JPH0247456B2 - 44*toransuu4***toransuu4***arukirushikurohekishiru*shikurohekishiru*ansokukosann3***4****jiharogenofueniruesuteru - Google Patents
44*toransuu4***toransuu4***arukirushikurohekishiru*shikurohekishiru*ansokukosann3***4****jiharogenofueniruesuteruInfo
- Publication number
- JPH0247456B2 JPH0247456B2 JP10772482A JP10772482A JPH0247456B2 JP H0247456 B2 JPH0247456 B2 JP H0247456B2 JP 10772482 A JP10772482 A JP 10772482A JP 10772482 A JP10772482 A JP 10772482A JP H0247456 B2 JPH0247456 B2 JP H0247456B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- trans
- liquid crystal
- cyclohexyl
- toransuu4
- alkylcyclohexyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 12
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 11
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 4
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N Raney nickel Chemical compound [Al].[Ni] NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000564 Raney nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- CHKVPAROMQMJNQ-UHFFFAOYSA-M potassium bisulfate Chemical compound [K+].OS([O-])(=O)=O CHKVPAROMQMJNQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910000343 potassium bisulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N copper(i) cyanide Chemical compound [Cu+].N#[C-] DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 ethanol [trans- 4′-(trans-4′′-propylcyclohexyl) cyclohexyl]benzene Chemical compound 0.000 description 2
- QFWPJPIVLCBXFJ-UHFFFAOYSA-N glymidine Chemical compound N1=CC(OCCOC)=CN=C1NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 QFWPJPIVLCBXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M phenylmagnesium bromide Chemical compound Br[Mg]C1=CC=CC=C1 ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HFHFGHLXUCOHLN-UHFFFAOYSA-N 2-fluorophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1F HFHFGHLXUCOHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQXLIXHVJVAPLW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-fluorophenol Chemical compound OC1=CC=C(F)C(Cl)=C1 ZQXLIXHVJVAPLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKCZQKBKWXBJOF-UHFFFAOYSA-N 4-(4-propylcyclohexyl)cyclohexan-1-one Chemical compound C1CC(CCC)CCC1C1CCC(=O)CC1 AKCZQKBKWXBJOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXUSEPRYHRDKFV-CTYIDZIISA-N C1C[C@@H](CCC)CC[C@@H]1C1=CC=C(C#N)C=C1 Chemical compound C1C[C@@H](CCC)CC[C@@H]1C1=CC=C(C#N)C=C1 XXUSEPRYHRDKFV-CTYIDZIISA-N 0.000 description 1
- WQJVIFBSXSFHDA-MUVNWNFZSA-N C1C[C@@H](CCC)CC[C@@H]1[C@@H]1CC[C@@H](C=2C=CC(=CC=2)C#N)CC1 Chemical compound C1C[C@@H](CCC)CC[C@@H]1[C@@H]1CC[C@@H](C=2C=CC(=CC=2)C#N)CC1 WQJVIFBSXSFHDA-MUVNWNFZSA-N 0.000 description 1
- ZALBBBBNODRGOV-CHDDOINTSA-N C1C[C@@H](CCC)CC[C@@H]1[C@@H]1CC[C@@H](C=2C=CC(=CC=2)C(=O)OC=2C=C(Cl)C(F)=CC=2)CC1 Chemical compound C1C[C@@H](CCC)CC[C@@H]1[C@@H]1CC[C@@H](C=2C=CC(=CC=2)C(=O)OC=2C=C(Cl)C(F)=CC=2)CC1 ZALBBBBNODRGOV-CHDDOINTSA-N 0.000 description 1
- JRFVWNRVFJRGKW-VVPTUSLJSA-N C1C[C@@H](CCC)CC[C@@H]1[C@@H]1CC[C@@H](C=2C=CC(I)=CC=2)CC1 Chemical compound C1C[C@@H](CCC)CC[C@@H]1[C@@H]1CC[C@@H](C=2C=CC(I)=CC=2)CC1 JRFVWNRVFJRGKW-VVPTUSLJSA-N 0.000 description 1
- FURZYCFZFBYJBT-JCNLHEQBSA-N C1C[C@@H](CCCCC)CC[C@@H]1C1=CC=C(C#N)C=C1 Chemical compound C1C[C@@H](CCCCC)CC[C@@H]1C1=CC=C(C#N)C=C1 FURZYCFZFBYJBT-JCNLHEQBSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007868 Raney catalyst Substances 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N as-o-xylenol Natural products CC1=CC=C(O)C=C1C YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007333 cyanation reaction Methods 0.000 description 1
- HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N cyclohexylbenzene Chemical compound [CH]1CCCC[C@@H]1C1=CC=CC=C1 HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N iodobenzene Chemical compound IC1=CC=CC=C1 SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-N periodic acid Chemical compound OI(=O)(=O)=O KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は小さい正の誘電異方性を持ち、かつ高
温までの広い温度範囲で液晶相を示す、低粘性の
新規な液晶化合物及びそれを含有する液晶組成物
に関する。
温までの広い温度範囲で液晶相を示す、低粘性の
新規な液晶化合物及びそれを含有する液晶組成物
に関する。
液晶表示素子は液晶物質の特性である光学異方
性及び誘電異方性を利用したものであるが、その
表示方式にはTN型(ねじれネマチツク型)DS
型(動的散乱型)、ゲスト・ホスト型、DAP型な
どがあり、それぞれの方式により使用される液晶
物質に要求される性質も異なる。しかし、いずれ
にしてもこれらに用いられる液晶物質はできるだ
け広い温度範囲で液晶相を示し、又水分、熱、空
気、光などに安定である必要がある。しかし、現
在のところ、単一化合物ではこの様な条件を満た
すものはなく、数種の液晶化合物や、非液晶化合
物を混合して一応実用に耐えるものを得ているの
が現状である。更に表示素子の種類によりその誘
電率異方性△εが正のものを必要としたり負のも
のを必要としたり、或はその中間的な値を持つた
ものが必要になつたりするが、一般的に任意の△
εの値を持つた液晶混合物は△εの値が正のもの
と△εの値が負のものを適宜混合することによつ
て得られる。又、最近は特に低温から高温まで広
い温度範囲で動作する液晶表示素子の開発が要求
されており、この様な要求をみたすために高温ま
での広い温度範囲で液晶相を示す化合物の開発が
なされている。
性及び誘電異方性を利用したものであるが、その
表示方式にはTN型(ねじれネマチツク型)DS
型(動的散乱型)、ゲスト・ホスト型、DAP型な
どがあり、それぞれの方式により使用される液晶
物質に要求される性質も異なる。しかし、いずれ
にしてもこれらに用いられる液晶物質はできるだ
け広い温度範囲で液晶相を示し、又水分、熱、空
気、光などに安定である必要がある。しかし、現
在のところ、単一化合物ではこの様な条件を満た
すものはなく、数種の液晶化合物や、非液晶化合
物を混合して一応実用に耐えるものを得ているの
が現状である。更に表示素子の種類によりその誘
電率異方性△εが正のものを必要としたり負のも
のを必要としたり、或はその中間的な値を持つた
ものが必要になつたりするが、一般的に任意の△
εの値を持つた液晶混合物は△εの値が正のもの
と△εの値が負のものを適宜混合することによつ
て得られる。又、最近は特に低温から高温まで広
い温度範囲で動作する液晶表示素子の開発が要求
されており、この様な要求をみたすために高温ま
での広い温度範囲で液晶相を示す化合物の開発が
なされている。
本発明の化合物はこの様な特性を持つたもの
で、前記の様な要望をある程度満たすものであ
る。
で、前記の様な要望をある程度満たすものであ
る。
即ち、本発明は一般式
(上式中Rは炭素数1〜10のアルキル基を示し、
X、Yは各々F又はClを示す) で表わされる4−〔トランス−4′−(トランス−
4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕
安息香酸−3,4−ジハロゲノフエニルエス
テル及びそれを含有する液晶組成物である。
X、Yは各々F又はClを示す) で表わされる4−〔トランス−4′−(トランス−
4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕
安息香酸−3,4−ジハロゲノフエニルエス
テル及びそれを含有する液晶組成物である。
本化合物は高温までの広い温度範囲で液晶相を
示し、その△εは+1.0程度と小さく、又粘度は
20℃で60cpであり、これを液晶混合物の一成分
として少量加えることにより、高温までネマチツ
ク相を示す様になり、又それほど粘度は上昇しな
い。又水分、熱、光等に対する安定性も良好であ
る。
示し、その△εは+1.0程度と小さく、又粘度は
20℃で60cpであり、これを液晶混合物の一成分
として少量加えることにより、高温までネマチツ
ク相を示す様になり、又それほど粘度は上昇しな
い。又水分、熱、光等に対する安定性も良好であ
る。
次に本発明の化合物の製造法を示す。まず、ブ
ロモベンゼンと金属マグネシウムからフエニルマ
グネシウムブロミドを製造し、それを4−(トラ
ンス−4′−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキ
サノンと反応して4′−(トランス−4″−アルキル
シクロヘキシル)シクロヘキサン−1−オール−
ベンゼン()とする。次にこれを硫酸水素カリ
ウムを触媒にして脱水して4′−(トランス−4″−
アルキルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1′−
イル−ベンゼン()を得、ついでラネ−ニツケ
ル触媒を用いて水素添加してトランス−4′−(ト
ランス−4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘ
キシルベンゼン()を得る。このものは()
を直接、ラネーニツケルを使用して水素添加して
も得ることができる。次に化合物()をヨウ素
酸又は過ヨウ素酸などでハロゲン化することによ
り、4−〔トランス−4″−アルキルシクロヘキシ
ル)シクロヘキシル〕ヨードベンゼン()と
し、これをシアン化第一銅でシアン化すれば4−
〔トランス−4′−(トランス−4″−アルキルシクロ
ヘキシル)シクロヘキシル〕ベンゾニトリル
()が得られる。次にこの化合物()を水酸
化カリウム水溶液ジエチレングリコール系中で加
水分解して、4−〔トランス−4′−(トランス−
4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕
安息香酸を製造する。この安息香酸誘導体を塩化
チオニルにて酸塩化物とし、ついで、3,4−ジ
ハロゲノフエノールをピリジン中で作用させて、
目的の4−〔トランス−4′−(トランス−4″−アル
キルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕安息香酸
−3,4−ジハロゲノフエニルエステル
()が得られる。以上を化学式で示すと、 (上式中R、X、Yは前記と同じ) 以下実施例により本発明を更に詳細に説明す
る。
ロモベンゼンと金属マグネシウムからフエニルマ
グネシウムブロミドを製造し、それを4−(トラ
ンス−4′−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキ
サノンと反応して4′−(トランス−4″−アルキル
シクロヘキシル)シクロヘキサン−1−オール−
ベンゼン()とする。次にこれを硫酸水素カリ
ウムを触媒にして脱水して4′−(トランス−4″−
アルキルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1′−
イル−ベンゼン()を得、ついでラネ−ニツケ
ル触媒を用いて水素添加してトランス−4′−(ト
ランス−4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘ
キシルベンゼン()を得る。このものは()
を直接、ラネーニツケルを使用して水素添加して
も得ることができる。次に化合物()をヨウ素
酸又は過ヨウ素酸などでハロゲン化することによ
り、4−〔トランス−4″−アルキルシクロヘキシ
ル)シクロヘキシル〕ヨードベンゼン()と
し、これをシアン化第一銅でシアン化すれば4−
〔トランス−4′−(トランス−4″−アルキルシクロ
ヘキシル)シクロヘキシル〕ベンゾニトリル
()が得られる。次にこの化合物()を水酸
化カリウム水溶液ジエチレングリコール系中で加
水分解して、4−〔トランス−4′−(トランス−
4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕
安息香酸を製造する。この安息香酸誘導体を塩化
チオニルにて酸塩化物とし、ついで、3,4−ジ
ハロゲノフエノールをピリジン中で作用させて、
目的の4−〔トランス−4′−(トランス−4″−アル
キルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕安息香酸
−3,4−ジハロゲノフエニルエステル
()が得られる。以上を化学式で示すと、 (上式中R、X、Yは前記と同じ) 以下実施例により本発明を更に詳細に説明す
る。
実施例 1
〔4−〔トランス−4′−(トランス−4″−プロピ
ルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕安息香酸
−3−クロロ−4−フルオロフエニルエス
テルの製造〕 削り状マグネシウム3.6g(0.148モル)を3つ
口フラスコに入れ、ブロモベンゼン23.2g
(0.148モル)をテトラヒドロフランに溶かした溶
液50mlをN2気流中で反応温度を30〜35℃に保ち、
撹拌しながらゆつくり滴下していくと反応して3
時間でマグネシウムは溶けて均一になり、フエニ
ルマグネシウムブロミドを生じる。これに4−
(トランス−4′−プロピルシクロヘキシル)シク
ロヘキサノン26.2g(0.118モル)をテトロヒド
ロフランに溶かして50mlにしたものを反応温度を
10℃以下に保ちつつ、なるべく速かに滴下する。
滴下後35℃まで昇温させ30分間撹拌し、ついで
3N塩酸100mlを加える。反応液を分液ロートに移
しn−ヘプタン100mlで3回抽出後、合わせたn
−ヘプタン層を、水で洗液が中性になるまで洗浄
してからn−ヘプタンを減圧留去する。残留した
油状物は〔4′−(トランス−4″−プロピルシクロ
ヘキシル)シクロヘキサン−1′−オール〕ベンゼ
ンであり、これに硫酸水素カリウム19gを加え
N2気流中170℃で2時間脱水する。冷却後200ml
のn−ヘプタンを加えてから硫酸水素カリウムを
別し分液ロートでn−ヘプタン層が洗液が中性
になるまで水洗する。次いでn−ヘプタンを減圧
留去し、残る油状物をn−ヘプタンとアセトンで
再結晶して得られるのが〔4−トランス−4″−プ
ロピレンシクロヘキシル)シクロヘキセン−1′−
イル〕ベンゼンである。この7.5gをエタノール
500mlに溶解しラネーニツケル触媒3.2gを加え、
50℃常圧で水素を通じ接触還元を行う。原料と生
成物の両方をガスクロマトグラフイーで追跡し、
原料が消失した時点、即ち8時間後に還元反応を
終了させた。このときの水素吸収量は800mlであ
つた。触媒を別してから溶媒を減圧留去し、残
つた結晶をエタノールで再結晶して〔トランス−
4′−(トランス−4″−プロピルシクロヘキシル)
シクロヘキシル〕ベンゼンを得た。この1.4gを
酢酸50mlに溶かし、純水0.9ml、濃硫酸1.0ml、ヨ
ウ素酸0.20g、ヨウ素.0.50g、四塩化炭素0.4ml
の混合物を80℃で5時間還流した。反応液を冷却
し析出した結晶を別し、この結晶をn−ヘプタ
ンで再結晶して得られたものが4−〔トランス−
4′−(トランス−4″−プロピルシクロヘキシル)
シクロヘキシル〕ヨードベンゼン()である。
このものは液晶状態を示し、C−Sm点が119.0
℃、Sm−N点が139.2℃、N−I点が189.2℃で
あつた。この1.2gをN,N−ジメチルホルムア
ミド50mlに溶解し、シアン化第一銅0.63gを加
え、130℃で4時間反応した。n−ヘプタン100ml
を加え、分液ロートに移し、30%アンモニア水で
分液し、次いで水洗、6N−塩酸洗いを施こし、
更に洗液が中性になるまで水洗する。溶媒を減圧
留去し、n−ヘプタンで再結晶して得られたもの
が4−〔トランス−4′−(トランス−4″−プロピル
シクロヘキシル)シクロヘキシル〕ベンゾニトリ
ルである。収量0.4g、収率はシアノ化反応につ
いて45%であり、又そのC−Sm点は73.1℃、
Sm−N点は81.1℃、N−I点は242.5℃であつ
た。
ルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕安息香酸
−3−クロロ−4−フルオロフエニルエス
テルの製造〕 削り状マグネシウム3.6g(0.148モル)を3つ
口フラスコに入れ、ブロモベンゼン23.2g
(0.148モル)をテトラヒドロフランに溶かした溶
液50mlをN2気流中で反応温度を30〜35℃に保ち、
撹拌しながらゆつくり滴下していくと反応して3
時間でマグネシウムは溶けて均一になり、フエニ
ルマグネシウムブロミドを生じる。これに4−
(トランス−4′−プロピルシクロヘキシル)シク
ロヘキサノン26.2g(0.118モル)をテトロヒド
ロフランに溶かして50mlにしたものを反応温度を
10℃以下に保ちつつ、なるべく速かに滴下する。
滴下後35℃まで昇温させ30分間撹拌し、ついで
3N塩酸100mlを加える。反応液を分液ロートに移
しn−ヘプタン100mlで3回抽出後、合わせたn
−ヘプタン層を、水で洗液が中性になるまで洗浄
してからn−ヘプタンを減圧留去する。残留した
油状物は〔4′−(トランス−4″−プロピルシクロ
ヘキシル)シクロヘキサン−1′−オール〕ベンゼ
ンであり、これに硫酸水素カリウム19gを加え
N2気流中170℃で2時間脱水する。冷却後200ml
のn−ヘプタンを加えてから硫酸水素カリウムを
別し分液ロートでn−ヘプタン層が洗液が中性
になるまで水洗する。次いでn−ヘプタンを減圧
留去し、残る油状物をn−ヘプタンとアセトンで
再結晶して得られるのが〔4−トランス−4″−プ
ロピレンシクロヘキシル)シクロヘキセン−1′−
イル〕ベンゼンである。この7.5gをエタノール
500mlに溶解しラネーニツケル触媒3.2gを加え、
50℃常圧で水素を通じ接触還元を行う。原料と生
成物の両方をガスクロマトグラフイーで追跡し、
原料が消失した時点、即ち8時間後に還元反応を
終了させた。このときの水素吸収量は800mlであ
つた。触媒を別してから溶媒を減圧留去し、残
つた結晶をエタノールで再結晶して〔トランス−
4′−(トランス−4″−プロピルシクロヘキシル)
シクロヘキシル〕ベンゼンを得た。この1.4gを
酢酸50mlに溶かし、純水0.9ml、濃硫酸1.0ml、ヨ
ウ素酸0.20g、ヨウ素.0.50g、四塩化炭素0.4ml
の混合物を80℃で5時間還流した。反応液を冷却
し析出した結晶を別し、この結晶をn−ヘプタ
ンで再結晶して得られたものが4−〔トランス−
4′−(トランス−4″−プロピルシクロヘキシル)
シクロヘキシル〕ヨードベンゼン()である。
このものは液晶状態を示し、C−Sm点が119.0
℃、Sm−N点が139.2℃、N−I点が189.2℃で
あつた。この1.2gをN,N−ジメチルホルムア
ミド50mlに溶解し、シアン化第一銅0.63gを加
え、130℃で4時間反応した。n−ヘプタン100ml
を加え、分液ロートに移し、30%アンモニア水で
分液し、次いで水洗、6N−塩酸洗いを施こし、
更に洗液が中性になるまで水洗する。溶媒を減圧
留去し、n−ヘプタンで再結晶して得られたもの
が4−〔トランス−4′−(トランス−4″−プロピル
シクロヘキシル)シクロヘキシル〕ベンゾニトリ
ルである。収量0.4g、収率はシアノ化反応につ
いて45%であり、又そのC−Sm点は73.1℃、
Sm−N点は81.1℃、N−I点は242.5℃であつ
た。
以上の様にして得られた4−〔トランス−4′−
(トランス−4″−プロピルシクロヘキシル)シク
ロヘキシル〕ベンゾニトリル5gを、水酸化カリ
ウム5gを10mlの水に溶かした溶液と共にジエチ
レングリコール100mlに加え、フラスコ中200℃で
7時間加熱する。反応終了後室温まで冷却し、
6NHCl50mlと水100mlを加える。析出した結晶を
過し、水でよく洗う。この様にして得られた4
−〔トランス−4′−(トランス−4″−プロピルシク
ロヘキシル)シクロヘキシル〕安息香酸()1
gを、ピリジン0.1mlと塩化チオニル10mlと共に
80℃に加熱する。反応液は2時間で均一になり、
更に1.5時間反応をつづける。過剰の塩化チオニ
ルを減圧にて留去する。残つた油状物は酸塩化物
である。一方3−クロロ−4−フルオロフエノー
ル1gをピリジン20mlに溶かしておいたものに酸
塩化物を加えた後にトルエン100mlを加え、一晩
放置する。分液漏斗でそのトルエン層を、まず
6N塩酸で、ついで2N苛性ソーダ溶液で、最後に
水で中性になるまで洗浄する。それを無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、トルエン層を減圧で留去す
る。析出した結晶をエタノールで、ついでアセト
ンで再結晶すると目的の4−〔トランス−4′−(ト
ランス−4″−プロピルシクロヘキシル)シクロヘ
キシル〕安息香酸−3−クロロ−4−フルオ
ロフエニルエステルが得られた。収量0.7g、収
率50%、そのC−N点124.7〜125.66℃(不安定
型116.0〜116.9℃)、N−I点は242.3℃であつた。
(トランス−4″−プロピルシクロヘキシル)シク
ロヘキシル〕ベンゾニトリル5gを、水酸化カリ
ウム5gを10mlの水に溶かした溶液と共にジエチ
レングリコール100mlに加え、フラスコ中200℃で
7時間加熱する。反応終了後室温まで冷却し、
6NHCl50mlと水100mlを加える。析出した結晶を
過し、水でよく洗う。この様にして得られた4
−〔トランス−4′−(トランス−4″−プロピルシク
ロヘキシル)シクロヘキシル〕安息香酸()1
gを、ピリジン0.1mlと塩化チオニル10mlと共に
80℃に加熱する。反応液は2時間で均一になり、
更に1.5時間反応をつづける。過剰の塩化チオニ
ルを減圧にて留去する。残つた油状物は酸塩化物
である。一方3−クロロ−4−フルオロフエノー
ル1gをピリジン20mlに溶かしておいたものに酸
塩化物を加えた後にトルエン100mlを加え、一晩
放置する。分液漏斗でそのトルエン層を、まず
6N塩酸で、ついで2N苛性ソーダ溶液で、最後に
水で中性になるまで洗浄する。それを無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、トルエン層を減圧で留去す
る。析出した結晶をエタノールで、ついでアセト
ンで再結晶すると目的の4−〔トランス−4′−(ト
ランス−4″−プロピルシクロヘキシル)シクロヘ
キシル〕安息香酸−3−クロロ−4−フルオ
ロフエニルエステルが得られた。収量0.7g、収
率50%、そのC−N点124.7〜125.66℃(不安定
型116.0〜116.9℃)、N−I点は242.3℃であつた。
実施例 2
同様な方法で実施例1に於ける3−クロロ−4
−フルオロフエノールの代りに3,4−ジクロロ
フエノールを使用して4−〔トランス−4′−(トラ
ンス−4″−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキ
シル〕安息香酸−3,4−ジクロロフエニル
エステルを得た。収量0.8g、収率56%。そのC
−Nは126.3〜127.1℃、N−I点287.8℃であつ
た。
−フルオロフエノールの代りに3,4−ジクロロ
フエノールを使用して4−〔トランス−4′−(トラ
ンス−4″−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキ
シル〕安息香酸−3,4−ジクロロフエニル
エステルを得た。収量0.8g、収率56%。そのC
−Nは126.3〜127.1℃、N−I点287.8℃であつ
た。
実施例 3(使用例)
トランス−4−プロピル−(4′−シアノフエニル)
シクロヘキサン 28% トランス−4−ペンチル−(4′−シアノフエニル)
シクロヘキサン 42% トランス−4−ヘプチル−(4′−シアノフエニル)
シクロヘキサン 30% なる組成の液晶組成物のN−I点は53℃である。
この液晶組成物をセル厚10μmのTNセル(ねじ
れネマチツクセル)に封入したものの動作しきい
電圧は1.53V、飽和電圧は2.12Vであつた。又粘
度は20℃で23cpであつた。
シクロヘキサン 28% トランス−4−ペンチル−(4′−シアノフエニル)
シクロヘキサン 42% トランス−4−ヘプチル−(4′−シアノフエニル)
シクロヘキサン 30% なる組成の液晶組成物のN−I点は53℃である。
この液晶組成物をセル厚10μmのTNセル(ねじ
れネマチツクセル)に封入したものの動作しきい
電圧は1.53V、飽和電圧は2.12Vであつた。又粘
度は20℃で23cpであつた。
この液晶組成物97部に実施例1で製造した4−
〔トランス−4′−(トランス−4″−プロピルシクロ
ヘキシル)シクロヘキシル〕安息香酸−3″−クロ
ロ−4−フルオロフエニルエステル3部を加え
たもののN−I点は56℃になり、しきい電圧は
1.55V、飽和電圧は2.14Vであつた。又粘度は20
℃で25cpであつた。
〔トランス−4′−(トランス−4″−プロピルシクロ
ヘキシル)シクロヘキシル〕安息香酸−3″−クロ
ロ−4−フルオロフエニルエステル3部を加え
たもののN−I点は56℃になり、しきい電圧は
1.55V、飽和電圧は2.14Vであつた。又粘度は20
℃で25cpであつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (上式中Rは炭素数1〜10のアルキル基を示し、
X、Yは各々F又はClを表わす) で表わされる4−〔トランス−4′−(トランス−
4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕
安息香酸−3,4−ジハロゲノフエニルエス
テル。 2 一般式 (上式中Rは炭素数1〜10のアルキル基を示し、
X、Yは各々F又はClを示す) で表わされる4−〔トランス−4′−(トランス−
4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕
安息香酸−3,4−ジハロゲノフエニルエス
テルを少くとも1成分含むことを特徴とする液晶
組成物。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10772482A JPH0247456B2 (ja) | 1982-06-23 | 1982-06-23 | 44*toransuu4***toransuu4***arukirushikurohekishiru*shikurohekishiru*ansokukosann3***4****jiharogenofueniruesuteru |
US06/477,973 US4502974A (en) | 1982-03-31 | 1983-03-23 | High temperature liquid-crystalline ester compounds |
EP19830301866 EP0090671B1 (en) | 1982-03-31 | 1983-03-31 | Carbocylic esters having liquid-crystal properties at high temperatures |
DE8383301866T DE3360300D1 (en) | 1982-03-31 | 1983-03-31 | Carbocylic esters having liquid-crystal properties at high temperatures |
US06/683,631 US4701547A (en) | 1982-03-31 | 1984-12-19 | High temperature liquid-crystalline ester compounds |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10772482A JPH0247456B2 (ja) | 1982-06-23 | 1982-06-23 | 44*toransuu4***toransuu4***arukirushikurohekishiru*shikurohekishiru*ansokukosann3***4****jiharogenofueniruesuteru |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58225042A JPS58225042A (ja) | 1983-12-27 |
JPH0247456B2 true JPH0247456B2 (ja) | 1990-10-19 |
Family
ID=14466335
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10772482A Expired - Lifetime JPH0247456B2 (ja) | 1982-03-31 | 1982-06-23 | 44*toransuu4***toransuu4***arukirushikurohekishiru*shikurohekishiru*ansokukosann3***4****jiharogenofueniruesuteru |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0247456B2 (ja) |
-
1982
- 1982-06-23 JP JP10772482A patent/JPH0247456B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58225042A (ja) | 1983-12-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS644497B2 (ja) | ||
JPS6344132B2 (ja) | ||
JPS6313411B2 (ja) | ||
JPS5916840A (ja) | 3−フルオロ−4−置換−〔トランス−4′−(トランス−4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕ベンゼン | |
JPS6346738B2 (ja) | ||
JPH0247456B2 (ja) | 44*toransuu4***toransuu4***arukirushikurohekishiru*shikurohekishiru*ansokukosann3***4****jiharogenofueniruesuteru | |
JPH0359050B2 (ja) | ||
JPH0239499B2 (ja) | 44*toransuu4***toransuu4***arukirushikurohekishiru*shikurohekishiru*ansokukosan44harogennofueniruesuteru | |
JPH0229055B2 (ja) | Jishikurohekishirubenzenjudotai | |
JPH0231709B2 (ja) | 44*toransuu4***toransuu4***arukirushikurohekishiru*shikurohekishiru*ansokukosann44shianofueniruesuteru | |
JPH0247981B2 (ja) | Terushikurohekisankarubonsann3*44jiharogenofueniruesuteru | |
JPH033649B2 (ja) | ||
JPH0232271B2 (ja) | Okutadekahidorooppterufueniruutoransuu44karubonsann4****shianofueniruesuteru | |
JPS5832856A (ja) | 4−シアノ−4′−〔トランス4″−(トランス−4′′′−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕ビフエニル | |
JPS5942343A (ja) | オクタデカヒドロ−p−テルフエニル−トランス−4−カルボン酸−3′′′−ハロゲノフエニルエステル | |
JPS58225054A (ja) | 4−〔トランス−4′−(トランス−4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕安息香酸−3′′′−シアノフエニルエステル | |
JPS6361292B2 (ja) | ||
JPS5965045A (ja) | オクタデカヒドロ−p−テルフエニルカルボン酸−2,4−ジハロゲノフエニルエステル | |
JPH0247984B2 (ja) | Toransuu44arukiruutoransuu4****44harogenobenzoiruokishi**okutadekahidorootoransuuppterufueniru | |
JPS64372B2 (ja) | ||
JPS58203944A (ja) | 4−〔トランス−4′−(トランス−4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕安息香酸−3−ハロゲノフエニルエステル | |
JPH033650B2 (ja) | ||
JPH0233698B2 (ja) | Futsusoganjushikurohekishiruansokukosanfueniruesuterujudotai | |
JPH0220615B2 (ja) | ||
JPS597149A (ja) | 4−シアノ安息香酸−4−〔トランス−4′−(トランス−4″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕フエニルエステル |