JPH02309877A - 固体撮像装置 - Google Patents
固体撮像装置Info
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- JPH02309877A JPH02309877A JP1132168A JP13216889A JPH02309877A JP H02309877 A JPH02309877 A JP H02309877A JP 1132168 A JP1132168 A JP 1132168A JP 13216889 A JP13216889 A JP 13216889A JP H02309877 A JPH02309877 A JP H02309877A
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- 238000009825 accumulation Methods 0.000 claims description 16
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 11
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 20
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 6
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000005036 potential barrier Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000005381 potential energy Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/71—Charge-coupled device [CCD] sensors; Charge-transfer registers specially adapted for CCD sensors
- H04N25/715—Charge-coupled device [CCD] sensors; Charge-transfer registers specially adapted for CCD sensors using frame interline transfer [FIT]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/148—Charge coupled imagers
- H01L27/14831—Area CCD imagers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
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- H04N25/62—Detection or reduction of noise due to excess charges produced by the exposure, e.g. smear, blooming, ghost image, crosstalk or leakage between pixels
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は複数の受光部から垂直転送部に信号電荷が転送
され、その信号電荷が蓄積部を介して水平転送部に転送
されるフレームインターライン転送型(FIT型)の固
体撮像装置に関する。
され、その信号電荷が蓄積部を介して水平転送部に転送
されるフレームインターライン転送型(FIT型)の固
体撮像装置に関する。
本発明は、受光部からの信号電荷が垂直転送部へ読み出
され、その垂直転送部から蓄積部へ信号電荷の高速転送
が行われる転送方式の固体撮像装置において、その高速
転送中に各受光部を信号電荷を蓄積させない状態にする
ことにより、プルーミング等を抑制するものである。
され、その垂直転送部から蓄積部へ信号電荷の高速転送
が行われる転送方式の固体撮像装置において、その高速
転送中に各受光部を信号電荷を蓄積させない状態にする
ことにより、プルーミング等を抑制するものである。
FIT型のCCDは、マトリクス状に配列された受光部
と垂直転送部を有してなる逼像部と、一時的に電荷を蓄
積するための蓄積部と、ライン毎の電荷の転送を行う水
平転送部とを主たる要素とした固体撮像装置であり、こ
のような技術を記載した文献としては、特開昭56−8
966号公報等が存在する。
と垂直転送部を有してなる逼像部と、一時的に電荷を蓄
積するための蓄積部と、ライン毎の電荷の転送を行う水
平転送部とを主たる要素とした固体撮像装置であり、こ
のような技術を記載した文献としては、特開昭56−8
966号公報等が存在する。
ところで、このようなFIT型のCCDでは、その垂直
ブランキング期間に、受光部の信号電荷が垂直転送部に
読み出された後、蓄積部のレジスタの段数に応じた高速
転送が行われる。そして、その高速転送によって蓄積部
に転送された信号電荷が水平転送部によって1ライン毎
に出カバソファを介して出力される。
ブランキング期間に、受光部の信号電荷が垂直転送部に
読み出された後、蓄積部のレジスタの段数に応じた高速
転送が行われる。そして、その高速転送によって蓄積部
に転送された信号電荷が水平転送部によって1ライン毎
に出カバソファを介して出力される。
〔発明が解決しようとする課題う
ところが、信号電荷の垂直転送部から蓄積部への高速転
送中に、受光部に過剰キャリアが発生し、受光部から垂
直転送部に電荷が溢れてブルーミング現象が生じた場合
では、それがモニター画面上では白い縦筋となって現れ
ることになる。
送中に、受光部に過剰キャリアが発生し、受光部から垂
直転送部に電荷が溢れてブルーミング現象が生じた場合
では、それがモニター画面上では白い縦筋となって現れ
ることになる。
そこで、本発明は、高速転送期間中のブルーミングを抑
えて、良好な画像信号を出力するような固体撮像装置の
提供を目的とする。
えて、良好な画像信号を出力するような固体撮像装置の
提供を目的とする。
上述の目的を達成するために、本発明の固体撮像装置は
、マトリクス状に配される複数の受光部に得られる信号
電荷を、上記受光部の垂直列に沿って設けられた垂直転
送部に読み出し、その垂直転送部から蓄積部へ上記信号
電荷を高速転送し、その蓄積部に一時蓄積された上記信
号電荷を1水平ライン毎に水平転送部を介して出力する
ようにされるものであって、上記高速転送中に上記各受
光部を信号電荷が蓄積されない状態にすることを特徴と
する。
、マトリクス状に配される複数の受光部に得られる信号
電荷を、上記受光部の垂直列に沿って設けられた垂直転
送部に読み出し、その垂直転送部から蓄積部へ上記信号
電荷を高速転送し、その蓄積部に一時蓄積された上記信
号電荷を1水平ライン毎に水平転送部を介して出力する
ようにされるものであって、上記高速転送中に上記各受
光部を信号電荷が蓄積されない状態にすることを特徴と
する。
ここで、受光部を信号電荷が蓄積されない状態にするこ
ととは、受光部の不要な電荷を基板やドレイン等に掃き
出して、受光部の信号電荷を無くしたり、減少させたり
する状態にすることであり、このような状態には、例え
ば電子シャンク−等の作動により取り扱い電荷盪を小く
させることにより行っても良い。また、受光部のポテン
シャルを深くさせて、その受光部から流出するほど信号
電荷が蓄積されないように制御することも可能である。
ととは、受光部の不要な電荷を基板やドレイン等に掃き
出して、受光部の信号電荷を無くしたり、減少させたり
する状態にすることであり、このような状態には、例え
ば電子シャンク−等の作動により取り扱い電荷盪を小く
させることにより行っても良い。また、受光部のポテン
シャルを深くさせて、その受光部から流出するほど信号
電荷が蓄積されないように制御することも可能である。
高速転送中に、受光部を信号電荷が蓄積されない状態に
することにより、その高速転送中では過剰な電荷が受光
部から溢れることはない、このため受光部に隣接して設
けられる垂直転送部にも受光部から電荷が漏れ込まず、
高速転送は信号電荷に関してのみ行うことができる。こ
の高速転送は、信号電荷の蓄積時間(例えばフィールド
読み出しでは60分の1秒)に比較して極めて短い時間
である。このため感度の低下は問題とならない。
することにより、その高速転送中では過剰な電荷が受光
部から溢れることはない、このため受光部に隣接して設
けられる垂直転送部にも受光部から電荷が漏れ込まず、
高速転送は信号電荷に関してのみ行うことができる。こ
の高速転送は、信号電荷の蓄積時間(例えばフィールド
読み出しでは60分の1秒)に比較して極めて短い時間
である。このため感度の低下は問題とならない。
〔実施例]
本発明の好適な実施例を図面を参照しなから説明する。
本実施例はFIT型のCCDであり、高速転送中に、基
板電圧が高レベルにされて、プルーミングの発生が防止
される例である。
板電圧が高レベルにされて、プルーミングの発生が防止
される例である。
まず、全体のブロック構造を第2図に示す。本実施例の
CCD 1は、撮像部2を構成するように、マトリクス
状に配列されフォトセンサーからなる複数の受光部4と
、垂直転送部である第1の垂直レジスタ部5を有してい
る。受光部4は後述するように不要電荷を基板に掃き出
す縦型オーバーフロードレイン構造を有する。第1の垂
直レジスタ部5は受光部4の各垂直列に沿って形成され
る。
CCD 1は、撮像部2を構成するように、マトリクス
状に配列されフォトセンサーからなる複数の受光部4と
、垂直転送部である第1の垂直レジスタ部5を有してい
る。受光部4は後述するように不要電荷を基板に掃き出
す縦型オーバーフロードレイン構造を有する。第1の垂
直レジスタ部5は受光部4の各垂直列に沿って形成され
る。
各受光部4と第1の垂直レジスタ部5の間には信号電荷
の読み出しのための転送ゲートが設けられる。これら第
1の垂直レジスタ部5には、それぞれ転送信号IMΦl
〜IMΦ4が供給され、これら4相の転送信号IMΦl
−IMΦ4のパルスによって第1の垂直レジスタ部5の
電荷が蓄積部3に高速転送される。
の読み出しのための転送ゲートが設けられる。これら第
1の垂直レジスタ部5には、それぞれ転送信号IMΦl
〜IMΦ4が供給され、これら4相の転送信号IMΦl
−IMΦ4のパルスによって第1の垂直レジスタ部5の
電荷が蓄積部3に高速転送される。
本実施例のCCDIには、それら第1の垂直レジスタ部
5に連続して蓄積部3が形成される。この蓄積部3は、
各垂直列毎に設けられた第1の垂直レジスタ部5に対応
して各垂直列毎に設けられる第2の垂直レジスタ部6か
らなる。これら第2の垂直レジスタ部6に第1の垂直レ
ジスタ部5から信号電荷が高速転送され、一時的にその
信号電荷が蓄積される。これら第2の垂直レジスタ部6
には、4相の転送信号STΦl−3TΦ4が供給され、
これら4和の転送信号STΦ1〜STΦ4によって第2
の垂直レジスフ部6の電荷が転送される。
5に連続して蓄積部3が形成される。この蓄積部3は、
各垂直列毎に設けられた第1の垂直レジスタ部5に対応
して各垂直列毎に設けられる第2の垂直レジスタ部6か
らなる。これら第2の垂直レジスタ部6に第1の垂直レ
ジスタ部5から信号電荷が高速転送され、一時的にその
信号電荷が蓄積される。これら第2の垂直レジスタ部6
には、4相の転送信号STΦl−3TΦ4が供給され、
これら4和の転送信号STΦ1〜STΦ4によって第2
の垂直レジスフ部6の電荷が転送される。
その第2の垂直レジスタ部6の第1の垂直レジスタ部5
と反対側には、水平レジスタ部7が配設される。この水
平レジスタ部7は、蓄積部3の各第2の垂直レジスフ部
6に蓄積された電荷を1水平ライン毎に読み出すための
レジスタである。この水平レジスタ部7には、全部の第
2の垂直レジスタ部6から1水平ライン分の電荷が転送
され、その電荷が出力回路8に対して出力される。この
水平レジスタ部7には、2相の転送信号■1Φ1゜HΦ
2が供給され、転送は転送信号HΦ1.HΦ2によって
行われる。
と反対側には、水平レジスタ部7が配設される。この水
平レジスタ部7は、蓄積部3の各第2の垂直レジスフ部
6に蓄積された電荷を1水平ライン毎に読み出すための
レジスタである。この水平レジスタ部7には、全部の第
2の垂直レジスタ部6から1水平ライン分の電荷が転送
され、その電荷が出力回路8に対して出力される。この
水平レジスタ部7には、2相の転送信号■1Φ1゜HΦ
2が供給され、転送は転送信号HΦ1.HΦ2によって
行われる。
この水平レジスタ部7からは、水平レジスタ部7の終端
部に位置するフローティングディフュージョン10fを
介して、例えばソースホロワ等の構成を有する出力回路
8へ信号が取り出される。
部に位置するフローティングディフュージョン10fを
介して、例えばソースホロワ等の構成を有する出力回路
8へ信号が取り出される。
リセットは、リセットトランジスタ10により行われ、
そのリセットトランジスタ10のゲートに供給されるプ
リチャージゲート制′41■信号ΦPGによって、上記
フローティングディフュージョン10fとリセット用の
プリチャージ電圧VPDとリセットドレイン10dの間
のオン・オフが制御される。そして、出力回路8の出力
端子9より、このCCD 1の画像信号■。LITが出
力される。
そのリセットトランジスタ10のゲートに供給されるプ
リチャージゲート制′41■信号ΦPGによって、上記
フローティングディフュージョン10fとリセット用の
プリチャージ電圧VPDとリセットドレイン10dの間
のオン・オフが制御される。そして、出力回路8の出力
端子9より、このCCD 1の画像信号■。LITが出
力される。
第4図は受光部4及び第1の垂直レジスタ部5の断面構
造を示す。このCCD lは、n型のシリコン基板11
を用いており、n型のシリコン基板11に形成されたp
型のウェル領域12内に受光部4や第1の垂直レジスタ
部5が形成される。
造を示す。このCCD lは、n型のシリコン基板11
を用いており、n型のシリコン基板11に形成されたp
型のウェル領域12内に受光部4や第1の垂直レジスタ
部5が形成される。
受光部4は、上記p型のウェル領域12内のn型の不純
物領域13を用いたフォトセンサーにより構成され、基
板表面に形成されたポリシリコン114の間の開口部1
5より光が入射する。なお、基板表面にはセンサーゲー
ト部16が形成される。
物領域13を用いたフォトセンサーにより構成され、基
板表面に形成されたポリシリコン114の間の開口部1
5より光が入射する。なお、基板表面にはセンサーゲー
ト部16が形成される。
このCCD1は、不要電荷を掃き出すための構造として
縦型オーバーフロードレイン構造を有している。すなわ
ち、n型のシリコン基板11がオーバーフロードレイン
であり、p型のウェル領域12がオーバーフローバリア
となる。従って、n型のシリコン基板11に印加される
基板電圧V subを高くすることで、電子シャッター
動作が行われ、特に、後述するように電子シャッター動
作を高速転送中に行うことでプルーミングの抑制が可能
となる。
縦型オーバーフロードレイン構造を有している。すなわ
ち、n型のシリコン基板11がオーバーフロードレイン
であり、p型のウェル領域12がオーバーフローバリア
となる。従って、n型のシリコン基板11に印加される
基板電圧V subを高くすることで、電子シャッター
動作が行われ、特に、後述するように電子シャッター動
作を高速転送中に行うことでプルーミングの抑制が可能
となる。
第1の垂直レジスタ部5は、上記ポリシリコン層14を
転送Mmとし、スメア防止用に形成された第2のp型の
ウェル領域17上の埋め込みチャンネル領域18により
電荷を転送できる。この埋め込みチャンネル領域18は
基板表面に臨み、他の垂直列とはチャンネルストッパー
領域19により分離され、ポリシリコン層14の下部で
上記n型の不純物領域13と離間した領域20が読み出
しゲートとして機能する領域となる。
転送Mmとし、スメア防止用に形成された第2のp型の
ウェル領域17上の埋め込みチャンネル領域18により
電荷を転送できる。この埋め込みチャンネル領域18は
基板表面に臨み、他の垂直列とはチャンネルストッパー
領域19により分離され、ポリシリコン層14の下部で
上記n型の不純物領域13と離間した領域20が読み出
しゲートとして機能する領域となる。
次に、第2図及び第3図を参照して、縦型オーバーフロ
ードレイン構造を用いた電子シャッター動作について説
明する。
ードレイン構造を用いた電子シャッター動作について説
明する。
第2図及び第3図は、それぞれ第4図のA点−B点=C
点に沿ったポテンシャルエネルギーを示す図であり、第
2図が蓄積状態を示し、第3図が掃き出し状態を示す。
点に沿ったポテンシャルエネルギーを示す図であり、第
2図が蓄積状態を示し、第3図が掃き出し状態を示す。
第2図に示すように、蓄積状態では、n型の不純物領域
13による点P3がポテンシャル井戸となり、p型のウ
ェル領域12による点P4及び読み出しゲートによる点
P2にポテンシャル障壁が形成されて、n型の不純物領
域13の点P、側へ電荷が蓄積されることになる。また
、読み出しは、読み出しゲートにかかる点P2が高電位
■□によって下げられて、n型の不純物領域13の点P
3側から埋め込みチャンネル領域18の点Pl側へ電荷
が流れることにより行われる。なお、電荷の転送は、低
電位■、と中間電位v、Iが供給されるポリシリコン層
14により、点P2.P、の電位が所要の駆動周期で変
化することで行われる。
13による点P3がポテンシャル井戸となり、p型のウ
ェル領域12による点P4及び読み出しゲートによる点
P2にポテンシャル障壁が形成されて、n型の不純物領
域13の点P、側へ電荷が蓄積されることになる。また
、読み出しは、読み出しゲートにかかる点P2が高電位
■□によって下げられて、n型の不純物領域13の点P
3側から埋め込みチャンネル領域18の点Pl側へ電荷
が流れることにより行われる。なお、電荷の転送は、低
電位■、と中間電位v、Iが供給されるポリシリコン層
14により、点P2.P、の電位が所要の駆動周期で変
化することで行われる。
第3図は掃き出し状態すなわち電子シャッター動作時の
ポテンシャルの状態を示す。高電圧の基板電圧V su
bが印加されることで、ポテンシャルバリヤとしてのウ
ェル領域12による点P4のポテンシャルが下げられ、
点P3側に蓄積されていた電荷はn型の半導体基板11
へ掃き出される。
ポテンシャルの状態を示す。高電圧の基板電圧V su
bが印加されることで、ポテンシャルバリヤとしてのウ
ェル領域12による点P4のポテンシャルが下げられ、
点P3側に蓄積されていた電荷はn型の半導体基板11
へ掃き出される。
この状態で受光部4は蓄積状態とはならない。本実施例
のCCD Iは、このような電子シャンク−動作を行う
ことができる。
のCCD Iは、このような電子シャンク−動作を行う
ことができる。
次に、第1図を参照して、本実施例のCCD 1の動作
について説明する。信号(a)は垂直ブランキング期間
T ltxと映像期間TVDの区別を示す。信号Q)l
はCCDの垂直駆動パルスを示す。信号(C)は基板電
圧V subを示す。
について説明する。信号(a)は垂直ブランキング期間
T ltxと映像期間TVDの区別を示す。信号Q)l
はCCDの垂直駆動パルスを示す。信号(C)は基板電
圧V subを示す。
まず、映像期間Tve中では、ラインシフトパルスΦ1
.によって第2の垂直レジスタ部6から水平レジスタ部
7へ1ライン毎に信号電荷が転送され、その水平レジス
タ部7より出力回路8を介して画像信号■。utが出力
される。
.によって第2の垂直レジスタ部6から水平レジスタ部
7へ1ライン毎に信号電荷が転送され、その水平レジス
タ部7より出力回路8を介して画像信号■。utが出力
される。
次に、垂直ブランキング期間T、。では、初めに期間1
.に不要電荷の掃き出し動作が行われる。
.に不要電荷の掃き出し動作が行われる。
この掃き出し動作は、垂直レジスタ部5.6の不要電荷
を掃きだすものであり、例えば信号電荷の転送方向と同
一の方向やその逆方向に不要電荷を転送し、所要の電荷
吸収部に不要電荷を掃き出すことにより行われる。
を掃きだすものであり、例えば信号電荷の転送方向と同
一の方向やその逆方向に不要電荷を転送し、所要の電荷
吸収部に不要電荷を掃き出すことにより行われる。
このような不要電荷の掃き出し転送が行われた後、読み
出しパルスΦ7が印加され、受光部4の信号電荷が第1
の垂直レジスタ部5に読み出される。
出しパルスΦ7が印加され、受光部4の信号電荷が第1
の垂直レジスタ部5に読み出される。
この読み出し動作後、同じ垂直ブランキング期間T E
LK内の期間t2に、第1の垂直レジスフ部5から第2
の垂直レジスタ部6へ読み出された信号電荷の高速転送
が行われる。そして、特にこの期間t2に基板電圧V
subが高い電圧とされる。
LK内の期間t2に、第1の垂直レジスフ部5から第2
の垂直レジスタ部6へ読み出された信号電荷の高速転送
が行われる。そして、特にこの期間t2に基板電圧V
subが高い電圧とされる。
すると、受光部4の状態は、第2回に示したようなポテ
ンシャル状態の電荷の蓄積状態から、第3図のようなポ
テンシャル状態の電荷の基板への掃き出しを行う状態に
なる。このため、高速転送期間L2中は、受光部4に電
荷が蓄積されることがなく、転送中に受光部4から過剰
な電荷が垂直レジスタに溢れ出て、白い縦筋を生ずるよ
うなブルーミングが未然に防止されることになる。高速
転送期間t、の終了後、基板電圧V subは元の電圧
に戻され、受光部4は再び蓄積状態になる。高速転送期
間t2の間に電荷の蓄積がない分だけ、感度が低下する
ことになるが、その率は数パーセントに過ぎない。
ンシャル状態の電荷の蓄積状態から、第3図のようなポ
テンシャル状態の電荷の基板への掃き出しを行う状態に
なる。このため、高速転送期間L2中は、受光部4に電
荷が蓄積されることがなく、転送中に受光部4から過剰
な電荷が垂直レジスタに溢れ出て、白い縦筋を生ずるよ
うなブルーミングが未然に防止されることになる。高速
転送期間t、の終了後、基板電圧V subは元の電圧
に戻され、受光部4は再び蓄積状態になる。高速転送期
間t2の間に電荷の蓄積がない分だけ、感度が低下する
ことになるが、その率は数パーセントに過ぎない。
このように本実施例のCCDは、垂直ブランキング期間
の高速転送中に、受光部4が電荷を蓄積しない状態にさ
れる。このため、ブルーミング現象の発生が未然に防止
され、白い縦筋などの欠陥の発生を抑えることができる
。
の高速転送中に、受光部4が電荷を蓄積しない状態にさ
れる。このため、ブルーミング現象の発生が未然に防止
され、白い縦筋などの欠陥の発生を抑えることができる
。
なお、本実施例のCCDでは、縦型オーバーフロードレ
インを動作させて、受光部に電荷を蓄積させない状態と
しているが、高速転送中に横型オーバーフロードレイン
を作動させても良(、受光部のポテンシャル井戸を深く
したり、読み出しゲートのバリアを高くするようにして
も良い。
インを動作させて、受光部に電荷を蓄積させない状態と
しているが、高速転送中に横型オーバーフロードレイン
を作動させても良(、受光部のポテンシャル井戸を深く
したり、読み出しゲートのバリアを高くするようにして
も良い。
(発明の効果)
本発明の固体撮像装置は、その高速転送中に、受光部が
電荷の蓄積されない状態にされるために、垂直転送部へ
電荷が漏れることがない。このためブルーミング現象が
未然に防止され、白い縦筋などの欠陥の発生を抑えるこ
とができる。
電荷の蓄積されない状態にされるために、垂直転送部へ
電荷が漏れることがない。このためブルーミング現象が
未然に防止され、白い縦筋などの欠陥の発生を抑えるこ
とができる。
第1図は本発明の固体措像装πの一例の動作を説明する
ためのタイミングチャート、第2図及び第3図は上記−
例についての第4図中のA、 B。 Cの各点に沿った各々ポテンシャル分布図であって、第
2図は電荷の蓄積状態を示し、第3図は電荷の掃き出し
状態を示す。第4図は上記−例の素子構造を示す要部断
面図、第5図は上記−例の全体の構成を示すブロック図
である。 1・・・CCD 2・・・1最像部 3・・・蓄積部 4・・・受光部 5・・・第1の垂直レジスタ部 6・・・第2の垂直レジスタ部 7・・・水平レジスタ部 T !LK・・・垂直ブランキング期間Tvo・・・映
像期間 V sub・・・基板電圧 特許出願人 ソニー株式会社 代理人弁理士 小泡 晃(他2名) 第3図 第4図
ためのタイミングチャート、第2図及び第3図は上記−
例についての第4図中のA、 B。 Cの各点に沿った各々ポテンシャル分布図であって、第
2図は電荷の蓄積状態を示し、第3図は電荷の掃き出し
状態を示す。第4図は上記−例の素子構造を示す要部断
面図、第5図は上記−例の全体の構成を示すブロック図
である。 1・・・CCD 2・・・1最像部 3・・・蓄積部 4・・・受光部 5・・・第1の垂直レジスタ部 6・・・第2の垂直レジスタ部 7・・・水平レジスタ部 T !LK・・・垂直ブランキング期間Tvo・・・映
像期間 V sub・・・基板電圧 特許出願人 ソニー株式会社 代理人弁理士 小泡 晃(他2名) 第3図 第4図
Claims (1)
- マトリクス状に配される複数の受光部に得られる信号電
荷を、上記受光部の垂直列に沿って設けられた垂直転送
部に読み出し、その垂直転送部から蓄積部へ上記信号電
荷を高速転送し、その蓄積部に一時蓄積された上記信号
電荷を1水平ライン毎に水平転送部を介して出力するよ
うにされる固体撮像装置であって、上記高速転送中に上
記各受光部を信号電荷が蓄積されない状態にすることを
特徴とする固体撮像装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1132168A JPH02309877A (ja) | 1989-05-25 | 1989-05-25 | 固体撮像装置 |
EP90109982A EP0399551B1 (en) | 1989-05-25 | 1990-05-25 | Method of Driving a CCD Imager of Frame Interline Transfer Type |
DE69030526T DE69030526T2 (de) | 1989-05-25 | 1990-05-25 | Verfahren zum Betreiben einer CCD-Bildaufnahmevorrichtung mit Zwischenzeilenrasterübertragung |
US08/185,231 US5426317A (en) | 1989-05-25 | 1994-01-21 | Frame interline transfer CCD imager |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1132168A JPH02309877A (ja) | 1989-05-25 | 1989-05-25 | 固体撮像装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02309877A true JPH02309877A (ja) | 1990-12-25 |
Family
ID=15074956
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1132168A Pending JPH02309877A (ja) | 1989-05-25 | 1989-05-25 | 固体撮像装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5426317A (ja) |
EP (1) | EP0399551B1 (ja) |
JP (1) | JPH02309877A (ja) |
DE (1) | DE69030526T2 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0601638B1 (en) * | 1992-12-09 | 2000-07-26 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Charge-coupled device |
BE1007803A3 (nl) * | 1993-11-26 | 1995-10-24 | Philips Electronics Nv | Beeldopneemapparaat. |
US5900654A (en) * | 1995-07-17 | 1999-05-04 | Spratt; James P. | Radiation hardened charge coupled device |
US5900769A (en) * | 1995-10-04 | 1999-05-04 | Nec Corporation | Two-dimensional CCD having storage cells for withdrawing charge packets from transfer channels during horizontal scan periods |
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US5872371A (en) * | 1997-02-27 | 1999-02-16 | Eastman Kodak Company | Active pixel sensor with punch-through reset and cross-talk suppression |
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US7834894B2 (en) | 2007-04-03 | 2010-11-16 | Lifetouch Inc. | Method and apparatus for background replacement in still photographs |
US8724003B2 (en) | 2012-08-14 | 2014-05-13 | Truesense Imaging, Inc. | Multimode interline CCD imaging methods |
US9979905B2 (en) | 2015-11-17 | 2018-05-22 | Microsoft Technology Licensing, Llc. | Multimode photosensor |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57104377A (en) * | 1980-12-19 | 1982-06-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Solid-state image pickup device |
JPS57162364A (en) * | 1981-03-30 | 1982-10-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Solid state image pickup device |
JPS5919480A (ja) * | 1982-07-26 | 1984-01-31 | Olympus Optical Co Ltd | 固体撮像装置 |
JPS5928772A (ja) * | 1982-08-11 | 1984-02-15 | Sony Corp | 固体撮像装置の駆動方法 |
FR2537812A1 (fr) * | 1982-12-10 | 1984-06-15 | Thomson Csf | Procede de reglage du niveau de signal dans un dispositif photosensible a transfert de charge et dispositif pour sa mise en oeuvre |
JPS6156583A (ja) * | 1984-08-27 | 1986-03-22 | Sharp Corp | 固体撮像装置 |
JPS6157181A (ja) * | 1984-08-28 | 1986-03-24 | Sharp Corp | 固体撮像装置 |
EP0178664B1 (en) * | 1984-10-18 | 1992-08-05 | Matsushita Electronics Corporation | Solid state image sensing device and method for making the same |
JPS62269357A (ja) * | 1986-05-19 | 1987-11-21 | Sony Corp | 固体撮像装置 |
WO1988000759A1 (en) * | 1986-07-24 | 1988-01-28 | Eastman Kodak Company | Electronic shutter for image sensor using photodiodes |
US4875100A (en) * | 1986-10-23 | 1989-10-17 | Sony Corporation | Electronic shutter for a CCD image sensor |
-
1989
- 1989-05-25 JP JP1132168A patent/JPH02309877A/ja active Pending
-
1990
- 1990-05-25 EP EP90109982A patent/EP0399551B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-05-25 DE DE69030526T patent/DE69030526T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-01-21 US US08/185,231 patent/US5426317A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69030526T2 (de) | 1997-08-07 |
US5426317A (en) | 1995-06-20 |
DE69030526D1 (de) | 1997-05-28 |
EP0399551B1 (en) | 1997-04-23 |
EP0399551A3 (en) | 1991-04-10 |
EP0399551A2 (en) | 1990-11-28 |
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