JPH0240131A - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、磁気ディスク装置に搭載される磁気ディス
クの製造方法に関するものである。

［従来の技術］ 図面は例えば、文献（ｒＭａｇｎｅｊｉｃ　Ｒｅｃｏｒ
ｄｉｎｇＶｏｌｕｍｅＩ　：ＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙＪＣ
，１１ｅｎｉｓ、　蒸着ｅ、Ｅｒ１ｃ、　Ｄ、Ｄａｎｉ
ｅｌ、　ＭｃＧｒｏｗ−Ｈｉｌｌ　ｂｏｏｋ　Ｃｏ、　
ｒ’、＋９４〜Ｐ、１９８　）に記載された従来の薄膜
磁気ディスクを示す断面図である。図において、（１）
は通常ＡＩを主成分とする基材に下地硬化層を付けた基
板、（２）は金属磁性材料或は酸化鉄より成る磁気記録
媒体層、（３）はＳ　ｉ　Ｏ２等の酸化物やスパッタお
よびＣＶＤカーボン、またはＲｈ等の金属から成る保護
層、（４）は潤滑層である。

最近の磁気ディスク装置では、ディスク回転・停止時に
は磁気ヘッドスライダは磁気ディスクに接触しており、
回転を始めると、磁気ディスク表面と摺動しながら浮上
するいわゆるＣ３Ｓ　（コンタクト・スター］・・スト
ップ）方式がとられている。

Ｃ８Ｓ方式では磁気へラドスライダと磁気ディスクの摺
動時に磁気ディスクおよび磁気へッドスラ、イダに摩耗
が起こることがある。磁気ディスク装置では磁気へラド
スライダと磁気ディスクは相対速度が大きいため、激し
い摩耗を起こしやすい。このようなことが起こると、磁
気ディスクに記録されたデータは失われてしまう。これ
をいわゆるヘッドクラッシュと呼んでいる。従来例の保
護層（３）もこのようなヘッドクラッシュを貼りニする
ために設けられている。そのためには、保護層（３）と
しては、磁気ディスクの摩耗を少なくするような硬度の
高いものが考えられるが、逆に硬度が高すぎると磁気へ
ラドスライダの摩耗を引き起こす。例えば一般的なスラ
イダ材料としてフェライトが挙げられるが、フェライト
はビッカース硬度Ｉイ■６５０であり、スパッタＳ　ｉ
Ｏ２の８００やスパッタおよびＣＶＤカーボンの１００
０以上と比較して硬度が低く、上記のようなことが起こ
りやすい。

そこで、保護層材料としては、硬度が低くかつ割れや剥
離の少ないものが求められる。このような材料として、
酸化セリウムを添加した酸化ジルコニウムが挙げられる
。酸化セリウムを添加した酸化ジルコニウムは、硬度は
ビッカース硬度Ｈｖ７００と低いが、破壊靭性は極めて
高い。この特性については文献（ジャーナル　オブ　マ
デリアル　サイエンス、Ｖ　Ｏｌ　２０　、　　ｌ　９
８．５　、　ｐ　ｌ　１７８〜＋１８４）に述べられて
いる。

［発明が解決しようとする課題Ｊ しかしながら、保護層としてこの酸化セリウムを添加し
た酸化ジルコニウムをスパッタリングで磁気ディスク上
に成膜すると、酸化セリウムが還元され、化学量論的な
組成からはずれやすいという問題点があった。このよう
な酸素の欠乏した保護層では、機械的靭性が劣化し、剥
離や摩耗を起こしやすい。

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、Ｃ８Ｓにおいて剥離や摩耗の起こらないよう
な保護層を有する磁気ディスクを提供しようとするもの
である。

［課題を解決するための手段］ この発明に係る磁気ディスクの製造方法は、保護層を酸
化セリウムおよび酸化ジルコニウムをターゲット（また
は蒸着源）とし酸素を含む雰囲気中でスパッタリング（
または蒸着）により形成するものである。

［作用］ この発明における磁気ディスクの製造方法では５保護層
として、酸素欠損のほとんど無い酸化セリウムを含み酸
化ジルコニウムを主成分とする膜が得られる。この膜は
、機械的強度が高いため傷つきや剥離が起こりに（く、
これを保護層とする磁気ディスクと、磁気へラドスライ
ダとを組み合わせたＣ８Ｓでも傷つきや剥離のない磁気
ディスクが得られる。

［実施例］ 以下、この発明の一実施例について比較例とともに説明
する。図面に示した従来例と同じ構成の８インチの磁気
ディスクを作成した。基板（１１はＡｌ−Ｍｇ合金にＮ
　ｉ　−Ｃｕ　−Ｐメツキ膜から成る下地硬化層を１１
０７Ｌ設けたものである。磁気記録媒体層（２）は膜厚
１５００人のスパッタγ−Ｆｅｇ　Ｏｓから成る。この
媒体上に第１表に示すような条件で酸化セリウムを含む
酸化ジルコニウムのターゲットを用いて保護層（３）を
ｒｆスパッタにより成膜した。酸化セリウムの組成は１
２ｍ０１％である。スパッタリングに用いたガスはＡｒ
・に２０％の０２を含む。この磁気ディスクなＸとする
。

他方、比較のため０２を含まないへｒガスを用いてスパ
ッタリングした磁気ディスクＹと、ターゲットをＳ　ｉ
　ＯｔとしてＡｒガス中でスパッタリングした磁気ディ
スクＺを作成した。

これらの磁気ディスクの耐摩耗性を以下の２つの方法で
比較した。

（１）アブレシプ法による比較 ２μｍ粒径のダイアモンド遊離砥粒を用いて磁気ディス
クを研磨した。その後、磁気ディスクの損傷を顕微鏡で
観察した。損傷状況は、実施例Ｘでは表面に傷は出るが
ほとんど剥離はなかった。

比較例Ｙでは傷とともに剥離が見られた。比較例Ｚも傷
と剥離が現われたが、比較例Ｙよりも損傷ははるかに大
きかった。

（２）Ｃ３Ｓによる比較 フェライト３３７０型スライダと上記磁気ディスクＸ、
Ｙ、Ｚに同粂件で潤滑剤を塗布したものとの組み合わせ
てＣ８Ｓ試験を行なった。スライダの何重は９．５ｇｒ
、ＣＳＳ回数は２万回である。試験はそ゛れぞれ２３枚
の磁気ディスクで行なった。Ｃ８Ｓ後の磁気ディスクお
よび磁気へットスライグの損傷、並びに磁気ヘッドスラ
イダへの摩耗粉の付着状況を調へた。その結果を第２表
に示す。表中、０は損傷および付着物が顕微鏡でほとん
ど見られないもの、△はわずかに見られるもの×は明瞭
に見られるものである。

上記比較法（１）　　　（２）の結果から、この発明の
一実施例により製造した保護層（３）が耐摩耗性に（ｉ
れていることは明らかである。

なお、」二記実施例では基板（１）としてＡｌ−Ｍｇ基
材基板にＮ１−Ｃｕ−Ｐ合金をめっきしたものを用いた
場合を示したが、同様の基材にＮ１−））合金をめっき
したものや、表面をアルマイト処理したものを用いても
よい。

また、上記実施例では磁気記録媒体層（２）としてγ−
ＦｅｚＯｓから成るスパッタ膜を用いた場合を示したが
、これに限るものではなく、例えばＣｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−
Ｐ等の磁性合金や他の磁性材料でもよい。

また、保護層（３）　１．１−の潤滑層（４）は設けて
も設けなくてもよい。

また、保護層の添加物として酸化セリウムに加えてＡ１
２０ｓ　、ＳｉＣ，ＭｇＯ等を添加する場合にも上記実
施例と同様の効果が得られる。

さらに、上記実施例では保護層をスパッタリングにより
形成する場合について説明したが、例えばクラスタイオ
ンビームのような蒸着による場合にもこの発明は適用で
き、上記実施例と同様の効果が得られる。

［発明の効果］ 以Ｆのように、この発明によれば、保護層を、酸化セリ
ウムおよび酸化ジルコニウムをターゲット（または蒸着
ｔＡ）とし酸素を含む雰囲気中でスパッタリング（また
は蒸着）により形成するので、保護層の機械的強度が大
きく、ＣＳ　Ｓにおいて剥離や摩耗の起こらないような
保護層を有する磁気ディスクが得られる効果がある。

【図面の簡単な説明】

図面は一般的な磁気ディスクを示す断面図である。 図において５（１）は基板、（２）は磁気記録媒体層、
（３）は保護層、（４）は潤滑層である。 第　　１ 表

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基板に形成された磁気記録媒体層上に酸化セリウムを含
   み酸化ジルコニウムを主成分とする保護層を形成するも
   のにおいて、上記保護層は、酸化セリウムおよび酸化ジ
   ルコニウムをターゲット（または蒸着源）として酸素を
   含む雰囲気中でスパッタリング（または蒸着）により形
   成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。