JPH02258978A - 長尺物の連続イオンプレーティング装置 - Google Patents
長尺物の連続イオンプレーティング装置Info
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- JPH02258978A JPH02258978A JP7668189A JP7668189A JPH02258978A JP H02258978 A JPH02258978 A JP H02258978A JP 7668189 A JP7668189 A JP 7668189A JP 7668189 A JP7668189 A JP 7668189A JP H02258978 A JPH02258978 A JP H02258978A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、連続ドライブレーティングに係わり、詳しく
は金属ストリップなどの長尺物に均一な膜厚分布を有す
る被膜を形成する方法に関するものである。
は金属ストリップなどの長尺物に均一な膜厚分布を有す
る被膜を形成する方法に関するものである。
〈従来の技術〉
近年、各種素材の表面に別物質の薄膜をＰＶＤ法（Ｐｈ
ｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｕｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）
又はＣＶＤ法（Ｃｈｅｍｉｃａｆ Ｖａｐｏｕｒ Ｄｏ
ｐｏｓｉＬｉｏｎ）などのドライブレーティングにより
成膜させ、素材の緒特性を向上させる手法が盛んに用い
られている１例えば、鋼板（又は綱−ＩＦ）への亜鉛蒸
着による耐蝕性向上、ドリル刃あるいはバイトへのＴＡ
Ｎ、丁ＩＣ蒸着による耐摩耗性向上などがあげられる。
ｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｕｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）
又はＣＶＤ法（Ｃｈｅｍｉｃａｆ Ｖａｐｏｕｒ Ｄｏ
ｐｏｓｉＬｉｏｎ）などのドライブレーティングにより
成膜させ、素材の緒特性を向上させる手法が盛んに用い
られている１例えば、鋼板（又は綱−ＩＦ）への亜鉛蒸
着による耐蝕性向上、ドリル刃あるいはバイトへのＴＡ
Ｎ、丁ＩＣ蒸着による耐摩耗性向上などがあげられる。
ＴｉＮは耐摩耗性を向上するのみならず、その美麗な
黄金色により装飾用として広く利用されている０Ｍｋ近
は、ＴｉＮのようなセラミック［１をステンレス鋼帯な
どの長尺物の表面に連続的に形成することが可能となり
、耐蝕性と装飾性を兼ね備えた素材としての用途が開拓
されている。
黄金色により装飾用として広く利用されている０Ｍｋ近
は、ＴｉＮのようなセラミック［１をステンレス鋼帯な
どの長尺物の表面に連続的に形成することが可能となり
、耐蝕性と装飾性を兼ね備えた素材としての用途が開拓
されている。
上記のような被膜を密着性よく形成させるために、蒸発
物をイオン化して被着するイオンプレーティングが広く
利用されている。この際、最も重要な要因は被膜の均一
性、すなわち、成膜後の製品特性の均一性を確保するこ
とであり、この対策として、特願昭６３−１５３６４９
号には、長尺物下側に複数のコイルを配置し、磁場を長
尺物表面に垂直に形成し、表面近傍で磁力線を発散させ
る方法が提案されている。
物をイオン化して被着するイオンプレーティングが広く
利用されている。この際、最も重要な要因は被膜の均一
性、すなわち、成膜後の製品特性の均一性を確保するこ
とであり、この対策として、特願昭６３−１５３６４９
号には、長尺物下側に複数のコイルを配置し、磁場を長
尺物表面に垂直に形成し、表面近傍で磁力線を発散させ
る方法が提案されている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかし、上記の特願昭６３−１５３６４９号の方法は、
磁束密度が長尺物の表面近傍で低下するため、イオン化
された蒸発物を拘束することが困難となり、蒸発物は直
進傾向をもつためコイル直上部の膜厚が増加し、板幅方
向端部が薄くなる傾向があり、膜厚分布は山型になりや
すく、これを制御するためにはコイル形状の厳密な制ｊ
ｎを要することなど困難な問題が存在する。なお、蒸発
源と長尺物の距離を大きくすることによりこの問題の改
善が可能であるが、無効蒸気量が多くなり、真空槽内の
駆動部や内部観察窓への堆積により操業性を阻害するこ
と、及び経済性も著しく悪化するため好適な方法とは言
えない。
磁束密度が長尺物の表面近傍で低下するため、イオン化
された蒸発物を拘束することが困難となり、蒸発物は直
進傾向をもつためコイル直上部の膜厚が増加し、板幅方
向端部が薄くなる傾向があり、膜厚分布は山型になりや
すく、これを制御するためにはコイル形状の厳密な制ｊ
ｎを要することなど困難な問題が存在する。なお、蒸発
源と長尺物の距離を大きくすることによりこの問題の改
善が可能であるが、無効蒸気量が多くなり、真空槽内の
駆動部や内部観察窓への堆積により操業性を阻害するこ
と、及び経済性も著しく悪化するため好適な方法とは言
えない。
本発明は、このような問題を解決した長尺物のイオンプ
レーティング装置を提供することを目的とする。
レーティング装置を提供することを目的とする。
〈課題を解決するための手段〉
本発明者等は、上記のような背景により、無効蒸気の発
生量を低減させつつ、長尺物板幅方向の膜厚分布を均一
化する手段を鋭意研究した結果、磁束が長尺物表Ｗｊｌ
１Ｍ方向に存在することにより、イオン化された蒸発物
が長尺物幅方向に分散され、均一化が達成されることを
見出し、本発明を完成したものである。
生量を低減させつつ、長尺物板幅方向の膜厚分布を均一
化する手段を鋭意研究した結果、磁束が長尺物表Ｗｊｌ
１Ｍ方向に存在することにより、イオン化された蒸発物
が長尺物幅方向に分散され、均一化が達成されることを
見出し、本発明を完成したものである。
すなわち本発明は、金属ストリップなどの長尺物に連続
的にイオンプレーティングする装置の成膜位置に、長尺
物の蒸着面の反対側の面に接触しかつロール軸を長尺物
の長手方向と直角方向にして永久磁石又は電磁石製のロ
ールを設けたことを特徴するものである。
的にイオンプレーティングする装置の成膜位置に、長尺
物の蒸着面の反対側の面に接触しかつロール軸を長尺物
の長手方向と直角方向にして永久磁石又は電磁石製のロ
ールを設けたことを特徴するものである。
〈作用〉
本発明の原理は、荷電を有する粒子が磁場中を移動する
際、磁力線に巻付くように運動することを利用している
。すなわち、第４図に示すように、磁極が長尺物端部に
あると磁力線１８が、長尺物の幅方向に走るため、下方
から飛来したイオン化されている粒子は、その磁力！１
８方向に分散され、長尺物端部の膜厚が増加する。
際、磁力線に巻付くように運動することを利用している
。すなわち、第４図に示すように、磁極が長尺物端部に
あると磁力線１８が、長尺物の幅方向に走るため、下方
から飛来したイオン化されている粒子は、その磁力！１
８方向に分散され、長尺物端部の膜厚が増加する。
前述したように、従来法である、磁場を長尺物表面に垂
直に形成し、長尺物表面近傍で磁力線を発散させ長尺物
端部の膜厚を増加させる方法においては、中央部の膜厚
が厚くなるが、本発明の場合は長尺物ｉａ５はど磁束密
度は大きくなるため、イオン化された蒸発物の運動に与
える効果は減衰しない。
直に形成し、長尺物表面近傍で磁力線を発散させ長尺物
端部の膜厚を増加させる方法においては、中央部の膜厚
が厚くなるが、本発明の場合は長尺物ｉａ５はど磁束密
度は大きくなるため、イオン化された蒸発物の運動に与
える効果は減衰しない。
〈実施例〉
本発明の装置の一実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は、−殻内に使用される片面交互成膜型のイオン
プレーティング装置に本発明を適用した本発明の一実施
例の概略図である。１は被成膜物である長尺物、２ａ〜
２ｃは長尺物を高真空にｔＪ卜気されたイオンプレーテ
ィング室へ導入するための段階的に圧力が低くなってい
る入側差圧室、３ａ〜３ｄはそれぞれの差圧室２８〜２
ｃ間の気体の流れを最小限とするためのシールロールで
ある。
プレーティング装置に本発明を適用した本発明の一実施
例の概略図である。１は被成膜物である長尺物、２ａ〜
２ｃは長尺物を高真空にｔＪ卜気されたイオンプレーテ
ィング室へ導入するための段階的に圧力が低くなってい
る入側差圧室、３ａ〜３ｄはそれぞれの差圧室２８〜２
ｃ間の気体の流れを最小限とするためのシールロールで
ある。
４は長尺物を好適なイオンプレーティング温度とするた
めの予備加熱装置であり、通常は電子銃や赤外線照射装
置が使用される。５はイオンプレーティングを施すため
のイオンプレーティング室、６および９は蒸発物を収容
するためのるつぼ、７および１０は蒸発物、８ａ、８ｂ
は長尺物の方向を変えるためのガイドロール、１１ａ〜
ｌｌｃは出側差圧室、１２ａ〜１２ｄはシールロール、
１３はペイオフリール、１４は巻取りリール、１５ａ−
１５ｄは差圧室右よびイオンプレーティング室を排気す
るための真空ポンプである。さらに、図示しないが、蒸
発源のための熱源が必要である。
めの予備加熱装置であり、通常は電子銃や赤外線照射装
置が使用される。５はイオンプレーティングを施すため
のイオンプレーティング室、６および９は蒸発物を収容
するためのるつぼ、７および１０は蒸発物、８ａ、８ｂ
は長尺物の方向を変えるためのガイドロール、１１ａ〜
ｌｌｃは出側差圧室、１２ａ〜１２ｄはシールロール、
１３はペイオフリール、１４は巻取りリール、１５ａ−
１５ｄは差圧室右よびイオンプレーティング室を排気す
るための真空ポンプである。さらに、図示しないが、蒸
発源のための熱源が必要である。
本発明においては、るつぼ６及び９の位置において、長
尺物」の蒸着物の反対側の面に接触しがつロール軸を長
尺物１の長手方向と直角方向にして、永久磁石又は電磁
石製のロール１６が設けである。
尺物」の蒸着物の反対側の面に接触しがつロール軸を長
尺物１の長手方向と直角方向にして、永久磁石又は電磁
石製のロール１６が設けである。
第２図は第１図の要部拡大図であり、１７はロール１６
のロールシャフトである。第３図は第２図の１−１矢視
図である。なお、図中には磁石を支持する部材を省略し
である。
のロールシャフトである。第３図は第２図の１−１矢視
図である。なお、図中には磁石を支持する部材を省略し
である。
このような装置により、長尺物１の両面にイオンプレー
ティングによる均一な成膜が可能である。
ティングによる均一な成膜が可能である。
なお、ロール１６の胴長は長尺物１の板幅の２より大き
く、板幅の長さ程度であることが好ましい。
く、板幅の長さ程度であることが好ましい。
あまりに短い場合、或いは長い場合は長尺物１の端部の
膜ｊ７が薄くなるため好ましくない。
膜ｊ７が薄くなるため好ましくない。
長尺物１がＰａなどの強磁性体の場合は、ロール１６に
より吸引接触させて通板させながらイオンプレーティン
グを施す、この場合は、長尺物のだれがなく、安定して
イオンプレーティングを施すことが可能となる。
より吸引接触させて通板させながらイオンプレーティン
グを施す、この場合は、長尺物のだれがなく、安定して
イオンプレーティングを施すことが可能となる。
〈発明の効果〉
以上説明したように、本発明により、長尺物の幅方向端
部と中央部の膜厚分布が均一化され、品質の一定したイ
オンプレーティング材が得られる。
部と中央部の膜厚分布が均一化され、品質の一定したイ
オンプレーティング材が得られる。
第１図は本発明の一実施例の全体構成を示す概略図、第
２図は第１図の要部拡大図、第３図は第２図の！−１線
矢視図、第４図は本発明の詳細な説明図である。 ｌ・・・長尺物、 ２ａ〜２ｃ・・・入側差圧室、 ３ａ〜３ｄ・・・シールロール、 ４・・・予備加熱装置 ５・・・イオンプレーティング室、 ６．９・・・るつぼ、 ７、ｌＯ・・・蒸発物、 ８ａ、８ｂ・・・ガイドロール、 １１ ａ −１１ｃ・・・出側差圧室、１２ａ〜１２ｄ
・・・シールロール、 １３・・・ペイオフリール、 １４・・・巻取リリール、 １５ａ−１５ｄ・・・真空ポンプ、 １６・・・永久磁石又は電磁石ロール、１７・・・ロー
ルシャフト、 １８・・・磁力線。
２図は第１図の要部拡大図、第３図は第２図の！−１線
矢視図、第４図は本発明の詳細な説明図である。 ｌ・・・長尺物、 ２ａ〜２ｃ・・・入側差圧室、 ３ａ〜３ｄ・・・シールロール、 ４・・・予備加熱装置 ５・・・イオンプレーティング室、 ６．９・・・るつぼ、 ７、ｌＯ・・・蒸発物、 ８ａ、８ｂ・・・ガイドロール、 １１ ａ −１１ｃ・・・出側差圧室、１２ａ〜１２ｄ
・・・シールロール、 １３・・・ペイオフリール、 １４・・・巻取リリール、 １５ａ−１５ｄ・・・真空ポンプ、 １６・・・永久磁石又は電磁石ロール、１７・・・ロー
ルシャフト、 １８・・・磁力線。
Claims (1)
- 金属ストリップなどの長尺物に連続的にイオンプレー
ティングする装置の成膜位置に、長尺物の蒸着面の反対
側の面に接触しかつロール軸を長尺物の長手方向と直角
方向にして永久磁石又は電磁石製のロールを設けたこと
を特徴とする長尺物の連続イオンプレーティング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7668189A JPH02258978A (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | 長尺物の連続イオンプレーティング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7668189A JPH02258978A (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | 長尺物の連続イオンプレーティング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02258978A true JPH02258978A (ja) | 1990-10-19 |
Family
ID=13612175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7668189A Pending JPH02258978A (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | 長尺物の連続イオンプレーティング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02258978A (ja) |
-
1989
- 1989-03-30 JP JP7668189A patent/JPH02258978A/ja active Pending
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