JPH02265297A - 厚膜多層基板の製造方法 - Google Patents
厚膜多層基板の製造方法Info
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- JPH02265297A JPH02265297A JP8626089A JP8626089A JPH02265297A JP H02265297 A JPH02265297 A JP H02265297A JP 8626089 A JP8626089 A JP 8626089A JP 8626089 A JP8626089 A JP 8626089A JP H02265297 A JPH02265297 A JP H02265297A
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- Japan
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- resistor
- insulating layer
- opening
- trimming
- thick film
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- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000009966 trimming Methods 0.000 abstract description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 abstract description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 101000859864 Rattus norvegicus Gamma-crystallin E Proteins 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は抵抗体上にも絶縁層を形成した厚膜多層基板の
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
従来の技術
従来多層基板における抵抗体は、トリミングができない
ため絶縁、苦の下に形成することはできなかった。した
がって多５層基板における抵抗体は、前記多層基板の最
上層である絶縁層上に形成するか、絶縁層の下に設ける
場合は、抵抗値許容差３０％以上の非常に精度の悪い抵
抗体しか形成できず、厚膜多層基板の本来の目的である
高精度高密度実装が阻害されるといった問題があった。
ため絶縁、苦の下に形成することはできなかった。した
がって多５層基板における抵抗体は、前記多層基板の最
上層である絶縁層上に形成するか、絶縁層の下に設ける
場合は、抵抗値許容差３０％以上の非常に精度の悪い抵
抗体しか形成できず、厚膜多層基板の本来の目的である
高精度高密度実装が阻害されるといった問題があった。
発明が解決しようとする課題
本発明はこのような間頌点を解決するもので、絶縁層の
下の抵抗体についても抵抗値のトリミングを可能とする
ことにより、厚膜多層基板における高精度高密度実装化
をより発展させることを目的とする。
下の抵抗体についても抵抗値のトリミングを可能とする
ことにより、厚膜多層基板における高精度高密度実装化
をより発展させることを目的とする。
課題を解決するだめの手段
そこで本発明は、銅多層基板の抵抗体上の絶縁層に、抵
抗値トリミング用の開口部を部分的にトリミング方法に
合せてあけ、この開口部より抵抗値のトリミングを行な
うことにより、高精度な抵抗体を得、さらに抵抗体上の
絶縁層に、抵抗値トリミング用の開口部を避けて、導体
、抵抗体、オーバコート材を印刷することにより、絶縁
層の下に抵抗体を設けた、厚膜多層基板を形成するもの
である。
抗値トリミング用の開口部を部分的にトリミング方法に
合せてあけ、この開口部より抵抗値のトリミングを行な
うことにより、高精度な抵抗体を得、さらに抵抗体上の
絶縁層に、抵抗値トリミング用の開口部を避けて、導体
、抵抗体、オーバコート材を印刷することにより、絶縁
層の下に抵抗体を設けた、厚膜多層基板を形成するもの
である。
作用
この構成により、抵抗体上に絶縁層を形成することを可
能とし、且つ抵抗体上に絶縁層を介して、導体、抵抗体
の形成を可能にするものである。
能とし、且つ抵抗体上に絶縁層を介して、導体、抵抗体
の形成を可能にするものである。
実施例
以下、本発明の一実施例を示す第１図〜第４図を用いて
説明する、第１図により本発明による厚膜多層基板の構
成を説明する。１のセラミ０．り基板に、２の導体を形
成し、次に３の抵抗体を形成する、その上に抵抗体３の
トリミング部分のみ開口部を設けた絶縁層４全印刷する
。最後に６のオーバコート材を印刷して、銅多層基板が
形成される、６は抵抗体のトリミング溝で、７は抵抗体
のトリミング溝ｅに合せた絶縁層の開口部である。
説明する、第１図により本発明による厚膜多層基板の構
成を説明する。１のセラミ０．り基板に、２の導体を形
成し、次に３の抵抗体を形成する、その上に抵抗体３の
トリミング部分のみ開口部を設けた絶縁層４全印刷する
。最後に６のオーバコート材を印刷して、銅多層基板が
形成される、６は抵抗体のトリミング溝で、７は抵抗体
のトリミング溝ｅに合せた絶縁層の開口部である。
第２図、第３図、第４図、第５図により、トリミング方
法による、絶縁層の開口部について説明する。第２図は
レーザトリミングのストレートカットに対する、絶縁層
の開口部で、１はセラミック基板、２け導体、３は抵抗
体、４は絶縁層、７は絶縁層の開口部である。第３図は
レーザ） ＩＪミングのダプルカ７トに対する、絶縁層
の開口部で、１はセラミック基板、２は導体、３は抵抗
体、４は絶縁層、７は絶縁層の開口部である。第４図は
レーザトリミングのＬ（工／Ｉ／）力、ットに対する、
絶縁層の開口部である。第５図はサンドブラストによる
トリミングに対する絶縁層の開口部である。
法による、絶縁層の開口部について説明する。第２図は
レーザトリミングのストレートカットに対する、絶縁層
の開口部で、１はセラミック基板、２け導体、３は抵抗
体、４は絶縁層、７は絶縁層の開口部である。第３図は
レーザ） ＩＪミングのダプルカ７トに対する、絶縁層
の開口部で、１はセラミック基板、２は導体、３は抵抗
体、４は絶縁層、７は絶縁層の開口部である。第４図は
レーザトリミングのＬ（工／Ｉ／）力、ットに対する、
絶縁層の開口部である。第５図はサンドブラストによる
トリミングに対する絶縁層の開口部である。
発明の効果
以上のように本発明によると、抵抗体の上にも絶縁層を
形成でき、厚膜多層基板の特徴である高精度高密度実装
をより発展させることができる。
形成でき、厚膜多層基板の特徴である高精度高密度実装
をより発展させることができる。
第１図は本発明の一実施例による厚膜多層基板の断面図
、第２図〜第６図は抵抗体のトリミング方法に応じた絶
縁層の開口部の形状を示す斜視図である。 １・・・・・・セラミック基板、２・・・・・・導体、
３・・・・・・抵抗体、４・・・・・・絶縁層、５・・
・・・・オーバコート材、６・・・・・トリミング溝、
７・・・・・・絶縁層開口部。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名１
図 １“°−アルミナ基４反 Ｚ−−一 導 イネ ３−・オムオブ乙る挙、 ４− 把１し可 ５・−オーツ＼゛コート材 乙−トリミング溝 γ・−２，縁 第 ３ 区 グ ｌｆＪ図 乙
、第２図〜第６図は抵抗体のトリミング方法に応じた絶
縁層の開口部の形状を示す斜視図である。 １・・・・・・セラミック基板、２・・・・・・導体、
３・・・・・・抵抗体、４・・・・・・絶縁層、５・・
・・・・オーバコート材、６・・・・・トリミング溝、
７・・・・・・絶縁層開口部。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名１
図 １“°−アルミナ基４反 Ｚ−−一 導 イネ ３−・オムオブ乙る挙、 ４− 把１し可 ５・−オーツ＼゛コート材 乙−トリミング溝 γ・−２，縁 第 ３ 区 グ ｌｆＪ図 乙
Claims (1)
- セラミック基板の抵抗体及び前記抵抗体を相互配線する
導体の上に、絶縁層を印刷し、さらに前記絶縁層の上に
導体を印刷することにより形成する厚膜多層基板におい
て、前記抵抗体及び導体を被覆する絶縁層の抵抗体部分
に開口部を設けたことを特徴とする厚膜多層基板の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8626089A JPH02265297A (ja) | 1989-04-05 | 1989-04-05 | 厚膜多層基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8626089A JPH02265297A (ja) | 1989-04-05 | 1989-04-05 | 厚膜多層基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02265297A true JPH02265297A (ja) | 1990-10-30 |
Family
ID=13881851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8626089A Pending JPH02265297A (ja) | 1989-04-05 | 1989-04-05 | 厚膜多層基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02265297A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04233787A (ja) * | 1990-12-28 | 1992-08-21 | Mitsubishi Materials Corp | 多層配線基板 |
| US5593722A (en) * | 1992-12-22 | 1997-01-14 | Nippondenso Co., Ltd. | Method of producing thick multi-layer substrates |
| JP2008130748A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-06-05 | Nippon Mektron Ltd | 抵抗素子を内蔵するプリント配線板の製造法 |
-
1989
- 1989-04-05 JP JP8626089A patent/JPH02265297A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04233787A (ja) * | 1990-12-28 | 1992-08-21 | Mitsubishi Materials Corp | 多層配線基板 |
| US5593722A (en) * | 1992-12-22 | 1997-01-14 | Nippondenso Co., Ltd. | Method of producing thick multi-layer substrates |
| JP2008130748A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-06-05 | Nippon Mektron Ltd | 抵抗素子を内蔵するプリント配線板の製造法 |
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