JPH10247312A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH10247312A JPH10247312A JP4897797A JP4897797A JPH10247312A JP H10247312 A JPH10247312 A JP H10247312A JP 4897797 A JP4897797 A JP 4897797A JP 4897797 A JP4897797 A JP 4897797A JP H10247312 A JPH10247312 A JP H10247312A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐環境性に優れた磁気記録媒体を提供するこ
と。 【解決手段】 非磁性支持体１、強磁性金属膜からなる
磁性層３および硬質炭素保護膜４を備えてなる磁気記録
媒体において、非磁性支持体１と磁性層３との間に、二
酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）薄膜またはアルミナ（Ａｌ2 Ｏ
3 ）薄膜２を設けた。また、非磁性支持体１の一方の面
に、強磁性金属膜からなる磁性層３、および前記磁性層
３上部に硬質炭素保護膜４を設け、前記非磁性支持体１
の他方の面に、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）およびアルミ
ナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜からなる群から選ばれた少なくと
も１種を設けた。
と。 【解決手段】 非磁性支持体１、強磁性金属膜からなる
磁性層３および硬質炭素保護膜４を備えてなる磁気記録
媒体において、非磁性支持体１と磁性層３との間に、二
酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）薄膜またはアルミナ（Ａｌ2 Ｏ
3 ）薄膜２を設けた。また、非磁性支持体１の一方の面
に、強磁性金属膜からなる磁性層３、および前記磁性層
３上部に硬質炭素保護膜４を設け、前記非磁性支持体１
の他方の面に、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）およびアルミ
ナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜からなる群から選ばれた少なくと
も１種を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に関
するものであり、さらに詳しくは耐環境性に優れた磁気
記録媒体に関するものである。
するものであり、さらに詳しくは耐環境性に優れた磁気
記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、磁気記録媒体としては、非磁
性支持体上に酸化物磁性粉末あるいは合金磁性粉末等の
粉末磁性材料を塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポ
リエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂等の
有機バインダー中に分散せしめた磁性塗料を塗布、乾燥
することにより作成される塗布型の磁気記録媒体が広く
使用されている。これに対して、高密度磁気記録への要
求の高まりとともに、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合
金、Ｃｏ−Ｏ等の金属磁性材料を、メッキや真空薄膜形
成手段（真空蒸着法やスパッタリング法、イオンプレー
ティング法等）によってポリエステルフィルムやポリア
ミド、ポリイミドフィルム等の非磁性支持体上に直接被
着した、いわゆる金属磁性薄膜型の磁気記録媒体が提案
され注目を集めている。この金属磁性薄膜型の磁気記録
媒体は抗磁力や角形比等に優れ、磁性層の厚みを極めて
薄くできるため、記録減磁や再生時の厚み損失が著しく
小さく、短波長での電磁変換特性に優れるばかりでな
く、磁性層中に非磁性材であるそのバインダーを混入す
る必要がないため、磁性材料の充填密度を高めることが
できることなど、数々の利点を有している。すなわち、
金属薄膜媒体は、磁気特性的な優位さゆえに、高密度磁
気記録の主流になると考えられる。さらに、この種の磁
気記録媒体の電磁変換特性を向上させ、より大きな出力
を得ることができるようにするために、該磁気記録媒体
の磁性層を形成する場合、磁性層を斜めに蒸着する、い
わゆる斜方蒸着が提案され実用化されている。
性支持体上に酸化物磁性粉末あるいは合金磁性粉末等の
粉末磁性材料を塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポ
リエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂等の
有機バインダー中に分散せしめた磁性塗料を塗布、乾燥
することにより作成される塗布型の磁気記録媒体が広く
使用されている。これに対して、高密度磁気記録への要
求の高まりとともに、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合
金、Ｃｏ−Ｏ等の金属磁性材料を、メッキや真空薄膜形
成手段（真空蒸着法やスパッタリング法、イオンプレー
ティング法等）によってポリエステルフィルムやポリア
ミド、ポリイミドフィルム等の非磁性支持体上に直接被
着した、いわゆる金属磁性薄膜型の磁気記録媒体が提案
され注目を集めている。この金属磁性薄膜型の磁気記録
媒体は抗磁力や角形比等に優れ、磁性層の厚みを極めて
薄くできるため、記録減磁や再生時の厚み損失が著しく
小さく、短波長での電磁変換特性に優れるばかりでな
く、磁性層中に非磁性材であるそのバインダーを混入す
る必要がないため、磁性材料の充填密度を高めることが
できることなど、数々の利点を有している。すなわち、
金属薄膜媒体は、磁気特性的な優位さゆえに、高密度磁
気記録の主流になると考えられる。さらに、この種の磁
気記録媒体の電磁変換特性を向上させ、より大きな出力
を得ることができるようにするために、該磁気記録媒体
の磁性層を形成する場合、磁性層を斜めに蒸着する、い
わゆる斜方蒸着が提案され実用化されている。
【０００３】ところで、上述したような磁気記録媒体に
おいては、耐久性（耐環境性）に問題があり、これらの
問題を解決するために真空成膜法を用いて、金属磁性膜
上にＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）保護膜を設
けている。しかしながら、耐蝕性はＤＬＣ膜のみでは改
善がみられず、この向上のための検討が行われてきた。
おいては、耐久性（耐環境性）に問題があり、これらの
問題を解決するために真空成膜法を用いて、金属磁性膜
上にＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）保護膜を設
けている。しかしながら、耐蝕性はＤＬＣ膜のみでは改
善がみられず、この向上のための検討が行われてきた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】したがって本発明は、
耐環境性に優れた磁気記録媒体の提供を目的とする。
耐環境性に優れた磁気記録媒体の提供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、非磁
性支持体、強磁性金属膜からなる磁性層および硬質炭素
保護膜を備えてなる磁気記録媒体において、前記非磁性
支持体と前記磁性層との間に、二酸化ケイ素（ＳｉＯ
2 ）薄膜およびアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜からなる群
から選ばれた少なくとも１種を設けたことを特徴とする
磁気記録媒体を提供するものである。また本発明は、非
磁性支持体の一方の面に、強磁性金属膜からなる磁性
層、および前記磁性層上部に硬質炭素保護膜を設け、前
記非磁性支持体の他方の面に、二酸化ケイ素（ＳｉＯ
2 ）およびアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜からなる群から
選ばれた少なくとも１種を設けたことを特徴とする磁気
記録媒体を提供するものである。さらに本発明は、二酸
化ケイ素（ＳｉＯ2 ）薄膜またはアルミナ（Ａｌ2
Ｏ3）薄膜の厚さが２０ｎｍ以上である前記の磁気記録
媒体を提供するものである。
性支持体、強磁性金属膜からなる磁性層および硬質炭素
保護膜を備えてなる磁気記録媒体において、前記非磁性
支持体と前記磁性層との間に、二酸化ケイ素（ＳｉＯ
2 ）薄膜およびアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜からなる群
から選ばれた少なくとも１種を設けたことを特徴とする
磁気記録媒体を提供するものである。また本発明は、非
磁性支持体の一方の面に、強磁性金属膜からなる磁性
層、および前記磁性層上部に硬質炭素保護膜を設け、前
記非磁性支持体の他方の面に、二酸化ケイ素（ＳｉＯ
2 ）およびアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜からなる群から
選ばれた少なくとも１種を設けたことを特徴とする磁気
記録媒体を提供するものである。さらに本発明は、二酸
化ケイ素（ＳｉＯ2 ）薄膜またはアルミナ（Ａｌ2
Ｏ3）薄膜の厚さが２０ｎｍ以上である前記の磁気記録
媒体を提供するものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明は、ディスク、テープ等を
含む全ての磁気記録媒体が対象となるが、とくにディス
クと異なり、耐環境性が厳しく要求されるテープ媒体に
おいて効果が大きい。
含む全ての磁気記録媒体が対象となるが、とくにディス
クと異なり、耐環境性が厳しく要求されるテープ媒体に
おいて効果が大きい。
【０００７】本発明で使用される非磁性支持体としては
例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−
２、６−ナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピ
レン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテー
ト、セルロースダイアセテート等のセルロース誘導体、
ポリアミド、アラミド樹脂、ポリカーボネート等のプラ
スチック等が挙げられる。これらの非磁性支持体は単層
構造であっても多層構造であってもよい。また、例え
ば、コロナ放電処理等の表面処理が施されていてもよ
い。非磁性支持体の厚みは、特に制限されないが、例え
ば、媒体がフィルム状やシート状の場合には、２〜１０
０μｍ、好ましくは３〜５０μｍとするのが適当であ
る。また、ディスク状やカード状の場合は、３０μｍ〜
１０ｍｍ程度、ドラム状の場合にはレコーダー等の設計
に応じて適宜に選択される。
例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−
２、６−ナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピ
レン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテー
ト、セルロースダイアセテート等のセルロース誘導体、
ポリアミド、アラミド樹脂、ポリカーボネート等のプラ
スチック等が挙げられる。これらの非磁性支持体は単層
構造であっても多層構造であってもよい。また、例え
ば、コロナ放電処理等の表面処理が施されていてもよ
い。非磁性支持体の厚みは、特に制限されないが、例え
ば、媒体がフィルム状やシート状の場合には、２〜１０
０μｍ、好ましくは３〜５０μｍとするのが適当であ
る。また、ディスク状やカード状の場合は、３０μｍ〜
１０ｍｍ程度、ドラム状の場合にはレコーダー等の設計
に応じて適宜に選択される。
【０００８】また、本発明で使用される強磁性金属膜か
らなる磁性層は、上記非磁性支持体、あるいは下記で説
明する二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）薄膜またはアルミナ
（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜に強磁性金属膜を直接被着すること
により設けることができる。強磁性金属膜の材料として
は、通常の蒸着テープに使用されるものであれば如何な
るなるものであってもよい。例示すれば、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉなどの強磁性金属、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ
−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、
Ｃｏ−Ｐｔ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｃ
ｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の強磁性合金が挙げ
られる。これらは単層膜であってもよいし多層膜であっ
てもよい。さらには、非磁性支持体と磁性層との間には
（多層膜の場合であっても）、各層間の付着力向上、な
らびに抗磁力の制御等のため、下地層または中間層を設
けてもよい。
らなる磁性層は、上記非磁性支持体、あるいは下記で説
明する二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）薄膜またはアルミナ
（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜に強磁性金属膜を直接被着すること
により設けることができる。強磁性金属膜の材料として
は、通常の蒸着テープに使用されるものであれば如何な
るなるものであってもよい。例示すれば、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉなどの強磁性金属、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ
−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、
Ｃｏ−Ｐｔ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｃ
ｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の強磁性合金が挙げ
られる。これらは単層膜であってもよいし多層膜であっ
てもよい。さらには、非磁性支持体と磁性層との間には
（多層膜の場合であっても）、各層間の付着力向上、な
らびに抗磁力の制御等のため、下地層または中間層を設
けてもよい。
【０００９】磁性層形成の手段としては、真空下で強磁
性金属材料を加熱蒸発させ非磁性支持体上に沈着させる
真空蒸着法や、強磁性金属材料の蒸発を放電中で行うイ
オンプレーティング法、アルゴンを主成分とする雰囲気
中でグロー放電を起こし生じたアルゴンイオンでターゲ
ット表面の原子をたたき出すスパッタ法等、いわゆるＰ
ＶＤ技術によればよい。もちろん、本発明にかかる磁気
テープの構成はこれに限定されるものではない。また、
磁性層の厚さも用途等に応じて適宜決定することができ
る。
性金属材料を加熱蒸発させ非磁性支持体上に沈着させる
真空蒸着法や、強磁性金属材料の蒸発を放電中で行うイ
オンプレーティング法、アルゴンを主成分とする雰囲気
中でグロー放電を起こし生じたアルゴンイオンでターゲ
ット表面の原子をたたき出すスパッタ法等、いわゆるＰ
ＶＤ技術によればよい。もちろん、本発明にかかる磁気
テープの構成はこれに限定されるものではない。また、
磁性層の厚さも用途等に応じて適宜決定することができ
る。
【００１０】本発明で使用される硬質炭素保護膜は、従
来から公知のものであることができ、例えばダイヤモン
ド状硬質炭素薄膜が挙げられる。硬質炭素保護膜の厚さ
も用途等に応じて適宜決定することができ、例えば１０
ｎｍ前後である。
来から公知のものであることができ、例えばダイヤモン
ド状硬質炭素薄膜が挙げられる。硬質炭素保護膜の厚さ
も用途等に応じて適宜決定することができ、例えば１０
ｎｍ前後である。
【００１１】本発明で使用される二酸化ケイ素（ＳｉＯ
2 ）薄膜またはアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜は、例えば
蒸着法で形成することができる。蒸着条件の一例を以下
に示す。 二酸化ケイ素の場合：入射角４０〜９０゜、酸素導入量
２〜２０m3／秒、蒸着時真空度１×１０-3〜５×１０-1
Ｐａ。 アルミナの場合：入射角４０〜９０゜、酸素導入量２〜
２０m3／秒、蒸着時真空度１×１０-3〜５×１０-1Ｐ
ａ。 また、得られる二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）薄膜またはア
ルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜の厚さは、２０ｎｍ以上が好
適であり、さらに好ましくは３０〜１００ｎｍがよい。
2 ）薄膜またはアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜は、例えば
蒸着法で形成することができる。蒸着条件の一例を以下
に示す。 二酸化ケイ素の場合：入射角４０〜９０゜、酸素導入量
２〜２０m3／秒、蒸着時真空度１×１０-3〜５×１０-1
Ｐａ。 アルミナの場合：入射角４０〜９０゜、酸素導入量２〜
２０m3／秒、蒸着時真空度１×１０-3〜５×１０-1Ｐ
ａ。 また、得られる二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）薄膜またはア
ルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜の厚さは、２０ｎｍ以上が好
適であり、さらに好ましくは３０〜１００ｎｍがよい。
【００１２】また本発明においては、必要に応じてバッ
クコート層を形成したり、非磁性支持体上に下塗層を形
成したり、滑剤層を形成する等のことは何ら差し支えな
い。この場合、バックコート層に含まれる非磁性顔料、
樹脂結合剤あるいは潤滑剤に含まれる材料としては従来
公知のものがいずれも使用できる。
クコート層を形成したり、非磁性支持体上に下塗層を形
成したり、滑剤層を形成する等のことは何ら差し支えな
い。この場合、バックコート層に含まれる非磁性顔料、
樹脂結合剤あるいは潤滑剤に含まれる材料としては従来
公知のものがいずれも使用できる。
【００１３】本発明の磁気記録媒体は、次の２つの態様
が挙げられる。 （１）非磁性支持体と前記磁性層との間に、二酸化ケイ
素（ＳｉＯ2 ）薄膜またはアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜
を設ける。 （２）非磁性支持体の一方の面に、強磁性金属膜からな
る磁性層、および前記磁性層上部に硬質炭素保護膜を設
け、前記非磁性支持体の他方の面に、二酸化ケイ素（Ｓ
ｉＯ2 ）およびアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜からなる群
から選ばれた少なくとも１種を設ける。 図１に、前者の磁気記録媒体を示す。非磁性支持体１上
に二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）薄膜またはアルミナ（Ａｌ
2 Ｏ3 ）薄膜２が設けられ、その上部に磁性層３が設け
られ、さらにその上部に硬質炭素保護膜４、例えばダイ
ヤモンド状硬質炭素薄膜、および滑剤層５が設けられて
いる。また、非磁性支持体１の背面には、バックコート
層６が設けられている。図２に、後者の磁気記録媒体を
示す。非磁性支持体１の一方の面に磁性層３、硬質炭素
保護膜４、および滑剤層５が設けられ、非磁性支持体１
の他方の面に二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）およびアルミナ
（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜からなる群から選ばれた少なくとも
１種、およびバックコート層６が設けられている。
が挙げられる。 （１）非磁性支持体と前記磁性層との間に、二酸化ケイ
素（ＳｉＯ2 ）薄膜またはアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜
を設ける。 （２）非磁性支持体の一方の面に、強磁性金属膜からな
る磁性層、および前記磁性層上部に硬質炭素保護膜を設
け、前記非磁性支持体の他方の面に、二酸化ケイ素（Ｓ
ｉＯ2 ）およびアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜からなる群
から選ばれた少なくとも１種を設ける。 図１に、前者の磁気記録媒体を示す。非磁性支持体１上
に二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）薄膜またはアルミナ（Ａｌ
2 Ｏ3 ）薄膜２が設けられ、その上部に磁性層３が設け
られ、さらにその上部に硬質炭素保護膜４、例えばダイ
ヤモンド状硬質炭素薄膜、および滑剤層５が設けられて
いる。また、非磁性支持体１の背面には、バックコート
層６が設けられている。図２に、後者の磁気記録媒体を
示す。非磁性支持体１の一方の面に磁性層３、硬質炭素
保護膜４、および滑剤層５が設けられ、非磁性支持体１
の他方の面に二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）およびアルミナ
（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜からなる群から選ばれた少なくとも
１種、およびバックコート層６が設けられている。
【００１４】このような本発明の磁気記録媒体によれ
ば、酸素および水分の透過率が大幅に減少し、耐環境性
が飛躍的に向上する。
ば、酸素および水分の透過率が大幅に減少し、耐環境性
が飛躍的に向上する。
【００１５】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに説明す
る。まず、厚さ６μm 、幅１５０mmのポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）フィルム上にアクリル酸エステル
を主成分とする水溶性ラテックスを分散させてなる粒子
分散液を塗布し、密度２００万個／mm2 の表面突起を形
成した。
る。まず、厚さ６μm 、幅１５０mmのポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）フィルム上にアクリル酸エステル
を主成分とする水溶性ラテックスを分散させてなる粒子
分散液を塗布し、密度２００万個／mm2 の表面突起を形
成した。
【００１６】実施例１ 次にこのＰＥＴフィルム上に膜厚２０ｎｍからなるＳｉ
Ｏ2 薄膜を蒸着法にて形成した。蒸着条件は、次の通り
である。 インゴット Ｓｉ 入射角 ４０〜９０゜ 酸素導入量 ２．０×１０-6m3／秒 蒸着時真空度 ５×１０-2Ｐａ。 次いで、上記ＳｉＯ2 薄膜に連続巻取り式斜方蒸着装置
を用いて膜厚２００ｎｍの磁性層を形成した。さらにＣ
ＶＤによりダイヤモンド状硬質炭素薄膜を形成し、さら
にその上部にパーフルオロポリエーテルからなる潤滑剤
を塗布し、さらにまた上記ＰＥＴフィルムの磁性層が形
成された面の反対側に、カーボンとウレタン樹脂からな
るバックコート層をグラビア方式により０．６μm の厚
さに形成した。その後、これを６．３５mm幅に裁断する
ことにより磁気テープを完成した。それぞれの成膜条件
を以下に示す、なお、磁性層および硬質炭素薄膜の成膜
条件はこれに制限されるものではない。本実施例１で得
られた磁気テープは、図１と同様の構成である。
Ｏ2 薄膜を蒸着法にて形成した。蒸着条件は、次の通り
である。 インゴット Ｓｉ 入射角 ４０〜９０゜ 酸素導入量 ２．０×１０-6m3／秒 蒸着時真空度 ５×１０-2Ｐａ。 次いで、上記ＳｉＯ2 薄膜に連続巻取り式斜方蒸着装置
を用いて膜厚２００ｎｍの磁性層を形成した。さらにＣ
ＶＤによりダイヤモンド状硬質炭素薄膜を形成し、さら
にその上部にパーフルオロポリエーテルからなる潤滑剤
を塗布し、さらにまた上記ＰＥＴフィルムの磁性層が形
成された面の反対側に、カーボンとウレタン樹脂からな
るバックコート層をグラビア方式により０．６μm の厚
さに形成した。その後、これを６．３５mm幅に裁断する
ことにより磁気テープを完成した。それぞれの成膜条件
を以下に示す、なお、磁性層および硬質炭素薄膜の成膜
条件はこれに制限されるものではない。本実施例１で得
られた磁気テープは、図１と同様の構成である。
【００１７】磁性層 厚さ：２００ｎｍ 組成：Ｃｏ８０Ｎｉ２０単層 入射角：４５〜９０゜ 導入ガス：酸素ガス 蒸着時真空度：２×１０-2Ｐａ ダイヤモンド状硬質炭素薄膜 厚さ：１０ｎｍ 原料ガス：トルエン 反応圧力：１０Ｐａ 導入電力：ＤＣ２．０ｋＶ
【００１８】実施例２ ＳｉＯ2 膜を５０ｎｍ形成した以外は実施例１を繰り返
した。
した。
【００１９】実施例３ ＳｉＯ2 膜を１００ｎｍ形成した以外は実施例１を繰り
返した。
返した。
【００２０】実施例４ Ａｌ2 Ｏ3 膜を１００ｎｍ形成した以外は実施例１を繰
り返した。なお、Ａｌ2 Ｏ3 膜の蒸着条件を以下に示
す。 インゴット Ａｌ 入射角 ４０〜９０゜ 酸素導入量 ５m3／秒 蒸着時真空度 １×１０-2Ｐａ。
り返した。なお、Ａｌ2 Ｏ3 膜の蒸着条件を以下に示
す。 インゴット Ａｌ 入射角 ４０〜９０゜ 酸素導入量 ５m3／秒 蒸着時真空度 １×１０-2Ｐａ。
【００２１】実施例５ 上記実施例１で使用したＰＥＴフィルムの一方の面に磁
性層、上部にダイヤモンド状硬質炭素薄膜および潤滑剤
の層を設け、他方の面にＳｉＯ2 薄膜およびバックコー
ト層を設けたこと以外は、実施例１を繰り返した。な
お、本実施例５で得られた磁気テープは、図２と同様で
ある。
性層、上部にダイヤモンド状硬質炭素薄膜および潤滑剤
の層を設け、他方の面にＳｉＯ2 薄膜およびバックコー
ト層を設けたこと以外は、実施例１を繰り返した。な
お、本実施例５で得られた磁気テープは、図２と同様で
ある。
【００２２】比較例１ ＳｉＯ2 薄膜を設けなかったこと以外は、実施例１を繰
り返した。
り返した。
【００２３】上記の各実施例および比較例で得られた記
録媒体を、０．５ｐｐｍ濃度のＳＯ2 ガス雰囲気環境
下、温度３０℃、相対湿度７０％に維持された恒温槽内
に、３日間曝露するという耐環境性試験に施した。結果
を表１に示す。評価は保存前と保存後の飽和磁化の変化
に対して行った。
録媒体を、０．５ｐｐｍ濃度のＳＯ2 ガス雰囲気環境
下、温度３０℃、相対湿度７０％に維持された恒温槽内
に、３日間曝露するという耐環境性試験に施した。結果
を表１に示す。評価は保存前と保存後の飽和磁化の変化
に対して行った。
【００２４】
【表１】
【００２５】表１から明らかなようにＳｉＯ2 またはＡ
ｌ2 Ｏ3 の薄膜の存在で、大幅に保存特性が改善されて
いることが分かる。また、ＳｉＯ2 薄膜とＡｌ2 Ｏ3 薄
膜とを、非磁性支持体の両面に適宜組み合わせて設ける
こともでき、これによればさらに耐環境性が向上する。
ｌ2 Ｏ3 の薄膜の存在で、大幅に保存特性が改善されて
いることが分かる。また、ＳｉＯ2 薄膜とＡｌ2 Ｏ3 薄
膜とを、非磁性支持体の両面に適宜組み合わせて設ける
こともでき、これによればさらに耐環境性が向上する。
【００２６】
【発明の効果】本発明によれば、耐環境性に優れた磁気
記録媒体が提供される。
記録媒体が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体の一実施態様の断面図で
ある。
ある。
【図２】本発明の磁気記録媒体の別の実施態様の断面図
である。
である。
１……非磁性支持体、２……二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）
薄膜またはアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜、３……磁性
層、４……硬質炭素保護膜、５……滑剤層、６……バッ
クコート層。
薄膜またはアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜、３……磁性
層、４……硬質炭素保護膜、５……滑剤層、６……バッ
クコート層。
Claims (3)
- 【請求項１】 非磁性支持体、強磁性金属膜からなる磁
性層および硬質炭素保護膜を備えてなる磁気記録媒体に
おいて、前記非磁性支持体と前記磁性層との間に、二酸
化ケイ素（ＳｉＯ2 ）薄膜およびアルミナ（Ａｌ2 Ｏ
3 ）薄膜からなる群から選ばれた少なくとも１種を設け
たことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 非磁性支持体の一方の面に、強磁性金属
膜からなる磁性層、および前記磁性層上部に硬質炭素保
護膜を設け、前記非磁性支持体の他方の面に、二酸化ケ
イ素（ＳｉＯ2 ）およびアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）薄膜か
らなる群から選ばれた少なくとも１種を設けたことを特
徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項３】 二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）薄膜またはア
ルミナ（Ａｌ2 Ｏ3）薄膜の厚さが２０ｎｍ以上である
ことを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4897797A JPH10247312A (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4897797A JPH10247312A (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10247312A true JPH10247312A (ja) | 1998-09-14 |
Family
ID=12818326
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4897797A Pending JPH10247312A (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10247312A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107249752A (zh) * | 2015-01-27 | 2017-10-13 | 赛库乐米克斯公司 | 用于磁性核酸提取的分层硅石薄片 |
-
1997
- 1997-03-04 JP JP4897797A patent/JPH10247312A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107249752A (zh) * | 2015-01-27 | 2017-10-13 | 赛库乐米克斯公司 | 用于磁性核酸提取的分层硅石薄片 |
| US20180001325A1 (en) * | 2015-01-27 | 2018-01-04 | Circulomics Inc. | Hierarchical silica lamella for magnetic nucleic acid extraction |
| EP3250690A4 (en) * | 2015-01-27 | 2018-08-29 | Circulomics Inc. | Hierarchical silica lamella for magnetic nucleic acid extraction |
| US10737276B2 (en) | 2015-01-27 | 2020-08-11 | Circulomics Inc. | Hierarchical silica lamella for magnetic nucleic acid extraction |
| US11198135B2 (en) | 2015-01-27 | 2021-12-14 | Pacific Biosciences Of California, Inc. | Hierarchical silica lamella for magnetic nucleic acid extraction |
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