JPH05218661A - 多層配線板の製造方法 - Google Patents

多層配線板の製造方法

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Publication number
JPH05218661A
JPH05218661A JP4046011A JP4601192A JPH05218661A JP H05218661 A JPH05218661 A JP H05218661A JP 4046011 A JP4046011 A JP 4046011A JP 4601192 A JP4601192 A JP 4601192A JP H05218661 A JPH05218661 A JP H05218661A
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JP
Japan
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layer
resistor
hole
circuit
insulating layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP4046011A
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English (en)
Inventor
Tokisada Takeda
時定 竹田
Hiroyoshi Yokoyama
博義 横山
Yasuhiro Nakamura
康宏 中村
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Lincstech Circuit Co Ltd
Original Assignee
Hitachi AIC Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi AIC Inc filed Critical Hitachi AIC Inc
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Publication of JPH05218661A publication Critical patent/JPH05218661A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 高密度化を可能とする。 【構成】 内層回路2に抵抗体3を形成する。次に基板
1の表面に絶縁層5を形成する。そして抵抗体3の上の
絶縁層5の部分に穴8を設ける。さらにこの穴8と絶縁
層5表面にめっき層12及び外層回路10を形成して多
層配線板を製造する。また、穴8をエキシマレーザーに
より形成する。この場合、抵抗体3の表面に金属層4を
設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は多層配線板の製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】多層配線板は、内層回路と外層回路との
間に抵抗体を接続するのに、図4又は図5に示す構成に
なっている。すなわち、図4は、抵抗体21を外層回路
22表面に直接接続している。そして外層回路22と内
層回路23とを絶縁する絶縁層24に内層回路23に連
結する穴25を設ける。この穴25内と絶縁層24の表
面にはめっき層26を形成する。抵抗体21は、このめ
っき層26により内層回路23に接続している。また、
図5は、内層回路27の表面に抵抗体28を接続するも
ので、絶縁層29に内層回路27に連結する穴30を設
けるとともに、穴30内と絶縁層29表面にめっき層3
1を形成している。そしてこのめっき層31と外層回路
32とを接触することによって、抵抗体28と外層回路
32とを接続している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図4に示す従
来例では、抵抗体21を外層回路22の表面に形成して
いる分だけ厚くなる欠点がある。また、ICやLSI等
の電子部品を抵抗体21に重ねて基板に接続し難く、高
密度化が困難である。そして、抵抗体21と内層回路2
3とを接続するめっき層26が比較的長くなり、高密度
化の妨げとなる欠点がある。
【0004】図5の従来例では、抵抗体28を絶縁層2
9内に配置しているため、厚くなることなく、IC等も
絶縁層29を介して抵抗体28の上に接続できる。しか
し、抵抗体28と外層回路32とを電気的に接続するた
めのめっき層31が長くなり、高密度化の妨げとなる欠
点がある。
【0005】本発明の目的は、以上の欠点を改良し、高
密度化の可能な多層配線板の製造方法を提供するもので
ある。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、上記
の目的を達成するために、内層回路を形成した基板に絶
縁層を形成した後、この絶縁層に穴を形成し、この穴と
前記絶縁層の表面とにめっき層を形成する多層配線板の
製造方法において、内層回路の表面に抵抗体を設ける工
程と、この工程後に絶縁層を形成する工程と、この工程
後に前記抵抗体の上の前記絶縁層の部分に穴を設ける工
程とを行うことを特徴とする多層配線板の製造方法を提
供するものである。
【0007】また、請求項2の発明は、請求項1におい
て、抵抗体を設けた後、絶縁層を形成する前に前記抵抗
体の表面に金属層を設ける工程にと、穴をエキシマレー
ザーにより設ける工程とを行うことを特徴とする多層配
線板の製造方法を提供するものである。
【0008】抵抗体は、例えば抵抗ペーストを印刷して
形成する。また、金属層は銅ペスト等の金属ペーストを
印刷して形成する。
【0009】
【作用】抵抗体の上の絶縁層に穴を形成し、この穴内に
めっき層を形成することにより、抵抗体を、内層回路を
迂回することなく外層回路に接続でき、高密度化が可能
となる。
【0010】なお、抵抗体の上層の絶縁層は薄いため、
ドリルによっては精度の高い穴を設け難い。その点、抵
抗体の表面に銅ペーストを印刷等して金属層を設け、エ
キシマレーザーを照射すれば、このエキシマレーザーの
波長が短波長のために通常、樹脂材からなる絶縁層のみ
を分解し、金属層を分解し難く、高精度の穴を容易に形
成できる。
【0011】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
先ず、図1に示す通り、基板1として内層回路2入りの
積層板を用いる。そして内層回路2の一部の表面に、印
刷抵抗カーボンペースト(太陽インク製造株式会社製
RH100K)を印刷して抵抗体3を形成する。抵抗体
3の表面には、耐めっき液性を有しかつめっきの可能な
銅ペースト(株式会社アサヒ化学研究所製 ACP−0
07P)を印刷し乾燥して金属層4を形成する。その
後、基板1の表面にエポキシ樹脂を主成分とし、硬化剤
にイミダゾール、充填剤にシリカを含む絶縁層5を形成
する。絶縁層5の表面には、さらにエポキシ樹脂及びニ
トリルブタシエンゴムを主成分とし、硬化剤としてイミ
ダゾール、充填剤としてシリカを含む接着剤層6を形成
する。
【0012】接着剤層6を形成後、図2に示す通り、ド
リルを用いて基板1を貫通する孔7を形成する。また、
抵抗体3及び金属層4の上の絶縁層5に、エキシマレー
ザーを照射して穴8を形成する。
【0013】穴8を形成後、図3に示す通り、接着剤層
6の表面に所定のパターンのめっきレジスト層9を形成
する。めっきレジスト層9を形成後、無電解銅めっき処
理をして、接着剤層6表面に外層回路10を形成すると
ともに、孔7内壁及び穴8内に各々めっき層11及び1
2を形成する。
【0014】上記の実施例によれば、金属層4の上の絶
縁層5に穴8を設け、この穴8に形成しためっき層12
により、抵抗体3と外層回路10とを接続しているため
に、めっき層12が短くてすむ。
【0015】
【発明の効果】以上の通り、請求項1の発明の製造方法
によれば、内層回路の表面に抵抗体を設けるとともに、
この抵抗体の上の絶縁層に穴を設け、穴に設けためっき
層により抵抗体と外層回路とを接続しているために高密
度化が可能な多層配線板が得られる。また、請求項2の
発明の製造方法によれば、さらに、抵抗体の表面に金属
層を設け、穴をエキシマレーザーにより形成しているた
め精度の高い穴を形成できる多層配線板が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】接着剤層までを設けた本発明の実施例の断面図
を示す。
【図2】穴までを設けた本発明の実施例の断面図を示
す。
【図3】本発明の実施例の多層配線板の断面図を示す。
【図4】従来の多層配線板の断面図を示す。
【図5】従来の他の多層配線板の断面図を示す。
【符号の説明】
1…基板、 2…内層回路、 3…抵抗体、 4…金属
層、 5…絶縁層、8…穴、 10…外層回路、 12
…めっき層。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 内層回路を形成した基板に絶縁層を形成
    した後、この絶縁層に穴を形成し、この穴と前記絶縁層
    の表面とにめっき層を形成する多層配線板の製造方法に
    おいて、内層回路の表面に抵抗体を設ける工程と、この
    工程後に絶縁層を形成する工程と、この工程後に前記抵
    抗体の上の前記絶縁層の部分に穴を設ける工程とを行う
    ことを特徴とする多層配線板の製造方法。
  2. 【請求項2】 請求項1において、抵抗体を設けた後、
    絶縁層を形成する前に前記抵抗体の表面に金属層を設け
    る工程と、穴をエキシマレーザーにより設ける工程とを
    行うことを特徴とする多層配線板の製造方法。
JP4046011A 1992-01-31 1992-01-31 多層配線板の製造方法 Pending JPH05218661A (ja)

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JP4046011A JPH05218661A (ja) 1992-01-31 1992-01-31 多層配線板の製造方法

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JP (1) JPH05218661A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6678951B2 (en) * 1996-09-27 2004-01-20 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Method of forming electrical interconnects having electromigration-inhibiting plugs

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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