JPS59193542A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS59193542A JPS59193542A JP6733083A JP6733083A JPS59193542A JP S59193542 A JPS59193542 A JP S59193542A JP 6733083 A JP6733083 A JP 6733083A JP 6733083 A JP6733083 A JP 6733083A JP S59193542 A JPS59193542 A JP S59193542A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- supporter
- concave surface
- medium
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、基板面に垂直方向に伸びた柱状構造結晶を磁
気記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
気記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
従来例の構成とその問題点
短波長記録・再生に適する磁気記録媒体（以下媒体と記
す）として高分子基板上に直接、又は非磁性層、軟磁性
層等を介して、Ｃｏ −ｉ’Ｊ ｉ−０系。
す）として高分子基板上に直接、又は非磁性層、軟磁性
層等を介して、Ｃｏ −ｉ’Ｊ ｉ−０系。
Ｃｏ−Ｃｒ系、酸化鉄系等の強磁性薄膜を形成してなる
磁気テープ、磁気ディスク等が注目され、各方面で活発
に研究が行われている。
磁気テープ、磁気ディスク等が注目され、各方面で活発
に研究が行われている。
いずれの媒体も基礎的な電磁変換特性の検討の段階を経
て、実用化に至るには、生産性の高い条件で優れた磁気
特性を再現することが必須である。
て、実用化に至るには、生産性の高い条件で優れた磁気
特性を再現することが必須である。
又、いずれの媒体も、主として用いられる基板は高分子
材料であシ、耐熱性は筒いものでもせいぜいＳＯＯ℃程
度であり、通常使用されるコストの低い筒分子材料よシ
なる基板の耐熱性は１００℃程度であり、したがって強
磁性薄膜形成時に基板の受ける熱を速やかに逃がし、熱
的ダメージを回避すること附、これらの基板を用いるう
えて不可欠である。
材料であシ、耐熱性は筒いものでもせいぜいＳＯＯ℃程
度であり、通常使用されるコストの低い筒分子材料よシ
なる基板の耐熱性は１００℃程度であり、したがって強
磁性薄膜形成時に基板の受ける熱を速やかに逃がし、熱
的ダメージを回避すること附、これらの基板を用いるう
えて不可欠である。
現状では、第１図に示されたような巻取蒸着装置によシ
熱的ダメージを回避する工夫がなされている。
熱的ダメージを回避する工夫がなされている。
即ち基板１が受ける熱は、回転キャン２により逃がして
やる構成である。
やる構成である。
蒸発源容器３内の強磁性材料４を加熱して得られる蒸気
流を、前記基板１に差し向けるのであるが、蒸気流は基
板１に垂直に近い入射角成分で蒸着するために、スリッ
ト開孔部５を有するマスク６で、蒸気流の一部７のみが
強磁性薄膜の形成に寄与するたけで、基板１に達しない
で無駄となる蒸気流８の方が多い。
流を、前記基板１に差し向けるのであるが、蒸気流は基
板１に垂直に近い入射角成分で蒸着するために、スリッ
ト開孔部５を有するマスク６で、蒸気流の一部７のみが
強磁性薄膜の形成に寄与するたけで、基板１に達しない
で無駄となる蒸気流８の方が多い。
そのため、所定の膜厚を得るためには基板の巻取速度を
小さくする必要があり、従って生産性の低下が問題とな
っている。
小さくする必要があり、従って生産性の低下が問題とな
っている。
なお第１図において９は送り出し軸、１０は巻取り軸で
ある。
ある。
発明の目的
本発明は、上記従来の問題を解決するものであり、基板
面に垂直方向に伸びた柱状構造粒子から成る強磁性薄膜
を磁気記録層とする、磁気記録媒体の生産性を向上せし
める磁気記録媒体の製造方法の提供が目的である。
面に垂直方向に伸びた柱状構造粒子から成る強磁性薄膜
を磁気記録層とする、磁気記録媒体の生産性を向上せし
める磁気記録媒体の製造方法の提供が目的である。
発明の構成
本発明の磁気記録媒体の製造方法は磁石の引力によって
磁性金属薄帯からなる回転支持体の一部が蒸着源よりみ
て凹面となるよう形成し、前記回転支持体に基板を密着
させて搬送し、前記基板に前記蒸発源より放射される蒸
気流を差し向けるものである。
磁性金属薄帯からなる回転支持体の一部が蒸着源よりみ
て凹面となるよう形成し、前記回転支持体に基板を密着
させて搬送し、前記基板に前記蒸発源より放射される蒸
気流を差し向けるものである。
実施例の説明
本発明に於て、回転キャンに相当する、磁性金属薄帯は
、鉄、或いは合金の薄板を電子ビーム溶接し、継目を研
磨して、厚みムシのないようにしたエンドレス構造のも
のが用いられる。
、鉄、或いは合金の薄板を電子ビーム溶接し、継目を研
磨して、厚みムシのないようにしたエンドレス構造のも
のが用いられる。
必要であれば、磁性金属薄帯にメッキすることもできる
し、凹面形成時の後述する磁石群との間の摺動を円滑に
行うために、磁石群と対向する側に二硫化モリブデン層
を形成することもできる。
し、凹面形成時の後述する磁石群との間の摺動を円滑に
行うために、磁石群と対向する側に二硫化モリブデン層
を形成することもできる。
形成される凹面は、蒸発源を中心とした円弧の一部とな
るように形成されるが、厳密には、工業規模の蒸発源は
、点光源で近似するのは困難であり、空間的な拡がりを
有するが、後述する実施例で明らかなように、本発明の
効果は、点光源で近似したもので充分得られるものであ
る。
るように形成されるが、厳密には、工業規模の蒸発源は
、点光源で近似するのは困難であり、空間的な拡がりを
有するが、後述する実施例で明らかなように、本発明の
効果は、点光源で近似したもので充分得られるものであ
る。
従って、逆に考えれば、凹面は、完全な円弧でなくても
円弧で近似される形状で充分であることになる。
円弧で近似される形状で充分であることになる。
凹面形成の／こめの磁石群は、お互いに磁極が異なる条
件を満足せしめれば、磁石材料についてはギューリ一温
度を勘案し任意に選ぶことができる。
件を満足せしめれば、磁石材料についてはギューリ一温
度を勘案し任意に選ぶことができる。
電磁石で構成することもできるが、永久磁石がより簡便
である。
である。
凹面形成の磁石群に沿って回転移動する、回転支持体へ
基板を密着させるには、静電引力による方法が適してい
る。
基板を密着させるには、静電引力による方法が適してい
る。
静電引力は種々の方法で発生できるが、電子の照射によ
る方法が簡便である。
る方法が簡便である。
本発明で用いる基板としては、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、
芳香族ポリアミド、ポリイミド。
ート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、
芳香族ポリアミド、ポリイミド。
等の高分子フィルムそのもの、あるいは前記高分子フィ
ルムにアンダーコーティングしたものが用いられる。
ルムにアンダーコーティングしたものが用いられる。
なお、アンダーコーティングは、蒸着、湿式塗布等の方
法が任意に選ばれ、材料も制約はない。
法が任意に選ばれ、材料も制約はない。
蒸発源は、電子ビーム加熱、抵抗加熱、誘導加熱、レー
ザ加熱等から適宜選ばれ、蒸発速度は、１００八／Ｅ
〜１５．００ ＯＡ／’ＳｅＣの範囲から選ばれるＯ 蒸着相料により、当然二元蒸発源が用いられるし、蒸発
による材料の減少を補償するだめの）１２料供給につい
ても適宜実施できるものである〇又本発明は、イオンブ
レーティング、電界蒸着に発展させることもでき、この
時でも本発明の高速製膜は充分達成できるものである。
ザ加熱等から適宜選ばれ、蒸発速度は、１００八／Ｅ
〜１５．００ ＯＡ／’ＳｅＣの範囲から選ばれるＯ 蒸着相料により、当然二元蒸発源が用いられるし、蒸発
による材料の減少を補償するだめの）１２料供給につい
ても適宜実施できるものである〇又本発明は、イオンブ
レーティング、電界蒸着に発展させることもでき、この
時でも本発明の高速製膜は充分達成できるものである。
本発明は、柱状構造が基板に垂直又は訛直に近い媒体の
製造に関するものであるが、垂直磁気記録方式、長手記
録方式のいずれに用いる媒体でも製造できるものである
〇 以下にさらに具体的に本発明の実施の方法を説明する。
製造に関するものであるが、垂直磁気記録方式、長手記
録方式のいずれに用いる媒体でも製造できるものである
〇 以下にさらに具体的に本発明の実施の方法を説明する。
第２図は、本発明の実施に用いた装置の要部構成図であ
る。
る。
回転支持体９はピンチローラ−ユニット１０により、一
定の周速で回転するよう構成される。
定の周速で回転するよう構成される。
温度親制御きれプこローラ八１１．ローフＢ１２．ロー
ラＣ１３の一部と、磁石群１４の凹面構成部と接した状
態で定常化するよう、ダンサ−ロー２１５により、張力
調節される。
ラＣ１３の一部と、磁石群１４の凹面構成部と接した状
態で定常化するよう、ダンサ−ロー２１５により、張力
調節される。
磁石群１４は、ハツチを入れた部分１６と、そうでない
部分１７は、互いに磁極が異なっている。
部分１７は、互いに磁極が異なっている。
これにより、膜の形成時に基板近傍に強い磁界が形成さ
れると同時に、回転支持体９が磁性体で構成されること
から凹面形状を維持することができるのである。
れると同時に、回転支持体９が磁性体で構成されること
から凹面形状を維持することができるのである。
磁石群は、異常な加熱を防止するよう冷却される方が好
ましいが、冷却手段は図示していない。
ましいが、冷却手段は図示していない。
基板１８は送シ出し軸１９よりでて、フリーローラー２
０を介して送り出され、例えば、電子源２１から放射さ
れる電子ビーム２２にょシ照射されて発生する静電引力
により回転支持体９に密着する。
０を介して送り出され、例えば、電子源２１から放射さ
れる電子ビーム２２にょシ照射されて発生する静電引力
により回転支持体９に密着する。
その状態で、支持体９の凹部に基板１８が達したところ
で、蒸発源容器２３内の蒸着材料２４を加熱して得られ
た蒸気流２５にさらされる。
で、蒸発源容器２３内の蒸着材料２４を加熱して得られ
た蒸気流２５にさらされる。
ここで目的の磁性層を形成し、フリーローラ２０を介し
て巻取シ軸２６により巻き取られる。
て巻取シ軸２６により巻き取られる。
２７は限定した範囲でだけ基板１８に蒸着が行われるよ
うにするマスクである。
うにするマスクである。
これらの系が収納される真空容器、ガス導入系排気系、
前処理、後処理１巻取シ系の他の公知要素等は適宜工夫
されるものであるが、本発明の理解に直接関係しないの
で省略した。
前処理、後処理１巻取シ系の他の公知要素等は適宜工夫
されるものであるが、本発明の理解に直接関係しないの
で省略した。
〔実施例１〕
第２図の装置により、Ｃ０Ｃｒの垂直磁化膜を有する磁
気記録媒体を製造し／と。
気記録媒体を製造し／と。
磁石はＭｎ−Ａｔ−Ｃ磁石を加工し、はぼ、曲率半径３
０ｃｍとなるよう配列させた。
０ｃｍとなるよう配列させた。
磁石の一枚の厚さは６賜とした。
回転支持体は、０．４あの鉄を用いた。
静電引力発生のだめの電子線照射ば６ｋｅｖ。
０．５八一定とした。
蒸発源は、ＣｏとＯｒを別々の電子ビーム加熱て蒸発さ
せる方式を用いた。
せる方式を用いた。
回転支持体を絶縁し、１３．５６ ＭＨｚ の高周波
電圧を印加した。陽極電圧は１に■であった〇ローラＡ
、Ｂ、Ｃは１００℃の媒体を循環させて温度制御した。
電圧を印加した。陽極電圧は１に■であった〇ローラＡ
、Ｂ、Ｃは１００℃の媒体を循環させて温度制御した。
漏れ磁界強度は最大で６０「Ｏｅ：ｌであった。
基板として１０μｍ厚みのポリエチレンナフタレートフ
ィルムを用いてＣｒ濃度を２０ ｗ ｔ ％一定とし、
巻取速度を変化させて得た膜の垂直方向の保磁力を第３
図に示した。
ィルムを用いてＣｒ濃度を２０ ｗ ｔ ％一定とし、
巻取速度を変化させて得た膜の垂直方向の保磁力を第３
図に示した。
膜厚を０．１５μ７／ｌ一定となるよう、蒸発速度を変
化させた。
化させた。
比較例は、第１図の従来例の値で１２５ ｙ＋、、／
ｓｉｎ以上では０．１５ Ｉｔ ｍ蒸着できなかった○
スリット幅を広くした時ζＱ、１５μｍ蒸着することは
２０ ？ｊｌ ／ ｍでも可能′であったが、垂直磁化
膜は得られなかった。
ｓｉｎ以上では０．１５ Ｉｔ ｍ蒸着できなかった○
スリット幅を広くした時ζＱ、１５μｍ蒸着することは
２０ ？ｊｌ ／ ｍでも可能′であったが、垂直磁化
膜は得られなかった。
〔実施例２〕
実施例１で用いた装置条件で、基板として、芳香族ポリ
アミドフィルム上に、あらかじめ、０．２μｍ８０％Ｎ
ｉ−２０％Ｆｅ膜を電子ビーム蒸着により形成したもの
を用いて、■の濃度１８ｗｔ％のＣｏ−Ｖ膜を二元蒸着
により０，２μｍ形成した。
アミドフィルム上に、あらかじめ、０．２μｍ８０％Ｎ
ｉ−２０％Ｆｅ膜を電子ビーム蒸着により形成したもの
を用いて、■の濃度１８ｗｔ％のＣｏ−Ｖ膜を二元蒸着
により０，２μｍ形成した。
得られた垂直方向の保磁力と巻取速度の関係を第４図に
示した。
示した。
比較例は、第１図に示した装置で得られたデータである
。
。
〔実施例３〕
実施例１と類似の装置条件で、Ｆｅを電子ビーム加熱で
蒸発させ、マグネタイト膜を製造した。
蒸発させ、マグネタイト膜を製造した。
酸素分圧を最大とし、分圧は９Ｘ１０ Ｔｏｒｒとし
た。比較例は、第１図の装置で得られた（回転キャンの
径５０ｃｍ、媒体温度１５０℃）トップデータである。
た。比較例は、第１図の装置で得られた（回転キャンの
径５０ｃｍ、媒体温度１５０℃）トップデータである。
基板は、ポリイミドフィルム上にＴｉ膜を電子ビーム蒸
着により０．２μｍ形成したものを用いた。
着により０．２μｍ形成したものを用いた。
得られたＦｅ Ｏ膜０．３μ？ｎの保磁力と巻取速度
４ を第５図に示しだ。
４ を第５図に示しだ。
発明の効果
本発明の方法により、高保磁力の強磁性膜を有する長手
記録方式、垂直記録方式用の媒体が高速で得られる。
記録方式、垂直記録方式用の媒体が高速で得られる。
さらに本発明の方法により、高性能な短波長記録用媒体
を大量生産することができる。
を大量生産することができる。
蒸着効率の飛躍的向上によシ、材料の有効利用が可能で
、省資源となる一方、材料に課せられるコスト的な制約
の範囲が広まり、新材料構成を性能中心で選ぶことがで
きる利点もある。
、省資源となる一方、材料に課せられるコスト的な制約
の範囲が広まり、新材料構成を性能中心で選ぶことがで
きる利点もある。
第１図は従来の方法で用いる蒸着装置の要部構成図、第
２図は本発明の実施例の方法に用いた蒸λ１ｆ装置の要
部構成図、第３図、第４図、第５図は、本発明の方法で
製造した媒体と従来例の媒体の保磁力の巻取速度の関係
を示す図である。 ９−・・・・・回転支持体、１０・・・・・・ピンチロ
ーラユニｙｌ・、１４・・・・・磁石群、１８ ・・基
板、２４−・・・蒸着材料。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図 ２４２− 第３図 巻及速有 （”／ｍｉｙ＋）
２図は本発明の実施例の方法に用いた蒸λ１ｆ装置の要
部構成図、第３図、第４図、第５図は、本発明の方法で
製造した媒体と従来例の媒体の保磁力の巻取速度の関係
を示す図である。 ９−・・・・・回転支持体、１０・・・・・・ピンチロ
ーラユニｙｌ・、１４・・・・・磁石群、１８ ・・基
板、２４−・・・蒸着材料。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図 ２４２− 第３図 巻及速有 （”／ｍｉｙ＋）
Claims (2)
- （１）磁石の引力によって磁性金属薄帯からなる回転支
持体の一部が蒸着源よりみて凹面となるよう形成し、前
記回転支持体に基板を密着させて搬送し、前記凹面上を
通過する前記基板に前記蒸発の」；り放射される蒸気流
を差し向けることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法
。 - （２）凹面が蒸着源を中心とする円弧の一部であること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6733083A JPS59193542A (ja) | 1983-04-15 | 1983-04-15 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6733083A JPS59193542A (ja) | 1983-04-15 | 1983-04-15 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59193542A true JPS59193542A (ja) | 1984-11-02 |
| JPH057767B2 JPH057767B2 (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=13341897
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6733083A Granted JPS59193542A (ja) | 1983-04-15 | 1983-04-15 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59193542A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5734187B2 (ja) | 2009-07-22 | 2015-06-17 | 株式会社ブリヂストン | 空気入りタイヤ |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56163526A (en) * | 1980-05-20 | 1981-12-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Production of magnetic recording medium |
-
1983
- 1983-04-15 JP JP6733083A patent/JPS59193542A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56163526A (en) * | 1980-05-20 | 1981-12-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Production of magnetic recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH057767B2 (ja) | 1993-01-29 |
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