JPH0240013B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0240013B2
JPH0240013B2 JP59274534A JP27453484A JPH0240013B2 JP H0240013 B2 JPH0240013 B2 JP H0240013B2 JP 59274534 A JP59274534 A JP 59274534A JP 27453484 A JP27453484 A JP 27453484A JP H0240013 B2 JPH0240013 B2 JP H0240013B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
glass
green sheet
parts
dispersant
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59274534A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61155243A (ja
Inventor
Yoshihiko Imanaka
Hiromi Ogawa
Mineharu Tsukada
Etsuro Udagawa
Kazuaki Kurihara
Hirozo Yokoyama
Nobuo Kamehara
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP59274534A priority Critical patent/JPS61155243A/ja
Priority to CA000495834A priority patent/CA1237535A/en
Priority to US06/801,783 priority patent/US4679320A/en
Priority to DE8585402318T priority patent/DE3585729D1/de
Priority to EP85402318A priority patent/EP0186550B1/en
Priority to KR8508896A priority patent/KR900000313B1/ko
Priority to AU50518/85A priority patent/AU565068B2/en
Priority to ES549413A priority patent/ES8800867A1/es
Publication of JPS61155243A publication Critical patent/JPS61155243A/ja
Publication of JPH0240013B2 publication Critical patent/JPH0240013B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814Conductive parts
    • H01L21/4846Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
    • H01L21/4867Applying pastes or inks, e.g. screen printing
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/4913Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc.
    • Y10T29/49144Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc. by metal fusion
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/49155Manufacturing circuit on or in base
    • Y10T29/49158Manufacturing circuit on or in base with molding of insulated base

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 利用分野 本発明はグリーンシート組成物、特に表面状態
が良好であり、かつ、焼成物が電子部品搭載用基
板に必要な特性を具備するグリーンシート組成物
に関する。
従来技術 グリーンシート組成物は、非酸化性雰囲気中で
焼成する場合、残留炭素を減少させるために、有
機成分が少ないことが望ましいので、スラリーに
分散剤を添加しないことがある。しかし分散剤を
添加すれば、スラリーの均一性が向上し、グリー
ンシートを焼成して得た基板の機械的強さが向上
し、そのばらつきも低減される。このとき添加す
る分散剤の種類によつては非酸化性雰囲気中で加
熱するときに、飛散しないで残留し、炭素残渣と
なる量が多いものがある。このような分散剤に関
する従来技術として、MIT Indus trial Liaison
Program Report6−15−84がある、これには分
散剤としてフイツシユオイルおよびグリセロール
トリオレイドが記載されている。
問題点 非酸化性雰囲気中でグリーンシートを焼成して
も残留炭素が少なく、かつ焼成物の曲げ強さ、お
よび寸法精度のばらつきが小さいグリーンシート
組成物を提供することである。
解決手段 上記問題点は、 アルミナ粉末 20〜60重量% ホウケイ酸ガラス粉末 20〜50重量% 石英ガラス粉末 20〜40重量% からなるガラスセラミツク粉末100重量部に、 バインダ 5〜20重量部 可塑剤 2〜10重量部 分散剤ポリエチレングリコール型界面活性剤2重
量部以下を加えたスラリーから成形した、非酸化
性雰囲気中で焼成可能なグリーンシート組成物に
よつて解決することができる。分散剤としてはポ
リエチレングリコールオレイン酸エステルが便宜
である。
実施例 本発明の分散剤ポリエチレングリコール型界面
活性剤添加の影響を調べるために、 アルミナ(平均粒径約3〜4μm) 200g ほうけい酸ガラス(平均粒径約4〜5μm)200g 石英ガラス(平均粒径約4〜5μm) 200g のガラスセラミツク粉末混合物600gに対し、 アクリル系バインダ 70g ジブチルフタレート可塑剤 20g ポリエチレングリコールオレイン酸エステル分散
剤(分子量480) 0〜12g を添加し、ボールミルで12時間混練して、スラリ
ーを調製した。
第1図は分散剤添加量とスラリー粘度との関係
を示す。ガラスセラミツク100重量部に対して0
〜2重量部(ガラスセラミツク600gに対して10
〜12g)において粘度が極小となる。
第2図はグリーンシートの表面あらさを接触式
表面あらさ計で測定した最大表面あらさと分散剤
との関係を示す。分散剤添加量0〜2重量部にお
いて最大表面あらさが極小となる。
次に、上記グリーンシートを15cm角に切り、こ
れを30枚重ねて30MPaの圧力で積層した。この
積層体を窒素雰囲気中で、まず400℃でバインダ
抜きし、次に840℃、4時間仮焼成し、最後に
1020℃、4時間本焼成して焼成物を得た。第3図
はこの焼成物の曲げ強さの標準偏差と分散剤添加
量の関係を示す。
第4図は同一焼成物内の収縮率のばらつきと分
散剤添加量の関係を示す。第3および4図から明
らかなように、焼成物の機械的強さは添加量0〜
2重量部において、ばらつきが約1/2に減少して
いることがわかる。
第5図の曲線Aは分散剤として使用したポリエ
チレングリコールオレイン酸エステルを単独で昇
温速度10℃/minで窒素雰囲気中で加熱したとき
の残渣量を示し、500℃において飛散することが
わかる。曲線Bは従来技術のフイツシユオイル単
独の加熱曲線であつて、1000℃においてもまだ炭
素残渣があることを示す。本発明のポリエチレン
グリコール型界面活性剤は窒素雰囲気中の低温で
飛散するので、積層体の焼成において残留炭素が
少なく、電子部品搭載用基板としての電気的特性
がすぐれている。
なお、本発明のグリーンシート組成物は特開昭
59−995に記載の 「熱解重合型樹脂を含むバインダを使用してガ
ラスセラミツク層を形成し、この層の上に銅導体
層を形成し、多層化した未焼結体を、ガラスセラ
ミツクに含まれるガラス成分が加熱による変化を
示さない温度において、水蒸気分圧を0.005〜0.3
気圧に制御した窒素雰囲気中で焼成してバインダ
を飛散させることを特徴とする、銅導体多層構造
体の製造方法。」或いは、特開昭60−254697に記
載の 「熱解重合型樹脂を含むバインダを使用してガ
ラスセラミツク層を形成し、この層の上に銅導体
層を形成し、多層化した未焼結体を、ガラスセラ
ミツクに含まれるガラス成分が加熱による変化を
示さない温度において、水蒸気分圧を0.005〜0.3
気圧に制御した不活性雰囲気中で焼成してバイン
ダを飛散させる多層セラミツク回路基板の製法で
あつて、ガラスセラミツク原料として、20重量%
以上、50重量%未満のアルミナと、10重量%以
上、60重量%未満の石英ガラスと、20重量%以
上、40重量%未満の、銅の融点より低い温度で焼
成可能なガラスまたは結晶化ガラスとを混合して
使用することを特徴とする、多層セラミツク回路
基板の製法。」等の導体として銅を用いる多層セ
ラミツク回路基板の製法に好ましく適用しうるも
のである。
本発明の効果 本発明によれば、グリーンシート中のガラスセ
ラミツク粉末と有機成分の分散性を良好にし、か
つ積層体を窒素雰囲気中で焼成した焼成物は残留
炭素が少なく、かつ収縮率のばらつき、および、
曲げ強さのばらつきを低減する効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はスラリー粘度と分散剤添加量の関係を
示すグラフであり、第2図はグリーンシート最大
表面あらさと分散剤添加量の関係を示すグラフで
あり、第3図は焼成物曲げ強さの標準偏差と分散
剤添加量の関係を示すグラフであり、第4図は同
一焼成物内の収縮率のばらつきと分散剤添加量の
関係を示すグラフであり、第5図は分散剤残渣量
と加熱温度の関係を示すグラフである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 非酸化性雰囲気中焼成してガラスセラミツク
    基板とするガラスセラミツク粉末をバインダ、可
    塑剤に分散させて成形されたグリーンシート組成
    物であつて、 ポリエチレングリコールオレイン酸エステルを
    含むことを特徴とするグリーンシート組成物。 2 ガラスセラミツク粉末100重量部に、 バインダ 5〜20重量部 可塑剤 2〜10重量部 分散剤ポリエチレングリコールオレイン酸エステ
    ル2重量部以下を加えたスラリーから成形した焼
    成可能なことを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載のグリーンシート組成物。 3 上記ガラスセラミツク粉末が アルミナ粉末 20〜60重量% ホウケイ酸ガラス粉末 20〜50重量% 石英ガラス粉末 20〜40重量% からなることを特徴とする特許請求の範囲第1、
    または2項記載のグリーンシート組成物。
JP59274534A 1984-12-28 1984-12-28 グリ−ンシ−ト組成物 Granted JPS61155243A (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59274534A JPS61155243A (ja) 1984-12-28 1984-12-28 グリ−ンシ−ト組成物
CA000495834A CA1237535A (en) 1984-12-28 1985-11-21 Process for producing multilayer ceramic circuit board with copper
US06/801,783 US4679320A (en) 1984-12-28 1985-11-26 Process for producing multilayer ceramic circuit board with copper
DE8585402318T DE3585729D1 (de) 1984-12-28 1985-11-27 Verfahren zur herstellung einer keramischen mehrschichtleiterplatte mit kupfermetallisierung.
EP85402318A EP0186550B1 (en) 1984-12-28 1985-11-27 Process for producing multilayer ceramic circuit board with copper
KR8508896A KR900000313B1 (en) 1984-12-28 1985-11-28 Process for producing multilayer ceramic circuit board with copper
AU50518/85A AU565068B2 (en) 1984-12-28 1985-11-29 Process for producing multilayer ceramic circuit board with copper
ES549413A ES8800867A1 (es) 1984-12-28 1985-11-29 Un procedimiento para producir una placa de circuito de multiples capas a base de ceramica y cobre.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59274534A JPS61155243A (ja) 1984-12-28 1984-12-28 グリ−ンシ−ト組成物

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1324890A Division JPH02192452A (ja) 1989-12-16 1989-12-16 電子部品搭載用基板の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61155243A JPS61155243A (ja) 1986-07-14
JPH0240013B2 true JPH0240013B2 (ja) 1990-09-10

Family

ID=17543041

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59274534A Granted JPS61155243A (ja) 1984-12-28 1984-12-28 グリ−ンシ−ト組成物

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4679320A (ja)
EP (1) EP0186550B1 (ja)
JP (1) JPS61155243A (ja)
KR (1) KR900000313B1 (ja)
AU (1) AU565068B2 (ja)
CA (1) CA1237535A (ja)
DE (1) DE3585729D1 (ja)
ES (1) ES8800867A1 (ja)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4795512A (en) * 1986-02-26 1989-01-03 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method of manufacturing a multilayer ceramic body
JPS63107095A (ja) * 1986-10-23 1988-05-12 富士通株式会社 多層セラミツク回路基板
CA1273853C (en) * 1986-12-17 1990-09-11 METHOD OF PRODUCTION OF A CERAMIC CIRCUIT BOARD
JPS63277548A (ja) * 1987-05-08 1988-11-15 Fujitsu Ltd 超伝導セラミックスグリ−ンシ−ト組成物
WO1989001461A1 (en) * 1987-08-13 1989-02-23 Ceramics Process Systems Corporation Co-sinterable metal-ceramic packages and materials therefor
CA1306903C (en) * 1987-09-24 1992-09-01 Edward A. Hayduk, Jr. Process for the manufacture of copper thick-film conductors using aninfrared furnace
GB2212333A (en) * 1987-11-11 1989-07-19 Gen Electric Co Plc Method of fabricating multi-layer circuits
JPH0772092B2 (ja) * 1988-02-10 1995-08-02 日本特殊陶業株式会社 低温焼成基板
JPH0728128B2 (ja) * 1988-03-11 1995-03-29 松下電器産業株式会社 セラミック多層配線基板とその製造方法
JPH01318292A (ja) * 1988-06-20 1989-12-22 Fujitsu General Ltd 電気機器用構造物の製造方法
US5024975A (en) * 1989-10-19 1991-06-18 E. I. Du Pont De Nemours And Co., Inc. Crystallizable, low dielectric constant, low dielectric loss composition
US5070046A (en) * 1989-10-19 1991-12-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Dielectric compositions
US5283104A (en) * 1991-03-20 1994-02-01 International Business Machines Corporation Via paste compositions and use thereof to form conductive vias in circuitized ceramic substrates
GB2255451B (en) * 1991-05-03 1995-01-25 Marconi Gec Ltd Ceramic three dimensional electronic structures
US5682018A (en) * 1991-10-18 1997-10-28 International Business Machines Corporation Interface regions between metal and ceramic in a metal/ceramic substrate
US5456778A (en) * 1992-08-21 1995-10-10 Sumitomo Metal Ceramics Inc. Method of fabricating ceramic circuit substrate
JP2003031948A (ja) * 2001-07-12 2003-01-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd セラミック多層基板の製造方法
US11084950B2 (en) * 2016-03-24 2021-08-10 Ferro Corporation Fast conductivity polymer silver
CN115894019B (zh) * 2022-12-13 2023-09-22 西安交通大学 一种反铁电陶瓷材料及其低温烧结制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5614476A (en) * 1979-07-06 1981-02-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacture of piezoelectric sintered body sheet
JPS5756375A (en) * 1980-09-24 1982-04-03 Citizen Watch Co Ltd Ceramic green sheet formation

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3988405A (en) * 1971-04-07 1976-10-26 Smith Robert D Process for forming thin walled articles or thin sheets
DE2305341C2 (de) * 1973-02-03 1982-03-04 Sprague Electric Co., North Adams, Mass. Keramisches Schlickerkonzentrat für die Herstellung keramischer Kondensatoren
JPS51127112A (en) * 1975-04-30 1976-11-05 Fujitsu Ltd Method of producing multiilayered glass substrate
JPS525523A (en) * 1975-07-02 1977-01-17 Sankyo Kogaku Kogyo Kk Fade-in fade-out device for the movie camera
DE2727364A1 (de) * 1977-06-16 1979-01-04 Siemens Ag Verfahren zur herstellung von keramiksubstraten
US4413061A (en) * 1978-02-06 1983-11-01 International Business Machines Corporation Glass-ceramic structures and sintered multilayer substrates thereof with circuit patterns of gold, silver or copper
US4234367A (en) * 1979-03-23 1980-11-18 International Business Machines Corporation Method of making multilayered glass-ceramic structures having an internal distribution of copper-based conductors
US4340436A (en) * 1980-07-14 1982-07-20 International Business Machines Corporation Process for flattening glass-ceramic substrates
US4345955A (en) * 1980-10-28 1982-08-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for manufacturing multilayer ceramic chip carrier modules
JPS57184296A (en) * 1981-05-09 1982-11-12 Hitachi Ltd Ceramic circuit board
JPS59995A (ja) * 1982-06-16 1984-01-06 富士通株式会社 銅導体多層構造体の製造方法
US4510000A (en) * 1983-11-30 1985-04-09 International Business Machines Corporation Method for palladium activating molybdenum metallized features on a ceramic substrate
JPS60254697A (ja) * 1984-05-31 1985-12-16 富士通株式会社 多層セラミック回路基板および製法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5614476A (en) * 1979-07-06 1981-02-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacture of piezoelectric sintered body sheet
JPS5756375A (en) * 1980-09-24 1982-04-03 Citizen Watch Co Ltd Ceramic green sheet formation

Also Published As

Publication number Publication date
DE3585729D1 (de) 1992-04-30
JPS61155243A (ja) 1986-07-14
AU565068B2 (en) 1987-09-03
AU5051885A (en) 1986-07-03
EP0186550A3 (en) 1988-03-02
US4679320A (en) 1987-07-14
ES8800867A1 (es) 1987-12-01
EP0186550A2 (en) 1986-07-02
EP0186550B1 (en) 1992-03-25
CA1237535A (en) 1988-05-31
KR900000313B1 (en) 1990-01-25
ES549413A0 (es) 1987-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0240013B2 (ja)
US4755490A (en) Low firing temperature ceramic materials
US5073180A (en) Method for forming sealed co-fired glass ceramic structures
JPH0649594B2 (ja) 結晶化可能な低誘電率低誘電体損組成物
JPS6036369A (ja) 磁器製造法
KR101086804B1 (ko) 저온 소성 세라믹 회로 기판
EP0230675B1 (en) Ceramic wiring substrate and process for producing the same
US6623845B1 (en) Glass-ceramic composition, and electronic component and multilayer LC composite component using the same
EP1130003A1 (en) Glass ceramics composition and electronic parts and multilayered lc multiple component using the same
JPH0571537B2 (ja)
JPH0881267A (ja) 窒化アルミニウム焼結体、その製造方法と窒化アルミニウム回路基板、その製造方法
JP3216260B2 (ja) 低温焼成セラミックス多層基板及びその製造方法
KR0173234B1 (ko) 다층 세라믹 회로 기판의 제조방법
EP1403228B1 (en) Ceramic component and production method therefor
JPH09186044A (ja) 積層電子部品用内部電極材料ペースト、積層電子部品及びその製造方法
JP3231892B2 (ja) 多層基板の製造方法
JPH06172017A (ja) セラミツクス基板用グリーンシート及びセラミツクス基板
JPS62246202A (ja) 低温度焼成セラミツク
JPH09237957A (ja) アルミナ質回路基板およびその製造方法
JP2739834B2 (ja) シリカ焼結体の製造方法
JP2002047058A (ja) 配線基板用セラミック組成物
JP2001233677A (ja) ガラスセラミック基板の製造方法
Chen et al. Effect of metal oxide precursor on sintering shrinkage, microstructure evolution and electrical properties of silver-based pastes
JPS59156960A (ja) アルミナ焼結基板の製造方法
JP2002076194A (ja) 電子回路装置及び電子計算機用モジュール並びに電子計算機