JPH0228178A - 新規なピリドンカルボン酸誘導体およびその塩並びにそれらの製造法 - Google Patents

新規なピリドンカルボン酸誘導体およびその塩並びにそれらの製造法

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JPH0228178A
JPH0228178A JP1075873A JP7587389A JPH0228178A JP H0228178 A JPH0228178 A JP H0228178A JP 1075873 A JP1075873 A JP 1075873A JP 7587389 A JP7587389 A JP 7587389A JP H0228178 A JPH0228178 A JP H0228178A
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    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、一般式 [式中、R1は水素原子またはカルボキシル保護基を:
R2は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、保護さ
れていてもよいヒドロキシル基、保護されていてもよい
アミノ基、保護されていてもよい低級アルキルアミノ基
またはジー低級アルキルアミノ基を;R3は水素原子、
低級アルキル基、保護されていてもよいアミノ基、保護
されていてもよい低級アルキルアミノ基、ジー低級アル
キルアミノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、
保護されていてもよいアミノ低級アルキル基、保護され
ていてもよい低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジー
低級アルキルアミノ低級アルキル基および保護されてい
てもよいヒドロキシ低級アルキル基から選ばれる1つ以
上の基を;R4は水素原子、低級アルキル基、ハロゲノ
低級アルキル基、保護されていでもよいヒドロキシ低級
アルキル基、低級アルキリデン基およびR4が結合する
炭素原子とともにシクロアルカン環を形成する基から選
ばれる1つ以上の基を;Xはハロゲン原子を;およびA
は駿素原子もしくは硫黄原子または低級アルキル基で置
換されていてもよいイミノ基を示す。」 で表わされる新規なピリドンカルボン酸誘導体およびそ
の塩に関する。
本発明の目的は、グラム陰性菌およびグラム陰性菌、と
りわけ抗生物質耐性菌に対して強力な抗菌作用を発運す
るとともに、経口的または非経口的投与により高い血中
濃度が得られ、かつ安全性が高いなどの優れた性質を有
する一般式[I]で表わされる新規な化合物およびその
塩を提供することにある。
[従来の技術] 従来、ピリドベンゾオキサジン系合成抗菌剤としてオフ
ロキサシンが広く臨床で用いられているが、抗菌力にお
いていまだ不十分な面が見られる。
その中で、とりわけ難治性である緑膿菌感染症の治療に
対する効果は満足すべきものではない。
[発明が解決しようとする課題] そのため、緑膿菌を含むグラム陰性菌のみならずグラム
陰性菌に対しても有効で広範囲の抗菌スペクトルを有す
ると同時に、溶解性に優れ、高い血中濃度を示し、かつ
中枢系への作用のないなど安全性の高い合成抗菌剤の開
発が望まれていた。
[課題を解決するための手段] このような状況下において、本発明者らは鋭意研究を行
った結果、−数式[I]のピリドンカルボン[導体およ
びその塩が、上記の目的を達成することを見出し、本発
明を完成するに至った。
なお、本明細書において特にことわらないかぎり、ハロ
ゲン原子とは、たとえば、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子またはヨウ素原子を;アルキル基とは、たとえば、
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブ
チル、イソブチル、5ec−ブチル、tert−ブチル
、ペンチル、ヘキシルまたはオクチルなどのCアルキル
基を;低級71〜10 ルキル基とは、たとえば、上記したアルキル基のうちC
アルキル基を;アルコキシ基とは、1〜5 たとえば、−0−アルキル基(アルキル基は、上記した
C   アルキル基を示す。)を;低級71〜10 ルキルアミノ基とは、たとえば、メチルアミノ、エチル
アミノまたはプロピルアミノなとのCアルキルアミノ基
をニジー低級アルキル1〜5 アミノ基とは、たとえば、ジメチルアミノなどのジーC
アルキルアミノ基などの基を;アミ1〜5 ノ低級アルキル基とは、たとえば、アミノメチル、アミ
ノエチルまたはアミノプロピルなどのアミノ−Cアルキ
ル基を;低級アルキルアミノ低1〜5 級アルキル基とは、たとえば、メチルアミノメチル、メ
チルアミノエチル、エチルアミノメチル、メチルアミノ
プロピルまたはプロピルアミンエチルなどのCアルキル
アミノ−Cアル 1〜5         1〜5 キル基をニジー低級アルキルアミノ低級アルキル基とは
、たとえば、ジメチルアミノメチル、ジエチルアミノメ
チル、ジエチルアミノエチルまたはジメチルアミノプロ
ピルなどのジ−C1〜5アルキルアミノ−Cアルキル基
を;ヒドロキシ1〜5 1氏、〒及アルキル ル、ヒドロキシエチルまたはヒドロキシプロピルなどの
ヒドロキシ−〇   アルキル基を;ハロ1へ5 ゲノ低級アルキル基とは、たとえば、クロロメチル、ブ
ロモメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、クロ
ロエチル、ジクロロエチル、トリクロロエチルまたはク
ロロプロピルなどのハロゲン−C   アルキル基を;
低級アルキリデン基と1〜5 は、たとえば、メチレン、エチ1ノデン、プロピリデン
またはイソプロピリデンなどのC1〜5アルキリデン基
を;シクロアルカン環とは、たとえば、シクロプロパン
、シクロブタン、シクロペンタンまたはシクロヘキサン
などのC   シクロアル3〜6 カンliをそれぞれ意味する。
以下に、本発明の詳細な説明する。
R.flよびR3のカルボキシル保護基としては、ま たとえば、接触還元、化学的還元もしくはその他の緩和
な条件で処理することにより脱離するエステル形成基、
または生体内において容易に脱離するエステル形成基、
または水もしくはアルコールで処理することにより容易
に脱離する有機シリル基、右前リン基もしくは有煎スズ
基などの特開昭59− 80665号に記載された通常
のカルボキシル保護基などが挙げられる。
R2およびR3におけるアミノ基、低級アルキルアミノ
基、アミン低級アルキル基および低級アルキルアミノ低
級アルキル基の保護基としては、通常当該分野で使用さ
れる保護基が挙げられ、たとえば、ホルミル、アセチル
、ベンジルおよび特開昭59−80665号に記載され
た通常のアミン保護基などが挙げられる。
また、R2 、R3およびR4にあけるヒドロキシル基
およびヒドロキシ低級アルキル基の保護基としては、通
常当該分野で使用される保護基が挙げられ、たとえば、
水またはアルコールで処理することにより容易に脱離す
る有機シリル基およびホルミル、アセチル、ベンジルな
どの特開昭59−80665号に記載された通常のヒド
ロキシル保護基などが挙げられる。
一般式[i]の化合物の塩としては、通常知られている
アミン基などの塩基性基またはヒドロキシルもしくはカ
ルボキシル る塩を挙げることができる。塩基性基にあける塩として
は、たとえば、塩酸、臭化水素酸または硫該なとの鉱酸
との塩;酒石酸、ギ酸、クエン酸、トリクロロ酢酸また
はトリフルオロ酢酸などの右前カルボン酸との塩:メタ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスル
ホン駿、メシチレンスルホン酸またはナフタレンスルホ
ン酸などのスルホン酸との塩を、また、酸性基における
塩としては、たとえば、ナトリウムまたはカリウムなど
のアルカリ金属との塩;カルシウムまたはマグネシウム
などのアルカリ土類金属との塩;アンモニウム塩;トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、
ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N−メチルピペ
リジン、N−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシ
クロヘキシルアミン、プロ力イン、ジベンジルアミン、
N−ベンジル−β−7エネチルアミン、1−エフエナミ
ンまたはN,N−−ジベンジルエチレンジアミンなどの
含窒素有機塩基との塩などを挙げることができる。
また、−数式[I]の化合物およびその塩において、異
性体(たとえば、光学異性体、幾何異性体、互変異性体
など)が存在する場合、本発明は、それらすべての異性
体を包含し、また、すべての結晶形、溶媒和物および水
和物を包含するものである。
つぎに、本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、たとえば、つぎに示す製造ルートによ
って製造することができる。
(以下余白) 「式中、R1、R3、R4、AおよびXは前記したと同
様の意味を;RlaはR1と同様のカルボキシル保護基
を;Rは水素原子またはR2a と同様のハロゲン原子を;R2bはR2と同様のアルコ
キシ基または保護されていてもよいヒトqキシル基を:
R20はR2と同様の保護されていてもよいアミノ基、
保護されていてもよい低級アルキルアミノ基またはジー
低級アルキルアミノ基を;Rは水素原子またはR2およ
びR3で述べたと同様のアミノ保護基を示す。」−数式
[I[]、[I[1]、[IV]、[V]、[V1]、
[VI]、[■]、[ia]、[Ib]および[IC]
の化合物の塩としては、−数式[I]の化合物の塩で説
明したと同様の塩が挙げられる。
ついで、各工程について説明する。
(1)  −F2式[I[1]の化合物またはその塩は
、股式[n]の化合物またはその塩を通常当該分野で知
られているケ1〜エステル化反応に付すことによって1
qることができる。
(i)  たとえば、−数式[111の化合物またはそ
の塩のカルボキシル基を塩化チオニルなどのハロゲン化
剤で酸ハライドに誘導した後、マロン酸ジエステルのナ
トリウムまたはエトキシマグネシウムなどの金属塩と反
応させ、含水溶媒中、叶トルエンスルホン酸またはトリ
フルオロ酢酸を用いて部分的にカルボ、キシル保護基を
脱離および脱炭酸反応に付すことによって、−数式[I
[1]の化合物またはその塩に誘導することができる。
酸ハライドとマロン酸ジエステルの金属塩との反応で使
用される溶媒としては、反応に悪影響をおよぼさないも
のであれば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、
トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類ニジオ
キサン、テトラヒドロフランおよびジエチルエーテルな
どのエーテル類;塩化メチレン、クロロホルムおよびジ
クロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;並びにN。
N−ジメチルホルムアミドおよびN、N−ジメチルアセ
トアミドなどのアミド類などが挙げられ、また、これら
の溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。
マロン酸ジエステルの金泥塩の使用そは、−服代[H]
の化合物の酸ハライドに対して、等モル以上、好ましく
は、1〜3倍モルである。
この反応は、通常、−50〜100℃で、5分〜30時
間実施すればよい。
(11)別法として、たとえば、アンゲバンテ・ヘミ・
インターナショナル・エデイジョン・イン・イングリコ
シュ(AnqeW、 Cり18m、 Int、 Ed、
 Eng !、 )第18巻、第72頁(1979年)
に記載の方法に準じで、−股式[Illの化合物または
その塩のカルボキシル基を、たとえば、N、N−一力ル
ボニルジイミダゾールで活性酸アミドに1した後、マロ
ン酸モノエステルのマグネシウム塩と反応させ、−服代
[11u]の化合物またはその塩を得ることもできる。
活性酸アミドどマロン酸モノエステルのマグネシウム塩
との反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響をあ
よぼさないものであれば特に限定されないが、具体的に
は前述の(1) (i)と同様の溶媒が挙げられる。
N、N=−カルボニルジイミダゾールおよびマロン酸モ
、ノエステルのマグネシウム塩の使用層は、服代[11
]の化合物またはその塩に苅して、それぞれ等モル以上
、好ましくは、1〜2倍モルでおる。
この反応は、通常、O〜100’C,好ましくは、10
〜80°Cで、5分〜30時間実施すればよい。
(2) (i)  −服代[V]の化合物またはその塩
は、−服代[IIの化合物またはその塩に、無水酢酸中
、オルトギ酸メチルまたはオル1ヘギ潴エチルを反応さ
せた後、−服代[IVlの化合物またはその塩(光学活
性な一般式[IVlの化合物またはその塩を使用すれば
、光学活性な一般式[IIのピリドンカルボン醸誘導イ
本へ誘導することができる。)を反応させることによっ
て得ることができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響をお
よぼさないものでおれば特に限定されないが、たとえば
、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化
水素類;ジオキシン、テトラヒドロフラン、アニソール
、ジエチレングリコ−ルジエチルエーテルおよびジメチ
ルセロソルブなどのエーテル類;メタノール、エタノー
ルおよびプロパツールなどのアルコール類;塩化メチレ
ン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン
化炭化水素類:N、N−ジメチルホルムアミドおよびN
、N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類:並びにジ
メチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げら
れ、また、これらの溶媒を一種または二種以上混合して
使用してもよい。
オルトギ策メチルまたはオルトギ酸エチルの使用層は、
−服代[I[IFの化合物またはその塩に対して、それ
ぞれ等モル以上、好ましくは、約1〜10倍モルでおる
この反応は、通常、0〜150°C1好ましくは、50
〜150℃で、20分〜50時間実施すればよい。
ついで、−服代[IVlの化合物またはその塩を反応さ
せるには、この−服代[IVlの化合物またはその塩を
一服代rIII]の化合物またはその塩に対して、百モ
ル以上使用し、通常、○〜ioo ’c、好ましくは、
10□O’Cで、20分〜30時間実施すればよい。
(ii)  別法として、−服代[I11]の化合物ま
たはその塩に、N、N−ジメチルホルムアミドジメチル
アセタールまたはN、N−ジメチルホルムアミドジエチ
ルアセタールなどのアセタール類を反応させた後、−服
代[IVEの化合物またはその塩(光学活性な一般式[
1■]の化合物またはその塩を使用すれば、光学活性な
一般式[IIのピリドンカルボンH導体へ誘導すること
ができる。)を反応させて、−服代[V]の化合物また
はその塩へ誘導することもできる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響をあ
よぼざないものであれば特に限定されないが、具体的に
は前述の(2) (i)と同様の溶媒が挙げられる。
アセタール類の使用量は、−服代[II[]の化合物ま
たはその塩に対して、等モル以上、好ましくは、約1.
0〜5.0倍モルである。
この反応は、通常、O〜100 ’C1好ましくは、5
0〜85°Cで、20分〜50時間実施すればよい。
ついで、−投銭[IV]の化合物またはその塩を反応さ
せるには、この−投銭[1v]の化合物またはその塩を
一般式[III]の化合物またはその塩に対して、等モ
ル以上使用し、通常、0〜100°C1好ましくは、1
0〜60°Cで、20分〜30時間実施すればよい。
(3)  −投銭[VI]の化合物またはその塩は、複
式[Vlの化合物またはその塩を、フッ化塩もしくは塩
基の存在下または不存在下に閉環反応に付すことによっ
て得ることができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響をお
よぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば
、N、N−ジメチルホルムアミドおよびN、N−ジメチ
ルアセトアミドなどのアミド類;ジオキサン、アニソー
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジメ
チルセロソルブなどのエーテル類;並びにジメチルスル
ホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、また、
これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用しても
よい。
この反応で所望に応じて用いられるフッ化塩としては、
たとえば、フッ化ナトリウムまたはフッ化カリウムなど
が挙げられ、所望に応じて用いられる塩基としては、た
とえば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、カリウム
tert−ブ1〜キシドまたは水素化ナトリウムなどが
挙げられ、それらの使用量は、−投銭[Vlの化合物ま
たはその塩に対して、それぞれ等モル以上、好ましくは
、1.0〜1.5倍モルでおる。
この反応は、通常、0〜180°Cで、5分〜30時間
実施すればよい。
(4) (i)  −投銭[工a]の化合物またはその
塩は、−投銭[VI]の化合物またはその塩を、フッ化
塩もしくは塩基の存在下または不存在下に閉環反応に付
すことによって1qることができる。
この反応は前述の(3)で説明した閉環反応と同様の反
応条件で実施すればよい。
(iiJ  別法として、−服代〔丁alの化合物また
はその塩は、−投銭[Vlの化合物またはその塩を、フ
ッ化塩もしくは塩基の存在下または不存在下に閉1葉反
応に付すことによって得ることもできる。
この反応で所望によって用いられるフッ化塩または塩基
の使用量は、−投銭[Vlの化合物またはその塩に対し
て、それぞれ2倍モル以上でおる。
この反応は、通常、0〜180℃で、5分〜30時間実
施すればよい。
(5)  −投銭[Ib]の化合物またはその塩は、署
基の存在下または不存在下、R2aがハロゲン原子でお
る一般式[工a]の化合物またはその塩に、−投銭[V
II]のアルコール類またはその塩を反応させることに
よって得ることができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響をあ
よぼざない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば
、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化
水素類:ジオキサン、テ1〜ラヒドロフランおよびジエ
チルエーテルなどのエーテル類;塩化メチレン、クロロ
ホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素
類;アセトニトリルなどのニトリル類;並びにN、N−
ジメチルホルムアミドおよびN、N−ジメチルアセトア
ミドなどのアミド類などが挙げられ、また、これらの溶
媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。
また、この反応で所望に応じて用いられる塩基としては
、たとえば、ナトリウム、カリウム、カリウムtert
−ブトキシドまたは水素化ナトリウムなどが挙げられる
一般式[Vl[]のアルコール類またはその塩および所
望に応じて用いられる塩基の使用量は、R2aがハロゲ
ン原子でおる一般式[工a]の化合物またはその塩に対
して、それぞれ等モル以上である。
この反応は、通常、O〜150°cで、10分〜20時
間実施すればよい。
(6)  −投銭[Ic]の化合物またはその塩は、1
Bの存在下または不存在下、R2aがハロゲン原子でめ
る一般式[工alの化合物またはその塩に一般式[■]
のアミン類またはその堰を反応させることによって得る
ことができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響をお
よぼさないものでおれば特に限定されないが、たとえば
、前)ボの(5)と同様の溶媒が挙げられる。
また、この反応で所望に応じて用いられる塩基としては
、たとえば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチル
アミン、1,8−ジアザビシクロ−[5,4,0]ウン
デク−7−エン(DBU>、ごリジン、カリウムter
t−ブ1〜キシド、炭&カリウム、炭酸ナトリウムまた
は水素化すl・リウムなどの有殿または照凹塩基が挙げ
られる。
−、般式[■]のアミン類またはその塩の使用量は、−
投銭[丁a1の化合物またはその塩に対して、好ましく
は、2〜10倍モルであるが、塩基な適宜使用すること
によって一般式[VI]のアミン類またはその塩の使用
量を減らすことができる。
この反応は、通常、0−150’C1好ましくは、15
〜100°Cで、5分〜30時間実施すればよい。
また、−投銭[工]の化合物またはその塩を、たとえば
、酸化反応、還元反応、転位反応、買換反応、ハロゲン
化反応、脱水反応および加水分解反応などの自体公知の
反応に付すことによって、またはそれらを適宜組み合わ
せることによって、他の一段式[I]の化合物またはそ
の塩に変換することができる。
一般式[■]、[I11]、[IV]、[V]、CVI
]、[V[]および[■]の化合物において、アミン基
、ヒドロキシル基またはカルボキシル基を有する化合物
は、必らかじめこれらの基を通常の保Hgで保護してお
き、反応後、自体公知の方法でこれらの保護基を脱離す
ることができる。
本発明化合物を製造するための原料である一般式[nE
の化合物またはその塩は、新規化合物であり、たとえば
、つぎに示す製造ルートにしたかって合成することがで
きる。
(以下余白) 「式中、R1、Rla、R2aおよびXは前記したと同
様の意味を有し;RlbはR1と同様のカルボキシル保
護基を:R3aは水素原子またはR3と同様の保護され
ていてもよいアミン基、保護されていてもよい低級アル
キルアミノ基、ジー低級アルキルアミノ基、保護されて
いてもよいアミン低級アルキル基、保護されていてもよ
い低、仮アルキルアミノ低級アルキル基、ジー低級アル
キルアミノ低、汲アルキル基もしくは保護されていても
よいヒドロキシ低級アルキル基を;R3bはR3と同様
の低級アルキル基を;R30は水系原子またはR3と同
様の低級アルキル基を示す。」 一般式[X]、[XI] マタハ[XVfl] (7)
化合物もしくはそれらの塩において、2つのRlbは同
一または異なっていてもよい。
一般式[IXI、[X)]、[Xll1]、[蹟]、[
双1、[X Vl ]、[X VI[]、[X■]、C
IIa3、[IIb]、!’5よび[I[c]ノ化化合
物基塩しでは、−服代[工1の化合物の塩で説明したと
同、保の塩が挙げられる。
また、−服代[X]および[′A]の化合物の活性メチ
レンの塩としては、たとえば、ナトリウム、力1ノウム
、リチウムなどのアルカリ金属との塩が挙げられる。
−i式CIX]の化合物またはその塩を米国特許第3.
590.036号に記載の方法に準じて、−服代[X]
の化合物またはその塩と反応させることによって、−i
式[XI]の化合物またはその塩に誘導し、これを通常
の方法によって、脱保護および脱炭酸反応を行い、つい
で、カルボキシル保護基な導入することによって、−服
代[′A]の化合物またはその塩に誘導することができ
る。
コレヲケーミシエ・ベリヒテ(Chem、 Ber、 
)第99巻、第2407頁(1966年)に記載の方法
に準じて、−服代[店1の化合物またはその塩に誘導す
ることができる。
ざらに、−服代[XI]の化合物またはその塩をジアゾ
アルカンと反応させることによって、・−服代[X I
V ]の化合物またはその塩に誘導することができる。
一般式[IIa]の化合物またはその塩は、−服代[X
V]の化合物またはその塩を、脱保護反応、還元反応、
アミノ化反応、クルチウス(Curtius)反応もし
くはアルキル化反応などの自体公知の反応に付すことに
よって、またはこれらの反応を適宜組み合わせることに
よって得ることができる。
−服代[nb]の化合物またはその塩は、−服代[1]
の化合物またはその塩を、通常の方法により、脱保護お
よび脱炭酸反応に付すことによって、−服代[X VI
 1の化合物またはそのj畠に誘導し、ついで、これを
ジアゾアルカンと1,3−双卯子付加反応を行い、さら
に加熱層窒素反応させることによって得ることができる
また、別法として一般式[nb]の化合物またはその塩
は、通常の方法によって、−1式[XI]の化合物もし
くはその塩または一般式[専]の化合物もしくはその塩
を水素化ナトリウムなどの塩基存在下に、ヨウ化トリメ
チルスルホキソニウムと反応させ、−服代[XV]の化
合物またはその塩に誘導し、ついで、これを通常の脱保
護および脱炭酸反応に付しても得ることができるっ一般
式[X Vl ]の化合物またはその塩を臭素化または
塩素化反応に付した後、たとえば、DBUなどの塩基を
作用させ、ついで、−服代[X]の化合物またはその塩
を反応させ、−服代[X VI ]の化合物またはその
塩に誘導し、ついで、これを通常の脱保護および脱炭酸
反応に付し、ざらに、カルボキシル保護基を導入するこ
とによって、投銭[X■]の化合物またはその塩に誘導
することができる。ざらに、−股式[X■]の化合物ま
たはその塩を、脱保護反応、還元反応、アミノ化反応、
クルチウス反応もしくはアルキル化反応などの自体公知
の反応に付すことによって、またはこれらの反応を適宜
組み合わせることによって、−服代[nC]の化合物ま
たはその塩を得ることができる。
サラニ、−服代[IXI、[X11、[XT]、[XJ
UE、[習]、[立1、[x Vi ]、CX V’[
I ’J>よび[X■]の化合物において、アミノ基、
ヒドロギシル基またはカルボキシルミt有する化合物は
、あらかじめこれらの基を通常の保a基で保護してあき
、反応後、自体公知の方法でこれらの保古塁を脱離する
ことができる。
このようにして得られたー股式[工1の化合物またはそ
の塩は、抽出、晶出、カラムクロマトグラフィーなどの
常法にしたがって単離精製することができる。
本発明化合物を医薬として用いる場合、通常製剤化に使
用される担体を適宜用い、常法にしたがって、錠剤、カ
プセル剤、散剤、シロップ剤、顆粒剤、坐剤、軟青剤ま
たは注射剤などに調製すればよい。また投与方法1、投
与量および投与回数は思考の症1人に応じて適宜選択す
ることができ、通常成人に対しては、経口または非経口
(たとえば、注射、点滴、直腸部位への投与など)的投
与により、0.1〜100 mg/Kg7日を1−数回
に弁理jして投与すればよい。
[発明の効果] つぎに、本発明の代表的化合物についての薬理作用を示
す。
1、抗菌作用 試験方法 日本化学療法学会標準法[ケモテラピー(CHEl(O
THERAPY)第29巻、第1号、第76へ79頁(
1981年)]にしたがい、ハート インフュージョン
 ブロース(Heart Infusion brot
h)(栄i旧ヒ学礼裂〉で37°Cl2O時間培養し、
菌セを106個7・′dに調整した菌液1白金耳を、薬
剤を含むハートインフュージョン  アガー(Hear
t Infusionagar)培地(栄ωI化学社製
)に接種し、37°Cで20時間培養した後、菌の発育
の有無を観祭し、菌の発育が阻止された最少濃度をもっ
て旧C(μ3/mj)とじた。
その結果を表−1に示す。
なお、表−1中の記号はつぎの5琶味を示す。
* :β−ラクタマ〜ぎ産士菌 被検化合物 1.1O−(1−アミノシクロプロピル)−9−フルオ
ロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒド0−7H
−ビ1ノド[1,2,3−del  [1゜4]ベンゾ
オキサジン−6−カルボン酸の塩酸2.8−7ミノーT
O−<1−アミノシクロプロピル)−9−フルオロ−3
−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピッ
ト[1,2゜3−Jel  [1,4]ペンゾオキザジ
ン−6−力ルボン酸の塩酸塩 3.70− (1−7ミノシクロプロピル)−8,9−
ジフルオロ−3−メチル−7−オキソ−2゜3−ジヒド
ロ−7H−ピ1ノド[1,2,3−delC1,4]ベ
ンゾオキサジン−6−カルボン酸の塩酸塩 4.1O−(1−アミノシクロプロピル)−9−フルオ
ロ−8−ヒドロキシ−3−メチルーフ−オキソ−2,3
−ジヒドロ−7日−ピッド[1゜2.3−deE  f
l、4″lベンゾオキ4太ジン−6カルボン竺の塩酸4
吾 5、(S)−10−(1−アミノシクロプロピル)−〇
−フルオロー3−メチル−7−オキソ−2゜3−ジヒド
ロ−7日−ピット(1,2,3−del[1,4]ペン
ゾオキナジン−6−カルボン酸の塩酸塩 6.10− (1−アミノシクロプロピル)−9−フル
オロ−3−フルオロメチル−7−7tキソ−2゜3−ジ
ヒドロ−7H−ピリドC1,2,3−del[1,4]
ベンゾオキサジン−ローカルポン酸の塩酸塩 7、(S)−1o−(1−アミ7/シクロプロピル)−
3−エチル−9−フルオロ−7−オキソ−2゜3−ジヒ
ドロ−71」−ピットr1.2.3−oe][1,4]
ベンゾオキサジン−6−カルシボン潴の塩酸塩 8.10− (1−アミノシクロプロピル)−9−フル
オロ−3−メチレン−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−
7日−ピット[1,2,3−de3[1,411ペンゾ
オキザジン−6−カルボン酸の臭化水素巖塩 9、IF−(1−アミノシクロプロピル)−9−フルオ
ロ−7−−オキソスピロ(シクロプロパン−1,3’ 
(2−H)−[7H]−ピリド[1,2,3−deコ 
[1,4]ベンゾオキサジン)−6′−カルボン酸の塩
酸塩 10、  (S) −10−(1−アミノ−2−メチル
シクロプ1]ピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−
オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[1,2,3
−Je]  [1,4]ベンゾオキサジン゛−6−カル
ボン酸の塩酸塩 11、  (S) −10−11−(N−メチルアミノ
)シクロプロピル]−9−フルオロ−3−メチル−7−
オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[1,2,3
−de]  [1,4]ベンゾオキサジン−6−カルボ
ン酸の塩酸塩 対照化合物: (±)9−フルオロ−2,3−ジヒドロ
−3−メチル−10−(4−メチル−1−ピペラジニル
)−7−オキソ−7H−ピット[1゜2.3−de] 
[1,4]ベンゾオキサジン−6カルボン酸(オフロキ
サシン) 2、急性毒性 1群3匹のICR系雄性マウス(体重:22±1g)に
被検化合物を静脈内投与し、急性毒性を検討した。
なお、被検化合物は、0.1N水Y化ナトリウム水溶液
に溶解させて調製した。
その1結果、被検化合物Nα5の50%致死量([D5
o)は、1000mg/に’J以上で、%ッた。
[実施例] つぎに本発明を参考例および実施例を挙げて説明するが
、本発明はこれらに限定されるものではない。なあ、参
考例および実施例中で用いられる記号は、それぞれつぎ
の意味を有する。
Me:メチル Et:エチル Z:ベンジルオキシカルボニル 十: tert−ブチル Boc:tert−ブ1〜キシカルボニルTHP:2−
テI〜ラヒドロピラニル TFAニトリフルオロ酢酸 DMSO:N,N−ジメチルスルホキシドD20:重水 また、カラムクロマトグラフィーにあける担体は、特に
ことわらない限り、キーゼルゲル60、アート7734
(Kieselgel 60、^rt. 7734、メ
ルク社製)を用いた。ざらに溶離液における混合比は、
すべて容巳比である。
(以下余白) 参考例1 60%水素化ナトリウム10.29をN,N−ジメチル
ホルムアミド500 dに懸濁させ、水冷下、マロン酸
ジーtertーブチルエステル55.07を1時間を要
して滴下し、同温度で10分間撹拌した後、ペンタフル
オロ安息香酸メチルエステル48.09を加え、至温で
2時間撹拌する。反応液を水11および酢酸エチル40
0 mlの混合液に加え、6N塩酸でpH3に調整した
後、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をトワ
フルオロ酢酸150威に溶解させ、至温で20時間撹拌
する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残預物にジエ
チルエーテル200威および水600 rnIlを加え
、有機層を分取する。分取した有懇層を水および飽和食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にトルエ
ン5(7を加え、1,5時間還流する。減圧下に反応液
を濃縮し、得られた残留物にローヘキサンを加えて結晶
を枦取すれば、4−カルボキシメチル−2.3,5.6
−テトラフルオロ安息@酸メチルエステル31.3g(
収率55.5%)を得る。
IR(KBr)cm”;v   1735.1720(
sh)C:O 同様にして、つぎの化合物を得る。
o4−カルボキシメチル−2.3.5−トリフルオロ安
息香酸エチルエステル IR (KBr)cm−1ニジ 1710C;0 参考例2 4−カルボキシメチル−2.3,5.6−テトラフルオ
ロ安息香酸メチルエステル31.37をジエチルエーテ
ル50威に溶解させ、至温でジフェニルジアゾメタン−
石油エーテル溶液を赤色が消失しなくなるまで滴下する
。析出結晶を沿取すれば、4−ジフェニルメトキシカル
ボニルメチル−2。
3、5.6−テトラフルオロ安息香酸メチルエステル4
8.69 (収率95.7%)を得る。
IR ( KBr’)cm−’ ニジ 1730C=O 同様にして、つぎの化合物を得る。
o4−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−2。
3.5−1”ソフルオロ安息香酸■プル士]スJ” 、
Q。
丁R(KBr)cm−1:  ν     1730C
=0 参考例3 4−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−2゜3+ 
5+ 6−テトラフルオロ安息@酸メチルエステル48
.67をN、N−ジメチルホルムアミド486m1に)
容解させ、パラホルムアルデヒド3.549およびナト
リウムメチラート61mgを加え、室温で2時間1覚拝
する。反応液に酢酸エチル300m1および水800 
dを加え、有機層を分取する。分取した有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物
をカラムクロマトグラフィー(溶離液;l〜ルエンコ酢
酸エエチ=10 : 1)で精製すれば、4−(1−ジ
フェニルメトキシカルボニル−2−ヒドロキシエチル)
−2,3,5゜6−テ1へラフルオロ安息香酸メチルエ
ステル35.03(収率67.0%)を得る。
IRに−ト) cm−1: v   1735C=0 同様にして、つぎの化合物を得る。
(、: 4−(l−ジフェニルメトキシカルボニル−2
・−ヒドロキシエチル)−2,3,5−1〜リンルオロ
安息香酸エチルエステル IRに−ト) cm−1; v   1720C:O 参考例4 4−(1−ジフェニルメトキシカルボニル−2−ヒドロ
キシエチル)−2,3,5,6−テトラフルオロ安息香
酸メチルエステル35.0gを塩化メチレン175tn
1.に溶解させ、水冷下、メタンスルホニルクロリド7
.97を加えた後、トリエチルアミン16.89を10
分間を要して滴下し、同温度で1時間撹拌する。反応液
に水200 mlを加え、21’[酸でpH″Iに調整
した後、有機層を分取する。分取した有機層を水および
飽和食塩水で順次洗浄した後1、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させる。ついで、減圧下に溶媒を留去すれば、4
−(1−ジフェニルメトキシカルボニルビニル>−2,
3,5,6−テトラフルオロ安息香酸メチルエステル3
3.0=J(収率97.9%)を得る。
IRに−ト>cm−1ニジ  1730C=O 同様にして、つぎの化合物を得る。
o4−(1−ジフェニルメトキシカルボニルビニル)−
2,3,5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル IRに−ト)cm”1ニジ  1720C:O 参考例5 4−(1−ジフェニルメトキシカルボニルビニル)  
2,3.5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル3.
087をジエチルエーテル307!に溶解させ、氷冷下
、N−メチル−N−ニトロソウレア2.07から調製し
た、ジアゾメタン−ジエチルエーテル溶液を加え、室温
で12時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られ
た残留物をトルエン30m1に溶解させ、60℃で1時
間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物
をカラムクロマ]・グラフィー(溶離液:トルエン)で
精製すれば、4−(1−ジフェニルメトキシカルボニル
−2−メチルビニル)−2,3,5−トリフルオロ安息
香酸エチルエステル2.907 (収率91,2%)を
得る。
If?に−ト)α−1;ν  1715C=O 参考例6 4−(1−ジフェニルメトキシカルボニルビニル)−2
,3,5,6−テトラフルオロ安息香酸メチルエステル
3.29をアニソール15m1に溶解させ、トリフルオ
ロ酢酸15dを加えた後、室温で1時間撹拌する。減圧
下に反応液を)?縮し、得られた残留物にn−ヘキサン
207!を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でi)
[7,5に調整した復、水層を分取する。分取した水層
に酢酸エチル50m1を加え、6N塩酸でpl’llに
調整した後、有救層を分取する。
分取し)た有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。ついで、減圧
下に溶媒を留去すれば、4−(ゴーカルボキシビニル)
−2,3,5,6−テトラフルオロ安息香酸メチルエス
テル1.9 (J (収率95,0%)を得る。
IR(KBr)cm−1ニジ 1730.1695C=
O 同様にして、つどの化合物を得る。
o4−(1−カルボキシビニル)−2,3,5−トリフ
ルオロ安息香酸エチルエステル TR(KBr)cm−1ニジ1710,1695(sh
)参考例7 4−(1−力ルボキシビニル)−2,3,5゜6−テト
ラフルオロ安息香酸メチルエステル3.OJをN、N−
ジメチルホルムアミド2(W!に溶解させ、130〜1
40℃で1.5時間撹拌する。減圧下に反応液を′a縮
し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離
液;1〜ルエン:n−へキサ〉′=1:1)で精製すれ
ば、2,3,5.6−テトラフルオロ−4−ビニル安息
香酸メチルエステル2.0 ’J (収率79,1%)
を得る。
IR(、ニート) crt−1; シ1740(=Q 同様にして、つぎの化合物を得る。
02.3.5−トリフルオロ−4−ビニル安息香酸エチ
ルエステル IRにニート) cm” ニジ  1720C:O 参考例8 2.3,5.6−テトラフルオロ−4−ビニル安息メチ
ルヂルエステル2.0gをジエチルエーテル10威に)
打解させ、水冷下、N−メチル−N−二トロソウレア3
.Ogから調製した、ジアゾメタン−ジエチルエーテル
溶液を加え、室温で2時間撹拌する。減圧下に反応液を
濃縮し、得られた残留物をキシレン15m1に溶解させ
、1時間還流する。
ついで、減圧下に反応液を濃縮すれば、4−シクロプロ
ピル−2,3,5,6−テトラフルオロ安息香酸メチル
エステル2.1 ’J (収率99.1%)を得る。
IRにニート) cm” : v   1735−O 同様にして、つぎの化合物を得る。
04−シクロプロピル−2,3,5−トリフルオロ安息
香酸エチルエステル IRにニート) crtt−1: ’t)   171
5C=0 参考例9 60%水素化ナトリウム3.7g、をN、N−ジメチル
ホルムアミド330 mlに懸濁させ、水冷下、ヨウ化
トリメチルスルホキソニウム20.29を加え、室温で
1時間撹拌した後、4−(1−ジフェニルメトキシカル
ボニルビニル)−2,3,5,6−テトラフルオロ安息
香酸メチルエステル33.0gを加え、同温度で2時間
撹拌する。反応液に酢酸エチル300 mlおよび水9
00 dを加え、2N塩酸でpH1に調整した後、有機
層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。
減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマ
トグラフィー(溶離液;トルエン)で精製すれば、4−
(1−ジフェニルメトキシカルボニルシクロプロピル)
−2,3,5,6−テトラフルオロ安息香酸メチルエス
テル22.59 (収率66.1%)を得る。
IRにニート) cm” ; v   1735C;O 同様にして、つぎの化合物を得る。
04− (1−ジフェニルメトキシカルボニルシクロプ
ロピル)−2,3,5−トリフルオロ安息香酸エチルエ
ステル IR(KBr)cIR−1;ν 1725C:0 o4− (1−ジフェニルメトキシカルボニル−2−メ
チルシクロプロピル)−2,3,5−1〜リフルオロ安
息香酸エチルエステル IRにニート) cm−’ : v   1715C=
0 参考例10 4−(1−ジフェニルメトキシカルボニルシクロプロピ
ル)−2,3,5,6−テトラフルオロ安息香酸メチル
エステル22.59をアニソール60m1に溶解させ、
トリフルオロ酢酸80dを加え、室温で2時間撹拌する
。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物にn−ヘキ
サノを加えて結晶を炉心すれば、4−(1−カルボキシ
シクロプロピル)−2,3,5,6−テトラフルオロ安
息香酸メチルエステル12.79 (収率88.8%)
を得る。
IR(KBr)cm−’:)J  1745.1690
C=O 同様にして、つぎの化合物を得る。
o4−(1−カルボキシシクロプロピル3、5−トリフ
ルオロ安息香酸エチルエステルIR(KBr)cm−1
ニジ 1715.1685C=0 04、−(1−カルボキシ−2−メチルシクロプロピル
)−2,3,5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル IR(KBr)cm−1ニジ 1715.1690C=
O 参考例11 4−(1−カルボキシシクロプロピル)−2゜3.5.
6−テトラフルオロ安息香酸メチルエステルsoomg
をバーナー直火で約20秒間反応させ、脱炭酸を完結さ
せる。得られた残留物をカラムクロマ1〜グラフイー(
溶離液;トルエン)で精製すれば、4−シクロプロピル
−2,3,5,6−テトラフルオロ安息香酸メチルエス
テル210ff1g(収率49.5%)を得る。
同様にして、つぎの化合物を得る。
04−シクロプロピル−2,3,5−トリフルオロ安息
香酸エチルエステル これらの化合物の物性は、参考例8で得られたものと一
致した。
参考例12 4−(1−カルボキシシクロプロピル 3、5.6−テトラフルオロ安息香酸メチルエステル9
.07をN,N−ジメチルホルムアミド90mlに溶解
させ、水冷下、クロル炭酸エチル4.07およびトリエ
チルアミン3.79を加え、同温度で30分間撹拌する
。ついで、水冷下、アジ化ナトリウム2.69を加え、
同温度で1時間撹拌する。反応液に酢酸エチル150m
lおよび水300 dを加え、2N塩酸でpH1に調整
した後、有機層を分取する。
分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物をジオキサン90mlおよびベ
ンジルアルコール8.1gに溶解させ、1時間還流する
。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物をカラムク
ロマトグラフィー(溶離液;トルエン)で精製すれば、
4−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプロ
ピル)−2、3,5.6−テトラフルオロ安息香酸メチ
ルエステル10.6g(収率86.9%)を得る。
IR(KBr) cm” ; v  1740. 17
00C=0 同様にして、つぎの化合物を得る。
04−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプ
ロピAz)−2.3.5−トリフルオロ安息香酸エチル
エステル IR(にBr) cm” : シ1735, 1700
04− (1−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−
メチルシクロプロピル)−2.3.5−トリフルオロ安
息香酸エチルエステル IRにート)cm−1ニジ  1710C=0 参考例13 (1)   2,3.5−トリフルオロ−4−ビニル安
息香酸エチルエステル15.65 9を塩化メチレン1
60 rd!に溶解させ、臭素11.49を加え、空温
で3時間撹拌する。反応液に水100miを加えた後、
有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩
水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を塩化メチ
レン100mAに溶解させ、水冷下、1、8−ジアザビ
シクロ[5.4.0]ウンデク−7−ニン20.79を
加え、空温で1時間撹拌する。
反応液に水100mlを加え、2N塩酸でp旧.5に調
整した後、有機層を分取する。分取した有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させる。減圧下に溶媒を留去した後、得られた残
留物をN,N−ジメチルホルムアミド30dに溶解させ
る。
(2)  60%水素化ナトリウム1.909をN,N
−ジメチルホルムアミド150mlに懸濁させ、水冷下
、マロン酸ジーtertーブチルエステル10,15 
7を15分間を要して滴下し、同温度で1時間撹拌する
この反応液に水冷下、(1)で得られたN,N−ジメチ
ルホルムアミド溶液を5分間を要して滴下し、空温で1
2時間撹拌する。反応液を酢酸エチル250mlおよび
水300 mlの混合液に加え、2N塩酸でpH3に調
整した後、有機層を分取する。分取した有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物
をカラムクロマトグラフィー(溶離液;トルエン)で精
製すれば、4−(2,2−ジーtert−ブトキシカル
ボニルシクロプロピル)−2,3,5−トリフルオロ安
息香酸エチルエステル12.699 (収率42.0%
)を得る。
IR(KBr) cm−1: シ1720(sh)、1
710C=0 参考例14 4−(2,2−ジーtert−ブトキシカルボニルシク
ロプロビル 息香酸エチルエステル9.39にトリフルオロ酢設置8
厩を加えた後、空温で12時間撹拌する。減圧下に反応
液を濃縮し、得られた残留物をバーナー直火で約20秒
間反応させ、脱炭酸を完結させる。得られた残留物にジ
エチルエーテルiooyおよび水200威を加え、10
%炭酸ナトリウム水溶液でpH95に調整した後、水層
を分取する。分取した水層にジエチルエーテルioo 
yを加え、2Nm酸でpH1、5に調整した後、有機層
を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。つ
いで、減圧下に溶媒を留去すれば、4−(2−カルボキ
シシクロプロピル)−2.3.5−トリフルオロ安息香
酸エチルエステル3.307 (収率54.7%)を得
る。
IR(KBr) cm” ; v  1725(sh)
、 1700参考例15 4−(2−カルボキシシクロプロピル)−2。
3、5−トリフルオロ安息香酸エチルエステルi.oo
gを酢1tertーブチル10dに溶解させ、70%過
塩素酸水溶液0.2mlを加え、空温で1時間撹拌する
。反応液に酢酸エチル40mlおよび水20dを加え、
有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩
水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムク
ロマトグラフィー(溶離液二〇−ヘキザン:トルエン=
1:1)で精製すれば、4 − ( 2−tert−ブ
トキシカルボニルシクロプロビル)−2.3.5−トリ
フルオロ安息香酸エチルエステル0.8ty (収率6
8.1%)を得る。
If?にート’)cm−’ニジ  1720C=0 参考例16 4−(2−カルボキシシクロプロピル)−2。
3、5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル6、00
gを無水テトラヒドロフラン60dに溶解させ、水冷下
、1Mボランのテトラヒドロフラン溶液42威を加え、
空温で1.5時間撹拌する。反応液を酢巖エチル100
mlおよび水100mlの混合液に加え、2N塩酸でp
H1に調整した後、有機層を分取する。
分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー(
溶離液;トルエン:酢酸エチル=4 : 1 )で精製
すれば、4−(2−ヒドロキシメチルシクロプロピル)
−2.3.5−トリフルオロ安息1エチルエステル4.
40y (収率77、1%)を得る。
IR にート) cm” : v   1720C=O 参考例17 4−(2−ヒドロキシメチルシクロプロピル)=2.3
.5−トリフルオロ安息1エチルエステル4.009を
塩化メチレン60mlに溶解させ、水冷下、トリエチル
アミン1.629およびメタンスルホニルクロリド1.
849を加え、空温で2時間撹拌する。反応液に水60
mlを加え、2N塩酸でpH1に調整した後、有は層を
分取する。分取した有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫腋
マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得
られた残留物をN,N−ジメチルホルムアミド6017
1i?に溶解させ、水冷下、tert−ブチルメチルイ
ミノカルボキシレートのカリウム塩3. 42 gを加
え、空温で48時間撹拌する。反応液を酢酸エチル10
0mlおよび水100威の混合液に加え、2N塩酸でp
H.5に調整した後、有機層を分取する。分取した有機
層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離液;1〜
ルエン:酢酸エチル=20:1)で精製すれば、4 −
 [2 − (N−tert−ブトキシカルボニル−N
−メトキシカルボニルアミノメチルシクロプロピル]−
2.3.5−トリフルオロ安息@闇エチルエステル5.
229 (収率82,9%)を1ユる。
IRに−ト) cm−1ニジ  1780.1740(
Sh)C:0 参考例18 4  [2−(N−tert−ブトキシカルボニル−N
−メ1〜キシカルボニルアミノメチルロピル]ー2.3
.5ートリフルオロ女息香酸エチルエステル5.229
をエタノール60dに溶解させ、1N水酸化ナトリウム
水溶液60dを加え、空温で2時間撹拌する。反応液に
水60厩を加え、6N塩駿でp118に調整した後、酢
酸エチル150rII!!を加え、水層を分取する。分
取した水層に酢酸エチル100屁を加え、6N塩酸でp
l−12に調整した後、有機層を分取する。分取した有
機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥させる。ついで、減圧下に溶媒を留
去すれば、4−(2−tert−ブl〜キシカルボニル
アミノメチルシクロプロピル 安息香酸4.107 (収率98.1%)を得る。
IR(KBr) に(11 1;ν 1720, 17
00C=O 参考例19 4−(1−ペンジルオキシカルポニルアミノシグロプロ
ビル)−2.3,5.6−テトラフルオロ安息@酸メチ
ルエステル1.89をメタノール14dおよびジオキサ
ン14mf!の混合液に溶解させ、1N水芯化すI・リ
ウム水溶液14.71i2を加え、空温で1時間撹拌す
る。反応液に水50威を加え、2N塩酸でpH1に調整
した後、酢酸エチル50a2を加え、有機層を分取する
。分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した
後、無水硫發マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒
を留去し、得られた残留物にn−ヘキサンを加えて結晶
を炉腹すれば、4−(1−ベンジルオキシカルボニルア
ミノシクロプロビル)−2.3,5.6−テトラフルオ
ロ安息香酸1.7 9 (収率97.7%)を得る。
IR(KBr) on−1: v  1735C:O 同様にして、表−2の化合物を得る。
(以下余白) 友−2 参考例20 (1) (il  4− (1−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノシクロプロピル)−2,3,5,6−テ1へ
ラフルオロ安息香i17.50gに塩化チオニル4.6
69およびN、N−ツメチルホルムアミド0.1dを加
え、40〜50℃で1時間撹拌する。減圧下に反応液を
濃縮し、得られた残留物を]〜ルエン20m1に溶解さ
せる。
(ii)  60%水素化ナトリウム470 mgを無
水テトラヒドロフラン10dに懸濁させ、氷冷下、te
rt−ブチル=エチル=マロナート2.20yを15分
間を要して滴下し、同温度で20分間撹拌する。ついで
、反応液を一20℃に冷却し、同温度で(i)で得られ
たトルエン溶液を10分間を要して滴下し、−20〜−
10’Cで30分間撹拌する。反応液に酢酸エチル20
dおよび水20威を加え、2N塩酸でpH1に調整した
後、有日層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
させる。減圧下に溶媒を留去した後、得られた残留物に
トリフルオロ酢酸10dを加え、空温で12時間攪拌す
る。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物に酢酸エ
チル20mAおよび水20Inlを加えた後、有機層を
分取する。分取した有殿層を飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液、水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得
られた残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離液;ト
ルエン:酢酸エチル=20:1)で精製すれば、4−(
1−ベンジルオキシカルボ二ルアミノシクロプロピル)
−2,3,5,6−チトラフルオロベンゾイル酢酸エチ
ルエステル1.569 (収率87.6%)を得る。
IR(K8r) cm−’ : v   1710C=
O 同様にして、つどの化合物を得る。
04−シクロプロピル−2,3,5,6−チトラフルオ
ロベンゾイル酢酸エチルエステルIR(ニー1□ ) 
cm−1; v   1745.1705C:0 (2)  4−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノ
シクロプロピルル)−2,3,5−トリフルオロ安息香
17.50gを無水テトラヒドロフラン75dに溶解さ
せ、氷冷下、N、N”−一カルポニルジイミダゾール4
.99gを加え、空温で1時間撹拌した後、エトキシカ
ルボニル酢酸のマグネシウム塩4.409を加え、同温
度で20時間撹拌する。反応液を酢酸エチル150 d
および水200m1の混合液に加え、2N塩酸でptf
lに調整した後、有機層を分取する。
分取した有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水お
よび飽和食塩水で順次洗浄した後、′無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残
留物をカラムクロマトグラフィー(溶離液:トルエン:
酢酸エチル=50 : 1)で精製すれば、4−(1−
ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプロピル)−2
,3,5−トリフルオロベンゾイル酢酸エチルエステル
8.10c) <収率90.6%)を得る。
IRに−ト) cm−1ニジ  1725.1700(
sh)C=O 同様にして、表−3の化合物を得る。
(以下余白) 参考例21 (1)  4−(1−ペンジルオキシカルポ二ルアミノ
シクロプロビル)−2,3,5−トリフルオロベンゾイ
ル酢酸エチルエステル3.009をベンゼン30dに溶
解させ、N、N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタ
ール3.897を加え、30分間遠流する。減圧下に反
応液を濃縮し、得られた残留物をトルエン15dに溶解
させ、叶−2−アミノ−1−プロパノール518mgを
加え、空温で17時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮
し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離
液:トルエン:酢酸エチル=5:1)で精製すれば、2
− [4−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシク
ロプロピル)−2,3,5−トリフルオロベンゾイル]
−3−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチルアミノ)ア
クリル酸エチルエステル3.097 (収率86.1%
)を得る。
IR(KBr) cm” ニジ 1690C:O 同様にして、表−4の化合物を得る。
は、それぞれ、つぎの式の置換基を示す。
(以下余白) 辰−4(紐で) 友−4 (2)  4−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノ
シクロプロピル ベンゾイル酢酸エチルエステル500 mgをベンゼン
5mlに溶解させ、N,N−ジメチルホルムアミドジメ
チルアセタール411mgを加え、40分間還流する。
減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物をエタノール
5dに溶解させ、2−アミノチオエタノール・塩酸塩1
57mgおよびトリエチルアミン139 mgを加え、
空温で16時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得
られた残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離液;ト
ルエン:酢酸エチル=5:1)で精製すれば、2− [
4− (1−ペンジルオキシカルボニルアミノシクロブ
ロビル)−2。
3、5−トリフルオロベンゾイル]−3−(2−メルカ
プトエチルアミノ テル250 mg (収率41,7%)を得る。
IR(KBr) Cm−1 ;ν 1695C=0 参考例22 2−(4−シクロプロピル−2.3.5.6−チトラフ
ルオロベンゾイル)−3−(2−ヒドロキシ−1−メチ
ルエチルアミノ)アクリル酸エチルエステル300 m
alをN,N−ジメチルホルムアミド3威に溶解させ、
炭酸カリウム130mgを加え、80〜θO℃で30分
間撹拌する。反応液に水20mf!を加えて析出結晶を
炉取すれば、7−シクロブロビルー5.6.8−トリフ
ルオロ−1−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−
1.4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン
酸エチルエステル240 m9J (収率84.5%)
を得る。
IR(KBr) cm” ニジ 1725,1705C
:O 同様にして、つぎの化合物を得る。
0 (S)−7− (1−ベンジルオキシカルボニルア
ミノシクロプロピル)−6.8−ジフルオロ−1 − 
[2 − (N−tert−ブトキシカルホニルーN−
メチルアミノ)−1−メチルエチル]−1、4−ジヒド
ロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸エチルエステ
ル IR(KBr) art−1;ν 1720, 168
0C=0 参考例23 トリフルオロ酢酸2mlに、水冷下、(S)−7−く1
−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプロピル)−
6.8−ジフルオロ−1−[2−( N − tert
−ブトキシカルボニル−N−メチルアミノ)−1−メチ
ルエチル]−1.4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノ
リンカルボン酸エチルエステル300 mgを加え、同
温度で2.5時間撹拌する。
減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物に酢酸エチル
20mlおよび水10dを加え、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液でpH8に調整した後、有機層を分取する。分
取した有機層を水および飽和食塩水で1■次洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。ついで、減圧下
に溶媒を留去すれば、(S)−7−(1−ベンジルオキ
シカルボ二ルアミノシクロプロビル)−6.8−ジフル
オロ−1−[2−(N−メチルアミノ)−1−メチルエ
チルコー1、4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリン
カルボン酸エチルエステル240 m’J (収率96
.0%)を1与る。
IR(KBr) cm” : シ1720, 1685
C:0 実施例1 7−シクロブロピルー5.6,8−トリフルオロ−1−
(2−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1,4−ジヒ
ドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸エチルエス
テル170mgをN,N−ジメチルホルムアミド1.7
威に溶解させ、60%水素化ナトリウム20mgを加え
、80〜90℃で15時間撹拌する。反応液を酢酸エチ
ル5戒および水5rrd;!の混合液に加え、2N塩酸
でpH1.5に調整した後、析出結晶を戸数すれば、1
0−シクロプロピル−8.9−ジフルオロ−3−メチル
−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[1.
2.3−de][1.4]ベンゾオキサジン−6−カル
ボン酸エチルエステル63my) (収率39.1%)
を得る。
IR(KBr) cm” : v  1725.169
0C:O 実施例2 (S)−7− (1−ベンジルオキシカルボニルアミノ
シクロプロピル)−6.8−ジフルオロ−1− [2−
 (N−メチルアミノ)−1−メチルエチル]ー1,4
ージヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸エチ
ルエステル −ジメチルホルムアミド5m!!に溶解させ、炭酸カリ
ウム8omgを加え、空温で6時間撹拌する。反応液を
酢酸エチル20dおよび水2(7の混合液に加え、2N
塩酸でpH3に調整した後、有機層を分取する。
分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒舎
留去し、得られた残留物にジエチルエーテルを加えて結
晶を炉心すれば、?5)−10−(1−ベンジルオキシ
カルボニルアミノシクロプロピル)−9−フルオロ−1
,3−ジメチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−1H
,7H−ピリド[i、 2.3−de]キノキサリン−
6−カルボン酸エチルエステル120 ml (収率5
2,2%)を得る。
IR(KBr) cm” ; v  1715C:O 実施例3 2− [4−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシ
クロプロピル)−2,3,5−トリフルオロベンゾイル
]−3−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチルアミノ)
アクリル酸エチルエステル3.079をN、N−ジメチ
ルホルムアミド25戒に溶解させ、水冷下、60%水素
化すトリウム519myを加え、空温で18時間撹拌す
る。反応液を酢酸エチル50成および水5(7の混合液
に加え、2N塩醒でpH1に調整した後、有様層を分取
する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に
溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフ
ィー(溶離液:1〜ルエン:酢酸エチル=1=1)で精
製すれば、1O−(1−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノシクロプロピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−
オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[1,2,3
−deコ [1,4]ベンゾオキサジン−6−カルボン
酸エチルエステル760 tag (収率26.9%)
を得る。
IR(KBr) cm”1ニジ 1715C=O 同様にして、表−5の化合物を得る。
なお、表−5中のR2は、つぎの式の置換基を示す。
実施例4 2− [4−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシ
クロプロピル)−2,3,5,6−チトラフルオロベン
ゾイル]−3−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチルア
ミノ)アクリル酸エチルエステル2.07gをN、N−
ジメチルホルムアミド2o威に溶解させ、炭酸カリウム
1.17gを加え、90〜100℃で3.5時間撹拌す
る。反応液を酢酸エチル40m1および水40m1の混
合液に加え、2N塩酸でpH1,5に調整した後、有機
層を分取する。分取した有様層を水および飽和食塩水で
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。
減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジエチルエー
テルを加えて結晶を罎取すれば、1O−(1−ベンジル
オキシカルボニルアミノシクロプロピル)−8゜9−ジ
フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2゜3−ジヒドロ
−7H−ピリド[1,2,3−de][1,4]ベンゾ
オキサジン−6−カルボン酸エチルエステル1.409
 (収率72.9%)を得る。
IR(KBr) cm” ニジ 1120C:O 及−6 れぞれ、つぎの式の置換基を示す。
(以下余白) 辰−6 (疵さ) 寅圧倒5 10−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシフ0プ
ロピル)−9−フルオロ−3−(2−テトうヒドロピラ
ニルオキシメチル)−’i’−オキソー2.3−ジヒド
ロ−7日−ピリド[1,2,3−e]  [1,4]ベ
ン・ジオキサジン−6−カルボン]エチルエステル90
m3をエタノール2:に溶解さ才、D−トルエンスルホ
ン酸・1水和物10mF!を加え、=温で4時間撹拌す
る。減圧下に反応液を濃縮し、4られた残留物にエタノ
ールを加えて結晶を戸数すれば、1O−(1−ベンジル
オキシカルボニルアミノシクロプロビル)−9−フルオ
ロ−3−ヒドロキシメチル−7−オキソー2,3−ジヒ
ドロ−7日−ピット[1,2,3−de] N、 4]
ベンfオキサジン−6−カルボン酸エチルエステル47
g(収率61,0%)を得る。
IR(KBr) Cm−’ ; v  1715C=O ■圧倒6 10−(’I−ペンジルオキシカルポニルアミノシ70
プロピル)−9−フルオロ−3−ヒドロキシメチル−7
−オキソ−2,3−ジヒドロ−78−ピット[1,2,
3−de]  [1,4]ベンゾオキサジン−6−カル
ボン酸エチルエステル380 mgを塩化メチレン4d
に懸濁させ、水冷下、トリエチルアミン230m9およ
びメタンスルホニルクロリド260mgを加え、空温で
30分間撹拌する。反応液に塩化メチレンiomI!お
よび水10Inlを加え、2N塩酸でI)Mlに調整し
た後、有機層を分取する。分取した有は層を水および飽
和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にベ
ンゼン4.4dおよび1,8−ジアザビシクロ−[5,
4,0]ウンデク−7−エン175mgを加え、1時間
還流する。
反応液を酢酸エチル20dおよび水207の混合液に加
え、2N塩酸でpHに調整した後、有機層を分取する。
分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー(
溶離液:トルエン:酢酸エチル=3:2>で精製すれば
、1O−(1−ベンジルオキシカルポ二ルアミノシクロ
プロピル)−9−フルオロ−3−メチレン−7−オギソ
ー2゜3−ジヒドロ−78−ピリド[1,2,3−de
][1,4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチル
エステル260 m’J (収率71.0%)を得る。
IR(1(8r) cm−1ニジ 1720.1685
C=O 実施例7 (S) −10−(2−tert−ブトキシカルボニル
シクロプロピル 7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピット[1, 
2. 3 −de]  [1. 4]ベンゾオキサジン
=6−カルボン酸エチルエステル570mgにトリフル
オロ酢酸5dを加えた後、空温で1時間撹拌する。減圧
下に反応液を濃縮し、得られた残留物にジエチルエーテ
ルを加えて結晶をン戸数すれば、(S)−10− (2
−カルボキシシクロプロピル−9−フルオロ−3−メチ
ル−7−オキソ−2。
3−ジヒドOー7Hーピリド[1,2,3−deコ[1
.4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチルエステ
ル460 ml (収率92.9%)を得る。
IR(KBr) cm” ; v  1720C=O 実施例8 (S) −10− (2−カルボキシシクロプロピル)
−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2。
3−ジヒドロ−7日−ピリド[1, 2. 3 −de
][1.4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチル
エステル200 mgをN,N−ジメチルホルムアミド
4蛇に懸濁させ、水冷下、クロル炭酸エチル70mgお
よびトリエチルアミン65mgを加え、同温度で15分
間撹拌する。ついで、水冷下、アジ化ナトリウム45m
’jを加え、同温度で1時間撹拌する。反応液にクロロ
ホルム20dおよび水207を加え、2N塩酸でpH1
に調整した後、有機層を分取する。
分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物にジオキサン5dおよびベンジ
ルアルコール115mgを加え、100℃で1,5時間
撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物を
カラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:エ
タノール=15 : 1 )で精製すれば、(S)−1
0− (2−ベンジルオキシカルボ二ルアミノシクロプ
ロピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2
,3−ジヒドロ−7H−ピリド[1,2.3−de] 
 [1.4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチル
エステル160 mg (収率64.0%)を得る。
IR(KBr)  cm−1: ν   1 γ15C
=0 実施例9 io−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプ
ロピル チル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピット[
1,2.3−de] [1.4]ベンゾオキサジン−6
−カルボン酸エチルエステル 臭化水素−酢酸溶液1dを加え、空温で1時間撹拌する
。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物にジエチル
エーテル107!および水20威を加えた後、水層を分
取する。分取した水層に酢酸エチル20mを加え、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液でt)I(8、5に調整した
後、有機層を分取する。分取した有機層を飽和食塩水で
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。つい
で、減圧下に溶媒を留去すれば、1O−(1−アミノシ
クロプロピル)−9−フルオロ−3−フルオロメチル−
7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピット[1,2
゜3−deE  [1,4]ペンゾオキザジン−6−カ
ルボン酸エチルエステル35mg (収率90.8%)
を得る。
IR(KBr) cm−1ニジ 1705C=0 実施例10 (S) −10−(1−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノシクロプロピル チル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7日−ピリド[
1, 2. 3−deE [1. 4]ペン’/’,t
−F?フラン6−カルボン酸エチルエステル107を酢
酸100威に溶解させ、5%パラジウム−炭素2qを加
え、常圧空温で、水素気流中、2時間撹拌する。
反応液をン濾過し、減圧下に濃縮乾固した後、得られた
残留物に塩化メチレン200 mlおよび水200 m
を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7.7に
調整する。有機層を分取し、水および飽和食塩水で順次
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧
下に溶媒を留去し、得られた残留物にジエチルエーテル
を加えて結晶を戸数すれば、(S)−10− (1−ア
ミノシクロプロピル)−〇ーフルオロー3−メチル−7
−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[1, 2
. 3 −deE  [1。
4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチルエステル
6、439(収率89.2%)を得る。
IR(KBr) cm−1: )、+   1705z
O 実施例11 (S)−10− (1−アミノシクロプロピル)−9−
フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ
−7H−ピリドr1,2,3−deコ[ゴ,4コベンゾ
オキサジンー6ーカルボン酸エチルエステル200 m
gをアセトニトリル2威およびメタノール4威の混合液
に懸濁させ、37%ホルマリン230ηおよびシアノ水
素化ホウ素ナトリウム73mgを加え、空温で2時間撹
拌する。反応液に酢酸0.1mlを加えた後、減圧下に
濃縮し、得られた残留物にクロロホルム20dlおよび
水20mlを加え、2N塩酸でpH1に調整した後、水
層を分取する。
分取した水層にクロロホルム2Or!Iiを加え、飽和
炭該水素ナトリウム水溶液でpH7.5に調整した後、
有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩
水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムク
ロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:エタノール
=20:1)で精製すれば、(S)−10− (1−ジ
メチルアミノシクロプロピル)−9−フルオロ−3−メ
チル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピット[
1.2。
3−deE  [1.4]ベンゾオキサジン−6−カル
ボン酸エチルエステル100 mg (収率47,6%
)を得る。
IR(KBr) cm−” : l,/   1715
C:O 実施例12 (S)−10− (1−アミノシクロプロピル)−9−
フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2.3−ジヒドロ
−7H−ピット[1,2.3−deE[1.4]ベンゾ
オキサジン−6−カルボン酸エチルエステル6、43g
を塩化メチレン33mlに9濁させ、水冷下、無水酢m
2.27qを加えて¥温で1時間撹拌する。反応液に水
30威を加え、析出結晶をi月収すれば、(S)−10
−(1−アセチルアミノシクロプロピル)−9−フルオ
ロ−3−メチル−7−オキソ−2,3ージヒドローフH
ーピリド[1,2,3−deコ [ 1 、 4 ] 
ペン’/4キ”)−シン−6−カルボン酸エチルエステ
ル5.859 (収率81、1%)を得る。
IR(KBr) cm” : v  1710.166
5C=0 実施例13 (S)−10− (1−アセチルアミノシクロプロピル
)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−
ジヒドロ−7日−ピリド[’l, 2. 3−deE 
 [1. 4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチ
ルエステル300 mgを無水テトラヒドロフラン3m
lおよび無水へキサメチルホスホリッタトリアミド1m
Ilに溶解させ、水冷下、60%水素化ナトリウム30
mlを加え、同温度で30分間撹拌する。
ついで、水冷下、ヨウ化メチル340 mgを加え、至
温で1時間撹拌する。反応液にクロロホルム2(7およ
び水20dを加え、2N塩酸でI)I−12に調整した
後、有供層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄した後、無水5M酸マグネシウムで乾
燥させる。減圧下に溶媒を留去()、得られた残留物を
カラムクロマトグラフィー(溶離;夜;クロロホルム:
エタノール=15 : 1 )で精製すれば、(S)−
10−[1−(N−アセチル−N−メチルアミノ)シク
ロプロピル]−9−フルオロ−3−メチルーフ−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピット[1,2,3−de
l [1,4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチ
ルエステル100 m!j (LI¥率19.2%)を
得る。
IR(KBr) cm” ニジ 1715.1645C
:0 実施例14 10−シクロプロピル−9−フルオロ−3−メチル−7
−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピット[1,2,
3−del  [1,4]ベンゾオキ+jジン−6−カ
ルボン酸エチルエステル 水酸化ナトリウム水溶液2.5ml,エタノール2.5
dおよびジオキサン2、5dを加え、室温で1.5時間
撹拌する。反応液に水10Inf!および酢酸エチル2
0威を加え、2外1塩酸でpH3に調整した後、有殿層
を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減
圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジエチルエーテ
ルを加えて結晶を罎取すれば、10−シクロプロピル−
9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3ージヒ
ドローフHーピツト[1.2.3−del  [1,4
]ベンゾオキサジン−6−カルボンWa200 mg 
(収率87.3%)を得る。
融点:263〜265°C (再結晶溶媒;クロロホルム−メタノール)IR(KB
r) cm−1;ν 1710C=O NHR( dl−TEA)δ値; 0、 90〜2. 00(7H, m) 。
2、 10〜2. 70(1N, m)。
4、 30〜5. 35 (3H, m) 。
7、 91 (IH, d, J=10. 5Hz)。
9、 26(tH, s) は、それぞれ、つぎの式の置換基を示す。
(以下余白) 及−7 大−7(牡さ) 実施例15 10−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプ
ロピル)−8,9−ジフルオロ−3−メチル−7−オキ
ソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[1,2,3−d
eコ [1,4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸2
00 mgをN、N−ジメチルホルムアミド2dに溶解
させ、ベンジルアミン319mgを加え、90〜100
°Cで4.5時間撹拌する。反応液を酢酸エチル5ml
および水5威の混合液に加え、2N塩酸でpH1に調整
した後、有機層を分取する。
分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物にジエチルエーテルを加えて結
晶を月収すれば、8−ベンジルアミノ−10−(1−ベ
ンジルオキシカルボニルアミノシクロプロピルル チル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[
1, 2. 3 −del [1. 4]ベンゾオキサ
ジン−ローカルポン酸110mff(収率46.4%)
を1qる。
IR(KBr) Cm−1 ;ν 1710C=0 同様にして、つぎの化合物を得る。
08−ベンジルアミノ−10−シクロプロピル−9−フ
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−
7H−ピリドM,2.3−de][1.4]ベンゾオキ
サジン−6−カルボン酸IR(KBr) に1B−1;
ν 1695C=O 実施例16 ベンジルアルコール230 m!JをN,N−ジメチル
ホルムアミド2戒に溶解させ、水冷下、60%水素化す
1〜ツリウム5mgを加え、空温で30分間撹拌する。
ついで、水冷下、10−(1−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノシクロプロピル)−8.9−ジフルオロ−3−
メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7日−ビット
[1,2.3−del  [1.4]ベンゾオキサジン
−6−カルボンW250 mgを加え、空温で7時間撹
拌する。反応液を酢酸エチル15m!!および水15威
の混合液に加え、2N塩酸でpH1に調整した後、有機
層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。
減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマ
ト・グラフィー(溶離液;クロロホルム:エタノール=
10 : 1)で精製すれば、8−ベンジルオキシ−1
0−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプロ
ピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2。
3−ジヒドロ−7H−ピット[1,2.3−del[1
.4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸73、Omf
f(収率24.6%)を得る。
IR(KBr) cm−’ : シ1715C=0 同様にして、つぎの化合物を得る。
o8−ベンジルオキシ−10−シクロプロピル−9−フ
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドOー
7Hーピリド[1, 2. 3 −del[1.4]ベ
ンゾオキサジン−6−カルボン酸IR(KBr) cm
−1; l,/  1−(20C=O 実施例17 8−ベンジルアミノ−1o−(1−ベンジルオキシカル
ボニルアミノシクロプロピル オロー3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7
H−ピリド[1,2,3−de]  [1,4]ベンゾ
オキサジン−6−カルボン!90.0mffを酢酸9m
lに溶解させ、5%パラジウム−炭素80.Omyを加
え、常圧空温で、水素気流中、2時間撹拌する。
反応液を濾過した後、炉液に2N塩1!!2!Mを加え
、減圧下に濃縮し、得られた残留物にエタノールを加え
て結晶をi月収すれば、8−アミノ−10−(1−アミ
ノシクロプロピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−
オキソ−2,3−ジヒドロ−71−1−ピリド[1,2
,3−de]  [1,4コベンゾオキサジン−6−カ
ルポン酸の塩酸塩45.9m’j (収率76.9%)
を得る。
融点;277〜281℃ (再結溶媒;エタノール−メタノール)IR(KBr)
 cm” : v  t695C=O NHR(dl−TFA)δ値; 1.30〜2.20(7N、m)。
4.40〜5.40(3N、m)。
9、25 (1M、 s) それぞれ、つぎの式の麗換基を示す。
(以下余白) 実施例18 8−ベンジルアミノ−10−シクロプロピル−9−フル
オロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7
H−ピリド[1,2,3−de]  [1゜4]ベンゾ
オキサジン−6−カルボンy715omgを酢酸5rd
!に溶解させ、5%パラジウム−炭素50/igを加え
、常圧空温で、水素気流中、1.5時間撹拌する。反応
液を濾過し、減圧下に濃縮乾固した後、得られた残留物
にエタノールを加えて結晶をン月収すれば、8−アミノ
−10−シクロプロピル−9−フルオロ−3−メチル−
7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7日−ピリド[1,2
,3−de]  [1゜4]ベンゾオキサジン−6−カ
ルボン酸19.7mg(収率50.5%)を得る。
融点;280℃以上 (再結溶媒;クロロホルム−エタノール)IR(KBr
) cm−1;ν 1705C=O Nl−IR(dl−TEA)δ値; 1、10〜2.00(7H,m) 。
2、10〜2.60(ltl、m1 4.30〜5.40(3H,m)。
9.32(IH,S) 同様にして、つぎの化合物を得る。
olo−シクロプロピル−9−フルオロ−8−ヒドロキ
シ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H
−ピリド[1,2,3−de]  [1゜4]ベンゾオ
キサジン−6−カルボン酸融点;262〜263℃ (再結溶媒:エタノール) IR(KBr) cm” ニジ 1720C=O N)IR(d6−D)ISO)δ値; 0.90〜1.60(7H,m)。
1.80〜2.40(IH,m)。
4、20〜5.20(38,m) 。
8、93(IH,S) 実施例19 (S)−10−[1−(N−アセチル−N−メチルアミ
ノ)シクロプロピル]−9−フルオロ−3−メチル−7
−オキソ−2,3−ジヒドロ−7日−ピッド[1,2,
3−de]  [1,4]ペンゾオキサジン−6−カル
シボンエチチルエステル90m3に6N塩酸2.5ml
を加えた後、4時間還流する。減圧下に反応液を濃縮し
、得られた残留物にエタノールを加えて結晶を月収ずれ
ば、(S)−10−(1−メチルアミノシクロプロピル
)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−
ジヒドロ−7H−ピリド[1,2,3−de]  [1
,4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸の塩酸塩50
mg(収率62.5%)を得る。
融点;240〜244°C (再結溶媒;6N塩駿−エタノール) IR(KBr) cm” : v  1720C:O NMR(dl−TEA)δ値; 1、30〜2.、20(7N、 m) 。
3、03C31−1,s) 。
4、70〜5.50(3H,m) 。
8.10(IH,d、J=10.0Hz)。
9、46(IH,S) 同様にして、表−9の化合物を得る。
れぞれ、つぎの式の置換基を示す。
(以下余白) 実施例20 30%臭化水素−酢酸溶液0.5威に、水冷下、(S)
−10−(2−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロ
プロビル)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7日−ピリド[1,2,3−de]
  [1,4]ベンゾオキサジン−ローカルポン酸5 
Qm’Jを加え、同温度で1時間撹拌する。減圧下に反
応液を濃縮し、得られた残留物にクロロホルム5威およ
び水5威を加え、水層を分取する。減圧下に溶媒を留去
し、得られた残留物にジエチルエーテルを加えて結晶を
ン月収すれば、(S)−10−(2−7ミノシクロプロ
ピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2゜
3−ジヒドロ−7日−ピリド[1,2,3−de][1
,4,]ペンゾオキザジン−6−カルボン酸の臭化水素
酸塩30mg (収率68.2%)を得る。
融点;245〜250℃ (再結溶媒;エタノール) IR(KBr) cm−1: V  1700C=0 N)IR(dl −丁FA)  δ値;1.10〜2.
30(51−1,m) 。
2.80〜3.40(11,m)。
3゜50〜4. to(IH,m)。
4、40〜5.50(31−1,m)。
7、98(IH,d、 J=10.0H2)。
9、40(it−1,s) 同様にして、つどの化合物を得る。
○(S) −10−(1−アミノシクロプロピル)−9
−フルオロ−3−メチレン−7−オキソ−2゜3−ジヒ
ドロ−71−1−ピット[1,2,3−del[1,4
]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸の臭化水素酸塩 a虫点 ; 270〜275 ℃ (再結溶媒:エタノール−メタノール)IR(KBr)
 cm−1; シ1705C=O NHR(dl −丁FA)  δ伯I;1.30〜2.
30(4N、m)。
5、34(21−1,S)。
5、95 (IH,d、 J=4.5tlz) 。
6.28(1H,d、J=4.5H2)。
8.04(IH,d、J=9.5H2)。
9、55 (11−1,S) 実施例21 (S)−10−(1−アミノシクロプロピル)−9−フ
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−
7日−ビット[1,2,3−deコ11.4]ベンゾオ
キサジン−6−カルボン酸の塩酸塩730 mgを水8
.577に溶解させ、水酸化カリウム242 mgおよ
びエタノール5.84m1を加える。ついで、60℃で
濃塩酸0.19dを30分間を要して)高下した後、2
時間を要して20℃まで冷却する。20℃で30分間撹
拌し、析出結晶をン月収すれば、(S)−10−(1−
アミノシクロプロピル)−9−フルオロ−3−メチル−
7−オキソ−2,3−ジヒドローフ日−ピリド[1,2
,3−del  [1,4コベンゾオキサジン−6−カ
ルボン9570 ml (収率87.0%)を得る。
融点;269〜271.5℃ rR(KBr) cm−’ : シ1705C=O Nl(R(dl−TEA)δ値; 1、30〜2.20(7FI、 m)。
4、45〜5.55 (3H,m) 。
8、06(IH,d、 J=9.5H2)。
9、42(IH,S) [α]ニー88.0 (C=0.5,0.05N水酸化ナトリウム水溶液)実
施例22 (S)−10−(1−7ミノシクロプロビル)−9−フ
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒド0−
7H−ピリド[1、−2,3−del[1,4]ベンゾ
オキサジン−6−カルボン酸3.009をエタノール1
20iに懸濁させ、50℃でメタンスルホン酸996 
mlを添加した後、2時間を要して20℃まで冷却し、
析出結晶を月収すれば、(S)−10−(1−アミノシ
クロプロピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキ
ソ−2,3−ジヒドロ−7日−ビット[1,2,3−d
el  [1゜4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸
のメタンスルホン酸塩3.05g(収率78゜1%)を
得る。
融点;263〜265℃ IR(にBr) cm” : シ1710C=O NHR(D20)δ値; 1.30〜1.90(7N、m)。
2、84(3N、 S) 。
4.25〜5.20(3H,m)。
7.53(IH,d、 J=10.0H2)。
8、84(IH,S)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 「式中、R^1は水素原子またはカルボキシル保護基を
    ;R^2は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、保
    護されていてもよいヒドロキシル基、保護されていても
    よいアミノ基、保護されていてもよい低級アルキルアミ
    ノ基またはジ−低級アルキルアミノ基を;R^3は水素
    原子、低級アルキル基、保護されていてもよいアミノ基
    、保護されていてもよい低級アルキルアミノ基、ジ−低
    級アルキルアミノ基、保護されていてもよいカルボキシ
    ル基、保護されていてもよいアミノ低級アルキル基、保
    護されていてもよい低級アルキルアミノ低級アルキル基
    、ジ−低級アルキルアミノ低級アルキル基および保護さ
    れていてもよいヒドロキシ低級アルキル基から選ばれる
    1つ以上の基を;R^4は水素原子、低級アルキル基、
    ハロゲノ低級アルキル基、保護されていてもよいヒドロ
    キシ低級アルキル基、低級アルキリデン基およびR^4
    が結合する炭素原子とともにシクロアルカン環を形成す
    る基から選ばれる1つ以上の基を;Xはハロゲン原子を
    ;およびAは酸素原子もしくは硫黄原子または低級アル
    キル基で置換されていてもよいイミノ基を示す。」 で表わされるピリドンカルボン酸誘導体およびその塩。
JP1075873A 1988-03-28 1989-03-28 新規なピリドンカルボン酸誘導体およびその塩並びにそれらの製造法 Granted JPH0228178A (ja)

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