JPH0243369B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0243369B2 JPH0243369B2 JP55060777A JP6077780A JPH0243369B2 JP H0243369 B2 JPH0243369 B2 JP H0243369B2 JP 55060777 A JP55060777 A JP 55060777A JP 6077780 A JP6077780 A JP 6077780A JP H0243369 B2 JPH0243369 B2 JP H0243369B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- voltage
- current
- transistor
- circuit
- resistor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 39
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 3
- 229920000729 poly(L-lysine) polymer Polymers 0.000 description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 6
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000007600 charging Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010277 constant-current charging Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000007619 statistical method Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000002277 temperature effect Effects 0.000 description 1
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3447—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a halide
- C03C17/3452—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a halide comprising a fluoride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3464—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a chalcogenide
- C03C17/347—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a chalcogenide comprising a sulfide or oxysulfide
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K3/00—Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
- H03K3/02—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses
- H03K3/26—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use, as active elements, of bipolar transistors with internal or external positive feedback
- H03K3/28—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use, as active elements, of bipolar transistors with internal or external positive feedback using means other than a transformer for feedback
- H03K3/281—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use, as active elements, of bipolar transistors with internal or external positive feedback using means other than a transformer for feedback using at least two transistors so coupled that the input of one is derived from the output of another, e.g. multivibrator
- H03K3/282—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use, as active elements, of bipolar transistors with internal or external positive feedback using means other than a transformer for feedback using at least two transistors so coupled that the input of one is derived from the output of another, e.g. multivibrator astable
- H03K3/2821—Emitters connected to one another by using a capacitor
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K7/00—Modulating pulses with a continuously-variable modulating signal
- H03K7/06—Frequency or rate modulation, i.e. PFM or PRM
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03L—AUTOMATIC CONTROL, STARTING, SYNCHRONISATION OR STABILISATION OF GENERATORS OF ELECTRONIC OSCILLATIONS OR PULSES
- H03L1/00—Stabilisation of generator output against variations of physical values, e.g. power supply
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Stabilization Of Oscillater, Synchronisation, Frequency Synthesizers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、位相がロツクされたループPLLの
構成部分として半導体集積回路チツプに使用する
のに適した電圧制御された発振器VCOに関する
ものである。
構成部分として半導体集積回路チツプに使用する
のに適した電圧制御された発振器VCOに関する
ものである。
[従来技術]
PLLは通信及びデータ処理において数多く適
用される。A.B.Grebene著“The Monolithic
Phase―locked Loop―a Versatile Building
Block”、pages 38 to 49、IEEE Spectrum、
March 1971には、広範囲の適用を有する集積化
されたPLLの基本的な原理及び設計パラメータ
が示されている。
用される。A.B.Grebene著“The Monolithic
Phase―locked Loop―a Versatile Building
Block”、pages 38 to 49、IEEE Spectrum、
March 1971には、広範囲の適用を有する集積化
されたPLLの基本的な原理及び設計パラメータ
が示されている。
上記論文の第12B図には、集積化された
PLLの設計における基本的なVCO回路として、
エミツタ結合されたマルチバイブレータが示され
ている。第14図には、発振器の周波数の温度ド
リフトを最小にするために、独立した温度補正の
バイアス回路網を備え、外部タイミング・キヤパ
シタを有するエミツタ結合されたマルチバイブレ
ータを含む集積化されたPLL回路の概略が示さ
れている。しかしながら、製造における許容誤差
及び供給電圧の変化を考慮すると、外部のタイミ
ング・キヤパシタの調整なしに、PLLの補獲範
囲内にあるような十分な精度の許容誤差を中心周
波数に与えるには、この技術により提供される周
波数の補正では不十分である。さらに、上記の設
計構造では、製造の許容誤差及び電圧供給の許容
誤差による周波数変化の問題がとり扱われていな
いことにも注意すべきである。
PLLの設計における基本的なVCO回路として、
エミツタ結合されたマルチバイブレータが示され
ている。第14図には、発振器の周波数の温度ド
リフトを最小にするために、独立した温度補正の
バイアス回路網を備え、外部タイミング・キヤパ
シタを有するエミツタ結合されたマルチバイブレ
ータを含む集積化されたPLL回路の概略が示さ
れている。しかしながら、製造における許容誤差
及び供給電圧の変化を考慮すると、外部のタイミ
ング・キヤパシタの調整なしに、PLLの補獲範
囲内にあるような十分な精度の許容誤差を中心周
波数に与えるには、この技術により提供される周
波数の補正では不十分である。さらに、上記の設
計構造では、製造の許容誤差及び電圧供給の許容
誤差による周波数変化の問題がとり扱われていな
いことにも注意すべきである。
最も近い先行技術は、英国特許第1500085号で
ある。同じ主題は、R.R.Cordell及びW.A.
Garrett著、“A Highly Stable VCO for
Application in Monolithic Phase―Locked
Loops”、pages 480 to 485、IEEE Journal of
Solid―State Circuits、Volume SC―10、No.6、
December 1975のの論文に示されている。
ある。同じ主題は、R.R.Cordell及びW.A.
Garrett著、“A Highly Stable VCO for
Application in Monolithic Phase―Locked
Loops”、pages 480 to 485、IEEE Journal of
Solid―State Circuits、Volume SC―10、No.6、
December 1975のの論文に示されている。
エミツタ結合された集積回路のマルチバイブレ
ータは、2つのトランジスタのエミツタと外部抵
抗Rとの間の外部タイミング・キヤパシタCと共
に用いられる。2つのエミツタ電流源は基準電圧
により制御される。2つのトランジスタのコレク
タ電流は制御されるので、キヤパシタC間の電圧
がPN接合の順方向電圧に等しくなると、回路は
電流がエミツタ電流に対して一定の割合になるよ
うな状態に切り換わる。そして、それと同一の電
圧が基準電圧として用いられる。理論的には、周
波数は1/4RCに比例し、これ故に温度及び電圧
供給の変化に独立となることが示されている。
ータは、2つのトランジスタのエミツタと外部抵
抗Rとの間の外部タイミング・キヤパシタCと共
に用いられる。2つのエミツタ電流源は基準電圧
により制御される。2つのトランジスタのコレク
タ電流は制御されるので、キヤパシタC間の電圧
がPN接合の順方向電圧に等しくなると、回路は
電流がエミツタ電流に対して一定の割合になるよ
うな状態に切り換わる。そして、それと同一の電
圧が基準電圧として用いられる。理論的には、周
波数は1/4RCに比例し、これ故に温度及び電圧
供給の変化に独立となることが示されている。
しかしながら、上記特許明細書及び論文の第3
図に示されている実際の回路は非常に複雑で、温
度特性を向上させるために回路を精密に構成する
必要があることに注意されたい。
図に示されている実際の回路は非常に複雑で、温
度特性を向上させるために回路を精密に構成する
必要があることに注意されたい。
PLLに組込まれたVCOを含む幾つかのシリコ
ン・チツプが市販されている。しかしながら、こ
れらの利用できるPLLチツプは、次のことを必
要とする。即ち、VCOの中心周波数は外部抵抗
又は外部キヤパシタのどちらかを調節(トリミン
グ)することにより調整されなければならず、そ
れで中心周波数はPLLの補獲範囲内にくるよう
になる。この調整は、熟練者の世話にならなけれ
ばならないし、例えば文字数字式表示又はテレビ
ジヨン受信機のような非常に数多く製造される装
置にPLLが使用される場合には好ましくない。
ン・チツプが市販されている。しかしながら、こ
れらの利用できるPLLチツプは、次のことを必
要とする。即ち、VCOの中心周波数は外部抵抗
又は外部キヤパシタのどちらかを調節(トリミン
グ)することにより調整されなければならず、そ
れで中心周波数はPLLの補獲範囲内にくるよう
になる。この調整は、熟練者の世話にならなけれ
ばならないし、例えば文字数字式表示又はテレビ
ジヨン受信機のような非常に数多く製造される装
置にPLLが使用される場合には好ましくない。
[発明が解決しようとする問題点]
この発明の目的は、基準電圧及び製造上の誤差
にも拘らず、VCOの高い精度の中心周波数を提
供する回路を提供することにある。
にも拘らず、VCOの高い精度の中心周波数を提
供する回路を提供することにある。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、VCOをその中心周波数に十分な精
度の許容誤差を有するようにシリコン・チツプに
設計し、製造可能にすることにより、VCOの中
心周波数の調整のこの問題を扱つたものであり、
それ故に据え付けの外部抵抗及びキヤパシタと共
に用いられる。従つて製造されたVCOは中心周
波数のトリミングを必要とすることなしに、
PLLで用いられる。
度の許容誤差を有するようにシリコン・チツプに
設計し、製造可能にすることにより、VCOの中
心周波数の調整のこの問題を扱つたものであり、
それ故に据え付けの外部抵抗及びキヤパシタと共
に用いられる。従つて製造されたVCOは中心周
波数のトリミングを必要とすることなしに、
PLLで用いられる。
本発明では、電圧制御された発振器は、キヤパ
シタの一定な電流による充電及び放電により時間
調整される中心周波数を有する非安定マルチバイ
ブレータを含み、時間調整された周期はVT/I
に比例するのであり(ここでVTはキヤパシタの
電圧振れ幅の半分であり、Iは一定の電流であ
る。)周波数を変えるための制御電圧入力を含み、
類似の整合したトランジスタ/抵抗の回路網によ
り、共通の電源からキヤパシタのために電圧VT
及び定電流Iの両方を発生させるための集積回路
手段を含み、それ故に、温度及び供給電圧の変化
による中心周波数の変化を最小にするように、電
圧VT及び定電流Iは互いに追従(トラツク)す
る。
シタの一定な電流による充電及び放電により時間
調整される中心周波数を有する非安定マルチバイ
ブレータを含み、時間調整された周期はVT/I
に比例するのであり(ここでVTはキヤパシタの
電圧振れ幅の半分であり、Iは一定の電流であ
る。)周波数を変えるための制御電圧入力を含み、
類似の整合したトランジスタ/抵抗の回路網によ
り、共通の電源からキヤパシタのために電圧VT
及び定電流Iの両方を発生させるための集積回路
手段を含み、それ故に、温度及び供給電圧の変化
による中心周波数の変化を最小にするように、電
圧VT及び定電流Iは互いに追従(トラツク)す
る。
[実施例]
先行技術の基本的な電圧制御された発振器
VCOのダイヤグラムが、第1図に与えられてい
る。VCOは、外部のタイミング構成要素、抵抗
RTとキヤパシタCTの端子と共に、シリコン・
チツプ上に集積回路として作られる。これらの外
部タイミング構成要素は時間の単位を決め、制御
電圧VCがゼロの時には中心周波数FOを決める。
即ち、 FO=K1/RT・CT ここでK1は、発振回路の設計により決められ
る定数である。制御入力端子に印加される差動制
御電圧VCは、中心周波数FOに対して直線的に周
波数Fを増加又は減少させる。制御電圧に対する
周波数の変化速度は、VCO利得と言われ、∂F/
∂VC=K2により与えられる。理想的には、K1及
びK2は両方とも一定であるべきであり、製造の
許容誤差、温度変化及び供給電圧の変化に独立で
あるべきである。
VCOのダイヤグラムが、第1図に与えられてい
る。VCOは、外部のタイミング構成要素、抵抗
RTとキヤパシタCTの端子と共に、シリコン・
チツプ上に集積回路として作られる。これらの外
部タイミング構成要素は時間の単位を決め、制御
電圧VCがゼロの時には中心周波数FOを決める。
即ち、 FO=K1/RT・CT ここでK1は、発振回路の設計により決められ
る定数である。制御入力端子に印加される差動制
御電圧VCは、中心周波数FOに対して直線的に周
波数Fを増加又は減少させる。制御電圧に対する
周波数の変化速度は、VCO利得と言われ、∂F/
∂VC=K2により与えられる。理想的には、K1及
びK2は両方とも一定であるべきであり、製造の
許容誤差、温度変化及び供給電圧の変化に独立で
あるべきである。
第2図は、第3図に示されている実際のVCO
回路において実施される本発明の回路の概念を概
略的に示している。第2図は、非安定マルチバイ
ブレータに接続された外部のタイミング構成要
素、キヤパシタCT及び抵抗RTと一緒にシリコ
ン・チツプ上に形成された集積回路を示す。制御
電圧VCがゼロの時における中心周波数では、マ
ルチバイブレータは、スイツチS1及びS2を動
作させることにより充電しそして直線的にキヤパ
シタCTを放電する。それで定電流I1が交互に
キヤパシタの各端子に印加される。マルチバイブ
レータ回路は、キヤパシタ間の電圧振れ幅が
2VTで、VTが回路網N2により発生される電圧
となるように設計される。従つて中心周波数FO
はI1/4CT・VTにより与えられ、キヤパシタ
CTにより時間調整される各周期はVT/I1に比
例する。シリコン・チツプ上に設けられるトラン
ジスタ及び抵抗体は精密に整合された特性を有
し、これらの特性は電圧又は温度の変化と共に変
化するか又は互いに追従(トラツク)すること
は、半導体分野においては周知である。集積回路
のこの固有の特性は、ここでは、中心周波数FO
の変化を最小にするために、電圧VT及び定電流
I1が互いにトラツクするように配列することに
より、利用される。
回路において実施される本発明の回路の概念を概
略的に示している。第2図は、非安定マルチバイ
ブレータに接続された外部のタイミング構成要
素、キヤパシタCT及び抵抗RTと一緒にシリコ
ン・チツプ上に形成された集積回路を示す。制御
電圧VCがゼロの時における中心周波数では、マ
ルチバイブレータは、スイツチS1及びS2を動
作させることにより充電しそして直線的にキヤパ
シタCTを放電する。それで定電流I1が交互に
キヤパシタの各端子に印加される。マルチバイブ
レータ回路は、キヤパシタ間の電圧振れ幅が
2VTで、VTが回路網N2により発生される電圧
となるように設計される。従つて中心周波数FO
はI1/4CT・VTにより与えられ、キヤパシタ
CTにより時間調整される各周期はVT/I1に比
例する。シリコン・チツプ上に設けられるトラン
ジスタ及び抵抗体は精密に整合された特性を有
し、これらの特性は電圧又は温度の変化と共に変
化するか又は互いに追従(トラツク)すること
は、半導体分野においては周知である。集積回路
のこの固有の特性は、ここでは、中心周波数FO
の変化を最小にするために、電圧VT及び定電流
I1が互いにトラツクするように配列することに
より、利用される。
電圧供給源VSに接続された回路Zは、電圧VS
よりも小さな電圧変化を有する低インピーダンス
電源VZを提供する。類似する整合されたトラン
ジスタ/抵抗の回路網N1及びN2が電源VZに
接続される。回路網N1は正確なタイミング抵抗
RTを含み、方形波の出力波形(即ち全ての時間
調整された周期が等しい)を与える2つの定電流
I1を発生する。定電流I1及びI2は、その波
形に非対称が必要とされる時に発生される。回路
網N2は、電圧VTを生じる抵抗体を通過する同
じ定電流I1を実質的に発生する回路網N1と同
じトランジスタ/抵抗の回路構成を有する。この
電圧は、キヤパシタCTを発振させる時に回路が
2VTの電圧振動を有するように配列されたマル
チバイブレータで用いられる。従つて、回路網N
1及びN2は類似し、整合した特性を有するトラ
ンジスタ及び抵抗体を用いるので、定電流I1
(又はI2)及び電圧VTは、温度が変化すると
互いにトラツクする。
よりも小さな電圧変化を有する低インピーダンス
電源VZを提供する。類似する整合されたトラン
ジスタ/抵抗の回路網N1及びN2が電源VZに
接続される。回路網N1は正確なタイミング抵抗
RTを含み、方形波の出力波形(即ち全ての時間
調整された周期が等しい)を与える2つの定電流
I1を発生する。定電流I1及びI2は、その波
形に非対称が必要とされる時に発生される。回路
網N2は、電圧VTを生じる抵抗体を通過する同
じ定電流I1を実質的に発生する回路網N1と同
じトランジスタ/抵抗の回路構成を有する。この
電圧は、キヤパシタCTを発振させる時に回路が
2VTの電圧振動を有するように配列されたマル
チバイブレータで用いられる。従つて、回路網N
1及びN2は類似し、整合した特性を有するトラ
ンジスタ及び抵抗体を用いるので、定電流I1
(又はI2)及び電圧VTは、温度が変化すると
互いにトラツクする。
制御電圧VCは、回路網N1により、回路網N
1及びN2の整合した特性を乱すことなく定電流
I1(又はI2)を変えるように動作する。これ
は、電圧VZ以上又は以下に回路網N1に印加さ
れた電圧を変化させるようにVCが動作するよう
配列することにより、達成される。こうして
VCO利得の温度による影響が最小にされる。
1及びN2の整合した特性を乱すことなく定電流
I1(又はI2)を変えるように動作する。これ
は、電圧VZ以上又は以下に回路網N1に印加さ
れた電圧を変化させるようにVCが動作するよう
配列することにより、達成される。こうして
VCO利得の温度による影響が最小にされる。
さて、実際のVCO回路及び関係する電圧波形
を示す第3図及び第4図を参照する。第3図の回
路は、タイミング抵抗RT及びタイミング・キヤ
パシタCTは別として、制御電圧の端子A1,A
2、抵抗RTの端子B1,B2及びキヤパシタ
CTの端子D1,D2と共に、シリコン・チツプ
上に集積回路として製造される。方形波の電圧出
力は、通常オン・チツプのバツフア増幅器(図示
されず)に与えられる。各々ほぼ1mAの定電流
源IS1,IS2及びIS3は、回路ダイヤグラムに簡
単にするために概略的に示されている。これら
は、定電流I1を発生するトランジスタ/抵抗の
組合せT20,R15及びT21,R16に類似
する通常の定電流源である。
を示す第3図及び第4図を参照する。第3図の回
路は、タイミング抵抗RT及びタイミング・キヤ
パシタCTは別として、制御電圧の端子A1,A
2、抵抗RTの端子B1,B2及びキヤパシタ
CTの端子D1,D2と共に、シリコン・チツプ
上に集積回路として製造される。方形波の電圧出
力は、通常オン・チツプのバツフア増幅器(図示
されず)に与えられる。各々ほぼ1mAの定電流
源IS1,IS2及びIS3は、回路ダイヤグラムに簡
単にするために概略的に示されている。これら
は、定電流I1を発生するトランジスタ/抵抗の
組合せT20,R15及びT21,R16に類似
する通常の定電流源である。
回路は大まかには、破線により4つの機能部分
に分けられる。即ち、マルチバイブレータ(M―
B)、マルチバイブレータに接続された電圧VT
回路網N2(VT―N2)及び電流I1回路網N
1(I1―N1)、及び電流I1回路網によりそ
の中心周波数から発振器の周波数を変えるための
電圧制御回路V―Cである。次にこれらの部分に
ついて述べる。マルチバイブレータは、前記の
IEEE Journal of Solid State Circuitsの480頁
に示されているような通常のエミツタ結合したマ
ルチバイブレータに、動作が類似する非安定エミ
ツタ結合したマルチバイブレータである。しかし
この実際のVCOの適用のために特別仕様される。
回路は方形波の出力を生じるように設計されるの
で、回路は定電流I1がキヤパシタCTの両側に
印加されるように対称になつている。抵抗R13
及びR14は等しい値であり、トランジスタT1
8及びT19のコレクタにおいて適当な電圧振動
を与えるために、2I1・R13(又はR14)
が電圧VTを越えるように選ばれる。T16及び
T17はダイオードとして接続されたトランジス
タであり、ダイオードの記号で表わされている。
第3図の回路は、全てのトランジスタが動作中に
飽和しないように設計される。
に分けられる。即ち、マルチバイブレータ(M―
B)、マルチバイブレータに接続された電圧VT
回路網N2(VT―N2)及び電流I1回路網N
1(I1―N1)、及び電流I1回路網によりそ
の中心周波数から発振器の周波数を変えるための
電圧制御回路V―Cである。次にこれらの部分に
ついて述べる。マルチバイブレータは、前記の
IEEE Journal of Solid State Circuitsの480頁
に示されているような通常のエミツタ結合したマ
ルチバイブレータに、動作が類似する非安定エミ
ツタ結合したマルチバイブレータである。しかし
この実際のVCOの適用のために特別仕様される。
回路は方形波の出力を生じるように設計されるの
で、回路は定電流I1がキヤパシタCTの両側に
印加されるように対称になつている。抵抗R13
及びR14は等しい値であり、トランジスタT1
8及びT19のコレクタにおいて適当な電圧振動
を与えるために、2I1・R13(又はR14)
が電圧VTを越えるように選ばれる。T16及び
T17はダイオードとして接続されたトランジス
タであり、ダイオードの記号で表わされている。
第3図の回路は、全てのトランジスタが動作中に
飽和しないように設計される。
[作用]
まず、第4図の波形Aのスタート地点で示され
ているように、トランジスタT18がオフでトラ
ンジスタT19がオンの初期条件から回路を始め
よう。トランジスタT18がオフの時は、そのコ
レクタは供給電圧VSであり、それでまたトラン
ジスタT15のベースも電圧VSであり、トラン
ジスタT13をオフに保つ。従つてトランジスタ
T15はオンになり、T17は、電流源IS3によ
り供給される1mAの電流を流す。これによりト
ランジスタT19のベース及びエミツタは、各々
VS―2Vbe及びVS―3Vbe(Vbeはトランジスタ
のベース・エミツタ間の電圧)である(第4図の
波形B及びC参照)。トランジスタT19のコレ
クタ電流は2I1であり、そのうちの半分はトラン
ジスタT21に由来し、あとの半分はキヤパシタ
CTを介してトランジスタT20に由来する。
ているように、トランジスタT18がオフでトラ
ンジスタT19がオンの初期条件から回路を始め
よう。トランジスタT18がオフの時は、そのコ
レクタは供給電圧VSであり、それでまたトラン
ジスタT15のベースも電圧VSであり、トラン
ジスタT13をオフに保つ。従つてトランジスタ
T15はオンになり、T17は、電流源IS3によ
り供給される1mAの電流を流す。これによりト
ランジスタT19のベース及びエミツタは、各々
VS―2Vbe及びVS―3Vbe(Vbeはトランジスタ
のベース・エミツタ間の電圧)である(第4図の
波形B及びC参照)。トランジスタT19のコレ
クタ電流は2I1であり、そのうちの半分はトラン
ジスタT21に由来し、あとの半分はキヤパシタ
CTを介してトランジスタT20に由来する。
後で述べることになるのだが、電圧VT回路網
はトランジスタT11のエミツタをVS―VT+
Vbeの電圧レベルにセツトする。トランジスタT
19がオンの時には、抵抗R14を通る電流2Iに
より、トランジスタT12が導通するとともに、
そのベース電圧がVS―VT+Vbeであることが保
証され、このVS―VT+Vbeというトランジスタ
T12のベース電圧は、トランジスタT19のコ
レクタをVS―VTというレベルに保持する。電
流源IS2は、直列トランジスタT14及びダイオ
ード接続されたトランジスタT16により得られ
る1mAの電流を生じる。これはトランジスタT
18のベースをVS―VT―2Vbeの電圧レベルに
保つ。
はトランジスタT11のエミツタをVS―VT+
Vbeの電圧レベルにセツトする。トランジスタT
19がオンの時には、抵抗R14を通る電流2Iに
より、トランジスタT12が導通するとともに、
そのベース電圧がVS―VT+Vbeであることが保
証され、このVS―VT+Vbeというトランジスタ
T12のベース電圧は、トランジスタT19のコ
レクタをVS―VTというレベルに保持する。電
流源IS2は、直列トランジスタT14及びダイオ
ード接続されたトランジスタT16により得られ
る1mAの電流を生じる。これはトランジスタT
18のベースをVS―VT―2Vbeの電圧レベルに
保つ。
これらの初期条件の下では、トランジスタT1
8のエミツタは、第4図の波形Cに示されている
ようにVS―3Vbe+VTの電圧レベルであると仮
定する。それからトランジスタT20により発生
した定電流I1は直線的にキヤパシタCTを放電
し、トランジスタT18のエミツタの電圧レベル
は、VS―3Vbe―VTの電圧レベルに達するまで
下がる。このレベルで、トランジスタT18は導
通し始め、回路はトランジスタT18をオンにし
そしてトランジスタT19をオフにする再生状態
になり、抵抗R14を流れる電流を抵抗R13に
送る。トランジスタT19のコレクタはVS―
VTからVSまですばやく電圧上昇をする。この
電圧差VTは、トランジスタT14,T16によ
り伝播され、トランジスタT18のエミツタを
VS―3Vbe―VTの電圧レベルからVS―3Vbeの
電圧レベルに上げる。キヤパシタCTは、第4図
の波形Cに示されているように電圧レベルVS―
3Vbeから電圧レベルVS―3Vbe+VTまで引き上
がるトランジスタT19のエミツタへ、この電圧
ステツプVTを送る。
8のエミツタは、第4図の波形Cに示されている
ようにVS―3Vbe+VTの電圧レベルであると仮
定する。それからトランジスタT20により発生
した定電流I1は直線的にキヤパシタCTを放電
し、トランジスタT18のエミツタの電圧レベル
は、VS―3Vbe―VTの電圧レベルに達するまで
下がる。このレベルで、トランジスタT18は導
通し始め、回路はトランジスタT18をオンにし
そしてトランジスタT19をオフにする再生状態
になり、抵抗R14を流れる電流を抵抗R13に
送る。トランジスタT19のコレクタはVS―
VTからVSまですばやく電圧上昇をする。この
電圧差VTは、トランジスタT14,T16によ
り伝播され、トランジスタT18のエミツタを
VS―3Vbe―VTの電圧レベルからVS―3Vbeの
電圧レベルに上げる。キヤパシタCTは、第4図
の波形Cに示されているように電圧レベルVS―
3Vbeから電圧レベルVS―3Vbe+VTまで引き上
がるトランジスタT19のエミツタへ、この電圧
ステツプVTを送る。
これでマルチバイブレータの1つの半サイクル
が終わり、トランジスタT18について仮定され
た初期電圧レベルはトランジスタT19に送られ
た。こうして、第2の半サイクルは、回路が再び
状態を変えるまで続き、最初に仮定したようなト
ランジスタT18がオフでトランジスタT19が
オンの状態に回路を戻す。第4図の波形Dは、振
幅2VTの3角形波形としてキヤパシタCT間の電
圧を示している。これは、第4図の波形Cに示さ
れるトランジスタT18及びT19のエミツタに
おける電圧波形の差として導かれる。
が終わり、トランジスタT18について仮定され
た初期電圧レベルはトランジスタT19に送られ
た。こうして、第2の半サイクルは、回路が再び
状態を変えるまで続き、最初に仮定したようなト
ランジスタT18がオフでトランジスタT19が
オンの状態に回路を戻す。第4図の波形Dは、振
幅2VTの3角形波形としてキヤパシタCT間の電
圧を示している。これは、第4図の波形Cに示さ
れるトランジスタT18及びT19のエミツタに
おける電圧波形の差として導かれる。
第3図は、破線内に電流I1を発生するための
回路網N1の部分を示す。この回路網は、10Vの
供給電圧VSからほぼ5Vの電圧VZを引き出す電
圧VT回路網N2と通常のツエナー・ダイオード
回路を共有している。このツエナー回路は、供給
電圧の変動のVCO周波数に対する影響を低減し、
低インピーダンスの電圧源を提供するために、設
けられている。もし供給電圧VSが十分な精度の
許容誤差であるか、又は最適な周波数安定性が必
要でない時には、それは必要ない。これらのどち
らの場合にも、基準電圧VZはトランジスタと抵
抗の回路により発生される。
回路網N1の部分を示す。この回路網は、10Vの
供給電圧VSからほぼ5Vの電圧VZを引き出す電
圧VT回路網N2と通常のツエナー・ダイオード
回路を共有している。このツエナー回路は、供給
電圧の変動のVCO周波数に対する影響を低減し、
低インピーダンスの電圧源を提供するために、設
けられている。もし供給電圧VSが十分な精度の
許容誤差であるか、又は最適な周波数安定性が必
要でない時には、それは必要ない。これらのどち
らの場合にも、基準電圧VZはトランジスタと抵
抗の回路により発生される。
基準電圧VZは、十分に低い抵抗値を有する抵
抗R5を通つてトランジスタT6のベースに印加
されるので、抵抗R5間の電圧降下は無視でき
る。トランジスタT6のコレクタは電圧供給VS
に接続され、そのエミツタは外部端子B1に接続
される。1%の精度の抵抗RTは外部端子B1,
B2の間に接続され、またダイオード接続された
トランジスタT8は端子B2と大地との間に抵抗
R7と共に直列に接続される。抵抗R7は抵抗
RTよりもずつと小さな抵抗値を有する。抵抗を
通るほぼ1.6mAの大きさの電流I1は、次のよう
に与えられる。
抗R5を通つてトランジスタT6のベースに印加
されるので、抵抗R5間の電圧降下は無視でき
る。トランジスタT6のコレクタは電圧供給VS
に接続され、そのエミツタは外部端子B1に接続
される。1%の精度の抵抗RTは外部端子B1,
B2の間に接続され、またダイオード接続された
トランジスタT8は端子B2と大地との間に抵抗
R7と共に直列に接続される。抵抗R7は抵抗
RTよりもずつと小さな抵抗値を有する。抵抗を
通るほぼ1.6mAの大きさの電流I1は、次のよう
に与えられる。
I1=(VZ−2Vbe)/(RT+R7) (1)
ここでVbeはトランジスタT6,T8のベー
ス・エミツタ電圧である。
ス・エミツタ電圧である。
トランジスタT20、抵抗R15及びトランジ
スタT21、抵抗R16により形成される端子B
2に接続された電流ミラーにより、マルチバイブ
レータの端子D1及びD2に電流I1を生じる。
抵抗R7,R15及びR16は公称の抵抗値が等
しい。
スタT21、抵抗R16により形成される端子B
2に接続された電流ミラーにより、マルチバイブ
レータの端子D1及びD2に電流I1を生じる。
抵抗R7,R15及びR16は公称の抵抗値が等
しい。
電圧VT回路網N2は、抵抗R11を通る記号
は同一であるが上記I1とは独立の電流I1を生
じそしてほぼ1.6Vの抵抗R11間のタイミング
基準電圧を生じるように、電流I1回路網N1と
同じ公称の構成要素の値を有する同じ回路構成を
用いている。尚、T6,RT,T8,R7の回路
N1を流れT20,R15と、T21,R16で
ミラーされる電流I1は、T7,R8,T9,R
9で発生されR11,T10,R10でミラーさ
れる回路VT―N2中の電流I1とは、記号は同
一であるが独立である。前者のI1が入力制御電
圧VCに応じて、CTの充放電の速度を制御するよ
うに変化するのに対して、後者のI1は、T7の
コレクタに印加される電圧と、T7のベースに印
加される電圧が一定であることからVCに拘らず
一定である。
は同一であるが上記I1とは独立の電流I1を生
じそしてほぼ1.6Vの抵抗R11間のタイミング
基準電圧を生じるように、電流I1回路網N1と
同じ公称の構成要素の値を有する同じ回路構成を
用いている。尚、T6,RT,T8,R7の回路
N1を流れT20,R15と、T21,R16で
ミラーされる電流I1は、T7,R8,T9,R
9で発生されR11,T10,R10でミラーさ
れる回路VT―N2中の電流I1とは、記号は同
一であるが独立である。前者のI1が入力制御電
圧VCに応じて、CTの充放電の速度を制御するよ
うに変化するのに対して、後者のI1は、T7の
コレクタに印加される電圧と、T7のベースに印
加される電圧が一定であることからVCに拘らず
一定である。
トランジスタT6、抵抗RT及びトランジスタ
T8に流れる電流I1とは独立の電流I1は、抵
抗R6(=R5)を通してトランジスタT7のベ
ースにツエナー基準電圧VZを印加することによ
り設定される。トランジスタT7のエミツタは、
抵抗R8、ダイオード接続されたトランジスタT
9及び抵抗R9(=R7)と共に直列に接続され
る。抵抗R8とRTの公称値は同じであるが、抵
抗R8はほぼ±10%の許容誤差を有してチツプ上
に形成される。トランジスタT10及び抵抗R1
0(=R7)により形成される電流ミラーによ
り、トランジスタT10のコレクタでこの電流I
1を再生する。従つてタイミング基準電圧VTは
次のように与えられる。
T8に流れる電流I1とは独立の電流I1は、抵
抗R6(=R5)を通してトランジスタT7のベ
ースにツエナー基準電圧VZを印加することによ
り設定される。トランジスタT7のエミツタは、
抵抗R8、ダイオード接続されたトランジスタT
9及び抵抗R9(=R7)と共に直列に接続され
る。抵抗R8とRTの公称値は同じであるが、抵
抗R8はほぼ±10%の許容誤差を有してチツプ上
に形成される。トランジスタT10及び抵抗R1
0(=R7)により形成される電流ミラーによ
り、トランジスタT10のコレクタでこの電流I
1を再生する。従つてタイミング基準電圧VTは
次のように与えられる。
VT=(VZ−2Vbe)・R11/R8+R9 (2)
トランジスタT6,T7,T8及びT9は全て
チツプ上に設けられたNPNトランジスタである
ので、電流及び温度によるベース・エミツタ電圧
Vbeのそれらの変化はほとんど同じになる。言換
えればそれらの特性は互いに追従する。
チツプ上に設けられたNPNトランジスタである
ので、電流及び温度によるベース・エミツタ電圧
Vbeのそれらの変化はほとんど同じになる。言換
えればそれらの特性は互いに追従する。
式(1)では、RT≫R7の場合、外部の正確な抵抗
RTの温度係数のみが重要なので、これが非常に
小さくなるように選択される。
RTの温度係数のみが重要なので、これが非常に
小さくなるように選択される。
抵抗R8,R9及びR11は全てチツプ上に形
成されるので、それらの抵抗値は全て同じ温度係
数を有することになり、回路損失は低く、またチ
ツプ基板はセラミツク物質であり、チツプは実質
的に等温なので全ての抵抗はほぼ同じ温度で動作
することになる。従つて式(2)では、温度係数は相
殺されるので、R11/(R8+R9)の式は実質的
に温度に独立となり、その結果実質的に一定にな
る。
成されるので、それらの抵抗値は全て同じ温度係
数を有することになり、回路損失は低く、またチ
ツプ基板はセラミツク物質であり、チツプは実質
的に等温なので全ての抵抗はほぼ同じ温度で動作
することになる。従つて式(2)では、温度係数は相
殺されるので、R11/(R8+R9)の式は実質的
に温度に独立となり、その結果実質的に一定にな
る。
抵抗R11の間にタイミング基準電圧VTを生
じると、この電圧VTはバツフアされて、トラン
ジスタT12及びT13の共通のベース及び電圧
供給源VSの間に再生されなければならない。そ
れで先に説明したように、タイミング・キヤパシ
タCTの電圧幅は2VTになる。この再生は、
NPNトランジスタT12(又はT13)と共に
PNPトランジスタT11及び抵抗R12によつ
て行なわれている。明らかに、PNPトランジス
タはいつも導通していて、またNPNトランジス
タT12(又はT13)はタイミング・キヤパシ
タCTの幅が制限されている時に導通するので、
これらの条件では、PNPトランジスタT11の
エミツタの点でNPNトランジスタT12(また
はT13)のベースに印加される電圧は、PNP
トランジスタT11のVbe分だけ増加する。一
方、NPNトランジスタT12(またはT13)
のベースに印加される電圧は、NPNトランジス
タT12(またはT13)のVbe分だけ減少され
てトランジスタT18またはT19のコレクタに
印加される。よつて、PNPトランジスタT11
のVbeの変動と、NPNトランジスタT12(ま
たはT13)のVbeの変動は、互いに相殺するよ
うな影響を及ぼすことになる。そこでこれらの
PNP及びNPNのVbeは等しく且つ温度に関して
互いに追従すべきである。
じると、この電圧VTはバツフアされて、トラン
ジスタT12及びT13の共通のベース及び電圧
供給源VSの間に再生されなければならない。そ
れで先に説明したように、タイミング・キヤパシ
タCTの電圧幅は2VTになる。この再生は、
NPNトランジスタT12(又はT13)と共に
PNPトランジスタT11及び抵抗R12によつ
て行なわれている。明らかに、PNPトランジス
タはいつも導通していて、またNPNトランジス
タT12(又はT13)はタイミング・キヤパシ
タCTの幅が制限されている時に導通するので、
これらの条件では、PNPトランジスタT11の
エミツタの点でNPNトランジスタT12(また
はT13)のベースに印加される電圧は、PNP
トランジスタT11のVbe分だけ増加する。一
方、NPNトランジスタT12(またはT13)
のベースに印加される電圧は、NPNトランジス
タT12(またはT13)のVbe分だけ減少され
てトランジスタT18またはT19のコレクタに
印加される。よつて、PNPトランジスタT11
のVbeの変動と、NPNトランジスタT12(ま
たはT13)のVbeの変動は、互いに相殺するよ
うな影響を及ぼすことになる。そこでこれらの
PNP及びNPNのVbeは等しく且つ温度に関して
互いに追従すべきである。
1mAでは、温度係数は次のようになる。
PNPトランジスタT11 ―1.69mV/℃
NPNトランジスタT12,T13
―1.74mV/℃ そして両方の温度係数は、電流を増加すると減
少する。これ故に、NPNトランジスタT12,
T13を通る電流は、PNPトランジスタT11
を通る電流よりも大であるべきだ。抵抗R12
は、これらPNP及びNPNのVbeが実質的に大き
さが等しくて、実質的に同じ温度係数を有するよ
うに、選択される。
―1.74mV/℃ そして両方の温度係数は、電流を増加すると減
少する。これ故に、NPNトランジスタT12,
T13を通る電流は、PNPトランジスタT11
を通る電流よりも大であるべきだ。抵抗R12
は、これらPNP及びNPNのVbeが実質的に大き
さが等しくて、実質的に同じ温度係数を有するよ
うに、選択される。
第3図のVCO回路及び第4図に示された波形
から、発振器の周波数FO(中心周波数)が次のよ
うに与えられることが示される。
から、発振器の周波数FO(中心周波数)が次のよ
うに与えられることが示される。
FO=I1/4CT・VT (3)
I1及びCTに式(1)及び(2)を代入すると、
FO=R8+R9/R11(RT+R7)×1/4CT
=R8+R9/R11×RT/RT+R7×1/4RT・CT (4)
(R8+R9)/R11の項では、R8≫R9であり、
製造における許容誤差により、その項の誤差は±
3%以内となる。また、チツプ上の全ての抵抗は
ほとんど同じ温度係数を有しているので、この項
は効果的に温度に独立となる。
製造における許容誤差により、その項の誤差は±
3%以内となる。また、チツプ上の全ての抵抗は
ほとんど同じ温度係数を有しているので、この項
は効果的に温度に独立となる。
RT/(RT+R7)の項では、R7の製造にお
ける許容誤差は±11%であるが、RT≫R7であ
り、RTは低い温度係数を有する±1%の許容誤
差の外部抵抗である。従つてこの項の誤差は±2
%以内の許容誤差となる。
ける許容誤差は±11%であるが、RT≫R7であ
り、RTは低い温度係数を有する±1%の許容誤
差の外部抵抗である。従つてこの項の誤差は±2
%以内の許容誤差となる。
FOを1/RT・CTと関係させるこれら2つの
項の全体的な影響は、±4%以内に保たれる。外
部構成要素RT及びCTは共に1%の許容誤差で
あり、等しく且つ反対の温度係数を有するように
選ばれる。1%の許容誤差のRT及びCTを含む
回路の統計的な解析により、中心周波数FOの許
容誤差は±5%である。
項の全体的な影響は、±4%以内に保たれる。外
部構成要素RT及びCTは共に1%の許容誤差で
あり、等しく且つ反対の温度係数を有するように
選ばれる。1%の許容誤差のRT及びCTを含む
回路の統計的な解析により、中心周波数FOの許
容誤差は±5%である。
第3図に示された電圧制御の部分の動作が述べ
られる。端子A1,A2は、抵抗RTを通る電流
I1を変え、従つて発振器の周波数を変える差動
制御電圧入力のためのものである。電圧制御は、
NPNトランジスタT1、及びPNPトランジスタ
T3、抵抗R1,R3及びNPNトランジスタT
2、及びPNPトランジスタT4、抵抗R2,R
4より形成される平行なパスを供給する1mAの
定電流源より成る差動増幅器である。差動制御電
圧は、トランジスタT1及びT2のベース間に印
加される。R1=R2なので、制御電圧がゼロの時
にはトランジスタT1及びT2は各々0.5mAの電
流を流すことになる。トランジスタT3間に接続
されたトランジスタT5は、トランジスタT3及
びT4にベース電流を供給し、そしてR3=R4な
ので、トランジスタT4はトランジスタT3の電
流ミラーである。従つて、制御電圧がゼロの時に
は、トランジスタT4及びT2は各々0.5mAの電
流を流し、R5へは電流は流れない。
られる。端子A1,A2は、抵抗RTを通る電流
I1を変え、従つて発振器の周波数を変える差動
制御電圧入力のためのものである。電圧制御は、
NPNトランジスタT1、及びPNPトランジスタ
T3、抵抗R1,R3及びNPNトランジスタT
2、及びPNPトランジスタT4、抵抗R2,R
4より形成される平行なパスを供給する1mAの
定電流源より成る差動増幅器である。差動制御電
圧は、トランジスタT1及びT2のベース間に印
加される。R1=R2なので、制御電圧がゼロの時
にはトランジスタT1及びT2は各々0.5mAの電
流を流すことになる。トランジスタT3間に接続
されたトランジスタT5は、トランジスタT3及
びT4にベース電流を供給し、そしてR3=R4な
ので、トランジスタT4はトランジスタT3の電
流ミラーである。従つて、制御電圧がゼロの時に
は、トランジスタT4及びT2は各々0.5mAの電
流を流し、R5へは電流は流れない。
もし差動入力がトランジスタT1のコレクタ電
流を増加させるように、即ち0.7mAに変化するな
ら、トランジスタT2のコレクタ電流は0.3mAに
なり、従つて0.4mAが抵抗R5を通つてツエナー
基準VZへ流れなければならず、これ故にトラン
ジスタT6のベースの電圧を上げて電流I1を増
加させる。ツエナー基準電圧源は、電圧VZを変
えることなく電圧制御回路網によりその電流が変
わる位、十分に低いインピーダンスである。
流を増加させるように、即ち0.7mAに変化するな
ら、トランジスタT2のコレクタ電流は0.3mAに
なり、従つて0.4mAが抵抗R5を通つてツエナー
基準VZへ流れなければならず、これ故にトラン
ジスタT6のベースの電圧を上げて電流I1を増
加させる。ツエナー基準電圧源は、電圧VZを変
えることなく電圧制御回路網によりその電流が変
わる位、十分に低いインピーダンスである。
電圧制御回路網の差動増幅器の電圧利得は、次
のようにして求められる。先ず、トランジスタT
3,T4のコレクタを流れる電流をそれぞれIA,
IBとしよう。また、A1とA2における電位を
それぞれV1,V2としよう。すると、V1=R1
×IA+Vbe+VO、V2=R2・IB+Vbe+VO これらの式で、VOはR1とR2の間のノード
における電位、VbeはトランジスタT1,T2の
ベース・エミツタ間の電圧である。
のようにして求められる。先ず、トランジスタT
3,T4のコレクタを流れる電流をそれぞれIA,
IBとしよう。また、A1とA2における電位を
それぞれV1,V2としよう。すると、V1=R1
×IA+Vbe+VO、V2=R2・IB+Vbe+VO これらの式で、VOはR1とR2の間のノード
における電位、VbeはトランジスタT1,T2の
ベース・エミツタ間の電圧である。
VC=V1−V2=R1・IA−R2・IB
また、前に述べたように、抵抗R5側へ流れる
電流は、IA−IBである。そこで、この差動増幅
器によつて抵抗R5の両端に発生される電圧は、
R5・(IA−IB)である。よつて、電圧利得=
R5・(IA−IB)/VC=R5・(IA−IB)/R1・IA−R2・IB ここでR1=R2であることを用いると、この式
は、 R5・(IA−IB)/(R1+R2)(IA−IB)/2と変形され
る。従つ て、電圧制御回路網の差動増幅器の電圧利得が次
のようになることが示される。
電流は、IA−IBである。そこで、この差動増幅
器によつて抵抗R5の両端に発生される電圧は、
R5・(IA−IB)である。よつて、電圧利得=
R5・(IA−IB)/VC=R5・(IA−IB)/R1・IA−R2・IB ここでR1=R2であることを用いると、この式
は、 R5・(IA−IB)/(R1+R2)(IA−IB)/2と変形され
る。従つ て、電圧制御回路網の差動増幅器の電圧利得が次
のようになることが示される。
電圧利得=2R5/R1+R2 (6)
R1=R2=2kΩ及びR5=1kΩなら、電圧利得は
0.5である。この電圧利得は、温度で互いにトラ
ツクする抵抗体の値の商に依存するので、電圧利
得は実質的には温度に独立となることがわかる。
製造における許容誤差によりこの電圧利得は±3
%以内の誤差となる。
0.5である。この電圧利得は、温度で互いにトラ
ツクする抵抗体の値の商に依存するので、電圧利
得は実質的には温度に独立となることがわかる。
製造における許容誤差によりこの電圧利得は±3
%以内の誤差となる。
従つて電圧制御とは、ツエナー基準電圧VZに
加えるか又はそれから引き去るトランジスタT6
のベースに電圧出力を生じる差動増幅器である。
入力制御電圧をVCとすると、この制御入力によ
り電流I1回路網に0.5VCの電圧が注入される。
加えるか又はそれから引き去るトランジスタT6
のベースに電圧出力を生じる差動増幅器である。
入力制御電圧をVCとすると、この制御入力によ
り電流I1回路網に0.5VCの電圧が注入される。
式(1)は次のようになる。
I1=(VZ+0.5VC−2Vbe)/(RT+R7) (7)
発振器の周波数Fは次のようになる。
F=VZ+0.5VC−2Vbe/VZ−2Vbe
×R8+R9/4(RT+R7)・R11・CT
=FO+VC/2(VZ−2Vbe)×FO (8)
ここでFOは中心周波数である。
VCO利得は次のようになる。
∂F/∂VO=FO/2(VZ−2Vbe) (9)
製造における許容誤差、電圧供給の変化及び温
度変化を考慮すると、この利得∂F/∂VCの全体
的な許容誤差は±10%である。
度変化を考慮すると、この利得∂F/∂VCの全体
的な許容誤差は±10%である。
等しい抵抗R15及びR16を有する第3図に
示された回路は、端子D1,D2で等しい定電流
I1を生じる。この結果、キヤパシタCTにより
等しい周期が時間調整され、周期はVT/I1に比
例することになる。従つて方形波の電圧出力波形
はVCOにより発生される。しかしながら、ある
VCOの適用では、非対称の出力波形を発生する
のが望ましい。これは抵抗R15及びR16を等
しくないように設定することにより達成される。
それで定電流はI1及びI2となり、この結果キ
ヤパシタCTにより時間調整される周期は等しく
なくなる。トランジスタT20及びT21のVbe
変化は無視され、電流I2がトランジスタT21
を流れると仮定すると、I1/I2=R16/R15とな
る。非対称の出力波形を生じるように回路を変更
することは、中心周波数又はVCO利得の許容誤
差に影響を与えるものではない。
示された回路は、端子D1,D2で等しい定電流
I1を生じる。この結果、キヤパシタCTにより
等しい周期が時間調整され、周期はVT/I1に比
例することになる。従つて方形波の電圧出力波形
はVCOにより発生される。しかしながら、ある
VCOの適用では、非対称の出力波形を発生する
のが望ましい。これは抵抗R15及びR16を等
しくないように設定することにより達成される。
それで定電流はI1及びI2となり、この結果キ
ヤパシタCTにより時間調整される周期は等しく
なくなる。トランジスタT20及びT21のVbe
変化は無視され、電流I2がトランジスタT21
を流れると仮定すると、I1/I2=R16/R15とな
る。非対称の出力波形を生じるように回路を変更
することは、中心周波数又はVCO利得の許容誤
差に影響を与えるものではない。
[適用例]
第3図に示された回路(外部タイミング構成要
素RT、CTを除く)は、デイスプレイ・システ
ムにおいて陰極線管CRTの水平時間軸を発生す
るために、位相がロツクされたループPLLで動
作するように設計されたものである。PLLの同
じタイプは高性能のテレビジヨン受信機にも使用
される。第5図はPLLのこのタイプを示し、関
係する波形が第6図に示されている。
素RT、CTを除く)は、デイスプレイ・システ
ムにおいて陰極線管CRTの水平時間軸を発生す
るために、位相がロツクされたループPLLで動
作するように設計されたものである。PLLの同
じタイプは高性能のテレビジヨン受信機にも使用
される。第5図はPLLのこのタイプを示し、関
係する波形が第6図に示されている。
ビデオ・データの表示は同期化パルスAにより
制御され、各スキヤン・ラインのスタートは同期
化パルスAに依存すべきである。困難なことは、
フライバツク・パルスBのタイミングが直接この
スタートを決定するということである。というの
は、そのパルスBは、もし制御されないなら変化
するからである。この困難は、PLLを使用して、
制造許容誤差、電力供給の許容誤差及び温度変化
とは無関係となるように、フライバツク・パルス
Bを同期化パルスの中心に正確に設定することに
より解決される。
制御され、各スキヤン・ラインのスタートは同期
化パルスAに依存すべきである。困難なことは、
フライバツク・パルスBのタイミングが直接この
スタートを決定するということである。というの
は、そのパルスBは、もし制御されないなら変化
するからである。この困難は、PLLを使用して、
制造許容誤差、電力供給の許容誤差及び温度変化
とは無関係となるように、フライバツク・パルス
Bを同期化パルスの中心に正確に設定することに
より解決される。
第5図において、トランジスタTが駆動電流F
の立ち上がりによりオンにされると、誘導性素子
Lの電流は、直線的に増加し、これによりCRT
用の水平偏向電流Iが発生される。次に駆動電流
Fの立ち下がりによりトランジスタTがターン・
オフされると、1000Vのフライバツク電圧が誘導
性素子LとキヤパシタCの両端に発生しキヤパシ
タCは充電を開始する。トランジスタTのター
ン・オフ後少し時間が経過してキヤパシタCが放
電し始めると、素子Lの電流Iは逆転して、負
(上向き)の値となり、キヤパシタCの両端の電
圧は、ダイオードDが導通するまで降下する。こ
の時点で誘導性素子Lの電流は、キヤパシタCの
作用により再び上昇し始める。その後駆動電流F
の立ち上がりによりトランジスタTがターン・オ
ンして、誘導性素子Lの電流Iが直線的に増加す
る。
の立ち上がりによりオンにされると、誘導性素子
Lの電流は、直線的に増加し、これによりCRT
用の水平偏向電流Iが発生される。次に駆動電流
Fの立ち下がりによりトランジスタTがターン・
オフされると、1000Vのフライバツク電圧が誘導
性素子LとキヤパシタCの両端に発生しキヤパシ
タCは充電を開始する。トランジスタTのター
ン・オフ後少し時間が経過してキヤパシタCが放
電し始めると、素子Lの電流Iは逆転して、負
(上向き)の値となり、キヤパシタCの両端の電
圧は、ダイオードDが導通するまで降下する。こ
の時点で誘導性素子Lの電流は、キヤパシタCの
作用により再び上昇し始める。その後駆動電流F
の立ち上がりによりトランジスタTがターン・オ
ンして、誘導性素子Lの電流Iが直線的に増加す
る。
フライバツク電圧パルスBは、しきい値回路
SHで整形されて論理電圧レベルまで下げられ、
別の入力同期化パルスが印加される位相比較器φ
の一方の入力にフイードバツクされる。フイード
バツク・ループは、上述の電圧制御された発振器
(VCO)及び、トランジスタTに駆動電流Fを与
える増幅器(AMP)よりなり、PLLループを形
成する。すなわち、位相比較器φは、VCOの出
力周波数を同期化パルスAの周波数にロツクし、
フライバツク・パルスBが同期化パルスAの中心
で発生するような位相関係を設定する制御電圧を
発生する。
SHで整形されて論理電圧レベルまで下げられ、
別の入力同期化パルスが印加される位相比較器φ
の一方の入力にフイードバツクされる。フイード
バツク・ループは、上述の電圧制御された発振器
(VCO)及び、トランジスタTに駆動電流Fを与
える増幅器(AMP)よりなり、PLLループを形
成する。すなわち、位相比較器φは、VCOの出
力周波数を同期化パルスAの周波数にロツクし、
フライバツク・パルスBが同期化パルスAの中心
で発生するような位相関係を設定する制御電圧を
発生する。
トランジスタTをオフにするタイミングと、フ
ライバツク・パルスBの中心タイミングとの間の
遅延は、温度変化、フライバツク・パルスBによ
る電源への負荷作用、トランジスタTのターン・
オフ遅延、誘導性素子L及びキヤパシタCの製造
上の誤差に依存している。上述したように、この
うち温度変化によるVCOへの影響は、本発明に
よつて最小限に抑えられる。
ライバツク・パルスBの中心タイミングとの間の
遅延は、温度変化、フライバツク・パルスBによ
る電源への負荷作用、トランジスタTのターン・
オフ遅延、誘導性素子L及びキヤパシタCの製造
上の誤差に依存している。上述したように、この
うち温度変化によるVCOへの影響は、本発明に
よつて最小限に抑えられる。
[発明の効果]
以上のように、この発明によれば、非安定マル
チバイブレータのキヤパシタに電圧VTと電流I
とを供給して、その非安定マルチバイブレータの
発振周期をVT/Iに比例させるための回路を、
温度特性がほぼ等しい複数の抵抗と複数のトラン
ジスタによりチツプ上に集積して構成し、この集
積回路に接続した共通の基準電源と、集積回路内
の所定の抵抗と所定のトランジスタによりVTと
Iとを発生させるようにしたので、温度変化によ
る抵抗値やトランジスタの特性の変化が生じて
も、VTとIとが互いに追従するように変化する
にとどまり、以て安定した発振周期が得られる。
チバイブレータのキヤパシタに電圧VTと電流I
とを供給して、その非安定マルチバイブレータの
発振周期をVT/Iに比例させるための回路を、
温度特性がほぼ等しい複数の抵抗と複数のトラン
ジスタによりチツプ上に集積して構成し、この集
積回路に接続した共通の基準電源と、集積回路内
の所定の抵抗と所定のトランジスタによりVTと
Iとを発生させるようにしたので、温度変化によ
る抵抗値やトランジスタの特性の変化が生じて
も、VTとIとが互いに追従するように変化する
にとどまり、以て安定した発振周期が得られる。
さらに、製造上の誤差としてVT及びIに反映
される誤差は、ほとんど発振周期の誤差には反映
されない。というのは、VT及びIの誤差は、
VT/Iという比においては相殺されるからであ
る。
される誤差は、ほとんど発振周期の誤差には反映
されない。というのは、VT及びIの誤差は、
VT/Iという比においては相殺されるからであ
る。
第1図は、先行技術の基本的な電圧制御された
発振器VCOを示す。第2図は、本発明の概念を
示すVCOのブロツク・ダイヤグラムである。第
3図は、第2図に示された機能ブロツクに分割さ
れた実際のVCOの回路ダイヤグラムである。第
4図は、第3図の回路により発生された波形を示
す。第5図は、陰極線管CRTの水平時間軸を制
御する位相ロツクされたループPLLにおける、
第3図のVCO回路の工業的な使用を示す。第6
図は、第5図のPLL回路に関する波形を示す。 M―B…非安定マルチバイブレータ、CT…キ
ヤパシタ、D1,D2…電流制御端子、RT…第
1の抵抗、T8,R7,T20,T15,T2
1,R16…電流ミラー回路、R8,R9…第2
の抵抗、R11…第3の抵抗。
発振器VCOを示す。第2図は、本発明の概念を
示すVCOのブロツク・ダイヤグラムである。第
3図は、第2図に示された機能ブロツクに分割さ
れた実際のVCOの回路ダイヤグラムである。第
4図は、第3図の回路により発生された波形を示
す。第5図は、陰極線管CRTの水平時間軸を制
御する位相ロツクされたループPLLにおける、
第3図のVCO回路の工業的な使用を示す。第6
図は、第5図のPLL回路に関する波形を示す。 M―B…非安定マルチバイブレータ、CT…キ
ヤパシタ、D1,D2…電流制御端子、RT…第
1の抵抗、T8,R7,T20,T15,T2
1,R16…電流ミラー回路、R8,R9…第2
の抵抗、R11…第3の抵抗。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (a) 基準電圧VTを入力するための電圧入力
端子と、キヤパシタと、上記電圧入力端子と該
キヤパシタの間に接続され上記キヤパシタの両
端の電位差を、VTと―VTの間で交互に切換
えるように上記キヤパシタを充電または放電す
るための一対のトランジスタと、上記キヤパシ
タに流れる電流を制御するための電流制御端子
とを有する非安定マルチバイブレータと、 (b) 電圧源との間に、温度係数の小さい第1の抵
抗を接続され、電流Iを流すための第1の電流
設定回路と、上記電圧源に接続された電流設定
用の第2の抵抗をもつ第2の電流設定回路と、
上記電流Iの値で上記キヤパシタを充電及び放
電させるように上記第1の電流設定回路と上記
電流制御端子の間に接続された、電流ミラー作
用をもつ第1の回路と、第3の抵抗と、上記第
2の電流設定回路に流れる電流の値に比例する
値の電流を上記第3の抵抗に流すための第2の
回路と、上記第3の抵抗の両端にあらわれる電
圧をVTとして上記電圧入力端子に入力するた
めの第3の回路とを有し、少くとも上記第2及
び第3の抵抗と、上記第1及び第2の電流設定
回路と、上記第1ないし第3の回路はほぼ等し
い温度変化特性をもつように同一のチツプ上に
集積化された素子として構成されてなる回路手
段と、 (c) 上記第1の電流設定回路に接続され、制御電
圧VCに応答して上記電流Iの値を変化させる
ための手段、 とを具備する電圧制御された発振器。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB7921193A GB2051511A (en) | 1979-06-18 | 1979-06-18 | Stabilized oscillators |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS566521A JPS566521A (en) | 1981-01-23 |
| JPH0243369B2 true JPH0243369B2 (ja) | 1990-09-28 |
Family
ID=10505925
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6077780A Granted JPS566521A (en) | 1979-06-18 | 1980-05-09 | Voltage controlled oscillator |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4336508A (ja) |
| EP (1) | EP0020868B1 (ja) |
| JP (1) | JPS566521A (ja) |
| DE (1) | DE3062683D1 (ja) |
| GB (1) | GB2051511A (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4410862A (en) * | 1981-05-12 | 1983-10-18 | International Business Machines Corporation | MOSFET Multivibrator with dual timing |
| US4494080A (en) * | 1981-11-16 | 1985-01-15 | International Business Machines Corporation | Voltage-controlled oscillator with independent gain and frequency controls |
| US4528527A (en) * | 1982-03-08 | 1985-07-09 | Rca Corporation | SECAM Modulator |
| JPH0642003B2 (ja) * | 1983-09-20 | 1994-06-01 | オリンパス光学工業株式会社 | 光学部品の反射防止膜とその形成方法 |
| EP0294986B1 (en) * | 1987-06-09 | 1992-07-29 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Multivibrator circuit employing field effect devices |
| US4896952A (en) * | 1988-04-22 | 1990-01-30 | International Business Machines Corporation | Thin film beamsplitter optical element for use in an image-forming lens system |
| DE3923823A1 (de) * | 1989-07-19 | 1991-01-31 | Philips Patentverwaltung | Temperatur- und versorgungsspannungsunabhaengige emittergekoppelte multivibratorschaltung |
| JP3133885B2 (ja) * | 1993-12-24 | 2001-02-13 | 富士通株式会社 | Pll回路を有する信号処理装置 |
| JP2755219B2 (ja) * | 1995-07-28 | 1998-05-20 | 日本電気株式会社 | 発振回路 |
| US9184734B1 (en) | 2014-11-04 | 2015-11-10 | King Fahd University Of Petroleum And Minerals | Voltage or current controlled current-feedback operational-amplifier based multivibrator |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3857110A (en) * | 1972-08-24 | 1974-12-24 | Signetics Corp | Voltage controlled oscillator with temperature compensating bias source |
| US3904989A (en) * | 1974-09-19 | 1975-09-09 | Bell Telephone Labor Inc | Voltage controlled emitter-coupled multivibrator with temperature compensation |
-
1979
- 1979-06-18 GB GB7921193A patent/GB2051511A/en not_active Withdrawn
-
1980
- 1980-03-20 DE DE8080101457T patent/DE3062683D1/de not_active Expired
- 1980-03-20 EP EP80101457A patent/EP0020868B1/en not_active Expired
- 1980-03-24 US US06/133,073 patent/US4336508A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-05-09 JP JP6077780A patent/JPS566521A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0020868A1 (en) | 1981-01-07 |
| JPS566521A (en) | 1981-01-23 |
| US4336508A (en) | 1982-06-22 |
| DE3062683D1 (en) | 1983-05-19 |
| GB2051511A (en) | 1981-01-14 |
| EP0020868B1 (en) | 1983-04-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4091335A (en) | Phase locked loop using current controlled ring oscillator | |
| JPH07212224A (ja) | 対称的出力を有する電圧制御発振器(vco)と同発振器に用いる論理ゲート | |
| US3924202A (en) | Electronic oscillator | |
| JPH0243369B2 (ja) | ||
| US3904989A (en) | Voltage controlled emitter-coupled multivibrator with temperature compensation | |
| JPH0294914A (ja) | 電圧制御型発振器 | |
| CA2113761C (en) | A current-controlled oscillator | |
| JP3534379B2 (ja) | 振幅制御発振器 | |
| JP2706088B2 (ja) | 周波数発生装置 | |
| EP0957584B1 (en) | Phase locked loop circuit and control method thereof | |
| JPH0575408A (ja) | 電圧遷移回路 | |
| JPH11510023A (ja) | 発振回路 | |
| JPS6338788B2 (ja) | ||
| JPS6010811A (ja) | のこぎり波発振回路 | |
| JPH0360514A (ja) | 電圧制御発振回路 | |
| JPS597772Y2 (ja) | 発振回路 | |
| JP2581388B2 (ja) | データ反転回路 | |
| JPS6139650A (ja) | クロツク位相微調回路 | |
| JPH09121143A (ja) | 温度補償形可変周波発振器 | |
| JP3299367B2 (ja) | パルス発生回路 | |
| JPS6223221A (ja) | 電圧制御発振器 | |
| JPS59117817A (ja) | 発振回路 | |
| JPS62294317A (ja) | 電圧制御発振器 | |
| JPH06196973A (ja) | 電圧制御発振器 | |
| JPH0619325U (ja) | 低消費電力ecl回路 |