JPH0240129A - 高硬度スライダ用磁気ディスク - Google Patents
高硬度スライダ用磁気ディスクInfo
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- JPH0240129A JPH0240129A JP18990588A JP18990588A JPH0240129A JP H0240129 A JPH0240129 A JP H0240129A JP 18990588 A JP18990588 A JP 18990588A JP 18990588 A JP18990588 A JP 18990588A JP H0240129 A JPH0240129 A JP H0240129A
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- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 19
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、磁気ディスク装置に搭載される磁気ディス
ク、特に高硬度スライダ用磁気ディスクに関するもので
ある。
ク、特に高硬度スライダ用磁気ディスクに関するもので
ある。
図面は例えば2文献(1’−Magnetic Rec
ordingVolumel :Technology
J C!、Denis、Mee、Er1c、D、Dan
iel、McGrow−Hill book Oo、P
、194〜P、198)に記載された従来の薄膜磁気デ
ィスクを示す断面図である。図において、(1)は通常
AIを主成分とする基材に下地硬化層を付けた基板、(
2)は金属磁性材料或は酸化鉄よシ成る磁気記録媒体層
、(3)は8102等の飯化部やスパッタおよびOVD
カーボン、またはRh等の金属から成る保護層、(4)
は潤滑層である。
ordingVolumel :Technology
J C!、Denis、Mee、Er1c、D、Dan
iel、McGrow−Hill book Oo、P
、194〜P、198)に記載された従来の薄膜磁気デ
ィスクを示す断面図である。図において、(1)は通常
AIを主成分とする基材に下地硬化層を付けた基板、(
2)は金属磁性材料或は酸化鉄よシ成る磁気記録媒体層
、(3)は8102等の飯化部やスパッタおよびOVD
カーボン、またはRh等の金属から成る保護層、(4)
は潤滑層である。
最近の磁気ディスク装置では、ディスク回転・停止時に
は磁気へラドスライダは磁気ディスクに接触しておシ2
回転を始めると、磁気ディスク表面と摺動しながら浮上
するいわゆるaSS(コンタクト・スタート・ストップ
)方式がとられている。
は磁気へラドスライダは磁気ディスクに接触しておシ2
回転を始めると、磁気ディスク表面と摺動しながら浮上
するいわゆるaSS(コンタクト・スタート・ストップ
)方式がとられている。
従来の磁気ディスクは以上のように磁気へラドスライダ
と摺動するので、磁気ディスクおよび磁気へラドスライ
ダに傷つきや摩耗が生じるという問題点があった。従来
例の保護層(3)も傷つきや摩耗の起こりやすい磁気記
録媒体層(2)を保役するために設けられたものである
。
と摺動するので、磁気ディスクおよび磁気へラドスライ
ダに傷つきや摩耗が生じるという問題点があった。従来
例の保護層(3)も傷つきや摩耗の起こりやすい磁気記
録媒体層(2)を保役するために設けられたものである
。
一般に、薄膜ヘッドのスライダには人工203−TiC
が用いられて因る。このAl2O3−TiCは硬度が高
−(ビッカース硬度2000) ため。
が用いられて因る。このAl2O3−TiCは硬度が高
−(ビッカース硬度2000) ため。
媒体の方を傷付げやすい。したがって、媒体の保護層の
硬度としては、スライダ材料と同等またはそれ以上の硬
度をもつものが望ましい。このような硬質の保護層とな
る材料としては、従来からスパッタ5i02及びスパッ
タカーボン等の硬質薄膜が用因られてきた。これらの材
質は、高い硬度は持つものの(スパッタ5102 のビ
ッカース硬度800.スパッタカーボンのビッカース硬
度1300 )、スライダ羽村のAx2o3− TiO
と比較するとまだまだ硬度は低く、保護層が摩耗しやす
い。実際、これらのスライダと磁気ディスクの組み合わ
せでaSS試験を行なうと、保護層(3)が摩耗するた
めに媒体の表面形状が変化し、摩擦係数が上がったシ、
摩耗粉が出ることによシ、摩耗粉をかみ込むことによる
傷つきやヘッドクラッシュを起こした夛することがある
・ この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、磁気ディスクの磁気記録媒体層(2)の傷つ
きや摩耗を防止することができる高硬度スライダ用磁気
ディスクを得ることを目的とする。
硬度としては、スライダ材料と同等またはそれ以上の硬
度をもつものが望ましい。このような硬質の保護層とな
る材料としては、従来からスパッタ5i02及びスパッ
タカーボン等の硬質薄膜が用因られてきた。これらの材
質は、高い硬度は持つものの(スパッタ5102 のビ
ッカース硬度800.スパッタカーボンのビッカース硬
度1300 )、スライダ羽村のAx2o3− TiO
と比較するとまだまだ硬度は低く、保護層が摩耗しやす
い。実際、これらのスライダと磁気ディスクの組み合わ
せでaSS試験を行なうと、保護層(3)が摩耗するた
めに媒体の表面形状が変化し、摩擦係数が上がったシ、
摩耗粉が出ることによシ、摩耗粉をかみ込むことによる
傷つきやヘッドクラッシュを起こした夛することがある
・ この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、磁気ディスクの磁気記録媒体層(2)の傷つ
きや摩耗を防止することができる高硬度スライダ用磁気
ディスクを得ることを目的とする。
この発明に係る高硬度スライダ用磁気ディスクは、基板
に形成された磁気記録媒体層と、硬質窒化ホウ素よりな
り上記磁気記録媒体層を保護する保護層とを備えたもの
である。
に形成された磁気記録媒体層と、硬質窒化ホウ素よりな
り上記磁気記録媒体層を保護する保護層とを備えたもの
である。
この発明における保護層は、硬度がビッカース硬度20
00〜80130と高イft)6. A I 205
Tieのような硬質のスライダ材料との組み合わせに卦
いても摩耗しにくい。このため、摩耗を原因として摩擦
力が上がったシ、摩耗粉のかみ込みによる媒体の傷つき
やヘッドクラッシュを起こしにくい。なお、硬質窒化ホ
ウ素のビッカース硬度については2例えば文献(精密工
学会誌53/10/198γ)に示されている。
00〜80130と高イft)6. A I 205
Tieのような硬質のスライダ材料との組み合わせに卦
いても摩耗しにくい。このため、摩耗を原因として摩擦
力が上がったシ、摩耗粉のかみ込みによる媒体の傷つき
やヘッドクラッシュを起こしにくい。なお、硬質窒化ホ
ウ素のビッカース硬度については2例えば文献(精密工
学会誌53/10/198γ)に示されている。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。図面
に示した従来例と同じ構成の8インチの磁気ディスクを
作成した。基板(1)はAl−Mg合金にNi−0u−
Pメツキ膜から成る下地硬化層を10μm設けたもので
ある。磁気記録媒体層(2)は膜厚1500Aのスパッ
タγ−Fe203から成る。この媒体上に硬質窒化ホウ
素(BN)からなる保護層(3)を500A成膜した。
に示した従来例と同じ構成の8インチの磁気ディスクを
作成した。基板(1)はAl−Mg合金にNi−0u−
Pメツキ膜から成る下地硬化層を10μm設けたもので
ある。磁気記録媒体層(2)は膜厚1500Aのスパッ
タγ−Fe203から成る。この媒体上に硬質窒化ホウ
素(BN)からなる保護層(3)を500A成膜した。
保護層(3)の成膜は、いわゆるプラズマイオンビーム
で行なった。
で行なった。
すなわち、 B2H6,NH3ガスをそれぞれ別のプ
ラズマ室に導入する。プラズマ室は熱フィラメントを有
しておシ、これよ如発生する熱電子によシガスはイオン
化または解離を起こす。一対のアパーチャ電極によシこ
れを加速し、同時に基板に当ててBN膜を形成する。チ
ャンバの真空度は0.01〜jQmTorr に保つ様
に調整し、アパーチャ電極の加速電圧は3〜1QKV、
ガスの流量比B 2 H6/ N H3け1/2〜1で
ある。
ラズマ室に導入する。プラズマ室は熱フィラメントを有
しておシ、これよ如発生する熱電子によシガスはイオン
化または解離を起こす。一対のアパーチャ電極によシこ
れを加速し、同時に基板に当ててBN膜を形成する。チ
ャンバの真空度は0.01〜jQmTorr に保つ様
に調整し、アパーチャ電極の加速電圧は3〜1QKV、
ガスの流量比B 2 H6/ N H3け1/2〜1で
ある。
他方、同一条件でSiウエノ・上にBN薄膜を約1μm
成膜し、硬度測定を行なった。ヌープ硬度および特殊々
針を用いたひつかき試験の結果、この薄膜はビッカース
硬度Hvで2500〜3000の硬度を有することが分
かった。また、この試料のFT工R(フーリエ変換赤外
吸収)スペクトルを測定したところ、1050cm
のダイヤモンドの次に硬いCBNのピークのほかに13
80−’および780−1 の軟らかbが潤滑性が大き
いhBNの吸収が見られ2両成分が混在していると考え
られる。なお、この磁気ディスクについては図面に示す
潤滑層(4)は設けなかった。また1表面粗さは基板(
11に同心円状のテクスチャといわれる凹凸を設けてい
るため、保護層(3)上で約500〜1000Aである
。
成膜し、硬度測定を行なった。ヌープ硬度および特殊々
針を用いたひつかき試験の結果、この薄膜はビッカース
硬度Hvで2500〜3000の硬度を有することが分
かった。また、この試料のFT工R(フーリエ変換赤外
吸収)スペクトルを測定したところ、1050cm
のダイヤモンドの次に硬いCBNのピークのほかに13
80−’および780−1 の軟らかbが潤滑性が大き
いhBNの吸収が見られ2両成分が混在していると考え
られる。なお、この磁気ディスクについては図面に示す
潤滑層(4)は設けなかった。また1表面粗さは基板(
11に同心円状のテクスチャといわれる凹凸を設けてい
るため、保護層(3)上で約500〜1000Aである
。
比較のため、Is体層(2)以下は同一構成で、保護層
(3)をスパッタ5102 で500A成膜した。この
磁気ディスクについてはフロロカーボン系の液体潤滑剤
(4)を塗布した。
(3)をスパッタ5102 で500A成膜した。この
磁気ディスクについてはフロロカーボン系の液体潤滑剤
(4)を塗布した。
スパッタ5102についても、やけシS1 ウェハに1
μm同一条件で成膜した膜につき硬度を測定したところ
、ビッカース硬度で約800であつた。
μm同一条件で成膜した膜につき硬度を測定したところ
、ビッカース硬度で約800であつた。
これらの磁気ディスクについて種々の特性を調べた結果
を次頁の表に示す。?l111定はそれぞれ3枚のディ
スクで行なった。潤滑処理がなりにもかかわらず2本発
明の一実施例による磁気ディスクは動摩擦係数が小さく
安定していた。これに対し。
を次頁の表に示す。?l111定はそれぞれ3枚のディ
スクで行なった。潤滑処理がなりにもかかわらず2本発
明の一実施例による磁気ディスクは動摩擦係数が小さく
安定していた。これに対し。
5102を保護膜としたものは、動摩擦係数が所々大き
い場所があシ、安定しなかった。さらに。
い場所があシ、安定しなかった。さらに。
C8S後の磁気ディスクおよび磁気へラドスライダ上の
損傷を観察すると(表中○は損傷・付着物が顕微鏡でほ
とんど見られないもの、Δはわずかに見られるものを示
す)、5io2 を保護膜としたものでは所々に保護
膜および媒体の剥離が見られるものがあった。さらに、
磁気ディスクおよび磁気へラドスライダの付着物はSi
O2を保護膜としたものでは磁気ディスク・磁気へラド
スライダ共に付着物が見られたが9本発明による磁気デ
ィスクではスライダにわずかに見られる程度であった。
損傷を観察すると(表中○は損傷・付着物が顕微鏡でほ
とんど見られないもの、Δはわずかに見られるものを示
す)、5io2 を保護膜としたものでは所々に保護
膜および媒体の剥離が見られるものがあった。さらに、
磁気ディスクおよび磁気へラドスライダの付着物はSi
O2を保護膜としたものでは磁気ディスク・磁気へラド
スライダ共に付着物が見られたが9本発明による磁気デ
ィスクではスライダにわずかに見られる程度であった。
なお、上記実施例では窒化ホウ素膜(3)はcBNとh
BNとの混合物である場合について示したが。
BNとの混合物である場合について示したが。
cBNのみであっても良い。また、窒化ホウ素膜(3)
は、成膜時に加速電圧を上げる。あるいはガス流量を下
げることによってその硬度を上げることができる。
は、成膜時に加速電圧を上げる。あるいはガス流量を下
げることによってその硬度を上げることができる。
また、上記実施例では基板(11としてAニーMg基材
基板にNi−0u−P合金をめっきしたものを用いた場
合を示したが、同様の基材にN1−P合金をめっきした
ものや9表面をアルマイト処理したものを用いてもよい
。
基板にNi−0u−P合金をめっきしたものを用いた場
合を示したが、同様の基材にN1−P合金をめっきした
ものや9表面をアルマイト処理したものを用いてもよい
。
また、上記実施例では磁気記録媒体層(2)としてγ−
Fe2O3から成るスパッタ膜を用いた場合を示したが
、これに限るものではなく1例えばCo−Niや他の磁
性材料でもよい。
Fe2O3から成るスパッタ膜を用いた場合を示したが
、これに限るものではなく1例えばCo−Niや他の磁
性材料でもよい。
さらに、保護層(3)の上に潤滑層(4)を設けてもよ
い。
い。
以上のように、この発明によれば、基板に形成された磁
気記録媒体層と、硬質窒化ホウ素よりなり上記磁気記録
媒体層を保護する保護層とを備えたので、高硬度スライ
ダとの組み合わせにおいても磁気記録媒体層の傷つきや
摩耗を防止することができる効果がある。
気記録媒体層と、硬質窒化ホウ素よりなり上記磁気記録
媒体層を保護する保護層とを備えたので、高硬度スライ
ダとの組み合わせにおいても磁気記録媒体層の傷つきや
摩耗を防止することができる効果がある。
図面は一般的な磁気ディスクを示す断面図である。
図におして、(1)は基板、(2)は磁気記録媒体層。
(3)は保護層、(4)は潤滑層である。
Claims (1)
- 始動時と静止時に接触する磁気ヘッドスライダにより情
報の記録・再生を行なうコンタクト・スタート・ストッ
プ方式の高硬度スライダ用磁気ディスクにおいて、基板
に形成された磁気記録媒体層と、硬質窒化ホウ素よりな
り上記磁気記録媒体層を保護する保護層とを備えたこと
を特徴とする高硬度スライダ用磁気ディスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18990588A JPH0240129A (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 高硬度スライダ用磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18990588A JPH0240129A (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 高硬度スライダ用磁気ディスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0240129A true JPH0240129A (ja) | 1990-02-08 |
Family
ID=16249165
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18990588A Pending JPH0240129A (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 高硬度スライダ用磁気ディスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0240129A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0601839A1 (en) * | 1992-12-10 | 1994-06-15 | International Business Machines Corporation | Process for coating magnetic recording device or medium |
US5525392A (en) * | 1992-12-10 | 1996-06-11 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording medium having a fluorinated polymeric protective layer formed by an ion beam |
-
1988
- 1988-07-29 JP JP18990588A patent/JPH0240129A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0601839A1 (en) * | 1992-12-10 | 1994-06-15 | International Business Machines Corporation | Process for coating magnetic recording device or medium |
US5525392A (en) * | 1992-12-10 | 1996-06-11 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording medium having a fluorinated polymeric protective layer formed by an ion beam |
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