JPS61260425A - 磁気記録媒体製造装置 - Google Patents
磁気記録媒体製造装置Info
- Publication number
- JPS61260425A JPS61260425A JP10136085A JP10136085A JPS61260425A JP S61260425 A JPS61260425 A JP S61260425A JP 10136085 A JP10136085 A JP 10136085A JP 10136085 A JP10136085 A JP 10136085A JP S61260425 A JPS61260425 A JP S61260425A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic recording
- recording medium
- electrodes
- manufacturing apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、有機分子からなるフィルムを基板としたフロ
ッピディスクあるいは磁気テープを製造する装置に係り
、特に基板の表・裏面に同時にスパッタ膜を形成させる
磁気記録媒体製造装置に関する。
ッピディスクあるいは磁気テープを製造する装置に係り
、特に基板の表・裏面に同時にスパッタ膜を形成させる
磁気記録媒体製造装置に関する。
従来の装置は、特開昭５７−７８６２８号に記載のよう
に、基板のフィルムに対して片面のみの成膜法となって
いる０本発明では両面同時成膜とし、フィルム特性の安
定化、生産性の向上、コストダウン等の点に於て、従来
の装置より優れているものとなっている。
に、基板のフィルムに対して片面のみの成膜法となって
いる０本発明では両面同時成膜とし、フィルム特性の安
定化、生産性の向上、コストダウン等の点に於て、従来
の装置より優れているものとなっている。
本発明の目的は、有機高分子からなる長尺状フィルムの
表面と裏面に同時に、かつ連続的にスパッタ膜を形成さ
せる装置に関しており、特にフロッピディスクのように
ディスクの表・裏面に磁気記録層を有する媒体において
、表・裏面ともに同一の磁気特性を有し、かつカールの
無い長尺状フィルム原反を安定に製造する装置を提供す
ることにある。
表面と裏面に同時に、かつ連続的にスパッタ膜を形成さ
せる装置に関しており、特にフロッピディスクのように
ディスクの表・裏面に磁気記録層を有する媒体において
、表・裏面ともに同一の磁気特性を有し、かつカールの
無い長尺状フィルム原反を安定に製造する装置を提供す
ることにある。
磁気記録の高密度化に伴い、記録媒体はγ−Ｆｅ、Ｏ，
に代表される磁性粉微粒子を有機ジインダで混練しそれ
を基体上に塗布した、いわゆる塗布型媒体から、Ｆｅ、
Ｃｏ、Ｎｉ等を主成分とした強磁性金属をスパッタ法、
真空蒸着法等で基体上に形成した、磁性薄膜媒体へと移
行しつつある。
に代表される磁性粉微粒子を有機ジインダで混練しそれ
を基体上に塗布した、いわゆる塗布型媒体から、Ｆｅ、
Ｃｏ、Ｎｉ等を主成分とした強磁性金属をスパッタ法、
真空蒸着法等で基体上に形成した、磁性薄膜媒体へと移
行しつつある。
特に最近においては記録密度の飛躍的向上が期待できる
重置磁気記録用の媒体として、Ｇｏ−Ｃｒ膜の研究が精
力的に行なわれている０通常このＧｏ−Ｃｒ膜を用いた
フロッピディスクを作製するには、有機高分子からなる
長尺状のフィルムを巻取りながら、スパッタ法あるいは
真空蒸着法を用いてＣｏ−Ｃｒ膜をベースフィルム表面
に被着形成する。しかる後に再度ベースフィルム裏面に
Ｃｏ −Ｃｒｌ［を被着しフィルム原反を作製し、その
後フロッピディスクの形状に打抜く方法がとられている
。しかしこの方法では、Ｃｏ−Ｃｒ膜を順次フィルムの
表面・裏面に被着するため製造プロセスが複雑になると
ともに、表・裏面に同一膜厚のＧ ｏ−Ｃｒｌ！ｉを形
成しても、フィルムに被着する時の基板温度、あるいは
温度履歴が微妙に異なるため、同一特性をもったＧｏ−
Ｃｒ膜が得にくいとともに、フィルムにカールが残り平
坦な記録媒体が得にくいという問題点がある。
重置磁気記録用の媒体として、Ｇｏ−Ｃｒ膜の研究が精
力的に行なわれている０通常このＧｏ−Ｃｒ膜を用いた
フロッピディスクを作製するには、有機高分子からなる
長尺状のフィルムを巻取りながら、スパッタ法あるいは
真空蒸着法を用いてＣｏ−Ｃｒ膜をベースフィルム表面
に被着形成する。しかる後に再度ベースフィルム裏面に
Ｃｏ −Ｃｒｌ［を被着しフィルム原反を作製し、その
後フロッピディスクの形状に打抜く方法がとられている
。しかしこの方法では、Ｃｏ−Ｃｒ膜を順次フィルムの
表面・裏面に被着するため製造プロセスが複雑になると
ともに、表・裏面に同一膜厚のＧ ｏ−Ｃｒｌ！ｉを形
成しても、フィルムに被着する時の基板温度、あるいは
温度履歴が微妙に異なるため、同一特性をもったＧｏ−
Ｃｒ膜が得にくいとともに、フィルムにカールが残り平
坦な記録媒体が得にくいという問題点がある。
本発明者等はフィルムの表面と裏面にまったく同時にＣ
ｏ−Ｃｒ膜を被着すれば、上記したような問題が解決で
きることを見出した。以下本発明の詳細な説明する。
ｏ−Ｃｒ膜を被着すれば、上記したような問題が解決で
きることを見出した。以下本発明の詳細な説明する。
本発明は基本的には第１図あるいは第２図に示したよう
な構造から成っている。すなわち第１図においては対向
する２本の円柱状の電極１１と１１′に、ＤＣあるいは
ＲＦの高電圧を印加し、かつその周辺を適当なガス圧に
調整されたＡｒガスを流すことにより、電極周辺にプラ
ズマを発生させ、電償に設けられたターゲット材１３．
１３’をスパッタリングする。この２本の電極の間に長
尺状のベースフィルム１２を連続的に通過させることに
より、フィルムの表・裏に同時にスパッタ膜を被着する
。またこの時円柱状の電極を自転可能な構造にすればタ
ーゲットの不均一な消耗を防ぐことができより長時間の
使用に耐えるようになる。
な構造から成っている。すなわち第１図においては対向
する２本の円柱状の電極１１と１１′に、ＤＣあるいは
ＲＦの高電圧を印加し、かつその周辺を適当なガス圧に
調整されたＡｒガスを流すことにより、電極周辺にプラ
ズマを発生させ、電償に設けられたターゲット材１３．
１３’をスパッタリングする。この２本の電極の間に長
尺状のベースフィルム１２を連続的に通過させることに
より、フィルムの表・裏に同時にスパッタ膜を被着する
。またこの時円柱状の電極を自転可能な構造にすればタ
ーゲットの不均一な消耗を防ぐことができより長時間の
使用に耐えるようになる。
一方、第２図に示したものは、左右に２本対向した電極
対２１．２１’ と２２．２２’の組から成り立ってお
り、プラズマを電極対２１と２１′の間および電極対２
２と２２′の間に発生させる。
対２１．２１’ と２２．２２’の組から成り立ってお
り、プラズマを電極対２１と２１′の間および電極対２
２と２２′の間に発生させる。
この２組の電極の間に長尺状のフィルム２３を連続的に
通過させることにより、プラズマによりスパッタ放出さ
れた粒子は散乱されながらフィルムの表面と裏面に到達
し所望の薄膜を形成することができる。また円柱状の電
極を自転可能な構造とすれば、第１図で述べたような効
果を得ることができる。第２図で述べた方法は、第１図
の方法と違いフィルムが直接プラズマにさらされないた
め。
通過させることにより、プラズマによりスパッタ放出さ
れた粒子は散乱されながらフィルムの表面と裏面に到達
し所望の薄膜を形成することができる。また円柱状の電
極を自転可能な構造とすれば、第１図で述べたような効
果を得ることができる。第２図で述べた方法は、第１図
の方法と違いフィルムが直接プラズマにさらされないた
め。
耐熱性の低いフィルムも使用可能となる利点を有してい
る。
る。
以下第１図に示した方法を用いた実施例を第３図に示す
。
。
実施例１
図中３７で示されているベースフィルムは、適当な張力
を与えられた後、３５の前処理機構により脱ガス、清浄
化等の前処理行程を経てローラーにより放電室に導かれ
る。ここで上下一対の複数の電極に、通常ＲＦスパッタ
又はイオンボンバード装置に使用されている様な、高圧
電源を用いて一１０ｋＶの電圧を印加した。この時、電
極はＧ ｏ −Ｃｒ合金材で覆われており第１図に示し
た様に毎分１回の割合で自転している。又放電室には、
Ａｒガスが３４により導入コントロールされており電圧
印加により放電した。この結果、ベースフィルムの表・
裏両面上に膜厚０．３μｍのＧｏ・−Ｃｒの垂直磁化膜
がスパッタされ所期の目的を達した。尚ベースフィルム
はスパッタに引続き、３９の巻取り用ローラーにより巻
取られた。
を与えられた後、３５の前処理機構により脱ガス、清浄
化等の前処理行程を経てローラーにより放電室に導かれ
る。ここで上下一対の複数の電極に、通常ＲＦスパッタ
又はイオンボンバード装置に使用されている様な、高圧
電源を用いて一１０ｋＶの電圧を印加した。この時、電
極はＧ ｏ −Ｃｒ合金材で覆われており第１図に示し
た様に毎分１回の割合で自転している。又放電室には、
Ａｒガスが３４により導入コントロールされており電圧
印加により放電した。この結果、ベースフィルムの表・
裏両面上に膜厚０．３μｍのＧｏ・−Ｃｒの垂直磁化膜
がスパッタされ所期の目的を達した。尚ベースフィルム
はスパッタに引続き、３９の巻取り用ローラーにより巻
取られた。
尚テープの走行走度は０．８ｍ／ｗｉｎである。
この実施例で得られたＣｏ−Ｃｒの垂直磁化膜の磁気特
性は以下の値であった。垂直成分の抗磁力４８００ｅ、
同飽和磁化３８０ｓｍｕ／ｃｃ 、同角型比０．２１．
又フィルムの両面での特性のバラツキは±３％であ
りベースフィルムの長さ方向の特性のバラツキはプラス
マイナス５％であり、カールも見られなかった。
性は以下の値であった。垂直成分の抗磁力４８００ｅ、
同飽和磁化３８０ｓｍｕ／ｃｃ 、同角型比０．２１．
又フィルムの両面での特性のバラツキは±３％であ
りベースフィルムの長さ方向の特性のバラツキはプラス
マイナス５％であり、カールも見られなかった。
実施例２
第４図はこの放電室を４１．４２．４３の３室に分割し
たもので各放電室のターゲットを選択する事により目的
とする、下地膜、記録媒体、保護膜から成る両面各三層
構成の薄膜を得る事が出来た。
たもので各放電室のターゲットを選択する事により目的
とする、下地膜、記録媒体、保護膜から成る両面各三層
構成の薄膜を得る事が出来た。
実施例３
第５図に示した実施例は第２図の例を応用したものであ
り、破線で囲まれた４本の電極によって一つの放電部が
構成され、このような放電部を４つ設けている。プラズ
マは電極５１と５１′の間および５２と５２′の間で発
生するようになっており他の放電部でも同様である。こ
のような装置を用いて、実施例１と同様な方法でベース
フィルムの表・裏両面上に膜厚０．３μｍのＣｏ−Ｃｒ
膜をスパッタ形成した。尚ベースフィルムはスパッタに
引続き、５３の巻取りローラーにより巻取られた。テー
プの走行走度は０．４ｍ／ｓｉｎとした。
り、破線で囲まれた４本の電極によって一つの放電部が
構成され、このような放電部を４つ設けている。プラズ
マは電極５１と５１′の間および５２と５２′の間で発
生するようになっており他の放電部でも同様である。こ
のような装置を用いて、実施例１と同様な方法でベース
フィルムの表・裏両面上に膜厚０．３μｍのＣｏ−Ｃｒ
膜をスパッタ形成した。尚ベースフィルムはスパッタに
引続き、５３の巻取りローラーにより巻取られた。テー
プの走行走度は０．４ｍ／ｓｉｎとした。
この実施例で得られたＧｏ−Ｃｒ垂直磁化膜の磁気特性
は以下の様であった。垂直成分の抗磁力４１００ｅ、同
飽和磁化３２０ｅ■ｕ／ｃｃ、同角型比０．２５．
又フィルムの両面での特性のバラツキは±２％であり、
ベースフィルムの長さ方向の特性のバラツキは±１５％
であった。尚得られたフィルムにはカールが見られず、
まったく平坦なフロッピーディスク用の原反を得ること
ができた。
は以下の様であった。垂直成分の抗磁力４１００ｅ、同
飽和磁化３２０ｅ■ｕ／ｃｃ、同角型比０．２５．
又フィルムの両面での特性のバラツキは±２％であり、
ベースフィルムの長さ方向の特性のバラツキは±１５％
であった。尚得られたフィルムにはカールが見られず、
まったく平坦なフロッピーディスク用の原反を得ること
ができた。
このような方式においても、実施例２で示したように、
放電室を分割し各放電室のターゲット材を適宜選択する
事により、目的とする多層構造の両面スパッタ膜を得ら
れることは明らかである。
放電室を分割し各放電室のターゲット材を適宜選択する
事により、目的とする多層構造の両面スパッタ膜を得ら
れることは明らかである。
〔発明の効果〕
以上本発明によれば、ベースフィルムの両面に高密度磁
気記録用磁性層を必要とするフロッピーディスク原反を
多量に安定に供給する場合、従来では例のない両面同時
連続反バッタを可能とし、又多層構造を有する薄膜作製
をも容易に可能とした。この結果フロッピーディスクの
量産化に対しては１００倍以上の効果がある。のみなら
ず、ベースフィルム等を経済的長さに自由に選択し、し
かもフィルムセット後は一貫して真空中での操作となる
為、非常に安定した周辺雰囲気での運転を行なう事が出
来る。この結果、得られる薄膜の特性は、従来のバッチ
毎に製造されたものに比して、表面裏面の特性が同一で
あり、なおかっ、カールの無ｖ１磁気記録用の原反を得
ることができる８さらにつけ加えれば、装置の構造も実
施例で示した如く比較的簡明で操作性も良好である為、
装置の製造コストも安いものとなる。
気記録用磁性層を必要とするフロッピーディスク原反を
多量に安定に供給する場合、従来では例のない両面同時
連続反バッタを可能とし、又多層構造を有する薄膜作製
をも容易に可能とした。この結果フロッピーディスクの
量産化に対しては１００倍以上の効果がある。のみなら
ず、ベースフィルム等を経済的長さに自由に選択し、し
かもフィルムセット後は一貫して真空中での操作となる
為、非常に安定した周辺雰囲気での運転を行なう事が出
来る。この結果、得られる薄膜の特性は、従来のバッチ
毎に製造されたものに比して、表面裏面の特性が同一で
あり、なおかっ、カールの無ｖ１磁気記録用の原反を得
ることができる８さらにつけ加えれば、装置の構造も実
施例で示した如く比較的簡明で操作性も良好である為、
装置の製造コストも安いものとなる。
第１図及び第２図は、両面同時連続スパッタ装置の電極
部の見取図である。第３図ないし第５図は装置の全体を
簡単に示したものである。 １１．１１’・・・電極、１２・・・ベースフィルム、
１３．１３’・・・ターゲット材、２１．２１’ ・・
・電極対、２２．２２’・・・電極対、２３・・・ベー
スフィルム、３１・・・真空槽（容器）、３２・・・ガ
ス放電室、３３・・・スパッタターゲット及び電極、３
４・・・圧力調整用ガス導入系、３５・・・ベースフィ
ルム前処理機構、３６・・・テープ走行制御用ローラー
、３７・・・ベースフィルム、３８・・・ベースフィル
ム送出用ローラー、３９・・・ベースフィルム巻取用ロ
ーラー。 ４１〜４３・・・分割型ガス放電室、５１．５１’・・
・バッタターゲット及び電極対、５２．５２’・・・ス
パッタターゲット及び電極対、５３・・・ベースフィル
ム巻取用ローラー。
部の見取図である。第３図ないし第５図は装置の全体を
簡単に示したものである。 １１．１１’・・・電極、１２・・・ベースフィルム、
１３．１３’・・・ターゲット材、２１．２１’ ・・
・電極対、２２．２２’・・・電極対、２３・・・ベー
スフィルム、３１・・・真空槽（容器）、３２・・・ガ
ス放電室、３３・・・スパッタターゲット及び電極、３
４・・・圧力調整用ガス導入系、３５・・・ベースフィ
ルム前処理機構、３６・・・テープ走行制御用ローラー
、３７・・・ベースフィルム、３８・・・ベースフィル
ム送出用ローラー、３９・・・ベースフィルム巻取用ロ
ーラー。 ４１〜４３・・・分割型ガス放電室、５１．５１’・・
・バッタターゲット及び電極対、５２．５２’・・・ス
パッタターゲット及び電極対、５３・・・ベースフィル
ム巻取用ローラー。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、真空槽内に有機高分子からなる長尺状フィルム基板
を巻取る走行機能を有した連続巻取型スパッタ装置にお
いて、互いに対向する２つの放電電極を１組、もしくは
複数組有することを特徴とした磁気記録媒体製造装置。 ２、特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体製造装置
において、長尺状フィルム基板を対向する放電電極の間
を通過させる事により、該フィルム基板の表・裏面に同
時にスパッタ膜を形成させることを特徴とした磁気記録
媒体製造装置。 ３、特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体製造装置
において、対向する放電電極を２組もうけ、その組を並
列して設置し、その間に長尺状フィルム基板を通過させ
る事により、該フィルム基板の表裏面に同時にスパッタ
膜を形成させることを特徴とした磁気記録媒体製造装置
。 ４、特許請求の範囲第１項、第２項および第３項記載の
磁気記録媒体製造装置において、複数組以上の対向する
放電電極を設け、各放電電極に設置されたターゲット材
料を各電極の組ごとに変え、長尺状フィルムを順次異な
つたターゲット材からなる放電電極部を通過させること
により、多層膜から成るスパッタ膜をフィルム表・裏に
同時に形成させる事を特徴とした磁気記録媒体製造装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10136085A JPS61260425A (ja) | 1985-05-15 | 1985-05-15 | 磁気記録媒体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10136085A JPS61260425A (ja) | 1985-05-15 | 1985-05-15 | 磁気記録媒体製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61260425A true JPS61260425A (ja) | 1986-11-18 |
Family
ID=14298664
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10136085A Pending JPS61260425A (ja) | 1985-05-15 | 1985-05-15 | 磁気記録媒体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61260425A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001288569A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-19 | Dainippon Printing Co Ltd | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
| EP1231292A1 (en) * | 2001-02-06 | 2002-08-14 | Bridgestone Corporation | Apparatus and process for film deposition |
-
1985
- 1985-05-15 JP JP10136085A patent/JPS61260425A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001288569A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-19 | Dainippon Printing Co Ltd | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
| EP1231292A1 (en) * | 2001-02-06 | 2002-08-14 | Bridgestone Corporation | Apparatus and process for film deposition |
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