JPH02310675A - 製造用ライブラリへの軌跡座標登録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 表面実装部品用ランドのパターンをプロッタにて塗潰す
軌跡の座標を登録する場合の、製造用ライブラリへの軌
跡座標登録方法に関し、製造用ライブラリにランドのパ
ターンを塗潰す軌跡の座標を登録するのに、手間がかか
らず、間違いもなく、早く出来る、製造用ライブラリへ
の軌跡座標登録方法の提供を目的とし、 閉領域を示す座標及びプロッタのアパーチャの大きさ及
び１ステップの移動距離を与えると、該プロッタのアパ
ーチャの大きさ及び１ステップの移動距離及びランドパ
ターンを塗潰す軌跡の座標を作成登録する軌跡座標作成
登録手段を予め作成し計算機に格納しておき、 設計用ライブラリに、閉領域を示す座標を用い、表面実
装部品用ランドのパターンを登録する時、該プロッタの
アパーチャの大きさ及びｌステップの移動距離を該計算
機に入力し、該軌跡座標作成登録手段にて該製造用ライ
ブラリに、該プロッタのアパーチャの大きさ及び１ステ
ップの移動距離及び該ランドパターンを塗潰す軌跡の座
標を登録するように構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、電子１通信装置に用いるプリント基板のパタ
ーンをＣＡＤ装置を用い設計する場合等に使用する製造
用ライブラリに、表面実装部品用ランドのパターンをプ
ロッタにて塗潰す軌跡の座標を登録する場合の、製造用
ライブラリへの軌跡座標登録方法の改良に関する。

表面実装部品用ランドとは、第３図に示す如く、プリン
ト基板に設けられ、表面に表面実装部品２０．２１のリ
ード線を固着するもので、表面は第５図（Ａ）に示す如
く平面で、正方形、矩形、Ｔ字型等のパターンがあり、
大きさは約２ｍｍ程度である。

又このパターンにレジストを塗布する為に、第５図（Ｂ
）に示す如きランドのパターンより少し大きい正方形、
矩形６Ｔ字型等のランドのレジストパターンがあり、こ
れも一般的にランドのパターンとして設計用ライブラリ
及び製造用ライブラリに登録される。

プリント基板のパターンをＣＡＤ装置を用いて設計する
為には、第５図（Ａ）（Ｂ）に示す如きランドのパター
ン及びランドのレジストのパターンを設計用ライブラリ
に登録しておき、これを用いてパターン設計を行い、又
これ等のパターンをプロッタにて塗潰す軌跡の座標を製
造用ライブラリに登録しておき、これ等のパターンをプ
ロッタにて塗潰す為の製造データとして出力するように
している。

この製造用ライブラリに、ランドのパターン及びランド
のレジストのパターンをプロッタにて塗潰す軌跡の座標
を登録するのに手間がかからずに、間違いなく、早く出
来ることが望まれている。

〔従来の技術〕

第４図は１例の設計用ライブラリ、製造用ライブラリ作
成計算機のプロッタ図、第５図は１例のランドのパター
ン及びこれに対応したランドのレジストのパターンを示
す図、第６図は１例のランドのパターンを塗潰す軌跡の
座標を示す図、第７図は１例の設計用ライブラリ、製造
用ライブラリに登録する内容を示す図、第８図は従来例
のプリント基板パターン設計のフローを示す図である。

設計用ライブラリ１に、ランドのバタ、−ン及びランド
のレジストのパターンを登録し、又製造用ライブラリ２
にランドのパターン及びランドのレジストのパターンを
塗潰す軌跡の座標を登録するのには、第４図′に示す如
き計算機のディスク３０に、設計用ライブラリ１及び軌
跡座標２の領域を設は行う。

ランド及びランドのレジストのパターンが、第５図（Ａ
）（Ｂ）に示す如き、正方形のランドの□パターン名は
ＰＴＹＯＯ，閉領域を示す４隅の座標はａ、ｂ、ｃ、ｄ
、矩形のランドのパターン名はＰＴＹＯ１，閉領域を示
す４隅の座標はｅ、ｒ。

ｇ、ｈ、Ｔ字型のランドのパターン名はＰＴＹＯ２、閉
領域を示す座標はｔ、ｊ、に、Ｉ、ｍ、ｎ。

ｏ、ｐ、正方形のランドレジストのパターン名はＰＴＹ
ＩＩ、閉領域を示す４隅の座標はａ′。

ｂ”、ｃ’、ｄ“、矩形のランドのパターン名はＰＴＹ
２１．閉領域を示す４隅の座標はｅ“。

ｆ”、ｇ”、ｈ“、Ｔ字型のランドのパターン名はＰＴ
Ｙ３１．閉領域を示す座標は、Ｉ、ｊｌ。

ｋ＋、　　ｌＴ、　　ｍ＋、　　ｎｌ、　　０＋、　　
Ｐ”、＝とすると、設計用ライブラリ１に登録する内容
は第７図（Ａ）に示す如き、パターン名及び閉領域を糸
す座標である。

これ等を登録するには、第７図（Ａ）に示す如き第８図
のランド構成表１０を作成しておき、第４図のキーボー
ド５より、パターン名及び閉領域を入力し、グラフィッ
クディスプレイ６に写されるパターンを見て、会話型に
て設計用ライブラリ１に登録する。

次に、これ等のパターンをプロッタにて塗潰す為の製造
データを出力させる為に、製造用ライブラリ２への登録
について説明する。

例えば、パターンが第５図（Ａ）、第６図（Ａ）に示す
如き、パターン塩がＰＴＹＯＯで、閉領域を示す座標が
ａ、ｂ、ｃ、ｄの正方形のパターンだとすると、これを
塗潰すには、例えばプロッタのアパーチャを０．１ｍｍ
とし、１ステップの移動距離を１／１０００ｍｍとし、
（Ｃ）に示す如く、座標Ｘｉ、Ｙｌから右方向にＸｔＯ
。

Ｙｌ迄１／１０００ｍｍづつ移動させ、次は、アパーチ
ャの大きさの０．１ｍｍ上方の座標Ｘ１−０゜Ｙ２迄１
／１０００ｍｍづつ移動させ、次は左方向に座標Ｘｉ、
Ｙ２迄１／１０００ｍｍづつ移動させ、次はＯ，’１ｍ
ｍ上方の座標ＸＩ、Ｙ３迄１／１０００ｍｍづつ移動さ
せる如くして閉領域を塗潰す。

この場合の閉領域を塗潰す軌跡の座標は、ＸＩ。

Ｙｌ、ＸＩＯ，Ｙｌ、ＸＩＯ，Ｙ２、Ｘｉ、Ｙ２、ＸＩ
、Ｙ３、・・・となる。

、この軌跡座標を製造用ライブラリ２に登録するには、
第７図（Ｂ）に示す如き、パターン塩、アパーチャの大
きさ、１ステップの移動距離、塗潰す軌跡の座標を示す
第８図の下図１４を作成しておき、第４図のキーボード
５より、キャラクタディスプレイ７に表示される文字を
見ながら会話型にて製造用ライブラリ２に登録する。

そして、ＣＡＤ装置を用いて行うプリント基板のパター
ン設計の要部を説明すると、第８図に示す如く、回路デ
ータ１１により、パターン設計工程１２にて、設計用ラ
イブラリ１に格納されているランドの情報等を用いパタ
ーン設計を行い、製造データ出カニ程１３にては、製造
用ライブラリ２より、使用したランドに対応した軌跡座
標を入力させて出力するようになっている。

〔発明が解決しようとする課題］ しかしながら、従来は、上記説明の如く、製造用ライブ
ラリ２にランドのパターンを塗潰す軌跡の座標を登録す
るのに手作業で行っている為に手間がかかり又誤ること
があり又時間がかかる問題点がある。

又、ランドが、パターン塩は変更せずパターンが変更に
なると、設計用ライブラリ１の登録内容の変更は、変更
になったパターンの閉領域を示す座標を入力すればよい
ので、速やかに出来るが、製造用ライブラリ２の登録内
容の変更は、下図として、変更になったパターンを塗潰
す軌跡座標を作成し、これを入力せねばならず、時間が
かかる。

この為にＣＡＤ装置の製造用データ出カニ程１３より出
力される製造データは製造用ライブラリ２の登録内容が
変更される迄は使用出来なく、使用出来る製造データを
得る迄に時間がかかる間朋点がある。

本発明は、製造用ライブラリにランドのパターンを塗潰
す軌跡の座標を登録するのに、手間がかからず、間違い
もな（、早（出来る、製造用ライブラリへの軌跡座標登
録方法の提供を目的とじている。

〔課題を解決するための手段〕

第１図は本発明の原理プロッタ図である。

第１図に示す如く、閉領域を示す座標を用い、計算機の
設計用ライブラリ１に登録した、プリント基板用の表面
実装部品用ランドのパターンに対し、 該計算機の製造用ライブラリ２に該ランドのパターンを
プロッタにて塗潰す軌跡の座標を登録するに際し、 上記閉領域を示す座標及び該プロッタのアパーチャの大
きさ及び１ステップの移動距離を与えると、該プロッタ
のアパーチャの大きさ及び１ステップの移動距離及びラ
ンドパターンを塗潰す軌跡の座標を作成登録する軌跡座
標作成登録手段３を予め作成し該計算機に格納しておく
。

そして、該設計用ライブラリ１に、閉領域を示す座標を
用い表面実装部品用ランドのパターンを登録する時、該
プロッタのアパーチャの大きさ及びｌステップの移動距
離を該計算機に入力し、該軌跡座標作成登録手段３にて
該製造用ライブラリ２に、該プロッタのアパーチャの大
きさ及び１ステップの移動距離及び該ランドパターンを
塗潰す軌跡の座標を登録するようにする。

〔作　用〕

本発明にれば、閉領域を示す座標及びプロッタのアパー
チャの大きさ及び１ステップの移動距離を与えると、該
プロッタのアパーチャの大きさ及び１ステップの移動距
離及びランドパターンを塗潰す軌跡の座標を作成登録す
る軌跡座標作成登録手段３を予め作成し計算機に格納し
ておき、設計用ライブラリｌに、閉領域を示す座標を用
い表面実装部品用ランドのパターンを登録する時、該プ
ロッタのアパーチャの大きさ及び１ステップの移動距離
を該計算機に入力し、該軌跡座標作成登録手段３にて該
製造用ライブラリ２に、該プロッタのアパーチャの大き
さ及び１ステップの移動距離及び該ランドパターンを塗
潰す軌跡の座標を登録するようにしている。

即ち、予め作成された軌跡座標作成登録手段３を用い、
新規及び変更を含め、計算機にて自動的に行うので、手
間がかからず、誤りもなく、早（登録出来るようになる
。

〔実施例〕

第２図は本発明の実施例のプリント基板パターン設計の
フローを示す図である。

本発明の場合の設計用ライブラリ１及び製造用ライブラ
リ２に登録する為の計算機は第４図に示したものを用い
ればよく、軌跡座標作成登録プログラム３を予め作成し
てＲＯＭ８に格納しておき、必要な時にプロセッサ４が
これを読み出し処理を行う。

即ち、第２図に示す如く、第７図（Ａ）に示す如きラン
ド構成表１０を予め作成しておき、キーボード５より、
パターン塩及び閉領域を示す座標を人力し、グラフィッ
クディスプレイ６に写されるパターン図形を見て設計用
ライブラリ１に登録する際に、プロッタのアパーチャの
大きさく例えば０．１ｍｍ）及び１ステップの移動距離
（例えば１／１００１００Ｏを入力し、軌跡座標作成登
録プログラム３を用い、第７図（Ｂ）に示す如き、塗潰
す軌跡の座標を含む内容を登録させる。

このようにすると、製造用ライブラリ２への塗潰す軌跡
の座標の登録は、手間ががかからず間違いもなく、早く
、且つ設計用ライブラリ１への登録と略同時に行うこと
が出来る。

よって、ランドが、同じパターン塩でパターンが変更に
なっても、設計用ライブラリ１の登録内、容の変更と、
製造用ライブラリ２の登録内容の変更は略同時に出来る
ので、使用出来る製、造データを得る迄の時間を短くす
ることが出来る。

〔発明の効果〕

以上詳細に説明せる如く本発明によれば、製造用ライブ
ラリにラン）゛を塗潰す軌跡の座標を登録するのに、手
間がかからず間違いもなく早（出来又、ランドが、同じ
パターン塩でパターンが変更になっても、使用出来る製
造データを得る迄の時間を短くすることが出来る効果が
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の原理プロッタ図、 第２図は本発明の実施例のプリント基板パターン設計の
フローを示す図、 第３図は１例の表面実装部品用ランドの使用状態説明図
、 第４図は１例の設計用ライブラリ、製造用ライブラリ作
成計算機のプロッタ図、 第５図は１例のランドのパターン及びこれに対応したラ
ンドのレジストのパターンを示す図、第６図は１例のラ
ンドのパターンを塗潰す軌跡の座標を示す図、 第７図は１例の設計用ライブラリ、製造用ライブラリに
登録する内容を示す図、 第８図は従来例のプリント基板パターン設計のフローを
示す図である。 図において、 １イ列め表面実装％工爾う一ドｔイ更吊Ａ大食九叡を悶
弓図第　３　図 １イデ１の＠宮土用ライフ”ラリ、唱逐＠用うイフ′°
ラリイ箸βεも土算才艷のブロー／２図 括　４　図 ば ’？＋ＭＬ６”４ｈ−”＞　　　　　　　ａ＋５．”＋
３ｑ９ｕ；−）Ｓｚ９ｊｈ−）　　　　ｒ１例のう）ド
のバタつと薫；月貴すｆｉ’Ｌ跡の廖手粟ε爪す園地　
乙−図 ＃来イタリのプ１ルト基板パター〕設計の７０−とホ４
図第８図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 　閉領域を示す座標を用い、計算機の設計用ライブラリ
   （１）に登録した、プリント基板用の表面実装部品用ラ
   ンドのパターンに対し、 該計算機の製造用ライブラリ（２）に該ランドのパター
   ンをプロッタにて塗潰す軌跡の座標を登録するに際し、 上記閉領域を示す座標及び該プロッタのアパーチャの大
   きさ及び１ステップの移動距離を与えると、該プロッタ
   のアパーチャの大きさ及び１ステップの移動距離及びラ
   ンドパターンを塗潰す軌跡の座標を作成登録する軌跡座
   標作成登録手段（３）を予め作成し該計算機に格納して
   おき、該設計用ライブラリ（１）に、閉領域を示す座標
   を用い、表面実装部品用ランドのパターンを登録する時
   、該プロッタのアパーチャの大きさ及び１ステップの移
   動距離を該計算機に入力し、該軌跡座標作成登録手段（
   ３）にて該製造用ライブラリ（２）に、該プロッタのア
   パーチャの大きさ及び１ステップの移動距離及び該ラン
   ドパターンを塗潰す軌跡の座標を登録するようにしたこ
   とを特徴とする製造用ライブラリへの軌跡座標登録方法
   。