JP2003331411A - 磁気記録媒体とその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気抵抗型ヘッドで記録信号の再生が行われ
る記録再生システムの垂直記録媒体として使用すること
ができる、高保磁力でＳ／Ｎが高く、優れた保存安定性
を有する高記録密度の磁気記録媒体およびその製造方法
を提供する。 【解決手段】 非磁性支持体からなる基板１の一主面上
に真空蒸着装置を用いて酸素導入量０．２〜０．８ｓｃ
ｃｍの条件下、該基板１を１００〜４００℃に加熱し
て、Ｃｏ、ＰｔおよびＯからなり、かつＣｏとＰｔとを
主成分にし、その組成式をＣｏ_{（100−X）}Ｐｔ_Xとした
時に、ｘ＝６０〜９０（原子％）とする含有割合に制御
した金属磁性薄膜からなる磁性層２を形成し、該磁性層
２の表面に炭素保護膜層３を成膜し、更に該炭素保護膜
層３の表面に潤滑層４を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気テープや磁気
ディスク等の高密度記録再生に適用できる金属磁性薄膜
型の磁気記録媒体に関し、更に詳しくは、磁気抵抗型ヘ
ッドで記録信号の再生が行われる記録再生システムに使
用することができる垂直磁化の磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気テープや磁気ディスク等の磁
気記録媒体には高記録密度化が益々要求されるようにな
ってきている。特に最近では磁気記録媒体の更なる高記
録密度化を達成するために、記録信号の再生ヘッドとし
て磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）が使用されており、
その用途はハードディスクだけでなく磁気テープにも拡
大している。このような用途には薄膜型の磁気記録媒体
が用いられており、高記録密度化に向け、更なる高保磁
力化および低ノイズ化が求められている。また、高記録
密度化と同時に長期にわたってデータの保存が可能な、
いわゆるアーカイブ性に対する要求も益々厳しくなって
いる。

【０００３】高保磁力化および低ノイズ化の要求に対し
ては、Ｃｏ−Ｃｒ合金系の薄膜や、Ｃｏ−Ｐｔ多層膜な
どの垂直磁化膜（垂直膜）に関して多くの検討が行われ
てきている。このような垂直膜の特性の中でも特に重要
となるのが再生信号のＣ／Ｎを確保することであり、こ
のためには、磁気記録媒体を構成する金属磁性薄膜の磁
性結晶粒子（磁性粒子）を記録ビットの縮小にある程度
対応して微細化することが必要になってくる。磁性粒子
の微細化のためには、金属磁性薄膜からなる磁性層の形
成の際に下地層を設けたり、磁性合金中に他の元素を添
加したり、磁性層を何層にも区切るなど種々の工夫がな
されている。しかしながら、これらの手法では磁性膜の
構造が複雑になり、膜厚や組成の制御が煩雑で難しいた
め製造上の課題も多い。

【０００４】一方、真空蒸着法により作製される金属磁
性薄膜型の斜め蒸着テープは磁化容易方向を斜めに配向
させるために、マスク等を設けて蒸着磁性粒子の斜め成
分だけを非磁性支持体からなる基板上に被着する必要が
あるため、真空蒸着設備が複雑となるだけでなく、蒸着
磁性原料の多くがマスクなどに付着してしまうため原料
ロスも大きい。また蒸着テープで主流となっているＣｏ
−ＣｏＯ磁性膜は保管環境によっては酸化が進むため記
録信号の劣化が問題であった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な問題点に鑑みてなされたもので、その目的は真空蒸着
法により高レートでしかも容易に作製することができ、
磁気抵抗型ヘッドで記録信号の再生が行われる記録再生
システムの垂直記録媒体として使用することができる、
高保磁力でＳ／Ｎが高く、優れた保存安定性を有する高
記録密度の磁気記録媒体およびその製造方法を提供する
ことにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明に係る磁気記録媒体は、非磁性支持体からな
る基板の一主面上にＣｏ−Ｐｔ合金を主成分とする垂直
磁化の金属磁性薄膜を形成することにより、前述の金属
磁性薄膜、例えばスパッタ膜や蒸着膜における課題を解
決するものである。すなわち、真空蒸着法を適用し、酸
素の導入量と基板の加熱温度とを制御しながらＣｏ―Ｐ
ｔ合金の組成を最適に制御して垂直膜を形成することに
より、例えば単層構造であるにもかかわらず磁性粒子の
微細化が実現し、保磁力Ｈｃが非常に高く、再生信号の
Ｃ／Ｎが高い磁気記録媒体が得られるばかりでなく、Ｃ
ｏに対してＰｔの含有量を多くすることにより、保存安
定性の非常に優れた磁気記録媒体が得られることを見出
した。更に、Ｃｏ―Ｐｔ合金組成の制御によって磁化容
易軸を垂直方向にすることが可能であるため、従来の斜
め蒸着のようにマスクを設けて入射角を制御する必要が
なく、非常に高い生産性で磁気記録媒体の製造を実現し
得ることを見出した。

【０００７】本発明は、上記知見に基づいてなされたも
ので、非磁性支持体からなる基板の一主面上に、Ｃｏ、
ＰｔおよびＯからなり、かつＣｏとＰｔとを主成分と
し、その組成式をＣｏ_{（100−X）}Ｐｔ_Xとした時に、ｘ
＝６０〜９０（原子％）とする含有割合にした金属磁性
薄膜を磁性層として形成することによって、高保磁力Ｈ
ｃであり、Ｃ／Ｎに優れ、磁気抵抗型ヘッドで記録信号
の再生が行われる記録再生システムに適用することがで
き、かつ長期間保管しても記録の劣化が見られない磁気
記録媒体が提供される。更に、上記ＣｏおよびＰｔを主
成分とし、その組成式をＣｏ_{（100−X）}Ｐｔ_Xとした時
に、ｘ＝６０〜９０（原子％）とする含有割合であるよ
うな金属磁性薄膜からなる磁性層を真空蒸着により形成
する磁気記録媒体の製造方法において、前記真空蒸着時
に、前記基板を１００〜４００℃で加熱し、０．２〜
０．８ｓｃｃｍの酸素を導入しつつ行うことによって、
金属磁性薄膜の磁気的分離を適性なものとし、十分な保
持力Ｈｃが得られるとともにＣ／Ｎが良好である垂直磁
化膜の形成が容易に行える磁気記録媒体の製造方法が提
供される。特に、Ｃｏ−Ｐｔ組成および基板温度を制御
することによって磁化容易軸を垂直方向とすることが可
能であるため、従来の斜め蒸着テープのように入射方向
をマスクなどによって遮蔽することなく垂直膜が得られ
るため、マスクによる蒸着磁性粒子のカット、すなわち
原料のロスが非常に少ない、高レートの製膜が可能であ
る。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る磁気記録媒体
の好適な実施の形態を詳細に説明する。本発明を適用し
た垂直磁化型の磁気記録媒体は、前記のように非磁性支
持体からなる基板の一主面上にＣｏ―Ｐｔ合金の金属磁
性薄膜からなる磁性層が形成されてなるものであり、特
にＭＲヘッドで記録信号の再生が行われる記録再生シス
テムに用いられて好適である。

【０００９】ここで、磁性層を構成する金属磁性薄膜
は、前記のようにＣｏ、ＰｔおよびＯからなり、かつＣ
ｏとＰｔを主成分とするＣｏ―Ｐｔ合金であり、Ｐｔの
含有量、すなわち組成式をＣｏ_{（100−X）}Ｐｔ_Xとする
時、組成量ｘは６０〜９０原子％の範囲にある。このよ
うなＣｏ−Ｐｔ合金からなる金属磁性薄膜において、Ｃ
ｏに対してＰｔの組成量を多くすると、ｆｃｔ構造（面
心正方構造）となり、基板に対して垂直方向に磁化容易
軸を持つ。一方、Ｐｔの組成量ｘが２０原子％程度より
少ないとｈｃｐ構造（六方最密充填構造）を取り、磁化
容易軸が面内方向になる。このような構造変化から、Ｐ
ｔの組成量ｘが６０原子％より少ないと面内磁化成分が
増加するため、垂直媒体として適さなくなる。更に、Ｐ
ｔの組成量ｘが少なくなると相対的にＣｏが増加するた
め、耐食性も低くなる。また、面内磁化膜では、酸素の
導入下に行われる蒸着磁性粒子の酸化に基づく保磁力Ｈ
ｃの増加も見られない。他方、Ｐｔの組成量ｘが９０原
子％を越えると、磁化が低くなり磁気記録媒体として十
分な出力が得られなくなる。

【００１０】上記、磁性層形成時の基板温度は、１００
〜４００℃の範囲が好ましく、更に好ましくは２００〜
３００℃の範囲である。基板温度が１００℃未満である
と垂直方向への配向が十分とならない。また、３００℃
以上では配向はほぼ一定となるため、それ以上温度を上
げても効果はあまり変わらないが、基板への熱負荷など
を考慮すると４００℃以下にすることが好ましい。

【００１１】また、Ｃｏ−Ｐｔ合金の蒸着時における酸
素導入量は、０．２〜０．７ｓｃｃｍ（ｃｍ³／ｍｉ
ｎ）の範囲が好ましい。酸素導入量が０．２ｓｃｃｍよ
り少ないと金属磁性薄膜の磁気的分離が少なく、十分な
保磁力Ｈｃが得られない。一方、酸素導入量が０．７ｓ
ｃｃｍを越えると金属磁性薄膜中の酸素量が多過ぎるた
め、磁性が発現しない。

【００１２】上記金属磁性薄膜からなる磁性層の厚みは
特に限定されないが、２０〜２００ｎｍの範囲が好まし
い。磁性層の膜厚が２０ｎｍより薄くなると磁気記録媒
体の出力が低くなり、保磁力Ｈｃも低下する。このた
め、長期間保管した際にデータの損失が生じる場合があ
る。一方、磁性層の膜厚が増加すると保磁力Ｈｃが高く
なり、安定した信号保持が可能となるが、膜厚増加に伴
って粒子が大きくなるためにＣ／Ｎが悪化する。更に、
蒸着レートやコストの面では膜厚を比較的薄くする方が
好ましいため、膜厚の上限を２００ｎｍ程度にすること
が妥当である。

【００１３】更に、磁性層の表面には磁気記録媒体の耐
久性や耐候性を高める目的で、硬質炭素に代表されるよ
うな保護膜を設けてもよい。このような保護膜はスパッ
タリング法やＣＶＤ法等を用いて、膜厚がスペーシング
やテープ特性に影響を与えない６〜１０ｎｍ程度に形成
されるのが好ましい。また、この保護膜の表面に潤滑剤
を塗布することにより、磁気記録媒体の走行性を高める
ことも可能である。

【００１４】非磁性支持体からなる基板としては、特に
限定されないが、例えばＡｌ基板、ＮｉＰめっきＡｌ合
金基板、強化ガラス基板、結晶化ガラス基板、セラミッ
クス基板、Ｓｉ合金基板、Ｔｉ合金基板、カーボン基
板、およびこれらの複合材料からなるディスク状の基板
や、ポリイミドあるいはポリアミドなどの耐熱性に優れ
たプラスチックフィルムからなるディスク状、もしくは
テープ状のものが使用できる。磁気テープの基板、すな
わち非磁性支持体としてプラスチックフィルムを用いる
場合、通常その厚さは２〜１０μｍの範囲にあり、構成
は単層であっても２層以上の積層フィルムであってもよ
い。

【００１５】更にまた、非磁性支持体からなる基板の磁
性層が形成された面とは反対側の基板表面にバックコー
ト層を設けてもよい。その際、易接着層を設けてバック
コート層との接着性を高めることもできる。また、磁気
記録媒体の耐久性や走行性、あるいは成膜時におけるテ
ープのハンドリングを向上させるために、無機質などの
粒子を前記フィルム中に内在させてもよい。該粒子とし
ては炭酸カルシウム、シリカ、アルミナ等が例示される
がこれらに限定されない。

【００１６】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて実験結果に基づき説明する。ただし、本発明はなん
ら実施例に限定されるものではない。

【００１７】実施例１ 図１の断面模式図に示す構成層を以下のように順次形成
して磁気記録媒体を作製した。まず、厚さ７μｍのポリ
イミドフィルム製の基板１表面上に、真空蒸着装置を用
いてＣｏ−Ｐｔ合金を蒸着源とし、酸素ガス０．６ｓｃ
ｃｍの導入下に真空蒸着を行って、膜厚１００ｎｍのＣ
ｏ、ＰｔおよびＯからなる金属磁性薄膜の磁性層２を成
膜した。蒸着の際に蒸着原料を収容する、るつぼ中にワ
イヤー状のＣｏをフィードすることにより、蒸着された
Ｃｏ、ＰｔおよびＯからなる金属磁性薄膜の主成分であ
るＣｏとＰｔの組成式をＣｏ_{（100−X）}Ｐｔ_Xとした時
に、組成量ｘが常に８０原子％、すなわちＣｏ₂₀Ｐｔ₈₀
となるように制御した。なお、金属磁性薄膜が走行しな
がらその外周面で蒸着成膜される温度制御可能な回転ロ
ール、すなわちキャンの温度を３００℃に制御し、この
温度に基板１を加熱して蒸着を行った。

【００１８】次に、形成された磁性層２表面に炭素保護
膜層３をスパッタリング法により成膜した。成膜条件
は、ターゲットにカーボンを用い、真空装置の背圧を４
×１０ ^-3Ｐａ、Ａｒガス圧を４×１０^-1Ｐａ、スパッタ
電力を６ｋＷに設定し、炭素保護膜層３の膜厚が６ｎｍ
になるように制御して成膜した。更に、得られた炭素保
護膜層３表面にパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を塗
布して潤滑層４を形成した。上記のように、表面上に磁
性層２、炭素保護膜層３、潤滑層４を形成したポリイミ
ドフィルム製基板１を、円盤状に打ち抜き、これをガラ
スディスクに張り合わせて評価用の磁気記録媒体を作製
した。

【００１９】実施例２ 前記実施例１において、酸素ガスの導入量を０．２ｓｃ
ｃｍとしたほかは、実施例１と同様にして主成分がＣｏ
−Ｐｔ金属磁性薄膜（Ｃｏ₂₀Ｐｔ₈₀：組成量は原子％）
からなる磁性層２を蒸着により成膜し、同様にして炭素
保護膜層３、潤滑層４を形成し、円盤状に打ち抜き、ガ
ラスディスクに張り合わせて評価用の磁気記録媒体を作
製した。

【００２０】実施例３ 前記実施例１において、酸素ガスの導入量を０．８ｓｃ
ｃｍとしたほかは、実施例１と同様にして主成分がＣｏ
−Ｐｔ金属磁性薄膜（Ｃｏ₂₀Ｐｔ₈₀：組成量は原子％）
からなる磁性層２を蒸着により成膜し、同様にして炭素
保護膜層３、潤滑層４を形成し、円盤状に打ち抜き、ガ
ラスディスクに張り合わせて評価用の磁気記録媒体を作
製した。

【００２１】実施例４ 前記実施例１において、磁性層２の膜厚を２０ｎｍと
し、酸素ガスの導入量を０．４ｓｃｃｍとしたほかは、
実施例１と同様にして主成分がＣｏ−Ｐｔ金属磁性薄膜
（Ｃｏ₂₀Ｐｔ₈₀：組成量は原子％）からなる磁性層２を
蒸着により成膜し、同様にして炭素保護膜層３、潤滑層
４を形成し、円盤状に打ち抜き、ガラスディスクに張り
合わせて評価用の磁気記録媒体を作製した。

【００２２】実施例５ 前記実施例１において、磁性層２の膜厚を２０ｎｍと
し、酸素ガスの導入量を０．８ｓｃｃｍとしたほかは、
実施例１と同様にして主成分がＣｏ−Ｐｔ金属磁性薄膜
（Ｃｏ₂₀Ｐｔ₈₀：組成量は原子％）からなる磁性層２を
蒸着により成膜し、同様にして炭素保護膜層３、潤滑層
４を形成し、円盤状に打ち抜き、ガラスディスクに張り
合わせて評価用の磁気記録媒体を作製した。

【００２３】実施例６ 前記実施例１において、磁性層２の膜厚を２００ｎｍと
したほかは、実施例１と同様にして主成分がＣｏ−Ｐｔ
金属磁性薄膜（Ｃｏ₂₀Ｐｔ₈₀：組成量は原子％）からな
る磁性層２を蒸着により成膜し、同様にして炭素保護膜
層３、潤滑層４を形成し、円盤状に打ち抜き、ガラスデ
ィスクに張り合わせて評価用の磁気記録媒体を作製し
た。

【００２４】実施例７ 前記実施例１において、磁性層２の膜厚を２００ｎｍと
し、酸素ガスの導入量を０．２ｓｃｃｍとしたほかは、
実施例１と同様にして主成分がＣｏ−Ｐｔ金属磁性薄膜
（Ｃｏ₂₀Ｐｔ₈₀：組成量は原子％）からなる磁性層２を
蒸着により成膜し、同様にして炭素保護膜層３、潤滑層
４を形成し、円盤状に打ち抜き、ガラスディスクに張り
合わせて評価用の磁気記録媒体を作製した。

【００２５】実施例８ 前記実施例１において、基板１の温度を１００℃とした
ほかは、実施例１と同様にして主成分がＣｏ−Ｐｔ金属
磁性薄膜（Ｃｏ₂₀Ｐｔ₈₀：組成量は原子％）からなる磁
性層２を蒸着により成膜し、同様にして炭素保護膜層
３、潤滑層４を形成し、円盤状に打ち抜き、ガラスディ
スクに張り合わせて評価用の磁気記録媒体を作製した。

【００２６】実施例９ 前記実施例１において、基板１にポリアミドフィルムを
使用し、基板１の温度を１００℃としたほかは、実施例
１と同様にして主成分がＣｏ−Ｐｔ金属磁性薄膜（Ｃｏ
₂₀Ｐｔ₈₀：組成量は原子％）からなる磁性層２を蒸着に
より成膜し、同様にして炭素保護膜層３、潤滑層４を形
成し、円盤状に打ち抜き、ガラスディスクに張り合わせ
て評価用の磁気記録媒体を作製した。

【００２７】実施例１０ 前記実施例１において、基板１にガラス基板を使用し、
基板１の温度を４００℃としたほかは、実施例１と同様
にして主成分がＣｏ−Ｐｔ金属磁性薄膜（Ｃｏ ₂₀Ｐ
ｔ₈₀：組成量は原子％）からなる磁性層２を蒸着により
成膜し、同様にして炭素保護膜層３、潤滑層４を形成
し、円盤状に打ち抜き、ガラスディスクに張り合わせて
評価用の磁気記録媒体を作製した。

【００２８】実施例１１ 前記実施例１において、Ｃｏ、ＰｔおよびＯからなる金
属磁性薄膜の主成分であるＣｏとＰｔの組成式をＣｏ
_{（100−X）}Ｐｔ_Xとした時に、組成量ｘが常に９０原子
％となるように制御したほかは、実施例１と同様にして
主成分がＣｏ−Ｐｔ金属磁性薄膜（Ｃｏ₁₀Ｐｔ₉₀：組成
量は原子％）からなる磁性層２を蒸着により成膜し、同
様にして炭素保護膜層３、潤滑層４を形成し、円盤状に
打ち抜き、ガラスディスクに張り合わせて評価用の磁気
記録媒体を作製した。

【００２９】実施例１２ 前記実施例１において、Ｃｏ、ＰｔおよびＯからなる金
属磁性薄膜の主成分であるＣｏとＰｔの組成式をＣｏ
_{（100−X）}Ｐｔ_Xとした時に、組成量ｘが常に６０原子
％となるように制御したほかは、実施例１と同様にして
主成分がＣｏ−Ｐｔ金属磁性薄膜（Ｃｏ₄₀Ｐｔ₆₀：組成
量は原子％）からなる磁性層２を蒸着により成膜し、同
様にして炭素保護膜層３、潤滑層４を形成し、円盤状に
打ち抜き、ガラスディスクに張り合わせて評価用の磁気
記録媒体を作製した。

【００３０】参考例１ 前記実施例１において、酸素ガスの導入量を０．１ｓｃ
ｃｍとしたほかは、実施例１と同様にして主成分がＣｏ
−Ｐｔ金属磁性薄膜（Ｃｏ₂₀Ｐｔ₈₀：組成量は原子％）
からなる磁性層２を蒸着により成膜し、同様にして炭素
保護膜層３、潤滑層４を形成し、円盤状に打ち抜き、ガ
ラスディスクに張り合わせて評価用の磁気記録媒体を作
製した。

【００３１】参考例２ 前記実施例１において、酸素ガスの導入量を０．９ｓｃ
ｃｍとしたほかは、実施例１と同様にして主成分がＣｏ
−Ｐｔ金属磁性薄膜（Ｃｏ₂₀Ｐｔ₈₀：組成量は原子％）
からなる磁性層２を蒸着により成膜し、同様にして炭素
保護膜層３、潤滑層４を形成し、円盤状に打ち抜き、ガ
ラスディスクに張り合わせて評価用の磁気記録媒体を作
製した。

【００３２】参考例３ 前記実施例１において、磁性層２の膜厚を１０ｎｍと
し、酸素ガスの導入量を０．１ｓｃｃｍとしたほかは、
実施例１と同様にして主成分がＣｏ−Ｐｔ金属磁性薄膜
（Ｃｏ₂₀Ｐｔ₈₀：組成量は原子％）からなる磁性層２を
蒸着により成膜し、同様にして炭素保護膜層３、潤滑層
４を形成し、円盤状に打ち抜き、ガラスディスクに張り
合わせて評価用の磁気記録媒体を作製した。

【００３３】参考例４ 前記実施例１において、磁性層２の膜厚を３００ｎｍと
したほかは、実施例１と同様にして主成分がＣｏ−Ｐｔ
金属磁性薄膜（Ｃｏ₂₀Ｐｔ₈₀：組成量は原子％）からな
る磁性層２を蒸着により成膜し、同様にして炭素保護膜
層３、潤滑層４を形成し、円盤状に打ち抜き、ガラスデ
ィスクに張り合わせて評価用の磁気記録媒体を作製し
た。

【００３４】参考例５ 前記実施例１において、蒸着時の基板１の加熱を行わな
かったほかは、実施例１と同様にして主成分がＣｏ−Ｐ
ｔ金属磁性薄膜（Ｃｏ₂₀Ｐｔ₈₀：組成量は原子％）から
なる磁性層２を蒸着により成膜し、同様にして炭素保護
膜層３、潤滑層４を形成し、円盤状に打ち抜き、ガラス
ディスクに張り合わせて評価用の磁気記録媒体を作製し
た。

【００３５】参考例６ 前記実施例１において、Ｃｏ、ＰｔおよびＯからなる金
属磁性薄膜の主成分であるＣｏとＰｔの組成式をＣｏ
_{（100−X）}Ｐｔ_Xとした時に、組成量ｘが常に５０原子
％となるように制御し、磁性層２の膜厚を３０ｎｍとし
たほかは、実施例１と同様にして主成分がＣｏ−Ｐｔ金
属磁性薄膜（Ｃｏ₅₀Ｐｔ₅₀：組成量は原子％）からなる
磁性層２を蒸着により成膜し、同様にして炭素保護膜層
３、潤滑層４を形成し、円盤状に打ち抜き、ガラスディ
スクに張り合わせて評価用の磁気記録媒体を作製した。

【００３６】参考例７ 前記実施例１において、Ｃｏ、ＰｔおよびＯからなる金
属磁性薄膜の主成分であるＣｏとＰｔの組成式をＣｏ
_{（100−X）}Ｐｔ_Xとした時に、組成量ｘが常に９５原子
％となるように制御し、磁性層２の膜厚を３０ｎｍとし
たほかは、実施例１と同様にして主成分がＣｏ−Ｐｔ金
属磁性薄膜（Ｃｏ₅Ｐｔ₉₅：組成量は原子％）からなる
磁性層２を蒸着により成膜し、同様にして炭素保護膜層
３、潤滑層４を形成し、円盤状に打ち抜き、ガラスディ
スクに張り合わせて評価用の磁気記録媒体を作製した。

【００３７】上記実施例１〜１２および参考例１〜７で
得られたそれぞれの評価用磁気記録媒体について、下記
評価条件で保磁力、Ｃ／Ｎ、耐食性を測定した。結果を
表１に示す。 ＜評価条件＞保磁力：上記磁気記録媒体を６ｍｍ×８ｍ
ｍの形状に切り出し、ＶＳＭ（振動試料型磁力計）を使
用して磁場の印加方向が磁気記録媒体の垂直方向になる
ようにセットして測定した。最大印加磁場１５ｋＯｅ
（１，１８５ｋＡ／ｍ）にて測定を行い、得られたＭ−
Ｈ曲線より保磁力Ｈｃを求めた。 Ｃ／Ｎ：ＧＭＲヘッドを用い、Ｇｕｚｉｋ（記録再生評
価装置）、オシロスコープ、スペクトラムアナライザー
により線記録密度を２００ｋｆｃｉ（ｆｌｕｘｃｈａｎ
ｇｅ ｐｅｒ ｓｑｕａｒｅ ｉｎｃｈ）として測定を
行った。 耐食性：記録媒体をＳＯ₂ガス０．５ｐｐｍ、温度３０
℃、湿度８０％ＲＨの環境下に１６時間放置し、前後の
飽和磁化ＭｓをＶＳＭにより測定し、その劣化の割合を
調べた。

【００３８】

【表１】

【００３９】表１に示す結果から明らかなように、酸素
ガスの導入量を０．２〜０．８ｓｃｃｍとし、基板１の
加熱温度を１００〜４００℃とする真空蒸着条件によ
り、Ｃｏ、ＰｔおよびＯからなる磁性層２を形成するに
際して、主成分のＣｏとＰｔとの組成式をＣｏ
_{（100−X）}Ｐｔ_Xとした時、ｘ＝６０〜９０（原子％）
の含有割合に制御した実施例１〜１２の磁気記録媒体
は、いずれも保持力Ｈｃが高く、Ｓ／Ｎ特性が優れ、長
期間保管しても記録の劣化が見られないことが分かる。
これに対して、酸素導入量が極端に少ないか、あるいは
多い参考例１〜３の場合には、磁化や保磁力Ｈｃが非常
に低く、評価ができず磁気記録媒体としての役割を果た
さないものであった。また、磁性層２の膜厚を厚くした
比較例４では、粒子性に起因するノイズが増加してＣ／
Ｎが低下している。あるいは、蒸着時に基板１の加熱を
行わない比較例５の場合にも保持力Ｈｃは低く、磁気記
録媒体としては性能不十分であった。あるいは、Ｃｏの
組成量ｘを大きくした、いわゆるＣｏ含有量の多過ぎる
比較例６の場合は、磁化の面内成分が増加して垂直媒体
として適さないばかりでなく、耐食性においても劣る。
更に、Ｃｏの組成量ｘが小さく、Ｃｏの含有量が極端に
少ない比較例７では、磁化や保磁力Ｈｃが非常に低く、
評価ができず磁気記録媒体としての役割を果たさないも
のであった。

【００４０】

【発明の効果】以上から明らかなように本発明は、非磁
性支持体からなる基板の一主面上に、Ｃｏ、Ｐｔおよび
Ｏからなり、かつＣｏとＰｔとを主成分とし、その組成
式をＣｏ_{（100−X）}Ｐｔ_Xとした時に、ｘ＝６０〜９０
（原子％）とする含有割合である金属磁性薄膜からなる
磁性層が設けられた磁気記録媒体に係るものであり、該
磁気記録媒体は、酸素の導入量を０．２〜０．８ｓｃｃ
ｍとし、前記基板の加熱温度を１００〜４００℃とした
真空蒸着法により製造されるものである。このような蒸
着によって得られた本発明に係る磁気記録媒体は、特に
磁気抵抗型磁気ヘッドで記録信号の再生が行われる記録
再生システムにおいて、高い保持力Ｈｃと優れたＣ／Ｎ
特性を発揮し、かつ長期間の保管に対しても記録の劣化
が見られない非常に安定した性能を維持することができ
る。更に、本発明によれば垂直膜の磁性層を成膜する場
合において、従来の斜め蒸着テープのように入射方向を
制御することなく垂直膜が得られるばかりでなく、マス
クにより蒸着粒子をカットする必要もないため、高レー
トの成膜が可能であり、かつ原料のロスも非常に少なく
容易に磁気記録媒体を製造することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例における磁気記録媒体の構成層
を示す断面模式図である。

【符号の説明】

１……基板、２……磁性層、３……炭素保護膜層、４…
…潤滑層

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体からなる基板の一主面上に
   金属磁性薄膜からなる磁性層が形成され、前記金属磁性
   薄膜はＣｏ、ＰｔおよびＯからなり、かつＣｏとＰｔと
   を主成分とし、その組成式をＣｏ_{（100−X）}Ｐｔ_Xとし
   た時に、ｘ＝６０〜９０（原子％）とする含有割合であ
   ることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 前記金属磁性薄膜が垂直磁化膜であるこ
   とを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 非磁性支持体からなる基板の一主面上
   に、ＣｏおよびＰｔを主成分とし、その組成式をＣｏ
   _{（100−X）}Ｐｔ_Xとした時に、ｘ＝６０〜９０（原子
   ％）とする含有割合であるような金属磁性薄膜からなる
   磁性層を真空蒸着により形成する磁気記録媒体の製造方
   法であって、前記真空蒸着時に、前記基板を１００〜４
   ００℃で加熱し、０．２〜０．８ｓｃｃｍの酸素を導入
   しつつ行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。