JPH06220054A - カルボキシル基保護基の除去方法 - Google Patents
カルボキシル基保護基の除去方法Info
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- JPH06220054A JPH06220054A JP5138722A JP13872293A JPH06220054A JP H06220054 A JPH06220054 A JP H06220054A JP 5138722 A JP5138722 A JP 5138722A JP 13872293 A JP13872293 A JP 13872293A JP H06220054 A JPH06220054 A JP H06220054A
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
ルボキシル基を有するβ−ラクタム化合物を、含水有機
溶媒中、アリル基捕捉剤の存在下、パラジウム触媒で処
理することにより置換もしくは非置換アリル基を除去す
る方法。 【効果】 置換もしくは非置換アリル基を緩和な条件下
で効率よく除去できるため、目的化合物を高収率でかつ
容易に得ることができる。
Description
新規除去方法に関する。
クタム化合物は、優れた抗菌作用を有する抗菌剤又はそ
の中間体として有用な化合物である。このような抗菌剤
としては、例えばペネム系抗菌剤(特公平3−396
号、特開昭55−105686号、特開昭60−589
87号)、カルバペネム系抗菌剤(特開昭60−202
886号、特開昭61−5081号、特開昭60−23
3077号、特開昭55−69586号、欧州公開特許
第474243号)、オキサペネム系抗菌剤(特開昭5
8−103358号)、セフェム系抗菌剤(特開昭62
−277389号)、カルバセフェム系抗菌剤(米国特
許第4174316号)等の各種β−ラクタム系抗菌剤
が知られている。
ては、カルボキシル基が保護された中間体を用いて反応
を進行させる場合が多く、このような目的で用いるカル
ボキシル基の保護基としては、アリル基、3−メチルア
リル基、3−フェニルアリル基等の置換もしくは非置換
アリル基が知られている。
しては、例えば、酢酸エチル−塩化メチレン混合溶媒
中、2−エチルヘキサン酸カリウム塩の存在下、テトラ
キス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)で処
理する方法〔ジャーナル・オブ・オルガニック・ケミス
トリー(Jounal of Organic Che
mistry)、1982年、第47巻、第587〜5
90頁〕、酢酸エチル−塩化メチレン混合溶媒中、2
−エチルヘキサン酸ナトリウム塩の存在下、パラジウム
ジアセタート及びトリエチルホスファイトで処理する方
法〔ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー
(Jounal of Medicinal Chem
istry)、1990年、第33巻、第77〜86
頁〕等が知られている。
安定な構造を有する化合物から上記の如き置換もしくは
非置換アリル基を除去する場合、従来法では、目的物が
分解したり、あるいは除去が不完全であったりするため
収率が低く、さらに触媒サイクルが悪く、多量の触媒を
必要とする等の難点があり、改良が望まれていた。
ル基保護基の新規除去方法を提供するものである。さら
に詳しくは、置換もしくは非置換アリル基で保護された
カルボキシル基を有する化合物が、例えば、β−ラクタ
ム化合物等の不安定な構造を有する化合物である場合で
も、目的物の分解を伴うことなく、保護基の除去を効率
よく行うことができるカルボキシル基保護基の新規除去
方法を提供するものである。
しくは非置換アリル基で保護されたカルボキシル基を有
するβ−ラクタム化合物からの保護基の除去は、含水有
機溶媒中、アリル基捕捉剤の存在下、パラジウム触媒で
処理することにより実施できる。本反応で用いる含水有
機溶媒中の有機溶媒としては、反応に不活性でありかつ
水と混合する有機溶媒であればいずれも使用でき、とり
わけ、極性有機溶媒が好ましい。極性溶媒としては、例
えば、低級アルカノール、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
アセトニトリル、アセトン、ヘキサメチルホスホリック
トリアミド(HMPA)等があげられ、とりわけエタノ
ール、テトラヒドロフラン及びジオキサンが好ましい。
5%〜50%、とりわけ10%〜20%であるのが好ま
しい。
錯体であれば、いずれも用いることができ、例えば、テ
トラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム
(0)、ジ〔1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エ
タン〕パラジウム(0)、ビス(ジベンジリデンアセト
ン)パラジウム(0)等があげられ、とりわけテトラキ
ス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)が好ま
しい。
ホスフィン類とから0価パラジウム錯体を生成させて、
本反応に用いることもできる。2価パラジウム化合物と
しては、例えば、パラジウムジアセタートの如きパラジ
ウムジ低級アルカナートやパラジウムジクロリドの如き
パラジウムジハライドがあげられ、ホスフィン類として
は、例えば、トリメチルホスファイト、トリエチルホス
ファイトの如きトリ低級アルキルホスファイトやトリフ
ェニルホスフィンがあげられ、とりわけパラジウムジ低
級アルカナートとトリ低級アルキルホスファイトとの組
合せが好ましい。
9180号等に記載の既知アリル基捕捉剤をいずれも用
いることができ、例えば、ジメドン、1,3−シクロヘ
キサジオン等の脂環式β−ジカルボニル化合物;アセチ
ルアセトン、エチルアセトアセタート等の脂肪族β−ジ
カルボニル化合物;N−低級アルキルアニリン、アニリ
ン等の芳香族アミン;酢酸、プロピオン酸、2−エチル
ヘキサン酸等の炭素数2〜9のアルカン酸及びそのアル
カリ金属塩;ジメチルアミン、ジエチルアミン等のジ低
級アルキルアミン等があげられ、とりわけ脂環式β−ジ
カルボニル化合物、脂肪族β−ジカルボニル化合物及び
芳香族アミンが好ましい。また該アリル基捕捉剤は、非
置換アリル基のみならず、置換アリル基にも同様に用い
ることができる。
機溶媒として、エタノールと水との混合溶媒、テトラヒ
ドロフランと水との混合溶媒又はジオキサンと水との混
合溶媒を用い、パラジウム触媒としてテトラキス(トリ
フェニルホスフィン)パラジウム(0)又はパラジウム
ジアセタートとトリエチルホスファイトとから反応系中
で生成させた0価パラジウム錯体を用い、かつアリル基
捕捉剤としてジメドンを用いることにより実施すること
ができる。
30℃〜100℃、とりわけ20℃〜40℃で好適に実
施できる。
うのが好ましく、このような塩基としては、例えば、炭
酸水素アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、水酸化アルカ
リ金属、水素化アルカリ金属等のアルカリ金属化合物あ
るいは有機アミン等があげられる。これら塩基は、通常
原料化合物に対し0.1〜10当量、とりわけ1〜4当
量であるのが好ましい。また塩基の使用量は、一般的
に、β−ラクタム環が開裂しないような条件、即ち、反
応系をpH5〜9、とりわけpH6〜8に保ちうる量と
するのが好ましい。
ル基としては、例えば、式:−CH2 −CH=CHR
0(式中、R0 は水素原子、低級アルキル基又はアリール
基を表す。)で示される化合物があげられ、より具体的
には、例えば、アリル基、3−メチルアリル基、3−フ
ェニルアリル基等があげられる。
れたカルボキシル基を有するβ−ラクタム化合物として
は、従来公知のβ−ラクタム化合物等であればいずれも
用いることができ、例えば、式
を表す。)で示される部分構造を有する化合物があげら
れ、とりわけ、一般式〔I〕
基、R1 及びR2 はそれぞれ独立して有機基を表し、X
は式:−CH2 CH2 −、−S−CH2 −、−O−CH
2 −、−CH2 −、−CH(R3 )−、−S−または−
O−で示される基を表し、R3 は低級アルキル基、Yは
硫黄原子、酸素原子又は単結合手を表す。)で示される
化合物があげられる。さらに好ましい置換もしくは非置
換アリル基で保護されたカルボキシル基を有するβ−ラ
クタム化合物は、一般式〔II〕
基、R4 は水素原子又は水酸基の保護基、R5 は水素原
子又は低級アルキル基を表す。)で示される化合物であ
る。
ば、抗菌剤又はそのプロドラッグあるいはそれらの合成
中間体として有用な化合物である。
機基としては、既知β−ラクタム系抗菌剤で使用されて
いる基をいずれも用いることができる。かかる基の例と
しては、例えば、水素原子、アミノ基、アジド基、メル
カプト基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級ア
ルキルチオ基、アリール基(例えば、フェニル基、ナフ
チル基等)、複素環式基(例えば、ピロリジニル基、ピ
ペリジル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリニル
基、ピリジル基等)等置換カルボニル基、複素環式基
(例えば、ピロリジニル基、ピペリジル基、フリル基、
チエニル基、イミダゾリニル基、ピリジル基等)等置換
低級アルカノイル基があげられる。さらにこれらの基は
1以上の置換基を有していてもよく、このような置換基
としては、例えば、アミノ基、水酸基、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、低級アルカノイル基、低級アル
カノイルアミノ基、低級アルコキシ低級アルカノイル
基、メルカプト基、低級アルキルチオ基、アラルキル
基、アラルキルオキシカルボニル基、複素環式基(例え
ば、テトラヒドロピラニル基等)、複素環式基(例え
ば、チエニル基等)置換低級アルカノイル基等があげら
れる。
と同様に、既知β−ラクタム系抗菌剤で使用されている
基をいずれも用いることができる。かかる基の例として
は、例えば、低級アルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基(例えば、フェニル基等)、異項原子として窒
素、酸素または硫黄原子を少なくとも1個含有する複素
環式基(例えば、ピロリジニル基、ピペリジル基、フリ
ル基、チエニル基、イミダゾリニル基、ピリジル基等)
等があげられる。さらにこれらの基は1以上の置換基を
有していてもよく、このような置換基としては、例え
ば、水酸基、低級アルキル基、アミノ低級アルキル基、
低級アルコキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、
メルカプト基、低級アルキルチオ基、アミジノ基、グア
ニジノ基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、スル
ファモイル基、カルバモイルオキシ基、シアノ基、カル
ボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカ
ノイルオキシ基、アラルキルオキシカルボニル基、オキ
ソ基、チオキソ基、ハロゲノ基、シクロアルキル基、ア
リール基(例えば、フェニル基等)、複素環式基(例え
ば、ピロリジニル基、ピペリジル基、フリル基、チエニ
ル基、イミダゾリニル基、ピリジル基等)等があげられ
る。
基は保護基で保護されていてもよい。保護基としては、
慣用の保護基をいずれも好適に用いることができる。
例えば、低級アルコキシカルボニル基、ハロゲノ低級ア
ルコキシカルボニル基、置換もしくは非置換フェニル低
級アルキル基(例えば、ニトロ基又は低級アルコキシ基
で置換されていてもよいベンジル基)、トリ低級アルキ
ルシリル基、トリ(置換もしくは非置換フェニル)シリ
ル基、置換もしくは非置換フェニル低級アルコキシカル
ボニル基(例えば、ニトロ基又は低級アルコキシ基で置
換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基)等が
あげられる。
ルコキシ基及び低級アルカノールとしては、炭素数1〜
6、とりわけ炭素数1〜4のものがあげられ、低級アル
カノイル基としては、炭素数2〜7、とりわけ炭素数2
〜5のものがあげられ、シクロアルキル基としては、炭
素数3〜8、とりわけ炭素数3〜6のものがあげられ、
低級アルカナートとしては、低級アルカノイル基部分
が、炭素数2〜7、とりわけ炭素数2〜5のものがあげ
られる。
ドン0.84g及びテトラヒドロフラン80mlの混合
物を5分間超音波処理後、その混合物中に窒素気流下、
パラジウムジアセタート0.11g及びトリエチルホス
ファイト0.58gを加え、3分間かくはんする。さら
に、(1R,5S,6S)−2−〔(4R)−ピロリジ
ン−2−チオン−4−イルチオ〕−6−〔(1R)−1
−ヒドロキシエチル〕−1−メチルカルバペン−2−エ
ム−3−カルボン酸アリルエステル3.83gを加え、
35〜37℃で45分間かくはんする。その後、5℃で
30分間かくはんし、析出晶をろ取し、テトラヒドロフ
ランで洗浄後、減圧下乾燥して、(1R,5S,6S)
−2−〔(4R)−ピロリジン−2−チオン−4−イル
チオ〕−6−〔(1R)−1−ヒドロキシエチル〕−1
−メチルカルバペン−2−エム−3−カルボン酸ナトリ
ウム塩3.28gを得る。
z),1.31(3H,d,J=6Hz),2.87〜
3.07(1H,m),3.20〜3.60(3H,
m),3.55〜3.72(1H,m),4.05〜
4.35(4H,m)。
2−チオン−4−イルチオ〕−6−〔(1R)−1−ヒ
ドロキシエチル〕−1−メチルカルバペン−2−エム−
3−カルボン酸アリルエステル400mgをテトラヒド
ロフラン16mlに溶解し、その混合物中に炭酸水素カ
リウム105mgの水4ml溶液及びジメドン660m
gを加えた後、窒素気流下、テトラキス(トリフェニル
ホスフィン)パラジウム(0)42mgを加え、25℃
で30分間暗所でかくはんする。
を加えて、塩化メチレンで洗浄する。
gでろ過した後、洗浄し、洗液と先に得た水層とを合わ
せてクロロホルムで2回洗浄する。得られた水溶液を減
圧下濃縮して溶存有機溶媒を除去後、凍結乾燥して、
(1R,5S,6S)−2−〔(4R)−ピロリジン−
2−チオン−4−イルチオ〕−6−〔(1R)−1−ヒ
ドロキシエチル〕−1−メチルカルバペン−2−エム−
3−カルボン酸カリウム塩328mgを得る。
(3H,d),2.94(1H,dd),3.28〜
3.67(4H,m),4.06〜4.27(4H,
m)。
84mgを加え、超音波処理して溶解させた後に、エタ
ノール8mlを加え、5分間超音波処理する。
タート11mg、トリエチルホスファイト0.06ml
及び(1R,5S,6S)−2−〔(4R)−ピロリジ
ン−2−チオン−4−イルチオ〕−6−〔(1R)−1
−ヒドロキシエチル〕−1−メチルカルバペン−2−エ
ム−3−カルボン酸アリルエステル383mgを加え、
35〜38℃で1時間かくはんする。さらに20℃で1
0分間、5℃で20分間かくはん後、析出晶をろ取し、
(1R,5S,6S)−2−〔(4R)−ピロリジン−
2−チオン−4−イルチオ〕−6−〔(1R)−1−ヒ
ドロキシエチル〕−1−メチルカルバペン−2−エム−
3−カルボン酸ナトリウム塩157mgを得る。母液を
減圧下濃縮してエタノールを留去後、水20mlを加
え、クロロホルム20mlで5回洗浄する。水層を凍結
乾燥して、上記ナトリウム塩168mgをさらに得る。
一致した。
ン169mgを加え、超音波処理して溶解させた後、窒
素気流下、ジオキサン16ml、パラジウムジアセター
ト23mg及びトリエチルホスファイト0.12mlを
加え、次いで(1R,5S,6S)−2−〔(4R)−
ピロリジン−2−チオン−4−イルチオ〕−6−〔(1
R)−1−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−
1−メチルカルバペン−2−エム−3−カルボン酸アリ
ルエステル1.03gを加え、30℃で30分間かくは
んする。反応液中にエーテル32mlを加え、25℃で
15分間、5℃で30分間かくはん後、析出晶をろ取
し、エーテル洗浄後、25℃で17時間減圧乾燥して
(1R,5S,6S)−2−〔(4R)−ピロリジン−
2−チオン−4−イルチオ〕−6−〔(1R)−1−t
−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−1−メチルカ
ルバペン−2−エム−3−カルボン酸ナトリウム塩88
5mgを得る。
により置換もしくは非置換アリル基(−CH2 CH=C
HR0 )が除去された対応化合物を得る。
ことによりアリル基が除去された対応化合物を得る。
ルジメチルシリルオキシエチル〕−4−〔(1R)−1
−カルボキシエチル〕−2−アゼチジノン10g及びア
セトニトリル50mlの混合物に、4−ジメチルアミノ
ピリジン400mg、t−ブチルメルカプタン5.98
g、1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド8.22
gを−5℃で加える。室温で17時間攪拌後、不溶物を
ろ去し、ろ液を減圧濃縮する。残査に酢酸エチルを加
え、洗浄、乾燥後、減圧濃縮する。
ーで精製することにより、(3S,4S)−3−〔(1
R)−1−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−
4−〔(1R)−1−t−ブチルチオカルボニルエチ
ル〕−2−アゼチジノン11.7gを得る。
g、ブロモ酢酸アリルエステル169mg及びテトラヒ
ドロフラン1mlの混合物に、1Mソジウムビス(トリ
メチルシリル)アミド0.94ml(テトラヒドロフラ
ン溶液)を−65℃〜−60℃で滴下し、−30℃まで
昇温する。反応液を水中に注入し、生成物をジエチルエ
ーテルで抽出し、有機層を洗浄、乾燥後、減圧濃縮す
る。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
することにより、(3S,4S)−3−〔(1R)−1
−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−4−
〔(1R)−1−t−ブチルチオカルボニルエチル〕−
1−(アリルオキシカルボニルメチル)−2−アゼチジ
ノン538mgを得る。
トラヒドロフラン6mlの混合物に、1Mソジウムビス
(トリメチルシリル)アミド4.24ml(テトラヒド
ロフラン溶液)を−40℃〜−30℃で加える。−30
℃で5分間攪拌後、トリメチルクロロシラン230mg
を−60℃で加える。5分間攪拌後、ジフェニルホスホ
リルクロリド598mgを加える。0℃で1時間攪拌
後、反応液をリン酸バッファー(pH7.0)中に注入
し、生成物を酢酸エチルで抽出する。得られた有機層を
洗浄、乾燥後、減圧濃縮し、残査を逆相ローバーカラム
(RP−8、E.メルク社製)(溶媒;アセトニトリ
ル:水=3:1)で精製することにより、(1R,5
R,6S)−6−〔(1R)−1−t−ブチルジメチル
シリルオキシエチル〕−1−メチル−2−ジフェニルホ
スホリルオキシ−カルバペン−2−エム−3−カルボン
酸アリルエステル1.1gを油状物として得る。
及びアセトニトリル0.5mlの混合物に、(4R)−
4−メルカプトピロリジン−2−チオン22mg及びジ
イソプロピルエチルアミン21mgを0℃で加える。0
℃で1時間攪拌後、反応液をリン酸バッファー(pH
7.0)中に注入し、生成物を酢酸エチルで抽出する。
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒;n−
ヘキサン:クロロホルム:酢酸エチル=5:5:4)で
精製することにより、(1R,5S,6S)−2−
〔(4R)−ピロリジン−2−チオン−4−イルチオ〕
−6−〔(1R)−1−t−ブチルジメチルシリルオキ
シエチル〕−1−メチルカルバペン−2−エム−3−カ
ルボン酸アリルエステル57mgを得る。
テトラヒドロフラン0.5ml及び酢酸6.0mgの混
合物に、1Mテトラ−n−ブチルアンモニウムフルオリ
ドのテトラヒドロフラン溶液0.35mlを氷冷下で加
え、室温で2時間攪拌する。
後、減圧濃縮する。残査をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(溶媒;クロロホルム:エタノール=20:
1)で精製することにより、(1R,5S,6S)−2
−〔(4R)−ピロリジン−2−チオン−4−イルチ
オ〕−6−〔(1R)−1−ヒドロキシエチル〕−1−
メチルカルバペン−2−エム−3−カルボン酸アリルエ
ステル13mgを得る。
リル基で保護されたカルボキシル基を有する化合物が、
例えば、β−ラクタム化合物等の不安定な構造を有する
化合物である場合でも、置換もしくは非置換アリル基を
緩和な条件下で効率よく除去できるため、当該化合物を
分解することなく目的物を高収率でかつ容易に得ること
ができる。従って、本発明方法は、置換もしくは非置換
アリル基の除去法として、工業的に有利な方法である。
Claims (13)
- 【請求項1】 置換もしくは非置換アリル基で保護され
たカルボキシル基を有するβ−ラクタム化合物を、含水
有機溶媒中、アリル基捕捉剤の存在下、パラジウム触媒
で処理して、置換もしくは非置換アリル基を除去するこ
とを特徴とするカルボキシル基保護基の除去方法。 - 【請求項2】 置換もしくは非置換アリル基で保護され
たカルボキシル基を有するβ−ラクタム化合物が、式 【化1】 (式中、Rは置換もしくは非置換アリル基を表す。)で
示される部分構造を有する化合物である請求項1記載の
方法。 - 【請求項3】 置換もしくは非置換アリル基で保護され
たカルボキシル基を有するβ−ラクタム化合物が、一般
式〔I〕 【化2】 (式中、Rは置換もしくは非置換アリル基、R1 及びR
2 はそれぞれ独立して有機基を表し、Xは式:−CH2
CH2 −、−S−CH2 −、−O−CH2 −、−CH2
−、−CH(R3 )−、−S−または−O−で示される
基を表し、R3 は低級アルキル基、Yは硫黄原子、酸素
原子又は単結合手を表す。)で示される化合物である請
求項1記載の方法。 - 【請求項4】 置換もしくは非置換アリル基で保護され
たカルボキシル基を有するβ−ラクタム化合物が、一般
式〔II〕 【化3】 (式中、Rは置換もしくは非置換アリル基、R4 は水素
原子又は水酸基の保護基、R5 は水素原子又は低級アル
キル基を表す。)で示される化合物である請求項1記載
の方法。 - 【請求項5】 R4 が水素原子又はt−ブチルジメチル
シリル基であり、R5 が水素原子である請求項4記載の
方法。 - 【請求項6】 置換もしくは非置換アリル基が、式:−
CH2 −CH=CHR0 (式中、R0 は水素原子、低級アルキル基又はアリール
基を表す。)で示される化合物である請求項1〜5記載
の方法。 - 【請求項7】 含水有機溶媒が極性有機溶媒と水との混
合溶媒である請求項6記載の方法。 - 【請求項8】 パラジウム触媒が0価パラジウム錯体で
ある請求項7記載の方法。 - 【請求項9】 0価パラジウム錯体が2価パラジウム化
合物とホスフィン類とから反応系中で生成させた0価パ
ラジウム錯体である請求項8記載の方法。 - 【請求項10】 アリル基捕捉剤が脂環式もしくは脂肪
族β−ジカルボニル化合物又は芳香族アミンである請求
項8記載の方法。 - 【請求項11】 パラジウム触媒がテトラキス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム(0)又はパラジウムジ
アセタートとトリエチルホスファイトとから反応系中で
生成させた0価パラジウム錯体であり、アリル基捕捉剤
がジメドンである請求項7記載の方法。 - 【請求項12】 含水有機溶媒がエタノールと水との混
合溶媒、テトラヒドロフランと水との混合溶媒又はジオ
キサンと水との混合溶媒である請求項11記載の方法。 - 【請求項13】 反応を塩基の存在下に行う請求項12
記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5621084A (en) * | 1994-04-05 | 1997-04-15 | Pfizer Inc. | Process for removal of allyl group or allyloxycarbonyl group |
WO2001040228A1 (fr) * | 1999-12-03 | 2001-06-07 | Kyoto Pharmaceutical Industries, Ltd. | Composes de carbapenem, leur utilisation et leurs intermediaires |
JP2011121941A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Dic Corp | カルボン酸の製造方法及び中間体であるカルボン酸アリルエステル |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS61286331A (ja) * | 1985-06-07 | 1986-12-16 | ブリストル―マイアーズ スクイブ コムパニー | 第4級カルバペネム誘導体の製造方法 |
JPS6261984A (ja) * | 1985-09-11 | 1987-03-18 | チバ−ガイギ− アクチエンゲゼルシヤフト | β−ラクタム化合物の製法 |
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JPH03130293A (ja) * | 1989-07-26 | 1991-06-04 | Suntory Ltd | アリル基の除去方法 |
-
1993
- 1993-06-10 JP JP5138722A patent/JP2847693B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
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