JPS5965045A - オクタデカヒドロ−p−テルフエニルカルボン酸−2,4−ジハロゲノフエニルエステル - Google Patents
オクタデカヒドロ−p−テルフエニルカルボン酸−2,4−ジハロゲノフエニルエステルInfo
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- JPS5965045A JPS5965045A JP17514582A JP17514582A JPS5965045A JP S5965045 A JPS5965045 A JP S5965045A JP 17514582 A JP17514582 A JP 17514582A JP 17514582 A JP17514582 A JP 17514582A JP S5965045 A JPS5965045 A JP S5965045A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は広い温度範囲で液晶相を示す、弱い正の□誘電
異方性を有する新規液晶物質及びそれを含有する液晶組
成物に関する。
異方性を有する新規液晶物質及びそれを含有する液晶組
成物に関する。
液晶・を使用した表示素子は時計、電卓などに広く使用
される様になって来た。この液晶表示素子は液晶物質の
光学異方性及び誘電異方性という性質を利用し、たもの
であるが、液晶相にはネマチック液晶相、スメクチック
液晶相、コレ・ステリック液晶相があシ、そのうちネマ
チック液晶相を利用したものが最も広く実用化されてい
る。即ちそれらにはTN(ねじれネマチック)型、DS
(動的散乱型)型、ゲスト・ホスト型、DAF’型など
があり、それぞれに使用される液晶物質に要求される性
質は異る。しかし、いずれにしても、これら表示素子に
使用される液晶物質は自然界のなるべく広い範囲で液晶
相を示すものが望ましいが、現在のところ単一物質でそ
の様な条件をみたす様な物質はなく、数種の液晶物質又
は非液晶物質を混合して一応実用に耐える様な物ff:
得ているのが現状である。又、これらの物質は水分、光
、熱、空気等に対しても安定でなければならないのは勿
論であシ、更に表示素子を駆動をせる必要なしきい電圧
、飽和電圧がなるべく低いこと、又応答速度を早くする
ためにVよ粘度が出来るだけ低いこと−が望ましい。と
ころで液晶温度範囲を高温の方に広くするためには高融
点の液晶物質を成分として使用する必要があるが、一般
に高融点の液晶物質は粘度が品<、従ってそれを含む液
晶組成物も粘度が高くなるので、高温、例えば80℃位
まで使用出来る様な液晶表示素子の応答速度、特に低温
でのそれは著るしくおそくなる傾向にあった。しかるに
本発明者らは高い液晶温度範囲をもちながら低粘度の液
晶物質金兄っけ本発明に到った。
される様になって来た。この液晶表示素子は液晶物質の
光学異方性及び誘電異方性という性質を利用し、たもの
であるが、液晶相にはネマチック液晶相、スメクチック
液晶相、コレ・ステリック液晶相があシ、そのうちネマ
チック液晶相を利用したものが最も広く実用化されてい
る。即ちそれらにはTN(ねじれネマチック)型、DS
(動的散乱型)型、ゲスト・ホスト型、DAF’型など
があり、それぞれに使用される液晶物質に要求される性
質は異る。しかし、いずれにしても、これら表示素子に
使用される液晶物質は自然界のなるべく広い範囲で液晶
相を示すものが望ましいが、現在のところ単一物質でそ
の様な条件をみたす様な物質はなく、数種の液晶物質又
は非液晶物質を混合して一応実用に耐える様な物ff:
得ているのが現状である。又、これらの物質は水分、光
、熱、空気等に対しても安定でなければならないのは勿
論であシ、更に表示素子を駆動をせる必要なしきい電圧
、飽和電圧がなるべく低いこと、又応答速度を早くする
ためにVよ粘度が出来るだけ低いこと−が望ましい。と
ころで液晶温度範囲を高温の方に広くするためには高融
点の液晶物質を成分として使用する必要があるが、一般
に高融点の液晶物質は粘度が品<、従ってそれを含む液
晶組成物も粘度が高くなるので、高温、例えば80℃位
まで使用出来る様な液晶表示素子の応答速度、特に低温
でのそれは著るしくおそくなる傾向にあった。しかるに
本発明者らは高い液晶温度範囲をもちながら低粘度の液
晶物質金兄っけ本発明に到った。
即ち本発明は一般式
(上式中Rは水素又は炭素数1〜1oのアルキル基を示
し、X及びYはそれぞれF又はCtのいずれかを示す) で表わされるトランス−4〃−アルキル−トランス−オ
クタデカヒドロ−p−テルフェニル−トランス−4−カ
ルボン酸−2,4−ジハロケノフェニルエステル及びそ
れを含有する液晶組成物である。
し、X及びYはそれぞれF又はCtのいずれかを示す) で表わされるトランス−4〃−アルキル−トランス−オ
クタデカヒドロ−p−テルフェニル−トランス−4−カ
ルボン酸−2,4−ジハロケノフェニルエステル及びそ
れを含有する液晶組成物である。
本発明の化合物は高い透明点を有し、例えば本発明の化
合物の−っであるトランス−4“−プロピル−トランス
−オクタデカヒドロ−p−テルフェニル−トランス−4
−カルボン酸−2−クロロ−4−フルオロフェニルエス
テルのC−8点は920%S−N点は190.1°C,
N−I点d、256.3°Cと広い温度範囲で液晶相を
示し、これを組成物の成分として加えることによシその
液晶組成物の粘度を高くせずに透明点を上げることが出
来る。又本発明の化合物の誘電異方性値は−1−0,5
程度であるが、組成物のしきい値電圧、飽和電圧をそれ
ほど変化させない。又水分、熱、光等に対する安定性も
良好である。又二周波法にも応用できる。
合物の−っであるトランス−4“−プロピル−トランス
−オクタデカヒドロ−p−テルフェニル−トランス−4
−カルボン酸−2−クロロ−4−フルオロフェニルエス
テルのC−8点は920%S−N点は190.1°C,
N−I点d、256.3°Cと広い温度範囲で液晶相を
示し、これを組成物の成分として加えることによシその
液晶組成物の粘度を高くせずに透明点を上げることが出
来る。又本発明の化合物の誘電異方性値は−1−0,5
程度であるが、組成物のしきい値電圧、飽和電圧をそれ
ほど変化させない。又水分、熱、光等に対する安定性も
良好である。又二周波法にも応用できる。
次に本発明の化合物の製造法を示す。まず、ブロモベン
ゼンと金属マグネシウムからフェニルマグネシウムプロ
ミドを製造し、それを4−(トランス−4′−アルキル
シクロヘキシル)シクロヘキサノンと反応して4’−(
)ランス−4”−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキ
サン−1−オール−ベンゼン(1)とする。次にこれを
硫酸水素カリウムを触媒にして脱水して4’−()ラン
ス−4“−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキセン−
1′−イル−ベンゼン(2)を得、ついでラネーニッケ
ル触媒を用いて水素添加してトランス−4′−(トラン
ス−4“−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシルベ
ンゼン4V) f 48る。このものは(1)を直接、
ラネーニッケルを使用して水素添加しても得ることがで
きる。次に化合物(IV)をヨウ素酸又は過ヨウ素酸な
どでハロゲン化することKよ、?、4−(トランス−4
′−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕ハロゲ
ノベンゼン(■)とし、これをシアン化第−銅でシアン
化すれば4−(トランス−4’−()ランス−4″−ア
ルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕ベンゾ=トリ
ルQV)が得られる。次促この化合動画)を水酸化カリ
ウム水溶液−ジエチレングリコール系中で加水分解して
、4−()ランス−4′−()ランス−4”、−アルキ
ルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕安息香酸を製造す
る。この安息香酸誘導体をイソアミルアルコール中、金
属ナトリウムで還元してトランス−4“−アルキルート
ランスーオクタテカヒドローp−テルフェニル−トラン
ス−4−カルボン酸(vll)とする。
ゼンと金属マグネシウムからフェニルマグネシウムプロ
ミドを製造し、それを4−(トランス−4′−アルキル
シクロヘキシル)シクロヘキサノンと反応して4’−(
)ランス−4”−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキ
サン−1−オール−ベンゼン(1)とする。次にこれを
硫酸水素カリウムを触媒にして脱水して4’−()ラン
ス−4“−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキセン−
1′−イル−ベンゼン(2)を得、ついでラネーニッケ
ル触媒を用いて水素添加してトランス−4′−(トラン
ス−4“−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシルベ
ンゼン4V) f 48る。このものは(1)を直接、
ラネーニッケルを使用して水素添加しても得ることがで
きる。次に化合物(IV)をヨウ素酸又は過ヨウ素酸な
どでハロゲン化することKよ、?、4−(トランス−4
′−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕ハロゲ
ノベンゼン(■)とし、これをシアン化第−銅でシアン
化すれば4−(トランス−4’−()ランス−4″−ア
ルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕ベンゾ=トリ
ルQV)が得られる。次促この化合動画)を水酸化カリ
ウム水溶液−ジエチレングリコール系中で加水分解して
、4−()ランス−4′−()ランス−4”、−アルキ
ルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕安息香酸を製造す
る。この安息香酸誘導体をイソアミルアルコール中、金
属ナトリウムで還元してトランス−4“−アルキルート
ランスーオクタテカヒドローp−テルフェニル−トラン
ス−4−カルボン酸(vll)とする。
このものを塩化チオニルにて酸塩化物とし、ついで2.
4−ジハロゲノフェノールをピリジン中で作用させると
、目的のトランス−4“−アルキル−トランス−オクタ
デカヒドロ−p−テルフェニル−トランス−4−カルボ
ン酸−2,4−ジハロゲノフェニルエステル(1)が得
られる。
4−ジハロゲノフェノールをピリジン中で作用させると
、目的のトランス−4“−アルキル−トランス−オクタ
デカヒドロ−p−テルフェニル−トランス−4−カルボ
ン酸−2,4−ジハロゲノフェニルエステル(1)が得
られる。
以上を化学式で示すと
(V) ff)
μブーノンクリコール
Q’D
(Iン
(上式中R,,X、Yは前記と同じ)
以下実施例にょシ本発明の化合物につき更に詳細に説明
する。
する。
実Mfl 1 () 9ンスー1’−10ピルート2ン
スーオクタデ力ヒドローp−テルフェニル−トランス−
4−カルボン&−2−クロロー4−フルオ0フェニルエ
ステルの製造〕削)状マグネシラA8.6 f (0,
148−eル)を3つ目フラスコに入れ、ブロモベンゼ
ン23、21 (0,148モル)をテトラヒドロ7:
17ンに溶かした溶液50ゴをN2気流中で反応温度を
30〜35℃に保ち、攪拌しなからゆつくシ滴下してい
くと反応して8時間でマグネシウムは溶けて均一になり
、フェニルマグネシウムプロミドを生じる。これに4−
(トランス−4′−プロピルシクロヘキシル)シクロヘ
キサノン26.2g(0,118モル)をテトラヒドロ
フランに溶かして50ttrlにしたものを反応温度を
10℃以下に保ちつつ、なるべく速かに滴下する4筒下
後35℃まで昇献させ30分間攪拌し、ついて8N塩1
W 100 tstを加える。反応液を分液ロートに移
しn−へブタン100m1で3回抽出後、合わぜたn−
ヘプタン層を、水で洗液が中性になるまで洗浄してから
n−へブタンを減圧留去する。残留した油状物は(4’
−()ランス−4“−プロピルシクロヘキシル)シクロ
ヘキー!jンー1’−オール〕ベンゼンでアシ、これに
硫酸水先カリウム19fを加えN2気流中170℃で2
時間脱水する。冷却後20 (l mlのn−へブタン
を加えてから硫酸水素カリウムをp別し分液ロートでn
−へブタン層を洗液が中性になるまで水洗する。次いで
n−へブタンを減圧留去し、残る油状物tn−へブタン
とア七トンで再結晶して得られるのが(4−()ランス
−4“−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1
′−イル〕ベンゼンである。この7.5gをエタノール
500 ;xiに溶解しラネーニッケル触媒3.2gを
加え、50”C常圧で水素ケ通じ接触還元を行う。原料
と生成物の両方をガスクロマトグラフィーで追跡し、原
料が消失した時点、即ち8時間後に還元反応を終了させ
た7、このときの水素吸収量は800g/であったー触
媒を炉別してから溶媒を減圧留去し残った結晶をエタノ
ールで再結晶して〔トランス−4’−(トランス−4”
−フロビルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕ベンゼン
を得た。この1.4gを酢酸50 ml K溶かし、純
水0.9禦11濃硫酸1. Otttl、ヨウ素酸0.
201、ヨウ素0.5Of、四塩化炭素0.4 mlの
混合物を80°Cで5時間還流した。反応液を冷却し析
出した結晶を炉別し、この結晶をn −ヘゲタンで再結
晶して得られ/ζものが4−(トランス−4’−(トラ
ンス−4”−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル
〕ヨードベンゼン(V)である。このものは液晶状態を
示し、c−8点が119. (1°C,S−N点が18
9.2′C%N−I点が189.2 ′Cであった。こ
の1.2fをN、N’−ジメチルホルム゛アミド50m
1に溶解シ、シアン化第−銅0.68 fを加え、18
0″Cで4時間反応した。n−ヘプタン100胃lを加
え、分液ロートに移し、28%アンモニア水で分液し、
次いで水洗、6N塩酸洗浄を施cし、更に洗液が中性に
なるまで水洗する。溶媒を減圧留去し、n−へブタンで
再結晶して得られたものが4−(トランス−4’−()
ランス−4“−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシ
ル〕ベンゾニトリルである。収−1d0.4y、収率は
シアノ化反応について45%であり、又そのc−8点は
781”C,S−N点は81.1′C%N−I点は24
2.5°Cであった。
スーオクタデ力ヒドローp−テルフェニル−トランス−
4−カルボン&−2−クロロー4−フルオ0フェニルエ
ステルの製造〕削)状マグネシラA8.6 f (0,
148−eル)を3つ目フラスコに入れ、ブロモベンゼ
ン23、21 (0,148モル)をテトラヒドロ7:
17ンに溶かした溶液50ゴをN2気流中で反応温度を
30〜35℃に保ち、攪拌しなからゆつくシ滴下してい
くと反応して8時間でマグネシウムは溶けて均一になり
、フェニルマグネシウムプロミドを生じる。これに4−
(トランス−4′−プロピルシクロヘキシル)シクロヘ
キサノン26.2g(0,118モル)をテトラヒドロ
フランに溶かして50ttrlにしたものを反応温度を
10℃以下に保ちつつ、なるべく速かに滴下する4筒下
後35℃まで昇献させ30分間攪拌し、ついて8N塩1
W 100 tstを加える。反応液を分液ロートに移
しn−へブタン100m1で3回抽出後、合わぜたn−
ヘプタン層を、水で洗液が中性になるまで洗浄してから
n−へブタンを減圧留去する。残留した油状物は(4’
−()ランス−4“−プロピルシクロヘキシル)シクロ
ヘキー!jンー1’−オール〕ベンゼンでアシ、これに
硫酸水先カリウム19fを加えN2気流中170℃で2
時間脱水する。冷却後20 (l mlのn−へブタン
を加えてから硫酸水素カリウムをp別し分液ロートでn
−へブタン層を洗液が中性になるまで水洗する。次いで
n−へブタンを減圧留去し、残る油状物tn−へブタン
とア七トンで再結晶して得られるのが(4−()ランス
−4“−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1
′−イル〕ベンゼンである。この7.5gをエタノール
500 ;xiに溶解しラネーニッケル触媒3.2gを
加え、50”C常圧で水素ケ通じ接触還元を行う。原料
と生成物の両方をガスクロマトグラフィーで追跡し、原
料が消失した時点、即ち8時間後に還元反応を終了させ
た7、このときの水素吸収量は800g/であったー触
媒を炉別してから溶媒を減圧留去し残った結晶をエタノ
ールで再結晶して〔トランス−4’−(トランス−4”
−フロビルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕ベンゼン
を得た。この1.4gを酢酸50 ml K溶かし、純
水0.9禦11濃硫酸1. Otttl、ヨウ素酸0.
201、ヨウ素0.5Of、四塩化炭素0.4 mlの
混合物を80°Cで5時間還流した。反応液を冷却し析
出した結晶を炉別し、この結晶をn −ヘゲタンで再結
晶して得られ/ζものが4−(トランス−4’−(トラ
ンス−4”−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル
〕ヨードベンゼン(V)である。このものは液晶状態を
示し、c−8点が119. (1°C,S−N点が18
9.2′C%N−I点が189.2 ′Cであった。こ
の1.2fをN、N’−ジメチルホルム゛アミド50m
1に溶解シ、シアン化第−銅0.68 fを加え、18
0″Cで4時間反応した。n−ヘプタン100胃lを加
え、分液ロートに移し、28%アンモニア水で分液し、
次いで水洗、6N塩酸洗浄を施cし、更に洗液が中性に
なるまで水洗する。溶媒を減圧留去し、n−へブタンで
再結晶して得られたものが4−(トランス−4’−()
ランス−4“−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシ
ル〕ベンゾニトリルである。収−1d0.4y、収率は
シアノ化反応について45%であり、又そのc−8点は
781”C,S−N点は81.1′C%N−I点は24
2.5°Cであった。
以上の様にして得られfc4−Cトランス−4′−(ト
ランス−4“−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシ
ル〕ベンゾニトリル5 f f、水酸化カリウム5fを
lam/の水に溶がした溶液と共にジエチレングリコー
ル100+++/に加え、フラスコ中200”Cで7時
間加熱する。反応終了後室温−& テ冷却し、6 N
HCl20 atと水10 ONt紮加える。析出した
結晶f 1)” >G917%水でよく洗う。この様に
して得られた4−〔トランス−4’−()ランス〜4“
−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキ゛シル〕安息香
酸cyvtsy、インアミルアルコール1500肩Jと
共に攪拌し、90’Cまで加熱する。そこ−\金属ナト
リウム10fを加えると激しく反応をしはじめる。その
まま還流をつづけながら、3時間で金属す) IJウム
を更に8Of加える。反応液は次第に均一になる。
ランス−4“−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシ
ル〕ベンゾニトリル5 f f、水酸化カリウム5fを
lam/の水に溶がした溶液と共にジエチレングリコー
ル100+++/に加え、フラスコ中200”Cで7時
間加熱する。反応終了後室温−& テ冷却し、6 N
HCl20 atと水10 ONt紮加える。析出した
結晶f 1)” >G917%水でよく洗う。この様に
して得られた4−〔トランス−4’−()ランス〜4“
−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキ゛シル〕安息香
酸cyvtsy、インアミルアルコール1500肩Jと
共に攪拌し、90’Cまで加熱する。そこ−\金属ナト
リウム10fを加えると激しく反応をしはじめる。その
まま還流をつづけながら、3時間で金属す) IJウム
を更に8Of加える。反応液は次第に均一になる。
反応終了後放冷t、、100″Cにする。水を少量づつ
加えながらイソアミルアルコールを留去スる。水は1.
54加えた。6N塩酸をll加え完全に酸性としてから
沈澱物を濾過し、よく水洗する。それを酢酸で再結晶し
てトランス−4−プロビルートランスーオクタデカヒド
o−p−テルフェニル−トランス−4−カルボン酸(■
)を得た。収i1.9f、収率68%。このものも液晶
性を示しそのC−8点は約170℃、5−NAは282
°C,N−I点は290〜800℃(分解を伴う)であ
った。
加えながらイソアミルアルコールを留去スる。水は1.
54加えた。6N塩酸をll加え完全に酸性としてから
沈澱物を濾過し、よく水洗する。それを酢酸で再結晶し
てトランス−4−プロビルートランスーオクタデカヒド
o−p−テルフェニル−トランス−4−カルボン酸(■
)を得た。収i1.9f、収率68%。このものも液晶
性を示しそのC−8点は約170℃、5−NAは282
°C,N−I点は290〜800℃(分解を伴う)であ
った。
このようにして製造したカルポジ酸(Vl) 0.6f
を塩化チオニル1011と共に80℃に加熱する。反応
液は2時間で均一になシ、更に1.5時間反応をつづけ
る。過剰の塩化チオニルを減圧にて留去する。残った油
状物は酸塩化物である。
を塩化チオニル1011と共に80℃に加熱する。反応
液は2時間で均一になシ、更に1.5時間反応をつづけ
る。過剰の塩化チオニルを減圧にて留去する。残った油
状物は酸塩化物である。
、方2−クロロー4−フルオロフェノール0.61をピ
リジン20st/に溶かしておいたものに酸塩化物を加
えた後にトルエン100 wlを加え、−晩装置する。
リジン20st/に溶かしておいたものに酸塩化物を加
えた後にトルエン100 wlを加え、−晩装置する。
分液漏斗でそのトルエン層を、まず6N塩酸で、ついで
2N苛性ソーダ溶液で、最後に水で中性になるまで洗浄
する。それを無水硫酸ナトリウムで乾燥後、トルエン層
を減圧で留去する。析出した結晶をエタノールで、つい
でアセトンで再結晶すると目的のトランス−4”−プロ
ピル−トランス−オクタデカヒドロ−p−テルフェニル
−トランス−4−カルボン酸−2−クロロ−4−フルオ
ロフェニルエステルが得られた。収量0.5f、収率8
5%、そのC−8点は92℃、S−N点は190.1°
O,N−1点は256.8℃であった。
2N苛性ソーダ溶液で、最後に水で中性になるまで洗浄
する。それを無水硫酸ナトリウムで乾燥後、トルエン層
を減圧で留去する。析出した結晶をエタノールで、つい
でアセトンで再結晶すると目的のトランス−4”−プロ
ピル−トランス−オクタデカヒドロ−p−テルフェニル
−トランス−4−カルボン酸−2−クロロ−4−フルオ
ロフェニルエステルが得られた。収量0.5f、収率8
5%、そのC−8点は92℃、S−N点は190.1°
O,N−1点は256.8℃であった。
実施例2,8
実施例1と同様な方法で4−(トーyンスー4′−()
ランス−4“−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキサ
ノンの代シに他のアルキル基を有する4−(トランス−
4’−(トランス−4“−アルキルシクロヘキシル)シ
クロヘキサノンヲ使用し、又、2−クロロ−4−フルオ
ロフェノールの代シに2−フルオロ−4−クロロフェノ
ール、2.4−ジフルオロフェノール又1−j:2,4
−ジクロロフェノールを使用して下に示す目的の化合物
が得られた。
ランス−4“−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキサ
ノンの代シに他のアルキル基を有する4−(トランス−
4’−(トランス−4“−アルキルシクロヘキシル)シ
クロヘキサノンヲ使用し、又、2−クロロ−4−フルオ
ロフェノールの代シに2−フルオロ−4−クロロフェノ
ール、2.4−ジフルオロフェノール又1−j:2,4
−ジクロロフェノールを使用して下に示す目的の化合物
が得られた。
トランス−4”−プロピルートランスーオクタデカヒド
ロ−p−テルフェニル−トランス−4−カルボン酸−2
−フルオロ−4−クロロフェニルエステル C−S点は98℃、S−N点は192.0℃、N−1点
は285.0@C0 トランス−4“−プロピル−トランス−オクタデカヒド
ロ−p−テルフェニル−トランス−4−カルボン酸−2
,4−ジクロロフェニルエステル C−S点は108°0%S−N点は184.0℃、N−
I点は260.7℃。
ロ−p−テルフェニル−トランス−4−カルボン酸−2
−フルオロ−4−クロロフェニルエステル C−S点は98℃、S−N点は192.0℃、N−1点
は285.0@C0 トランス−4“−プロピル−トランス−オクタデカヒド
ロ−p−テルフェニル−トランス−4−カルボン酸−2
,4−ジクロロフェニルエステル C−S点は108°0%S−N点は184.0℃、N−
I点は260.7℃。
実施例4(応用例)
トランス−4−プロピル−(4′−シアノフェニル)シ
クロヘキサン 28% トランス−4−ベンチルー(4’−シアノフェニル)シ
クロヘキサン 42% トランス−4−へブチル−(4’−シアノフェニル)シ
クロヘキサン 80% なる組成の液晶組成物のネマチック−透明点は52°C
である。この液晶組成物をセル厚10μmのTNセル(
ねじれネマチックセル)に封入したものの動作しきい電
圧は1.58V、飽和電圧は2.12 Vであった。又
粘には20℃で28 cpであった。
クロヘキサン 28% トランス−4−ベンチルー(4’−シアノフェニル)シ
クロヘキサン 42% トランス−4−へブチル−(4’−シアノフェニル)シ
クロヘキサン 80% なる組成の液晶組成物のネマチック−透明点は52°C
である。この液晶組成物をセル厚10μmのTNセル(
ねじれネマチックセル)に封入したものの動作しきい電
圧は1.58V、飽和電圧は2.12 Vであった。又
粘には20℃で28 cpであった。
この液晶組成物97部に実施例で製造したトランス−4
“−プロピル−トランス−オクタデカヒドロ−p−テル
フェニル−トランス−4−1ルボン酸−2−クロロ−4
−フルオロフェニルエステル8部を加えたネマチック組
成物のネマチック−透明点は58℃、しきい電圧は1.
50V、飽和電圧は2.09Vであった。又粘度は20
℃で24 cpであった。
“−プロピル−トランス−オクタデカヒドロ−p−テル
フェニル−トランス−4−1ルボン酸−2−クロロ−4
−フルオロフェニルエステル8部を加えたネマチック組
成物のネマチック−透明点は58℃、しきい電圧は1.
50V、飽和電圧は2.09Vであった。又粘度は20
℃で24 cpであった。
以上
Claims (2)
- (1)二股式 (上式中Rは水素又は炭素数1〜10のアルキル基を示
し、X及びYはそれぞれF又はCtのいずれかを示す) で表わされるトランス−4“−アルキル−トランス−オ
クタデカヒドロ−p−テルフェニル−トランス−4−カ
ルボン酸−2°、4−ジノ10ゲノフエニルエステル。 - (2)一般式 (上式中Rは水素又は炭素数1〜10のアルキル基を示
し、X及びYはそれぞれF又はCtのいずれかを示す) で表わされるトランス−4“−アルキル−トランス−オ
クタデカヒドロ−p−テルフェニル−トランス−4−カ
ルボン酸−2,4−ジハロゲノフェニルエステルを少く
とも一種含有することを特徴とする液晶組成物。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17514582A JPS5965045A (ja) | 1982-10-05 | 1982-10-05 | オクタデカヒドロ−p−テルフエニルカルボン酸−2,4−ジハロゲノフエニルエステル |
US06/477,973 US4502974A (en) | 1982-03-31 | 1983-03-23 | High temperature liquid-crystalline ester compounds |
EP19830301866 EP0090671B1 (en) | 1982-03-31 | 1983-03-31 | Carbocylic esters having liquid-crystal properties at high temperatures |
DE8383301866T DE3360300D1 (en) | 1982-03-31 | 1983-03-31 | Carbocylic esters having liquid-crystal properties at high temperatures |
US06/683,631 US4701547A (en) | 1982-03-31 | 1984-12-19 | High temperature liquid-crystalline ester compounds |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17514582A JPS5965045A (ja) | 1982-10-05 | 1982-10-05 | オクタデカヒドロ−p−テルフエニルカルボン酸−2,4−ジハロゲノフエニルエステル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5965045A true JPS5965045A (ja) | 1984-04-13 |
Family
ID=15991065
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17514582A Pending JPS5965045A (ja) | 1982-03-31 | 1982-10-05 | オクタデカヒドロ−p−テルフエニルカルボン酸−2,4−ジハロゲノフエニルエステル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5965045A (ja) |
-
1982
- 1982-10-05 JP JP17514582A patent/JPS5965045A/ja active Pending
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