JPH10308019A - 金属薄膜型磁気記録媒体 - Google Patents

金属薄膜型磁気記録媒体

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JPH10308019A
JPH10308019A JP11571397A JP11571397A JPH10308019A JP H10308019 A JPH10308019 A JP H10308019A JP 11571397 A JP11571397 A JP 11571397A JP 11571397 A JP11571397 A JP 11571397A JP H10308019 A JPH10308019 A JP H10308019A
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JP
Japan
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magnetic
recording medium
magnetic recording
film type
thin film
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Application number
JP11571397A
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English (en)
Inventor
Takao Mori
敬郎 森
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 金属薄膜型磁気記録媒体の耐環境性、耐蝕性
をそれぞれ向上させる。 【解決手段】 長尺状の非磁性支持体上に、金属磁性薄
膜が形成された金属薄膜型磁気記録テープ媒体におい
て、酸素透過率を、50cc/m2 /24hour/a
tm以下に特定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、長尺状の非磁性支
持体上に、金属磁性薄膜が形成された金属薄膜型磁気記
録媒体に係わる。
【0002】
【従来の技術】従来より、磁気記録媒体としては、非磁
性支持体上に酸化物磁性粉末あるいは合金磁性粉末等の
粉末磁性材料を塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポ
リエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機バインダー
中に分散させた磁性塗料を塗布、乾燥させることによっ
て作製した塗布型の磁気記録媒体が広く知られている。
【0003】これに対して、高密度磁気記録への要求の
高まりとともに、Co−Ni系合金、Co−Cr系合
金、Co−O系等の金属磁性材料を、メッキや真空蒸着
法やスパッタリング法、イオンプレーティング法等の真
空薄膜形成手段により、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルムやポリアミド、ポリイミドフィルム等の非磁性支
持体上に直接被着した、いわゆる金属磁性薄膜型の磁気
記録媒体が提案され、注目されている。
【0004】この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は、保
磁力、角形比等の磁気特性に優れ、また、短波長領域で
の電磁変換特性に優れており、さらに磁性層の厚さを極
めて薄くできるため、記録減磁や再生地の厚さ損失を著
しく小さくすることができ、また、磁性層中の非磁性材
料であるバインダーを混入させる必要がないため、磁性
材料の充填密度を高めることができる等、数々の利点を
有している。
【0005】更に、このような金属磁性薄膜型の磁気記
録媒体の電磁変換特性を向上させ、より大きな出力を得
ることができるようにするため、この金属薄膜型の磁気
記録媒体の磁性層を形成する際、金属磁性材料を斜めに
蒸着するいわゆる斜方蒸着が提案され、実用化されてい
る。
【0006】また、今後さらなる高記録密度化を図るた
めに、スペーシング損失を少なくすることを目的とし
て、金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は平滑化される傾向
にある。しかし、このような金属磁性薄膜型の磁気記録
媒体は、平滑化すると磁気ヘッドと磁気記録媒体間の摩
擦力が増大し、磁気記録媒体にかかるせん断応力が大き
くなる。そこで、磁気記録媒体の摺動に対する耐久性の
向上を図るため、金属磁性薄膜の表面に保護膜を形成す
る技術が検討された。
【0007】このような保護膜としては、例えば、カー
ボン、石英(SiO2 )、ジルコニア(ZrO2 )等の
膜が挙げられ、最近においては、より高硬度の膜である
ダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜が採用されて
おり、このような保護膜により摺動動に対する耐久性を
著しく向上させることができた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな金属磁性薄膜型の磁気記録媒体においては、いまだ
耐環境性、耐蝕性についての課題が多く残されている。
【0009】この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体におい
ては、酸素透過率がその耐環境性、耐蝕性に大きく関係
していることが分かっている。
【0010】そこで、本発明においては、金属磁性薄膜
型の磁気記録媒体の酸素透過率を制御して耐環境性、耐
蝕性の向上を図った金属磁性薄膜型の磁気記録媒体を提
供することとする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の金属薄膜型磁気
記録媒体は、長尺状の非磁性支持体上に、金属磁性薄膜
が形成された金属薄膜型磁気記録テープ媒体であり、そ
の酸素透過率を、50cc/m2 /24hour/at
m以下に特定したものとする。
【0012】本発明によれば、金属薄膜型磁気記録媒体
の耐環境性、耐蝕性についての課題の解決を図り、信頼
性の高い金属薄膜型磁気記録媒体を得ることができる。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明の金属薄膜型磁気記録媒体
は、長尺状の非磁性支持体上に、金属磁性薄膜が形成さ
れた金属薄膜型磁気記録テープ媒体であり、その酸素透
過率を、50cc/m2 /24hour/atm以下に
特定したものとする。
【0014】本発明の金属薄膜型磁気記録媒体の磁性層
を形成する金属磁性材料としては、通常の蒸着テープに
使用されるものであればいかなるものであってもよい。
例示すれば、Fe、Co、Ni等の強磁性金属、Fe−
Co、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe−Cu、C
o−Cu、Co−Au、Co−Pt、Mn−Bi、Mn
−Al、Fe−Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−
Co−Cr、Co−Ni−Cr、Fe−Co−Ni−C
r等の強磁性合金が挙げられる。また、これらの単層膜
であってもよいし、多層膜であってもよい。さらには、
非磁性支持体と金属磁性薄膜間、あるいは多層膜の場合
には、各層間の付着力の向上、ならびに保磁力の制御の
ため、下地層または中間層を設けてもよい。
【0015】金属磁性薄膜の形成手段としては、真空下
で強磁性金属を加熱蒸発させて非磁性支持体上に沈着さ
せる真空蒸着法や、強磁性金属材料の蒸発を放電中で行
うイオンプレーティング法、アルゴンを主成分とする雰
囲気中でグロー放電を起こして生じたアルゴンイオンで
ターゲット表面の原子をたたき出すスパッタ法等、いわ
ゆるPVD技術によればよい。
【0016】以下、本発明における(実施例1〜4)お
よびこれとの比較における(比較例)について説明す
る。しかしながら、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。
【0017】なお、以下に示す酸素透過率の測定は、L
YSSY社製の圧力式ガス透過度テスターを使用して圧
力法によって行うものとする。
【0018】(実施例1〜4)および(比較例)におい
ては、それぞれ、例えば厚さ10μm、幅150mm
で、酸素透過率の異なる非磁性支持体A〜Eを用意し
た。
【0019】この非磁性支持体は、例えば、ポリエチレ
ンテレフタレートとポリアクリロニトリルとからなる2
層構造のものを適用することができる。また、この非磁
性支持体を構成する材料の比率はそれぞれの酸素透過率
に応じて調整されている。
【0020】ここで、上記非磁性支持体A〜Eは、酸素
透過率の高い順に並べると、E(比較例)、A(実施例
1)、B(実施例2)、C(実施例3)となる。また、
D(実施例4)の酸素透過率は、E(比較例)と同一と
する。
【0021】図1に(実施例1〜4)および(比較例)
における金属薄膜型磁気記録媒体の概略断面図を示す。
(実施例1〜4)および(比較例)においては、これら
に使用する非磁性支持体1上に金属磁性薄膜2、ダイヤ
モンドライクカーボン(DLC)層3、バックコート層
4をそれぞれ形成し、潤滑剤5を塗布して、金属磁性薄
膜型磁気記録媒体を作製する。
【0022】(実施例1〜4)および(比較例)におけ
る金属磁性薄膜の形成条件を以下に説明する。 形成方法: 真空蒸着法 金属磁性材料: Co 入射角: 45〜90° 酸素導入量: 3.3×10-63 /sec 蒸着時真空度: 7×10-2Pa
【0023】図2に、金属薄膜型磁気記録媒体の金属薄
膜、すなわち磁性層を成膜する蒸着装置の概略図を示
す。この蒸着装置においては、排気口21および22か
ら排気されて真空状態となされた真空室11内に、送り
ロール13と巻き取りロール14が設けられ、これら送
りロール13と巻き取りロール14間に非磁性支持体1
2が順次走行するようになされている。
【0024】これらの送りロール13と巻き取りロール
14間に上記非磁性支持体12が走行する途上には、冷
却キャン15が設けられている。この冷却キャン15に
は、冷却装置(図示せず)が設けられ、非磁性支持体1
2の温度上昇による変形等を抑制している。
【0025】非磁性支持体12は、送りロール13から
順次送り出され、さらに冷却キャン15の周面を通過し
て巻き取りロール14に巻き取られていくようになされ
ている。なお、ガイドロール16、17により非磁性支
持体12に所定のテンションをかけ、円滑に走行するよ
うになされている。
【0026】上記真空室11内には、冷却キャン15の
下方にルツボ18が設けられ、このルツボ18内には、
金属磁性材料19が充填されている。一方、真空室11
の側壁部には上記ルツボ18内に充填された金属磁性材
料19を加熱蒸発させるための電子銃20が取り付けら
れている。この電子銃20は、これより放出される電子
線Bが上記ルツボ18内の金属磁性材料19に照射され
るような位置に配置される。そして、この電子線Bの照
射によって蒸発した金属磁性材料19が非磁性支持体1
2上に被着して、磁性層が形成されるようになされてい
る。
【0027】また、冷却キャン15と、ルツボ18との
間であって、冷却キャン15の近傍には、シャッター2
3が、冷却キャン15の周面を走行する非磁性支持体1
2の所定領域を覆う形で配置されており、このシャッタ
ー23により蒸発した金属磁性材料19が非磁性支持体
12に対して所定の入射角度範囲で斜めに蒸着するよう
になされている。
【0028】さらに磁性層の蒸着に際し、真空室11の
側壁部を貫通して設けられている酸素ガス導入管24に
より、非磁性支持体12の表面に酸素ガスが供給され、
磁気特性、耐久性、耐候性の向上が図られている。
【0029】一方、(実施例1〜4)および(比較例)
におけるダイヤモンドライクカーボン(DLC)層の形
成条件を以下に示す。 形成方法: 化学的気相成長法(CVD) 原料ガス: トルエン 反応圧力: 10Pa 導入電力: DC2.0kV 膜厚 : (実施例1〜3)および(比較例)においては8nm (実施例4)においては30nm
【0030】図3は、本発明において、ダイヤモンドラ
イクカーボン(DLC)層の形成に用いたプラズマCV
D連続膜形成装置の要部の構成図を示す。図3に示すよ
うに、この装置においては、排気系30から排気されて
内部が真空状態となされた真空室31内に、送りロール
33と、巻き取りロール34とが設けられ、これら送り
ロール33から巻き取りロール34に、非磁性支持体上
に金属磁性薄膜が蒸着された被処理体40が順次走行す
るようになされている。
【0031】これら送りロール33から巻き取りロール
34に被処理体40が走行する途上には、円筒状の回転
可能な対向電極35が設けられている。
【0032】被処理体40は、送りロール33から順次
送り出され、対向電極35の周面を通過し、巻き取りロ
ール34に巻き取られていくようになされている。な
お、送りロール33と対向電極35との間、および対向
電極35と巻き取りロール34との間には、それぞれガ
イドロール36が配置され、被処理体40に所定のテン
ションをかけ、被処理体40が円滑に走行するようにな
されている。
【0033】また、真空室31内には、反応管37が設
けられ、この反応管37内には、電極38が組み込まれ
ている。また、この電極38には、直流電源39により
所定の電位が加えられる。
【0034】反応管37には、放電ガス導入口41から
炭化水素系ガスを主成分としたガスが導入される。
【0035】被処理体40は、送りロール33により送
り出され、対向電極35の周面を通過し、反応管37に
送り込まれ、この反応管37内において、その表面にD
LC層が所定の厚さに形成される。
【0036】上記工程の後、非磁性支持体の金属磁性薄
膜が形成された面とは反対側にカーボンとウレタン樹脂
からなるバックコート層を例えば0.6μmの厚さにグ
ラビア方式で塗布して形成する。さらに、DLC層表面
にパーフルオロポリエーテルよりなる潤滑剤を塗布し、
6.35mm幅に裁断して磁気テープを作製した。
【0037】上述のようにして作製した(実施例1〜
4)および(比較例)における金属磁性薄膜型磁気記録
媒体のそれぞれの酸素透過率を測定し、さらにこれらの
耐蝕性の試験を行う。
【0038】耐蝕性の試験としては、温度30℃、相対
湿度70%に維持された恒温槽内を、さらに0.5pp
m濃度のSO2 ガス雰囲気環境に設定して、これに磁気
記録媒体を収容して10日間保存し、収容前および収容
後の、飽和磁化の変化量を測定するという方法で行っ
た。この飽和磁化の変化量は、下記(数1)によって、
算出する。
【0039】
【数1】ΔMs(%)={(Ms2 −Ms1 )/M
1 }×100(%) 但し、Ms1 は、上記条件で保存する前の飽和磁化、M
2 は上記条件で保存する後の飽和磁化を示す。
【0040】下記(表1)に、(実施例1〜4)および
(比較例)における金属磁性薄膜型磁気記録媒体のそれ
ぞれの酸素透過率(cc/m2 /24hour/at
m)と、飽和磁化の変化量(%)を示す。
【0041】
【表1】
【0042】(表1)に示すように、酸素透過率を低く
抑えた非磁性支持体A〜Cを使用し、かつDLC層を8
nmの厚さに形成した(実施例1〜3)においては、飽
和磁化の変化量が小さく、保存特性が良好である。
【0043】また、酸素透過率が高い非磁性支持体Dを
使用したが、DLC層は(実施例1〜3)よりも厚く、
30nmに形成した(実施例4)においては、やや飽和
磁化の変化量が大きくなり保存特性が(実施例1〜3)
と比較してやや劣っているものの、同じく酸素透過率が
高い非磁性支持体Eを使用し、DLC層を8nmに形成
した(比較例)に比較すれば、飽和磁化の変化量は小さ
く、保存特性が良好であることがわかる。
【0044】一方、あらかじめ酸素透過率が高い非磁性
支持体Eを使用し、かつDLC層を上記(実施例4)に
比較して薄い8nmに形成した(比較例)においては、
飽和磁化の変化量が大きく、保存特性が上記(実施例1
〜4)に比較して著しく劣っていることがわかる。
【0045】上述の結果から、金属磁性薄膜型磁気記録
媒体の酸素透過率と保存特性とは密接な関係があること
がわかる。すなわち、酸素透過率を低く抑えることによ
って、特に(表1)から明らかなように、50(cc/
2 /24hour/atm)以下とすることによっ
て、保存特性の向上を図ることができることがわかっ
た。これは、このように金属磁性薄膜型磁気記録媒体の
酸素透過率を低く抑えると、金属磁性薄膜に錆が進行す
るために必要な酸素が金属磁性薄膜に侵入することがで
きないためである。
【0046】また、上述の例においては、金属磁性薄膜
型磁気記録媒体の酸素透過率の調整は、DLC層の厚さ
や、非磁性支持体の組成により酸素透過率の調整を行う
ことによって行ったが、これらの方法のみに限定される
ものではなく、非磁性支持体
【0047】本発明においては、非磁性支持体上に磁性
層の形成がなされる磁気テープすべてがその対象となる
が、特に、耐環境性についての要求が厳しい蒸着テープ
において特に効果が大きい。
【0048】本発明の磁気記録テープの構成は、上述し
た例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱し
ない範囲での変更、例えば必要に応じてバックコート層
を形成したり、非磁性支持体上に下塗層を形成したり、
潤滑剤等の層を形成したりすることはなんらさしつかえ
ない。この場合、バックコート層の含まれる非磁性顔
料、樹脂結合剤あるいは潤滑剤に含まれる材料として
は、従来公知のものをいずれも使用することができる。
【0049】
【発明の効果】本発明によれば、金属薄膜型磁気記録媒
体の非磁性支持体の酸素透過率、DLC層の厚さを調整
して金属薄膜型磁気記録媒体の酸素透過率を低く調整す
ることにより、耐環境性、耐蝕性をそれぞれ向上させる
ことができ、信頼性の高い金属薄膜型磁気記録媒体を得
ることができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の金属薄膜型磁気記録媒体の概略断面図
を示す。
【図2】本発明の金属薄膜型磁気記録媒体の金属薄膜す
なわち磁性層の蒸着に使用する蒸着装置の概略図を示
す。
【図3】本発明の金属薄膜型磁気記録媒体を構成するD
LC層の形成に使用する装置の概略図を示す。
【符号の説明】
1、12 非磁性支持体、2 金属磁性薄膜、3 ダイ
ヤモンドライクカーボン層、4 バックコート層、5
潤滑剤、11 真空室、13,33 送りロール、1
4,34 巻き取りロール、15 冷却キャン、16,
17,36 ガイドロール、18 ルツボ、19 金属
磁性材料、20 電子銃、21,22 排気口、23
シャッター、24 酸素ガス導入管、30 排気口、3
1 真空室、35 対向電極、37 反応管、38 電
極、39 直流電源、40 被処理体、41 放電ガス
導入口

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 長尺状の非磁性支持体上に、金属磁性薄
    膜が形成された金属薄膜型磁気記録媒体において、 酸素透過率を、50cc/m2 /24hour/atm
    以下に特定したことを特徴とする金属薄膜型磁気記録媒
    体。
  2. 【請求項2】 上記長尺状の非磁性支持体上の上記金属
    磁性薄膜上に、硬質炭素薄膜、および潤滑剤が配され、 バックコート層が形成されたことを特徴とする請求項1
    に記載の金属薄膜型磁気記録媒体。
JP11571397A 1997-05-06 1997-05-06 金属薄膜型磁気記録媒体 Pending JPH10308019A (ja)

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