JPH01258218A - 磁気デイスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、磁気ディスク装置に搭載される磁気ディス
クに関するものである。

〔従来の技術］ コンピュータの外部記憶装置の一つである固定磁気ディ
スク装置は主に磁気ディスクと磁気ヘッドスライダで構
成されているが、第３図にその概念図を示す、これは、
例えば文献（ｔｌＪ沢雅広「めっき形磁気ディスク媒体
のトライボロジ」日本応用磁気学会誌、ＶＯＬ、ｌＩ　
、　Ｎｏ１．１９８７）　Ｇ、ｍ詳シく示されている０
図において、（５）は基板に形成された磁気記録媒体層
に情報が記録される磁気ディスク、（６）は磁気ディス
ク（６）に情報を書き込んだり読み出したりする磁気ヘ
ッドスライダ、　（７）は磁気ヘッドスライダ（６）を
磁気ディスク（５）に押し付けるサスペンション５（８
）は磁気ディスク　（５）を図中矢印方向に回転させる
スピンドルであるこのように構成された磁気ディスク装
置において、磁気ディスク　（５）に情報を書き込んだ
り読み出したりする場合は、磁気ディスク　（５）を矢
印方向に高速回転（例えば３６００ｒｐ■）させる、こ
の回転により生じる空気流で、磁気ヘッドスライダ（６
）は空気軸受の原理で、磁気ディスク　（５）表面より
サブミクロンの隙間を保って浮上する。すなわち、サス
ペンション　（７）の押付力と空気流の押上刃が釣り合
って、磁気ヘッドスライダ（６）は安定浮上する。

一方、磁気ディスク装置を使用しないときは、スピンド
ル（８）の回転は停止−、シ、磁気ヘッドスライダ（６
）はサスペンション　（７）により押し付けられて磁気
ディスク　（５）上に接触した状態となる。

第４図５第５図は第３図における磁気ヘッドスライダ付
近の拡大図であり、第４図は磁気ディスク装置の稼動時
（磁気ディスクは回転している）、第５図は磁気ディス
ク装置の停止時（磁気ディスクは静止している）をそれ
ぞれ示す。

磁気ディスク装置は以上のような機構を有するため、磁
気ディスクの始動時には磁気ヘッドスライダは磁気ディ
スク表面をこすりながら浮上する、同様に停止時にはこ
すりながら着陸する。この動作をコンタクト・スタート
・ストップ（ＣＳＳ）という。

［発明が解決しようとする課題］ 従来の磁気ディスクは以上のように磁気ヘッドスライダ
と摺動するので、＆ａ気ディスクの磁気記録媒体層およ
び磁気ヘッドスライダに傷つきや摩耗が生じるという問
題点があった。この磁気記録媒体層の傷つきや摩耗を防
止するために、従来よりＳ　ｉ　Ｏｚ保護膜（特開昭６
２−１０９２２２号広報）やカーボン保護膜などが使用
されてきた。しかし、これらの保護膜の材質が硬すぎる
と、かえって磁気ヘッドスライダを傷付け、その摩耗粉
が磁気ヘッドスライダおよび磁気ディスクをさらに傷付
けて摩耗を促進させるという問題点があった。

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、磁気ディスクの磁気記録媒体層の傷つきを防
止するとともに磁気ヘッドスライダの摩耗をも軽減させ
ることができる磁気ディスクを（ツることを目的とする
。

［課題を解決するための手段〕 この発明に係る磁気ディスクは、基板に形成された磁気
記録媒体層と、この磁気記録媒体層を保護するダイヤモ
ンド状炭素膜とを備え、上記ダイヤモンド状炭素膜のＬ
記磁気ヘッドスライダ側水素濃度を、上記ダイヤモンド
状炭素膜の上記磁気記録媒体層側水素濃度より大きくす
ることにより、に記ダイヤモンド状炭素膜の上記磁気ヘ
ッドスライダ側硬度が、」二記ダイヤモンド状炭素膜の
上記磁気記録媒体層側硬度より小さくなるように構成し
たものである。

［作用］ この発明における保護膜は、磁気ヘッドスライダと接触
する表面部では硬度が小さいため磁気ヘッドスライダの
傷つきや摩耗は少なく、磁気記録媒体層側では硬度が大
きいため磁気記録媒体層の傷つきや摩耗も押えることが
できる。特にダイヤモンド状炭素膜はその水素濃度をコ
ントロールすることにより硬度のコントロールが容易に
行なえる。

［実施例］ 以下、この発明の一天施例を図について説明する。第１
図において、（１は基板、（２）は磁気記録媒体層、（
３）はダイヤモンド状炭素膜である。

基板（１）はＡｌ−Ｍｇ合合金材村上めっきによりＮ１
−Ｃｕ−Ｐ合金を厚さ１５μｍ程度設けて表面を硬化処
理したものであり、磁気記録媒体層（２）はγ−Ｆｅａ
ｒｓから成るスパッタ膜である。

ダイヤモンド状炭素膜（３）は例えばプラズマｃＶＤに
より成膜される。

プラズマＣＶＤによりダイヤモンド状炭素膜を成膜する
場合、電圧を低くするほど、あるいはガス圧（例えばこ
こではＣｔＨ−ガス１輌０１％　＋Ｈ２ガス９９■０１
％）を高くするほど、軟らかくなり、水素濃度も高くな
る傾向にある。そこで、ガス圧のうちのＣ＊Ｈ４分圧を
５０　ｍＴｏｒｒに固定してバイアス電圧を成膜中２０
０Ｖから５０Ｖへ漸次減少させた。膜中の水素濃度分布
を第２図に示す。

深さＯは表面部を示し、深さが深くなるほど磁気記録媒
体ｒｆ！Ｉ（２）に近づく、硬度は同一条件で成膜した
試料より推定すると、膜表面でヌープ硬さ２゜００、内
部すなわち磁気記録媒体層（２）側で４０００と考えら
れる。

この磁気ディスクを用いてコンタクト・スタート・スト
ップ試験を２万回行なったが、磁気ディスク表面にも磁
気ヘッドスライダにも傷つきが生じなかった。一方、バ
イアス電圧を２００Ｖに固定して成膜したものについて
は、同様のコンタクト・スタート・ストップ試験の結果
、磁気ヘッドスライダに傷つきが見られた。

なお、上記実施例ではダイヤモンド状炭素膜をプラズマ
ＣＶＤでバイアス電圧を変えて成膜した場合について説
明したが、バイアス°心圧を一定にしてガス圧を漸次増
加させることにより水素濃度を漸次大きくしてもよく、
上記実施例と同様の効果を奏する。

また、上記実施例では基１１＆　（１）としてＡｌ−Ｍ
ｇ基材基板にＮ１−Ｃｕ−Ｐ合金をめっきしたものを用
いた場合を示したが、同様の基材にＮ１−Ｐ合金をめっ
きしたものや、表面をアルマイト処理したものを用いて
もよい。

また、上記実施例では磁気記録媒体層（２）としてγ−
Ｆｅｗ　Ｏｓから成るスパッタ膜を用いた場合を示した
が、これに限るものではなく、例えばＣｏ−Ｎｉや他の
磁性材料でもよい。

さらに、１記実施例ではダイヤモンド状炭素膜（３）を
プラズマＣＶＤで形成した場合について説明したが、形
成方法はこれに限るものではなく、例えばスパッタや蒸
着を水素を導入して行なってもよい。

［発明の効果］ 以上のように、この発明によれば、基板に形成された磁
気記録媒体層と、この磁気記録媒体層を保護するダイヤ
モンド状炭素膜とを備え、上記ダイヤモンド状炭素膜の
上記磁気ヘッドスライダ側水素濃度を、上記ダイヤモン
ド状炭素膜の上記磁気記録媒体層側水素濃度より大きく
することにより、上記ダイヤモンド状炭素膜の上記磁気
ヘッドスライダ側硬度が、上記ダイヤモンド状炭素膜の
上記磁気記録媒体層側硬度より小さくなるように構成し
たので、Ｃ８Ｓ動作中に磁気記録媒体層や磁気ヘッドス
ライダが傷ついたり摩耗したりするのを防止できる効果
がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例による磁気ディスクを示す
断面図、第２図はこの発明の一実施例にかかるダイヤモ
ンド状炭素校内の水素濃度分布を示す特性図、第３図は
一般的な磁気ディスク装置を示す概念図、第４図、第５
図はそれぞれ第３図の装置の稼動状態および静止状態に
おける磁気ヘッドスライダの位置を拡大してを示す概念
図である。 図において、（１）は基板、（２）は磁気記録媒体層、
（３）はダイヤモンド状炭素膜、（５）は磁気ディスク
、（６）は磁気ヘッドスライダである。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）始動時と静止時に接触する磁気ヘッドスライダに
   より情報の記録・再生を行なうコンタクト・スタート・
   ストップ方式の磁気ディスクにおいて、基板に形成され
   た磁気記録媒体層と、この磁気記録媒体層を保護するダ
   イヤモンド状炭素膜とを備え、上記ダイヤモンド状炭素
   膜の上記磁気ヘッドスライダ側水素濃度を、上記ダイヤ
   モンド状炭素膜の上記磁気記録媒体層側水素濃度より大
   きくすることにより、上記ダイヤモンド状炭車膜の上記
   磁気ヘッドスライダ側硬度が、上記ダイヤモンド状炭素
   膜の上記磁気記録媒体層側硬度より小さくなるように構
   成したことを特徴とする磁気ディスク。