4−
ハロゲノフエニルエステル誘導体を合成した。こ
れらの物性値を第1表に示す。
【表】
実施例 4(使用例)
トランス−4−プロピル−(4′−シアノフエニル)
シクロヘキサン 28% トランス−4−ペンチル−(4′−シアノフエニル)
シクロヘキサン 42% トランス−4−ヘプチル−(4′−シアノフエニル)
シクロヘキサン 30% なる組成の液晶組成物のネマチツク−透明点(N
−I点)は52℃である。この液晶組成物をセル厚
10μmのTNセル(ねじれネマチツクセル)に封
入したものの動作しきい電圧は1.53V、飽和電圧
は2.12Vであつた。又粘度は20℃で23cpであつ
た。 この液晶組成物90部に実施例1で製造したトラ
ンス−4−(トランス−4−メトキシメチルシク
ロヘキシル)シクロヘキサンカルボン酸−4−フ
ルオロフエニルエステル10部を加えた液晶組成物
のN−I点は63℃に上昇し、しきい電圧は
1.55V、飽和電圧は2.13Vであつた。又粘度は20
℃で25cpであつた。
シクロヘキサン 28% トランス−4−ペンチル−(4′−シアノフエニル)
シクロヘキサン 42% トランス−4−ヘプチル−(4′−シアノフエニル)
シクロヘキサン 30% なる組成の液晶組成物のネマチツク−透明点(N
−I点)は52℃である。この液晶組成物をセル厚
10μmのTNセル(ねじれネマチツクセル)に封
入したものの動作しきい電圧は1.53V、飽和電圧
は2.12Vであつた。又粘度は20℃で23cpであつ
た。 この液晶組成物90部に実施例1で製造したトラ
ンス−4−(トランス−4−メトキシメチルシク
ロヘキシル)シクロヘキサンカルボン酸−4−フ
ルオロフエニルエステル10部を加えた液晶組成物
のN−I点は63℃に上昇し、しきい電圧は
1.55V、飽和電圧は2.13Vであつた。又粘度は20
℃で25cpであつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (上式中Rは炭素数1〜5のアルキル基を、Xは
F又はClを示し、nは1又は2である)で表わさ
れるトランス−4−(トランス−4−アルコキシ
メチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン
酸−4−ハロゲノフエニルエステル誘導体。 2 一般式 (上式中Rは炭素数1〜5のアルキル基を、Xは
F又はClを示し、nは1又は2である)で表わさ
れるトランス−4−(トランス−4−アルコキシ
メチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン
酸−4−ハロゲノフエニルエステル誘導体を少く
とも一種含有することを特徴とする液晶組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP205683A JPS59128354A (ja) | 1983-01-10 | 1983-01-10 | シクロヘキサンカルボン酸ハロゲノフエニルエステル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP205683A JPS59128354A (ja) | 1983-01-10 | 1983-01-10 | シクロヘキサンカルボン酸ハロゲノフエニルエステル誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59128354A JPS59128354A (ja) | 1984-07-24 |
JPH0251892B2 true JPH0251892B2 (ja) | 1990-11-08 |
Family
ID=11518675
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP205683A Granted JPS59128354A (ja) | 1983-01-10 | 1983-01-10 | シクロヘキサンカルボン酸ハロゲノフエニルエステル誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59128354A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1136067A (zh) * | 1995-02-22 | 1996-11-20 | 智索公司 | 酯衍生物、液晶组合物和液晶显示元件 |
-
1983
- 1983-01-10 JP JP205683A patent/JPS59128354A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59128354A (ja) | 1984-07-24 |
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