JPH02290256A - 再生可能なポリマー担持Pd(O)によるアリルエステル類の脱保護方法 - Google Patents

再生可能なポリマー担持Pd(O)によるアリルエステル類の脱保護方法

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JPH02290256A
JPH02290256A JP2044286A JP4428690A JPH02290256A JP H02290256 A JPH02290256 A JP H02290256A JP 2044286 A JP2044286 A JP 2044286A JP 4428690 A JP4428690 A JP 4428690A JP H02290256 A JPH02290256 A JP H02290256A
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デイヴイツド エム.チエーン
F Edward Roberts
エフ.エドワード ロバーツ
Thomas R Verhoeven
トマス アール.ヴアーホーヴエン
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 非常に様々な有機化合物、特に抗生物質及びオリゴペプ
チドの合成に際して保護基は,様々な中間工程における
側基の望ましくない反応を防止するために必要である。
保護基の有用性は、その除去に必要な条件の穏やかさに
依存している。
アリノレエステノレ,アリノレカーボネート、アリルカ
ルバメート及びシンナミルエステルのような選択保護基
は、パラジウム,特に配位ホスフィンリガンドを有する
有機可溶性パラジウム錯体により除去される。例えば、
米国特許第4,314,942号明細害;公開番号第1
 3,6 6 3号を有するその対応欧州特許出願;ト
ロス1−、B.M.ら、ジャーナル・オブ・アメリカン
・ケミカル・ソサエテイ,第100巻、第7779頁、
1978年[Trost, B.阿. et al.,
 Journal of AaaericanCheI
lical Society, 100. 7779 
(1978) ];及びジェフリー,P.D.ら、ジャ
ーナル・オブ・オーガニツク・ケミスh U−、第47
巻、第587頁.1982年[Jeffrey+ P.
D.et al., Journal of Orga
nic Chemistry,47,587 (198
2)コ参照。しかしながら、これらのパラジウムベース
脱保護基ではいずれもポリマー担持パラジウムの再生手
段とはならない。
したがって、本発明の目的は、アリルエステル、アリル
カーボネート、アリルカルバメート及びシンナミルエス
テルのパラジウムベース脱保護に際してパラジウムを実
質上再生させる方法及び手段を提供する。パラジウムが
再生できれば、様々な化合物、例えばセフォキシチン又
はイミペネムのような抗生物質の商業的生産に際して新
規バッチを繰返し使用する浪費を回避しうる。加えて、
脱保護化合物の収率低下も生じない。
更に、本発明の方法は、ポリマー担持 Pd(O)の形で、パラジウムの容易に取扱い可能な錯
体を提供する。これらの錯体は有機及び水性双方の環境
下で不溶性であるが、これは様々な化合物の合成に際し
て商業上有利な性質である。
本発明の方法は、多くが合成に際して不安定でかつ不活
化し易い様々な有機化合物を合成するための穏やかな条
件をも提供する。
本発明は、固相触媒で保護基を脱保護すると同時に触媒
を再生させる方法である6本方法は、1当量以上の求核
剤存在下において、1以上の保護基を有する化合物の約
1当量を触媒量のポリマー担持Pd (O)と反応させ
るワンステップ操作を包含する。本操作では、ポリマー
担持Pd  (O)の同時再生を達成する。
適切な保護基としては、アリルエステ ル、アリルカーボネ−1−、アリルカルバメート及びシ
ンナミルエステルがある。アリルエステルが好ましい。
ポリマー担持Pd (O)は、約30:1と約50=1
との間のモル対モル比におけるポリスチレン結合トリフ
ェニルホスフィン及びテトラキストリフェニルホスフィ
ンの錯体であることが好ましい。
適切な求核剤としては、1,3−シクロペンタンジオン
、2−メチル−1,3−シクロペンタンジオン,2−メ
チル−1,3−シクロヘキサンジオン,2−エチルヘキ
サン酸カリウム及びN−メチルモルホリンがある.1以
上の保護基を有する化合物は、セフォキシチン又はイミ
ペネムであることが好ましい。
ポリマー担持P d (O)の好ましい触媒量は保護基
の約30モル%と約0.25モル%との間、更に好まし
くは保護基の約10モル%と約5モル%との間である。
本発明の範囲には、保護基をポリマー担持Pd(O)で
脱保護し、しかる後該ポリマー担持Pd(O)を再生さ
せる方法も含まれ,この方法は下記工程からなる: (a)除去すべき1以上の保護基を有する、セフォキシ
チン又はイミペネムのような化合物の約1当量を用意し
、該化合物は有機非ヒドロキシル溶媒に溶解し、保護基
は好ましくはアリルエステル、アリルカーボネート、ア
リルカルバメート又はシンナミルエステルから選択され
,好ましくはアリルエステルであり; (b)約1当量の求核剤を添加し、該求核剤は好ましく
は1,3−シクロペンタンジオン、2−メチル−1.3
−シクロペンタンジオン、2−メチル−1.3−シクロ
ヘキサンジオン、2−エチルヘキサン酸カリウム及びN
−メチルモルホリンから選択されるものであり; (c)約1当量のポリマー担持P d (O)と混合し
て、脱保護化合物及び既反応担持Pd  (O) を得
; (d)好ましくは水性溶液を加え、混合し、既反応ポリ
マー担持Pd (O)を有機相から除去することによっ
て、既反応ポリマー担持Pd(O)を脱保護化合物から
分離し;さらに (e)水性溶液中において還元剤、好ましくはNaBH
.1当斌以上と反応させることにより既反応ポリマー担
持Pd(O)を再生する。
本明細書においては、保護基を固相触媒で脱保護すると
同時にこの触媒を再生させる方法を開示するが、この方
法は1当量以上の求核剤存在下において、1以上の保護
基を有する1当量の化合物を触媒量のポリマー担持pd
 (O)と反応させる一段操作からなり、上記保護基は
アリルエステル、アリルカーボネート、アリルカルバメ
ート及びシンナミルエステルからなる群より選択され、
上記操作ではポリマー担持Pd(O)を同時に再生する
本明細書はまた、実質上同様の効果がある第二の多段操
作をも開示する。保護基をポリマー担持Pd(O)で脱
保護し,しかる後ポリマー担持Pd(O)を再生させる
この方法は、下記工程からなる: (a)除去すべき1以上の保護基を有する化合物の1当
量を用意し、この化合物を有機非ヒドロキシル溶媒に溶
解し、上記保護基はアリルエステル、アリルカーボネー
ト、アリルカルバメート及びシンナミルエステルからな
る群より選択されるものであり: (b)約1当址の求核剤を添加し; (Q)約1当量のポリマー担持p d (O)と混合し
、脱保護化合物及び既反応ポリマー担持Pd(O)を得
; (d)既反応ポリマー担持Pd(O)を脱保護化合物か
ら分離し;さらに (e)水性溶液中において1当量以上の還元剤との反応
により反応したポリマー担持Pd (O)を再生する。
ポリマー担持Pd (O)は商業的に入手し得るが、テ
トラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)
とポリスチレン結合トリフェニルホスフィン又はスチレ
ンージビニルベンゼンコポリマーとの反応によっても容
易に製造され得る。脱保護目的用にポリマー担持Pd 
 (O)を爬造するこれらの及び他の適切な方法は、ト
ロスI〜.B.M. 等、ジャーナル・オブ・アメリカ
ン・ケミカル・ソサエティ(J , Am. Chem
. Sac. )第100巻、第7779頁、1978
年及びキャプカ,M.等、コレクション・オブ・クゼチ
ョス口バク・ケミカル・コミュニケーションズ、第38
巻、第1242頁、1973年[Capka,M.et
al。Collection of Czechosl
ovakChemical Co+mmunicati
ons,  3 8 . 12 4 2(1 9 7 
3)コでみることができる,好ましいポリマー担持Pd
(O)はテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジ
ウム(O)をポリスチレン結合トリフェニルホスフィン
と反応させて得られるが,本生成物は以下において場合
によりp−pd (O)と呼ぶこととする。
実施例 1 ポリマー担持パラジウムの製造 A.第一方法 トロストら、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル
・ソサエティ,第100巻、第7779頁、1978年
の方法に従い、ベンゼン50ml2中でポリスチレン結
合トリフエニルホスフィン[フル力(Fluka) 1
 1 0 g及びテトラキス(トリフェニルホスフィン
)パラジウム(O)[アルドリッチ(Aldrich)
コ0.5gを4時間還流した。混合物を室温まで冷却し
、p過し、脱気ジクロ口メタン300mQで洗浄した。
触媒を減圧乾燥した。原子吸光スペクトル分析では、P
d  O.69モル%及びホスフェート9,5モル%を
示した。
B−エ二方盟 ポリスチレン結合トリフェニルホスフィン(フル力、5
00mg)を脱酸素化ベンゼン15mQ中にいれた。次
いで,テトラキストリフェニルホスフィン(アルドリッ
チ)100mgを加えた。3.5時間還流後,樹脂を勺
戸過し、しかる後脱酸素化塩化メチレン3 5 m Q
で洗浄し,減圧乾燥させた。収喰:橙赤色樹}j旨52
0mg。母液を減圧濃縮し、灰白色固体9 0 m g
を得た。
実施例2 イミペネムアリルエステルの触媒脱保護0H C02− N一エチルピロリジノンa m Q中化合物10.2g
 (O.4mmoQ)の溶液に−30℃でジイソプ口ピ
ルエチルアミン0 . 0 9 m Q(O.49mm
oQ)を加えた.N一エチルピロリジノン3ml2中塩
酸システアミン0.0 5 1g (O.045m,m
oQ)の溶液を(15分間かけて)滴下し,混合物を−
30℃で更に1.25時間撹拌した。反応混合物を−1
0℃に加温し、ジイソプ口ビルエチルアミン0.09m
Q(O.47mmoQ)を塩酸ペンジルホルムイミデー
ト0.089g (O.047mmoQ)と共に加えた
。−10℃で1時間後、ジクロ口メタン8IIIQ、水
8ml2、2−メチル=1,3−シクロヘキサンジオン
0.0 6 2 g(O.049mmoQ)及びポリマ
ー担持パラジウムP−Pd (O)0.250gを加え
た。
1時間後液体クロマトグラフィーによる分析では,エス
テルの残留を示さない。混合物をp過し、樹脂を水5 
0 m Qで洗浄した。各相雫Q :lt:cy.トグ
ラフイーアッセイでは化合物Iのイミペネムの収率63
%(エノールホスフェートに対して)を示した。
ポリマー担持パラジウムに代えてテトラキストリフェニ
ルホスフィンパラジウムを用いた場合、全体収率69%
である。
セフォキシチンアリルエステルの触媒 保護セフォキシ
チンのリチウム塩及び臭化アリルを混合することにより
セフオキシチンアリルエステルを形成した.ジクロロメ
タン5mQ中セフォキシチンアリルエステル30.1 
g (O.2mmo Q)の溶液に2−メチル−1.3
−シクロヘキサンジオン0.0 3 2g (O.25
 mmol2)及び水5lIQを加えた。
pHをIM炭酸水素ナトリウムで6.25に調製し、ポ
リマー担持パラジウム(O.330g)を加えた。15
分後、液体クロマトグラフィー分析ではエステルの残留
を示さなかったため、混合物をも戸過した。水相を分離
し,ジクロ口メタンで洗浄した。水相の液体クロマトグ
ラフィーアッセイでは、セフォキシチン4の収率83%
を示した. H20/THF中過剰(10当量)の水素化ホウ素ナト
リウムでの処理により再生させる。
実施例3の操作を繰返すが、但しP一 Pd (O)3.30g (1当量)を0.330gの
代りに用いる。反応したP−Pd (O)をH20/T
HF中過剰(10当量)の水素化ホウ素ナトリウムでの
処理により再生させる。
アリルカルバメートの触媒脱保護 実施例2の操作を繰返すが,但しP− Pd (O)4.90g (1当量)を0.250gの
代りに用いる。反応したP−Pd (O)をA. 二重
保護体5(96mκ,0.24mmoQ)をCH,CQ
.5mQ及び0.5M塩酸N−メチルモルホリン5 m
 Q ( p H 6 . 8 5 )に溶解した。P
d  (PPh,)+  280mg(O.24mmo
Q)を加え、20分間後280mgを追加した。反応液
を室温で1時間撹拌した。得られた黄色沈澱物をt戸過
し、0.5M塩#N−メチルモルホリン50ml2(p
H6.85)で洗浄し、化合物6を得た。液体グロマト
グラフィーによる収率25%。
B. 上記実施例6Aの操作を繰り返すが、但しP−P
d(O)4 80mgをpd( p Phi)+の代り
に用いる.5の双方のアリル基において触媒脱保護が生
じる。
前記明細書は説明目的の実施例と共に本発明の原理につ
いて示しているが.本発明の実施は本明細書で記載され
た操作及びプロトコールの通常のバリエーシ目ン、改変
、修正、削除又は付加のすべてを包含しており、これら
も特許請求の範囲内に属する。
手続ネ市↑F .−HjL (+) 別紙の通り 明細古1通を提出致します。
モ或2年5月221−1

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、保護基を固相触媒で脱保護すると同 時に該触媒を再生させる方法であって、 1当量以上の求核剤存在下において、1以 上の保護基を有する約1当量の化合物を触 媒量のポリマー担持Pd(O)と反応させる一段操作か
    らなり、上記保護基はアリルエステル、アリルカーボネ
    ート、アリルカルバメート及びシンナミルエステルから
    なる群よ り選択され、上記操作により同時にポリマー担持Pd(
    O)を再生することを特徴とする方法。 2、ポリマー担体Pd(O)が約30: 1〜約50:1のモル対モル比におけるポリスチレン結
    合トリフェニルホスフィン及びテトラキストリフェニル
    ホスフィンの錯体である、請求項1記載の方法。 3、求核剤が1,3−シクロペンタンジ オン、2−メチル−1,3−シクロペンタンジオン、2
    −メチル−1,3−シクロヘキサンジオン、2−エチル
    ヘキサン酸カリウム及びN−メチルモルホリンからなる
    群より選択される、請求項1記載の方法。 4、触媒量のポリマー担持Pd(O)が保 護基の約30〜約0.25モル%である、請求項1記載
    の方法。 5、触媒量のポリマー担持Pd(O)が保 護基の約10〜約5モル%である、請求項1記載の方法
    。 6、保護基がアリスエステルである、請 求項1記載の方法。 7、化合物がセフォキシチンである、請 求項1記載の方法。 8、化合物がイミペネムである、請求項 1記載の方法。 9、保護基をポリマー担持Pd(O)で脱 保護し、しかる後、該ポリマー担持Pd(O)を再生さ
    せる方法であって、 (a)除去すべき1以上の保護基を有する 1当量の化合物を用意し、該化合物を有機非ヒドロキシ
    ル溶媒に溶解させ、上記保護基はアリルエステル、アリ
    ルカーボネート、アリルカルバメート及びシンナミルエ
    ステルからなる群より選択されるものであり; (b)約1当量の求核剤を添加し; (c)約1当量のポリマー担持Pd(O)と混合して、
    脱保護化合物及び既反応ポリマー担持Pd(O)を生成
    せしめ; (d)既反応ポリマー担持Pd(O)を脱 保護化合物から分離し;さらに (e)水性溶液中において1当量以上の還 元剤と反応させることにより既反応ポリマー担持Pd(
    O)を再生する; 工程からなることを特徴とする方法。 10、保護基がアリスエステルである、請 求項9記載の方法。 11、求核剤が1,3−シクロペンタンジ オン、2−メチル−1,3−シクロペンタンジオン、2
    −メチル−1,3−シクロヘキサンジオン、2−エチル
    ヘキサン酸カリウム及びN−メチルモルホリンからなる
    群より選択される、請求項9記載の方法。 12、工程(e)の還元剤がNaBH_4である、請求
    項9記載の方法。 13、工程(d)が水性溶液を添加し、混 合し、既反応ポリマー担持Pd(O)を有機相から除去
    することにより行なわれる、請求項9記載の方法。 14、化合物がセフォキシチンである、請 求項9記載の方法。 15、化合物がイミペネムである、請求項 9記載の方法。
JP2044286A 1989-02-23 1990-02-23 再生可能なポリマー担持Pd(O)によるアリルエステル類の脱保護方法 Pending JPH02290256A (ja)

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