JPH02258738A - ベンゾシクロアルケニルジヒドロキシアルカン酸化合物、その製造方法及びそれを含有する医薬組成物 - Google Patents
ベンゾシクロアルケニルジヒドロキシアルカン酸化合物、その製造方法及びそれを含有する医薬組成物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なベンゾシクロアルケニルジヒドロキシア
ルカン酸化合物、その製造方法及びそれを含有する製薬
組成物に関する。
ルカン酸化合物、その製造方法及びそれを含有する製薬
組成物に関する。
メバロン酸の名称で知られる3、3−ジヒドロキシ−3
−メチルペンタン酸の成る誘導体は、コレステロールを
生合成する原因となる酵素の3−ヒドロキシ−3−メチ
ルグルタリル補准素Aレダクターゼの阻害剤であること
は知られている(SingerらのProe 。
−メチルペンタン酸の成る誘導体は、コレステロールを
生合成する原因となる酵素の3−ヒドロキシ−3−メチ
ルグルタリル補准素Aレダクターゼの阻害剤であること
は知られている(SingerらのProe 。
Se、 Exper、 Biol、 Med、、 10
2.275.1959)6より最近には、以前メビノリ
ンと呼ばれ今ではロバスタチンと呼ばれるメバロン酸か
ら誘導した化合物は高コレステロール血症の処置に用い
得る医薬組成物の活性成分として提案されている(未開
特許第4,231,938号参照)。
2.275.1959)6より最近には、以前メビノリ
ンと呼ばれ今ではロバスタチンと呼ばれるメバロン酸か
ら誘導した化合物は高コレステロール血症の処置に用い
得る医薬組成物の活性成分として提案されている(未開
特許第4,231,938号参照)。
今般偶然にも見出された所によれば、ベンゾシクロアル
ケニルジヒドロキシアルカン酸の新規な誘導体には低コ
レステロール血症、抗血栓及び抗菌特性が付与されてい
る。
ケニルジヒドロキシアルカン酸の新規な誘導体には低コ
レステロール血症、抗血栓及び抗菌特性が付与されてい
る。
本発明は更に詳しく言えば、本発明をより良く理解しう
るようにしかも単に例として番号を付けた次式1 〔式中Xは−CH2−メチレン鎖結合又は酸素又は硫黄
原子を表わし;R□及びR3は同じでも異なっても良く
、水素、1〜3個の炭素原子を含有するアルキル基を表
わすか又はR4及びR2が一緒になって適当ならば1〜
3個の炭素原子を含有するアルキル基の1個又は2個に
より対称置換されたー(CH2)。−アルキレン連鎖(
但しnは4又は5に等しい)を形成でき;R3及びR4
は同じでも異なっても良く。
るようにしかも単に例として番号を付けた次式1 〔式中Xは−CH2−メチレン鎖結合又は酸素又は硫黄
原子を表わし;R□及びR3は同じでも異なっても良く
、水素、1〜3個の炭素原子を含有するアルキル基を表
わすか又はR4及びR2が一緒になって適当ならば1〜
3個の炭素原子を含有するアルキル基の1個又は2個に
より対称置換されたー(CH2)。−アルキレン連鎖(
但しnは4又は5に等しい)を形成でき;R3及びR4
は同じでも異なっても良く。
水素、フッ素、塩素又は臭素原子、トリフルオルメチル
、1〜3個の炭素原子を含有するN、N−ジアルキルア
ミノ、1〜4個の炭素原子を含有するアルキル、1〜5
個の炭素原子を含有するアルコキシ、1〜3個の炭素原
子を含有するアルキルチオ、あるいは場合によっては1
〜3個の炭素原子を含有するアルキル、1〜3個の炭素
原子を含有するアルコキシ、フッ素又は塩素を表わしう
る同じでも異なっていても良い置換基の精々2個で置換
されたフェニル基を表わし、置換基R3及びR4の1方
がトリフルオルメチル、 N、N−ジアルキルアミノ、
フェニル又は置換フェニル基を表わす時には3′、4′
又は5′位(メタ又はバラ位)に存在し、他方の置換基
は水素原子を表わすものとし;R9及びR6は同じでも
異なっていても良く、水素、フッ素、塩素又は臭素原子
、トリフルオルメチル、1〜3個の炭素原子を含有する
アルキル、1〜3個の炭素原子を含有するアルコキシ、
あるいは適当な場合には1〜3Hの炭素原子を含有する
アルキル、1〜3個の炭素原子を含有するアルコキシ、
フッ素又は塩素原子を表わしうる同じでも異なっていて
も良い置換基の精々2個で置換されたフェニル基を表わ
し、置換基R1及びR1の1方がトリフルオルメチル、
フェニル又は置換フェニル基を表わす時には6又は7位
に存在し、他方の置換基は水素原子を表わすものとし;
置換基R3及びR4又はR1及びR6はまた2個の隣接
した位置にある場合には一緒になって次式ニーC)I=
C)l−CH=CH−1−(CHl)、−又は−O(C
Ht )pO− (但しmは3又は4であり、Pは1又は2である)のジ
エチレン、アルキレン又はアルキレンジオキシよりなる
2価の基を形成でき、R1及びR4又はR2及びR1が
2価のアルキレンジオキシ基を表わす時には3′及び4
′位又は4′及び5′位又は5び7位に結合しているも
のとし;R1及びR,の各々は水素原子を表わすか又は
存在するC−C結合と一緒になってトランス形(E)の
二重結合を形成し;R9及びR10の各々は水素原子を
表わすか又は一緒になって1〜3個の炭素原子を含有す
るジアルキルメチレン基を形成し; Rlzはこれが結
合しているC0基と共に遊離酸、エステル、アミド又は
酸塩の官能基を表わすか又はR9と共にδ−ラクトン環
を形成する〕を有するベンゾシクロアルケニルジヒドロ
キシアルカン酸化合物に関する。
、1〜3個の炭素原子を含有するN、N−ジアルキルア
ミノ、1〜4個の炭素原子を含有するアルキル、1〜5
個の炭素原子を含有するアルコキシ、1〜3個の炭素原
子を含有するアルキルチオ、あるいは場合によっては1
〜3個の炭素原子を含有するアルキル、1〜3個の炭素
原子を含有するアルコキシ、フッ素又は塩素を表わしう
る同じでも異なっていても良い置換基の精々2個で置換
されたフェニル基を表わし、置換基R3及びR4の1方
がトリフルオルメチル、 N、N−ジアルキルアミノ、
フェニル又は置換フェニル基を表わす時には3′、4′
又は5′位(メタ又はバラ位)に存在し、他方の置換基
は水素原子を表わすものとし;R9及びR6は同じでも
異なっていても良く、水素、フッ素、塩素又は臭素原子
、トリフルオルメチル、1〜3個の炭素原子を含有する
アルキル、1〜3個の炭素原子を含有するアルコキシ、
あるいは適当な場合には1〜3Hの炭素原子を含有する
アルキル、1〜3個の炭素原子を含有するアルコキシ、
フッ素又は塩素原子を表わしうる同じでも異なっていて
も良い置換基の精々2個で置換されたフェニル基を表わ
し、置換基R1及びR1の1方がトリフルオルメチル、
フェニル又は置換フェニル基を表わす時には6又は7位
に存在し、他方の置換基は水素原子を表わすものとし;
置換基R3及びR4又はR1及びR6はまた2個の隣接
した位置にある場合には一緒になって次式ニーC)I=
C)l−CH=CH−1−(CHl)、−又は−O(C
Ht )pO− (但しmは3又は4であり、Pは1又は2である)のジ
エチレン、アルキレン又はアルキレンジオキシよりなる
2価の基を形成でき、R1及びR4又はR2及びR1が
2価のアルキレンジオキシ基を表わす時には3′及び4
′位又は4′及び5′位又は5び7位に結合しているも
のとし;R1及びR,の各々は水素原子を表わすか又は
存在するC−C結合と一緒になってトランス形(E)の
二重結合を形成し;R9及びR10の各々は水素原子を
表わすか又は一緒になって1〜3個の炭素原子を含有す
るジアルキルメチレン基を形成し; Rlzはこれが結
合しているC0基と共に遊離酸、エステル、アミド又は
酸塩の官能基を表わすか又はR9と共にδ−ラクトン環
を形成する〕を有するベンゾシクロアルケニルジヒドロ
キシアルカン酸化合物に関する。
前記式1の化合物はエステル及びアミドの形で得ること
ができ、本発明の一部を成す。
ができ、本発明の一部を成す。
特に好ましい化合物は、R11が1〜4個の炭素原子を
含有するアルコキシベンジルオキシ、1〜3個の炭素原
子を含有するアルキルアミノ又はN。
含有するアルコキシベンジルオキシ、1〜3個の炭素原
子を含有するアルキルアミノ又はN。
N−ジアルキルアミノ、4〜6個の炭素原子を含有する
アルキルイミノ、3〜6個の炭素原子を含有するシクロ
アルキルアミノ又はアミノ又はベンジルアミノ基を表わ
す式1の生理上許容できるエステル及びアミドである。
アルキルイミノ、3〜6個の炭素原子を含有するシクロ
アルキルアミノ又はアミノ又はベンジルアミノ基を表わ
す式1の生理上許容できるエステル及びアミドである。
塩の形の式1の化合物、即ちRlLが式−〇−M+(但
しPは製薬上許容できるカチオンを表わす)の残基を表
わす式1の化合物は本発明の一部を成し;これらのうち
で特に好ましい化合物はナトリウム、カリウム、マグネ
シウム及びアンモニウム塩である。
しPは製薬上許容できるカチオンを表わす)の残基を表
わす式1の化合物は本発明の一部を成し;これらのうち
で特に好ましい化合物はナトリウム、カリウム、マグネ
シウム及びアンモニウム塩である。
RLlがR3と共に単結合を形成する時には式1の化合
物はδ−ラクトンの形で存在でき;δ−ラクトン形の式
1の化合物は本発明の一部を形成する。
物はδ−ラクトンの形で存在でき;δ−ラクトン形の式
1の化合物は本発明の一部を形成する。
本発明の好ましい形式によると、本発明の要旨はR1及
びR2が同一で非置換のアルキレン連鎖−(CHよ)。
びR2が同一で非置換のアルキレン連鎖−(CHよ)。
−(但しnは4又は5に等しい)を形成する式1の化合
物である。
物である。
R□及びR2が1〜3個の炭素原子を含有するアルキル
基を表わす時には、これらの置換基の特定の意義は例え
ばメチル基である。
基を表わす時には、これらの置換基の特定の意義は例え
ばメチル基である。
R8及びR2が−(cHdn−アルキレン連鎖を形成す
る時にはnの特定の値は例えば4である。
る時にはnの特定の値は例えば4である。
R3及びR4の何れかの場合の特定の意義は単に例とし
てハロゲン原子を表わす時にはフッ素又は塩素であり; 1〜4個の炭素原子を含有するアルキル基を表わす時に
は、メチル又はエチル基であり;1〜5個の炭素原子を
含有するアルコキシ基を表わす時にはメトキシ又はエト
キシ基であり;1〜3個の炭素原子を含有するアルキル
チオ基を表わす時にはメ、チルチオ基であり; 置換フェニル基を表わす時には、フッ素又はメチル又は
メトキシ基でパラ置換したフェニル基である。
てハロゲン原子を表わす時にはフッ素又は塩素であり; 1〜4個の炭素原子を含有するアルキル基を表わす時に
は、メチル又はエチル基であり;1〜5個の炭素原子を
含有するアルコキシ基を表わす時にはメトキシ又はエト
キシ基であり;1〜3個の炭素原子を含有するアルキル
チオ基を表わす時にはメ、チルチオ基であり; 置換フェニル基を表わす時には、フッ素又はメチル又は
メトキシ基でパラ置換したフェニル基である。
R3及びR4が−(CH2)、−を形成する時のmの特
定の値は例として4である。
定の値は例として4である。
R1及びR4が−o (cH2)、o−アルキレンジオ
キシ基を形成する時のpの特定の値は例えば1である。
キシ基を形成する時のpの特定の値は例えば1である。
R1及びR4が1〜4個の炭素原子を含有するアルキル
基及び/又はハロゲン原子を表わすか又はハロゲン原子
と1〜5個の炭素原子を含有するアルコキシ基とを表す
す時;R1及びR4の1方がハロゲン原子、1〜4個の
炭素原子を含有するアルキル。
基及び/又はハロゲン原子を表わすか又はハロゲン原子
と1〜5個の炭素原子を含有するアルコキシ基とを表す
す時;R1及びR4の1方がハロゲン原子、1〜4個の
炭素原子を含有するアルキル。
1〜5個の炭素原子を含有するアルコキシ又は1〜3個
の炭素原子を含有するアルキルチオ基を表わし他方が水
素原子を表わす時にはR3及びR4の特に適当な定義を
生ずる。
の炭素原子を含有するアルキルチオ基を表わし他方が水
素原子を表わす時にはR3及びR4の特に適当な定義を
生ずる。
例えばR3及びR4が3′位及び5′位のメチル、4′
位のフッ素と3′位のメチル、3′及び4′位のフッ素
、3′又は4′位のフッ素と水素原子、4′位のメチル
又はエチルと水素原子、3′又は4′位のメトキシと水
素原子、3′又は4′位の塩素と水素原子、又は2個の
水素原子を表わす時には、R1及びR4の適当な特定の
定義を生ずる。
位のフッ素と3′位のメチル、3′及び4′位のフッ素
、3′又は4′位のフッ素と水素原子、4′位のメチル
又はエチルと水素原子、3′又は4′位のメトキシと水
素原子、3′又は4′位の塩素と水素原子、又は2個の
水素原子を表わす時には、R1及びR4の適当な特定の
定義を生ずる。
Rs及びR1の何れかの特定の意味は例としてハロゲン
原子を表わす時にはフッ素又は塩素であり; 1〜3個の炭素原子を含有するアルキル基を表わす時に
はメチル基であり; 1〜3個の炭素原子を含有するアルコキシ基を表わす時
には、メトキシ基であり; 置換フェニル基を表わす時には、フッ素又は塩素又はメ
トキシ基でパラ置換されたフェニル基である。
原子を表わす時にはフッ素又は塩素であり; 1〜3個の炭素原子を含有するアルキル基を表わす時に
はメチル基であり; 1〜3個の炭素原子を含有するアルコキシ基を表わす時
には、メトキシ基であり; 置換フェニル基を表わす時には、フッ素又は塩素又はメ
トキシ基でパラ置換されたフェニル基である。
R7及びR@が一緒になって−(COZ)+−アルキレ
ン連鎖を形成する時のmの特定の値は例えば4である。
ン連鎖を形成する時のmの特定の値は例えば4である。
R1及びR6が一緒になって一部(CI、)pO−アル
キレンジオキシ連鎖を形成する時のpの特定の値は1で
ある。
キレンジオキシ連鎖を形成する時のpの特定の値は1で
ある。
例えばR9及びR,がハロゲン(フッ素、塩素、臭素)
、1〜3個の炭素原子を含有するアルキル又は1〜3個
の炭素原子を含有するアルコキシ基を表わす時又はR1
及びR,の1方がフッ素、塩素又は臭素でありうるハロ
ゲンを表わすか又は1〜3個の炭素原子を含有するアル
キル又は1〜3個の炭素原子を含有するアルコキシ基を
表わし他方が水素原子を表わす時には、R1及びR7の
特に適当な定義を生ずる。
、1〜3個の炭素原子を含有するアルキル又は1〜3個
の炭素原子を含有するアルコキシ基を表わす時又はR1
及びR,の1方がフッ素、塩素又は臭素でありうるハロ
ゲンを表わすか又は1〜3個の炭素原子を含有するアル
キル又は1〜3個の炭素原子を含有するアルコキシ基を
表わし他方が水素原子を表わす時には、R1及びR7の
特に適当な定義を生ずる。
例えばR5びR6が5及び7位のメチル、6位の塩基と
水素、6位のメトキシと水素、6又は7位のフッ素と水
素原子、6又は7位のメチルと水素。
水素、6位のメトキシと水素、6又は7位のフッ素と水
素原子、6又は7位のメチルと水素。
6又は7位の4−フルオルフェニルと水素又は2個の水
素を表わす時にはR1及びR1の特定の適当な定義を生
ずる。
素を表わす時にはR1及びR1の特定の適当な定義を生
ずる。
R3及びR10がジアルキルメチレンを形成する時のこ
れらの特定の意味は例えばジメチルメチレン基である。
れらの特定の意味は例えばジメチルメチレン基である。
Lxの特定の意義は例として、
1〜4個の炭素原子を含有するアルコキシ基を表わす時
にはメトキシ又はエトキシ基であり;1〜3個の炭素原
子を含有するアルキルアミノ基を表わす時にはメチルア
ミノ、エチルアミノ又はイソプロピルアミノ基であり; 1〜3個の炭素原子を含有するN、N−ジアルキルアミ
ノ基を表わす時にはジエチルアミノ基であり;4〜6個
の炭素原子を含有するイミノ基を表わす時にはピロリジ
ノ基である。
にはメトキシ又はエトキシ基であり;1〜3個の炭素原
子を含有するアルキルアミノ基を表わす時にはメチルア
ミノ、エチルアミノ又はイソプロピルアミノ基であり; 1〜3個の炭素原子を含有するN、N−ジアルキルアミ
ノ基を表わす時にはジエチルアミノ基であり;4〜6個
の炭素原子を含有するイミノ基を表わす時にはピロリジ
ノ基である。
R7及びR,が一緒に結合部を形成する式1の化合物は
R7及びR,の各々が水素原子を表わす式1の対応の化
合物よりも好ましい。
R7及びR,の各々が水素原子を表わす式1の対応の化
合物よりも好ましい。
全て他が同じであるならば、R9及びR10が水素原子
を表わす式〕の化合物はR8及びRo。がジアルキルメ
チレン基を形成する化合物よりも好ましい。
を表わす式〕の化合物はR8及びRo。がジアルキルメ
チレン基を形成する化合物よりも好ましい。
全て他が同じであるならば、式1の非ラクトン系化合物
がδ−ラクトン化合物よりも好ましい。
がδ−ラクトン化合物よりも好ましい。
式1の非ラクトン系化合物のうちで、エステル、アミド
及び塩が遊離酸よりも一般に好ましい。
及び塩が遊離酸よりも一般に好ましい。
全て他が同じであるならば、エリスロ立体異性体がスレ
オ立体異性体よりも好ましい(用語エリスロ及びスレオ
は基OR,及びOR□0の相対的配向を記載している)
。
オ立体異性体よりも好ましい(用語エリスロ及びスレオ
は基OR,及びOR□0の相対的配向を記載している)
。
式1のδ−ラクトン系化合物のうちで、トランス立体異
性体がシス立体異性体よりも好ましい(用語シス及びト
ランスはδ−ラクトン環の2個の置換基の相対的な軸方
向の又は赤道方向の位置に関している)。
性体がシス立体異性体よりも好ましい(用語シス及びト
ランスはδ−ラクトン環の2個の置換基の相対的な軸方
向の又は赤道方向の位置に関している)。
特に好ましい本発明化合物の特定群は前記式1の化合物
で、 (A) Xが酸素又は硫黄原子又はメチレン連鎖を表わ
し、R□及びR2の各々がメチル基を表わすか又は一緒
になって−(CH2)4−のテトラメチレン連鎖を形成
し、R□及びR4又はR5及びR5の1方のみが水素原
子を表わし、R7及びR,が一緒になって二重結合を形
成し、R3及びR10の各々が水素原子を表わすか、又
は (B) X、 RいR8、R1、Ro、R,及びR10
が(A)に定義した意義を有し、R2及びR4の1方が
水素原子を表わし、他方がフッ素又は塩素原子を表わし
、R5びR6の1方のみが水素原子を表わすか、又は(
C) X、 R□、R2、R1、R1、R,及びR10
が(A)ニ定義した意義を有し、R1及びR4の1方が
水素原子であり、他方がフッ素又は塩素原子であり、R
9及びR6の各々が水素原子を表わすか、又は (D) X、 Ro、 R2、R5、R1、R,及びR
EDが(A)に定義した意義を有し、R1及びR4の各
々が水素原子であり、R5びR6の1方のみが水素原子
を表わすか、又は (E) X、 R1、R4、R5、RG、R1、R1,
R3及びRo。が(C)に定義した意義を有し、R1及
びR2が一緒になって−(C)12)4−のテトラメチ
レン連鎖を形成するか、又は (F) X、 R1、R2、R1、R1、R3及びR1
6が(E)に定義した意義を有し、R1、R4、R5び
R5の各々が水素原子を表わす化合物を包含する。
で、 (A) Xが酸素又は硫黄原子又はメチレン連鎖を表わ
し、R□及びR2の各々がメチル基を表わすか又は一緒
になって−(CH2)4−のテトラメチレン連鎖を形成
し、R□及びR4又はR5及びR5の1方のみが水素原
子を表わし、R7及びR,が一緒になって二重結合を形
成し、R3及びR10の各々が水素原子を表わすか、又
は (B) X、 RいR8、R1、Ro、R,及びR10
が(A)に定義した意義を有し、R2及びR4の1方が
水素原子を表わし、他方がフッ素又は塩素原子を表わし
、R5びR6の1方のみが水素原子を表わすか、又は(
C) X、 R□、R2、R1、R1、R,及びR10
が(A)ニ定義した意義を有し、R1及びR4の1方が
水素原子であり、他方がフッ素又は塩素原子であり、R
9及びR6の各々が水素原子を表わすか、又は (D) X、 Ro、 R2、R5、R1、R,及びR
EDが(A)に定義した意義を有し、R1及びR4の各
々が水素原子であり、R5びR6の1方のみが水素原子
を表わすか、又は (E) X、 R1、R4、R5、RG、R1、R1,
R3及びRo。が(C)に定義した意義を有し、R1及
びR2が一緒になって−(C)12)4−のテトラメチ
レン連鎖を形成するか、又は (F) X、 R1、R2、R1、R1、R3及びR1
6が(E)に定義した意義を有し、R1、R4、R5び
R5の各々が水素原子を表わす化合物を包含する。
R9及びR10の各々が水素原子を表わすか又は一緒に
なってジアルキルメチレン基を形成する時はOR,及び
OR1,を担持する2個の炭素原子である少なくとも2
個の不斉中心を式1の各化合物は含有し、さもなくばR
1及びRLLが一緒になって単結合を形成する時に環内
酸素原子に対してαの位置に位置したヒドロキシル化炭
素と第3級炭素とである少なくとも2個の不斉中心を式
1の各化合物は含有する。
なってジアルキルメチレン基を形成する時はOR,及び
OR1,を担持する2個の炭素原子である少なくとも2
個の不斉中心を式1の各化合物は含有し、さもなくばR
1及びRLLが一緒になって単結合を形成する時に環内
酸素原子に対してαの位置に位置したヒドロキシル化炭
素と第3級炭素とである少なくとも2個の不斉中心を式
1の各化合物は含有する。
この結果として、式1に対応する遊離酸、エステル、ア
ミド、塩又はδ−ラクトンの各化合物はR及びSの通常
の配置記号を用いることによりRR。
ミド、塩又はδ−ラクトンの各化合物はR及びSの通常
の配置記号を用いることによりRR。
ss、gs及びSRで表すして偏左右立体異性体対中の
少なくとも4個の立体異性体の形で又はRR−SS及び
RS = SRの偏左右立体異性体のラセメート混合物
の形で存在できる。
少なくとも4個の立体異性体の形で又はRR−SS及び
RS = SRの偏左右立体異性体のラセメート混合物
の形で存在できる。
全てのこれらの立体異性体は本発明の一部を成す。
前記式1の化合物は、特にR1及びR2が異なる時には
2個以上の不斉中心を含有でき、これによって追加の立
体異性体を生じ、これも本発明の一部を成す。
2個以上の不斉中心を含有でき、これによって追加の立
体異性体を生じ、これも本発明の一部を成す。
例えばラセメートを解像することにより又は光学活性化
合物を原料として合成することにより式1の光学活性形
の化合物を単離又は合成すること及びかくして単離した
異性体の生物特性をJメ下に記載した試験により決定す
ることは当業者の通常の能力内である。
合物を原料として合成することにより式1の光学活性形
の化合物を単離又は合成すること及びかくして単離した
異性体の生物特性をJメ下に記載した試験により決定す
ることは当業者の通常の能力内である。
生理的に許容しうるエステル及びアミドは本発明の化合
物のエステル又はアミドを意味し、これを生理的な条件
で加水分解した時には、かかる条件下でアルコール又は
アミンを生じこれは生理的に許容しうる即ち所望の投与
量で無毒である。
物のエステル又はアミドを意味し、これを生理的な条件
で加水分解した時には、かかる条件下でアルコール又は
アミンを生じこれは生理的に許容しうる即ち所望の投与
量で無毒である。
用語アルキルは水素原子の除去により対応のアルカンか
ら誘導した線状又は分枝、飽和炭化水素連鎖を意味する
。
ら誘導した線状又は分枝、飽和炭化水素連鎖を意味する
。
用語アルコキシは酸素原子を介して親分子に結合した前
述の如きアルキル基を意味する。
述の如きアルキル基を意味する。
用語アルキルアミノは水素原子及び前述の如きアルキル
基によって置換された窒素原子を意味し。
基によって置換された窒素原子を意味し。
遊離の原子価は親分子との結合部を形成するのに用いら
れる。
れる。
用語ジアルキルアミノは水素原子が前述の如きアルキル
基で置換された前述の如きアルキルアミノ基を意味する
。
基で置換された前述の如きアルキルアミノ基を意味する
。
用語イミノは2個のアルキル基が一緒になってアルキレ
ン連鎖を形成する前述の如きジアルキルアミノ基を意味
する。
ン連鎖を形成する前述の如きジアルキルアミノ基を意味
する。
1〜X個の炭素原子を含有するジアルキル・・・なる表
現はジアルキル残基を形成する2個のアルキル基の各々
が個々に1〜X個の炭素原子を含有できることを意味す
る。
現はジアルキル残基を形成する2個のアルキル基の各々
が個々に1〜X個の炭素原子を含有できることを意味す
る。
本発明の特定の化合物として、単に例として次の化合物
を挙げうる: 化合物Na 1 : (+、−)エチル 6E−エリス
ロ−7− [4−(4−フルオルフェニル)−3−スピ
ロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラ
ン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート
。
を挙げうる: 化合物Na 1 : (+、−)エチル 6E−エリス
ロ−7− [4−(4−フルオルフェニル)−3−スピ
ロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラ
ン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート
。
化合物Na 2 : (+、−)メチル 6E−エリス
ロ−7−(1,2−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−
フェニル−3−ナフチル)−3,5−ジヒドロキシヘプ
ト−6−エノエート。
ロ−7−(1,2−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−
フェニル−3−ナフチル)−3,5−ジヒドロキシヘプ
ト−6−エノエート。
化合物&3:(+、−)メチル 6E−エリスロ−7−
(4−(4−クロルフェニル)−2,2−ジメチル−
28−ベンゾチアピラン−3−イル)−3,5−ジヒド
ロキシヘプト−6−エノエート。
(4−(4−クロルフェニル)−2,2−ジメチル−
28−ベンゾチアピラン−3−イル)−3,5−ジヒド
ロキシヘプト−6−エノエート。
化合物No、 4 : (”p−)エチル エリスロー
7− (4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(
2,1’−シクロペンチル−214−1−ペンゾビラン
ン)−3y5−ジヒドロキシヘプタノエート。
7− (4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(
2,1’−シクロペンチル−214−1−ペンゾビラン
ン)−3y5−ジヒドロキシヘプタノエート。
化合物Na 5 : (+、−)ナトリウム 6E−エ
リスロ−7−(4−(4−フルオルフェニル)−3−ス
ピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピ
ラン)]−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエー
ト。
リスロ−7−(4−(4−フルオルフェニル)−3−ス
ピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピ
ラン)]−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエー
ト。
化合物Nα6:(+、−)ベンジル 6E−エリスロ−
7−[4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2
,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラン)〕
−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
7−[4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2
,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラン)〕
−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
化合物NC17: (+、−)−6E−エリスロ−7−
(4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2,
1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラン)〕−
3,5−ジヒドロキシ−N−メチルヘプト−6−ニンア
ミド。
(4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2,
1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラン)〕−
3,5−ジヒドロキシ−N−メチルヘプト−6−ニンア
ミド。
化合物NQ 8 : (+、−)−トランス−6−(I
E−2−(4−(4−フルオルフェニル)〜3−スピロ
(2,1’−シクロペンチルー2H−1−ベンゾピラン
)〕−エチニル)−4−ヒドロキシ−3,4,5,6−
テトラヒドロピラン−2−オン。
E−2−(4−(4−フルオルフェニル)〜3−スピロ
(2,1’−シクロペンチルー2H−1−ベンゾピラン
)〕−エチニル)−4−ヒドロキシ−3,4,5,6−
テトラヒドロピラン−2−オン。
化合物Nα9 : (+、−)−トランス−4−ヒドロ
キシ−3,4゜5.6−チトラヒドロー6− (2−(
4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2,1’
−シクロペンチルー2)1−1−ベンゾピラン)〕エチ
ル)ピラン−2〜オン。
キシ−3,4゜5.6−チトラヒドロー6− (2−(
4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2,1’
−シクロペンチルー2)1−1−ベンゾピラン)〕エチ
ル)ピラン−2〜オン。
化合物&10:(+、−)ナトリウム エリスロー7−
(4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ (2
,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラン)〕
−3,5−ジヒドロキシヘプタノエート。
(4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ (2
,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラン)〕
−3,5−ジヒドロキシヘプタノエート。
化合物Nc11:(+、−)エチル (6−(IE−2
−[4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2,
i’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラン)〕−
エチニル)2r2−ジメチル−1,3−ジオキサン−4
−イル)アセテート。
−[4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2,
i’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラン)〕−
エチニル)2r2−ジメチル−1,3−ジオキサン−4
−イル)アセテート。
化合物Na12 : (+、−)エチル 6E−エリス
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−〔4−フェニル−3−
スピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾ
ピラン)〕ヘプト−6−エノエート。
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−〔4−フェニル−3−
スピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾ
ピラン)〕ヘプト−6−エノエート。
化合物Nc13 : (+、−)エチル 6E−エリス
ロ−7− (4−(4−エチルフェニル)−3−スピロ
(2,1’−シクロペンチル−28−1−ベンゾピラン
)〕 −3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート
。
ロ−7− (4−(4−エチルフェニル)−3−スピロ
(2,1’−シクロペンチル−28−1−ベンゾピラン
)〕 −3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート
。
化合物&14 : (+、−)エチル 6E−エリスロ
−3,5−ジヒドロキシ−7−〔6−メチル−4−フェ
ニル−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−
1−ベンゾビラン)〕ヘプト−6−エノエート。
−3,5−ジヒドロキシ−7−〔6−メチル−4−フェ
ニル−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−
1−ベンゾビラン)〕ヘプト−6−エノエート。
化合物N(115: (+、−)メチル 6E−エリス
ロ−7−〔7−フルオル−4−フェニル−3−スピロ(
2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラン)
〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
ロ−7−〔7−フルオル−4−フェニル−3−スピロ(
2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラン)
〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
化合物NQ16 : (+、−)エチル 6E−エリス
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−(4−メチルフ
ェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル−2
H−1−ベンゾピラン)〕ヘプト−6−エノエート。
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−(4−メチルフ
ェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル−2
H−1−ベンゾピラン)〕ヘプト−6−エノエート。
化合物No17 : D+−)エチル 6E−エリスロ
−7− (4−(3−フルオルフェニル)−3−スピロ
(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラン
)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
−7− (4−(3−フルオルフェニル)−3−スピロ
(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラン
)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
化合物Nα18 : (+、−)エチル 6E−エリス
ロ−3.5−ジヒドロキシ−7−(4−(4−メトキシ
フェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル−
2H−1−ベンゾピラン)〕ヘプト−6−エノエート。
ロ−3.5−ジヒドロキシ−7−(4−(4−メトキシ
フェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル−
2H−1−ベンゾピラン)〕ヘプト−6−エノエート。
化合物Nα19 : (+、−)エチル 6E−エリス
ロ−7− (4−(4−クロルフェニル)−3−スピロ
(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラン
)〕 −3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート
。
ロ−7− (4−(4−クロルフェニル)−3−スピロ
(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラン
)〕 −3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート
。
化合物歯20 : (+、−)エチル GE−エリスロ
−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−(1−ナフチル)
−3−スピロ(2゜1′−シクロペンチル−2H−1−
ベンゾピラン)〕ヘプト−6−エノエート。
−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−(1−ナフチル)
−3−スピロ(2゜1′−シクロペンチル−2H−1−
ベンゾピラン)〕ヘプト−6−エノエート。
化合物Nα21 : (+、−)エチル 6E−エリス
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−(3,5−ジメ
チルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチ
ル−2H−1−ベンゾピラン月ヘプト−6−エノエート
。
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−(3,5−ジメ
チルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチ
ル−2H−1−ベンゾピラン月ヘプト−6−エノエート
。
化合物Nα22:(+、−)メチル 6E−エリスロ−
7− (4−(4−フルオルフェニル)−5,7−シメ
チルー3−スピロ(2,1’−シクロペンチルー2H−
1−ベンゾピラン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−
6−エノエート。
7− (4−(4−フルオルフェニル)−5,7−シメ
チルー3−スピロ(2,1’−シクロペンチルー2H−
1−ベンゾピラン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−
6−エノエート。
化合物凪23 : (+、−)メチル 6E−エリスロ
−7− (4−(4−エトキシフェニル)−3−スピロ
(2,1’−シクロペンチル−2B−1−ベンゾピラン
)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
−7− (4−(4−エトキシフェニル)−3−スピロ
(2,1’−シクロペンチル−2B−1−ベンゾピラン
)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
化合物No24 : (+、−)メチル 6E−エリス
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−(4−イソプロ
ピルオキシフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロ
ペンチル−21ト1−ベンゾピラン)〕ヘプト−6−エ
ノエート。
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−(4−イソプロ
ピルオキシフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロ
ペンチル−21ト1−ベンゾピラン)〕ヘプト−6−エ
ノエート。
化合物Na25 : (+、−)メチル 6E−エリス
ロ−7− (4−(4−フルオルフェニル)−6−メド
キシー3−スピロ(2゜1′−シクロペンチル−2H−
1−ベンゾピラン)〕−3゜5−ジヒドロキシヘプト−
6−エノエート。
ロ−7− (4−(4−フルオルフェニル)−6−メド
キシー3−スピロ(2゜1′−シクロペンチル−2H−
1−ベンゾピラン)〕−3゜5−ジヒドロキシヘプト−
6−エノエート。
化合物Nα26 : (+、−)メチル 6E−エリス
ロ−7− (4−(4−トリフルオルメチルフェニル)
−3−スピロ(2゜1′−シクロペンチル−2H−1−
ベンゾピラン)〕−3゜5−ジヒドロキシヘプト−6−
エノエート。
ロ−7− (4−(4−トリフルオルメチルフェニル)
−3−スピロ(2゜1′−シクロペンチル−2H−1−
ベンゾピラン)〕−3゜5−ジヒドロキシヘプト−6−
エノエート。
化合物歯27 : (+、−)メチル 6E−エリスロ
−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−(4−n−ペンチ
ルオキシフェニル)−3−スピロ(2,1,’−シクロ
ペンチルー2H−L−ベンゾピラン)〕−ヘプト−6−
エノエート。
−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−(4−n−ペンチ
ルオキシフェニル)−3−スピロ(2,1,’−シクロ
ペンチルー2H−L−ベンゾピラン)〕−ヘプト−6−
エノエート。
化合物NQ28 : (+、−)メチル 6E−エリス
ロ−7− (4−(4−フルオルフェニル)−3−スピ
ロ(2,1’−シクロペンチルへ2H−1−ナフト(b
)ビラン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノ
エート。
ロ−7− (4−(4−フルオルフェニル)−3−スピ
ロ(2,1’−シクロペンチルへ2H−1−ナフト(b
)ビラン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノ
エート。
化合物Nα29 : (+、−)メチル 6E−エリス
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−(4−メチルチ
オフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル
ー2H−1−ベンゾピラン)〕−合プトー6−エノエー
ト。
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−(4−メチルチ
オフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル
ー2H−1−ベンゾピラン)〕−合プトー6−エノエー
ト。
化合物&30 : (+、−)エチル 6E−エリスロ
−7−(4−(4−tart−ブチルフェニル)−3−
スピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾ
ピラン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエ
ート。
−7−(4−(4−tart−ブチルフェニル)−3−
スピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾ
ピラン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエ
ート。
化合物&31 : (+、−)エチル 6E−エリスロ
−7− (4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ
(2,1’−シクロへキシル−2H−1−ベンゾピラン
)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
−7− (4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ
(2,1’−シクロへキシル−2H−1−ベンゾピラン
)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
化合物走32 : (+、−)メチル 6E−エリスロ
−7− (4−(4−フルオルフェニル)−7−イソプ
ロビルオキシ−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル
ー2H−1−ベンゾピラン)]−3,5−ジヒドロキシ
ヘプト−6−エノエート。
−7− (4−(4−フルオルフェニル)−7−イソプ
ロビルオキシ−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル
ー2H−1−ベンゾピラン)]−3,5−ジヒドロキシ
ヘプト−6−エノエート。
化合物NQ33 : (+、−)−6E−エリスロ−7
− (4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2
,1’−シクロベンチル−28−1−ベンゾピラン)〕
−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エンアミド。
− (4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2
,1’−シクロベンチル−28−1−ベンゾピラン)〕
−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エンアミド。
化合物Nα34 : (+、−)−6E−エリスロ−?
−(4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2,
1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラン)〕〕
〜3,5−ジヒドロキシーN−イソプロピルヘプト6−
エンアミド。
−(4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2,
1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラン)〕〕
〜3,5−ジヒドロキシーN−イソプロピルヘプト6−
エンアミド。
化合物Nα35 : (+、−) −6E−エリスロ−
7−(4−(1,1’−ビフェニル−4−イル)−3−
スピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾ
ピラン)] −]3.5−ジヒドロキシーN、N−テト
ラメチレンヘプト6−エンアミド。
7−(4−(1,1’−ビフェニル−4−イル)−3−
スピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾ
ピラン)] −]3.5−ジヒドロキシーN、N−テト
ラメチレンヘプト6−エンアミド。
化合物No36 : (+、−)−6E−エリスロ−7
− (4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2
,1’−シクロペンチル−28−1−ベンゾピラン)〕
−3,5−ジヒドロキシ−N−シクロへキシルヘプト−
6−エンアミド。
− (4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2
,1’−シクロペンチル−28−1−ベンゾピラン)〕
−3,5−ジヒドロキシ−N−シクロへキシルヘプト−
6−エンアミド。
化合物Na37 : (+、−)−6E−エリスロ−N
−ベンジル−7−[4−(4−フルオルフェニル)−3
−スピロ(2,L’−シクロペンチルー2H−1−ベン
ゾピラン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エン
アミド。
−ベンジル−7−[4−(4−フルオルフェニル)−3
−スピロ(2,L’−シクロペンチルー2H−1−ベン
ゾピラン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エン
アミド。
化合物NQ38 : (”+−)ナトリウム 6E−エ
リスロ−7−(4−(4−エチルフェニル)−3−スピ
ロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラ
ン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート
。
リスロ−7−(4−(4−エチルフェニル)−3−スピ
ロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラ
ン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート
。
化合物Nα39 : (+、−)ナトリウム 6E−エ
リスロ−3,5−ジヒドロキシ−7−〔6−メチル−4
−フェニル−3−スピロ(2,1’−シクロペンチルー
2H−1−ベンゾピラン)〕ヘプト−6−エノエート。
リスロ−3,5−ジヒドロキシ−7−〔6−メチル−4
−フェニル−3−スピロ(2,1’−シクロペンチルー
2H−1−ベンゾピラン)〕ヘプト−6−エノエート。
化合物&40 : (+、−)ナトリウム 6E−エリ
スロ−3.5=ジヒドロキシ−7−(4−(4−イソプ
ロピルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペン
チル−28−1−ベンゾピラン)〕ヘプト〜6−エノエ
ート。
スロ−3.5=ジヒドロキシ−7−(4−(4−イソプ
ロピルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペン
チル−28−1−ベンゾピラン)〕ヘプト〜6−エノエ
ート。
化合物Nα41. : (+、−)ナトリウム 6E−
エリスロ−3,5−ジヒドロキシ−7−〔4−フェニル
−3−スピロ(2,1′−シクロペンチル−2H−1−
ベンゾピラン)〕ヘプト−6−エノエート。
エリスロ−3,5−ジヒドロキシ−7−〔4−フェニル
−3−スピロ(2,1′−シクロペンチル−2H−1−
ベンゾピラン)〕ヘプト−6−エノエート。
化合物Ma42 : (+、−)ナトリウム 6E−エ
リスロ−7−(4−(4−クロルフェニル)−3−スピ
ロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラ
ン月−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
リスロ−7−(4−(4−クロルフェニル)−3−スピ
ロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラ
ン月−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
化合物&43 : (+、−)エチル 6E−エリスロ
−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−フェニル−2H−
1−ベンゾピラン−3−イル)ヘプト−6−エノエート
。
−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−フェニル−2H−
1−ベンゾピラン−3−イル)ヘプト−6−エノエート
。
化合物Nα44 : (+、−)メチル 6E−エリス
ロ−7− (4−(4−フルオルフェニル)−2,2−
ジメチル−2H−1−ベンゾピラン−3−イル)−3,
5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
ロ−7− (4−(4−フルオルフェニル)−2,2−
ジメチル−2H−1−ベンゾピラン−3−イル)−3,
5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
化合物Nα45 : (+、−)エチル 6E−エリス
ロ−7− C4−(4−フルオルフエニル)−2−イン
プロピル−2H−1−ベンゾピラン−3−イル)〕−3
,5−ジヒドロキシヘプト−6−エ゛ノエート。
ロ−7− C4−(4−フルオルフエニル)−2−イン
プロピル−2H−1−ベンゾピラン−3−イル)〕−3
,5−ジヒドロキシヘプト−6−エ゛ノエート。
化合物Na46 : (+、−)−トランス−4−ヒド
ロキシ−3,4゜5.6−チトラヒドロー6−(IE−
4−フェニル−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル
−2H−1−ベンゾピラン)エチニル〕−2H−ピラン
ー2−オン。
ロキシ−3,4゜5.6−チトラヒドロー6−(IE−
4−フェニル−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル
−2H−1−ベンゾピラン)エチニル〕−2H−ピラン
ー2−オン。
化合物Nα47’ (’+−)−トランス−6−(IE
−2−[4−(4−フルオルフェニル)−6−メトキシ
ル3−スピロ(211’〜シクロベンチルー2H−1−
ベンゾピラン)〕−エチニル)−4−ヒドロキシ−3,
4,5,6−テトラヒドロ−2トビランー2−オン。
−2−[4−(4−フルオルフェニル)−6−メトキシ
ル3−スピロ(211’〜シクロベンチルー2H−1−
ベンゾピラン)〕−エチニル)−4−ヒドロキシ−3,
4,5,6−テトラヒドロ−2トビランー2−オン。
化合物Na48 : (”、−)−トランス−6−(I
E−2−(+、、2−ジヒドロー2.2−ジメチル−4
−2エニルー3−ナフチル)エチニル〕−4−ヒドロキ
シ−3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−ピランー2
−オン。
E−2−(+、、2−ジヒドロー2.2−ジメチル−4
−2エニルー3−ナフチル)エチニル〕−4−ヒドロキ
シ−3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−ピランー2
−オン。
化合物Nc49 : (”+−E トランス−4−ヒド
ロキシ−3,4゜5.6−チトラヒドロー6−(IE−
2−(2)1−2.2−ジメチル−4−フェニル−3−
ベンゾチアピラニル)エチニル〕−2トビランー2〜オ
ン。
ロキシ−3,4゜5.6−チトラヒドロー6−(IE−
2−(2)1−2.2−ジメチル−4−フェニル−3−
ベンゾチアピラニル)エチニル〕−2トビランー2〜オ
ン。
化合物NQ50 : (+p−)メチル 6E−エリス
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−〔4−フェニル−3−
スピロ(2,!’−シクロペンチルー1,2−ジヒドロ
ナフタレン)〕ヘプト−6−エノエート。
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−〔4−フェニル−3−
スピロ(2,!’−シクロペンチルー1,2−ジヒドロ
ナフタレン)〕ヘプト−6−エノエート。
化合物No5L : (+、−)メチル 6E−エリス
ロ−7− (4−(=1−フルオルフェニル)−1,2
−ジヒドロ−2,2−ジメチル−3−ナフチル)−3,
5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
ロ−7− (4−(=1−フルオルフェニル)−1,2
−ジヒドロ−2,2−ジメチル−3−ナフチル)−3,
5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
化合物Nci52 : (”+−)メチル 6E−エリ
スロ−7−(1,2−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4
−フェニル−3−ナフチル) −3,5−ジヒドロキシ
ヘプト−6−エノエート。
スロ−7−(1,2−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4
−フェニル−3−ナフチル) −3,5−ジヒドロキシ
ヘプト−6−エノエート。
化合物Na53 : (”+−)メチル 6E−エリス
ロ−7− (4−(4−フルオルフェニル)−3−スピ
ロ(2,1’−シクロペンチル−1,2−ジヒドロナフ
タレン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエ
ート。
ロ−7− (4−(4−フルオルフェニル)−3−スピ
ロ(2,1’−シクロペンチル−1,2−ジヒドロナフ
タレン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエ
ート。
化合物1(i54 : (”+−)メチル 6E−エリ
スロ−7− (4−(4−クロルフェニル)−3−スピ
ロ(2,1’−シクロペンチル−1,2−ジヒドロナフ
タレン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエ
ート。
スロ−7− (4−(4−クロルフェニル)−3−スピ
ロ(2,1’−シクロペンチル−1,2−ジヒドロナフ
タレン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエ
ート。
化合物Nc55 : (+、−)メチル 6E−エリス
ロ−7−[4−(4−クロルフェニル)−1,2−ジヒ
ドロ−2,2−ジメチル−3−ナフチル)−3,5−ジ
ヒドロキシヘプト−6−エノエート。
ロ−7−[4−(4−クロルフェニル)−1,2−ジヒ
ドロ−2,2−ジメチル−3−ナフチル)−3,5−ジ
ヒドロキシヘプト−6−エノエート。
化合物Nα56:(÷、−)メチル 6E−エリスロ−
7−(4−(3−フルオルフェニル)−3−スピロ(2
,1’−シクロペンチル−1,2−ジヒドロナフタレン
)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
7−(4−(3−フルオルフェニル)−3−スピロ(2
,1’−シクロペンチル−1,2−ジヒドロナフタレン
)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート。
化合物Nα57 : (+、−)ナトリウム 6E!−
エリスロ−7−(4−(4−フルオルフェニル)−1,
2−ジヒドロ−3−ナフチル)−3,5−ジヒドロキシ
ヘプト−6−エノエート。
エリスロ−7−(4−(4−フルオルフェニル)−1,
2−ジヒドロ−3−ナフチル)−3,5−ジヒドロキシ
ヘプト−6−エノエート。
化合物Na58 : (+、−)メチル 6E−エリス
ロ−7−(1,2−ジヒドロ−2−イソプロピル−4−
フェニル−3−ナフチル)−3,5−ジヒドロキシヘプ
ト−6−エノエート。
ロ−7−(1,2−ジヒドロ−2−イソプロピル−4−
フェニル−3−ナフチル)−3,5−ジヒドロキシヘプ
ト−6−エノエート。
化合物&59 : (+、−)メチル 6E−エリスロ
−7−(1,2−ジヒドロ−2−メチル−4−フェニル
−3−ナフチル)−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−
エノエート。
−7−(1,2−ジヒドロ−2−メチル−4−フェニル
−3−ナフチル)−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−
エノエート。
化合物にα60 : (+、−)メチル 6E−エリス
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−〔8−メチル−4−(
4−メチルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロ
ペンチル−1,2−ジヒドロナフタレン)〕ヘプト−6
−エノエート。
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−〔8−メチル−4−(
4−メチルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロ
ペンチル−1,2−ジヒドロナフタレン)〕ヘプト−6
−エノエート。
化合物Nα61 : (+、−)メチル 6E−エリス
ロ−7−(6−クロル−4−(4−クロルフェニル)−
3−スピロ(2゜1′−シクロペンチル−1,2−ジヒ
ドロナフタレン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6
−エノエート。
ロ−7−(6−クロル−4−(4−クロルフェニル)−
3−スピロ(2゜1′−シクロペンチル−1,2−ジヒ
ドロナフタレン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6
−エノエート。
化合物NQ62 : (+、−)メチル 6E−エリス
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−〔8−メチル−4−(
4−メトキシフェニル)−3−スピロ(2,1’−シク
ロペンチル−1,2−ジヒドロキシナフタレン)〕ヘプ
ト−6−エノエート。
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−〔8−メチル−4−(
4−メトキシフェニル)−3−スピロ(2,1’−シク
ロペンチル−1,2−ジヒドロキシナフタレン)〕ヘプ
ト−6−エノエート。
化合物Nci63 : (+、−)メチル 6E−エリ
スロ−7−〔6−クロル−4−(4−フルオルフェニル
)−3−スピロ(2゜1′−シクロペンチル−1,2−
ジヒドロナフタレン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト
−6−エノエート。
スロ−7−〔6−クロル−4−(4−フルオルフェニル
)−3−スピロ(2゜1′−シクロペンチル−1,2−
ジヒドロナフタレン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト
−6−エノエート。
化合物No64 : (+、−)メチル 6E−エリス
ロ−?−(1,2−ジヒドロ−2,2−ジメチル−7−
メドキシー3−ナフチル)−3,5−ジヒドロキシヘプ
ト−6−エノエート。
ロ−?−(1,2−ジヒドロ−2,2−ジメチル−7−
メドキシー3−ナフチル)−3,5−ジヒドロキシヘプ
ト−6−エノエート。
化合物Nα65 : (+、−)ナトリウム 6E−エ
リスロ−3,5−ジヒドロキシ−7−〔4フェニル−3
−スピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベン
ゾチアピラン)〕ヘプト−6−エノエート。
リスロ−3,5−ジヒドロキシ−7−〔4フェニル−3
−スピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベン
ゾチアピラン)〕ヘプト−6−エノエート。
化合物晃667 (+、−)メチル 6E−エリスロ−
3,5−ジヒドロキシ−7−(4−(4−メチルフェニ
ル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−
1−ベンゾチアピラン)〕ヘプト−6−エノエート。
3,5−ジヒドロキシ−7−(4−(4−メチルフェニ
ル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−
1−ベンゾチアピラン)〕ヘプト−6−エノエート。
化合物Na61 : (+、−)メチル 6E−エリス
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−〔4−フェニル−2,
2−ジメチル−3−2H−ベンゾチアピラニル)ヘプト
−6−エノエート。
ロ−3,5−ジヒドロキシ−7−〔4−フェニル−2,
2−ジメチル−3−2H−ベンゾチアピラニル)ヘプト
−6−エノエート。
化合物Na68 : (”+−)ナトリウム 6E−エ
リスロ−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−フェニル−
2,2−ジメチル−3−28−ベンゾチアピラニル)ヘ
プト−6−エノエート。
リスロ−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−フェニル−
2,2−ジメチル−3−28−ベンゾチアピラニル)ヘ
プト−6−エノエート。
化合物Nα1〜Nα68の構造式を次に示す。
C以下余白)
化合物Ha 6
化合物Ha 3
化合物)(α8
化合物Nα14
化合物Nα11
化合物Nα16
化合物&22
化合物Nα19
化合物Na24
化合物Na30
化合物N027
化合物Nα32
化合物Nn38
C,Hs
化合物Nα35
化合物黙40
化合物N(140
化合物Nα37
化合物Nα42
化合物Nα54
化合物Nα51
化合物Nα56
化合物N(161
化合物&62
化合物Na59
化合物Nα64
化合物Nα67
本発明はまた少なくとも次の工程
(a)次式4
(式中X、 R1、R1、R1、R4、R6、R1、R
1、R8及びRILは後記の如くである)のケトエステ
ルを還元し且つ適当な場合には (b)式(1)の化合物のエステル交換又はδ−ラクト
ン形の式(1)の化合物のアルコーリシス又は塩の形の
式(1)の化合物のアルキル化を行なうか、又は (c)エステル又はδ−ラクトン形の式(1)の化合物
の加水分解を行なうか、又は (d) R,及びR,又はR9及びLx が一緒になっ
て単結合を形成する時には、塩の形の式(1)の対応の
化合物を第3Rりaルアミンで処理するか、又は(e)
R1、R,及びRhoが水素原子を表わし、R1及び
++ttが一緒になって単結合を形成する時には、式(
1)(但しR7及びR,が二重結合を形成する)のδ−
ラクトン化合物の接触還元又は式(1)(但しR3、R
,及びR10は水素原子を表わす)の対応の酸性化合物
のラクトン化を行なうか、又は (f)エステル又はδ−ラクトン形の式(1)の化合物
のアミノリンスを行なうか、又は (g) R9及びR10が一緒になってジアルキルアル
キレン基を形成する時には式(1)(但しR1及びR1
0の各々は水素原子を表わす)の対応の化合物をアルコ
キシアルケンを用いて環化することからなる本発明の化
合物の製造方法に関する。
1、R8及びRILは後記の如くである)のケトエステ
ルを還元し且つ適当な場合には (b)式(1)の化合物のエステル交換又はδ−ラクト
ン形の式(1)の化合物のアルコーリシス又は塩の形の
式(1)の化合物のアルキル化を行なうか、又は (c)エステル又はδ−ラクトン形の式(1)の化合物
の加水分解を行なうか、又は (d) R,及びR,又はR9及びLx が一緒になっ
て単結合を形成する時には、塩の形の式(1)の対応の
化合物を第3Rりaルアミンで処理するか、又は(e)
R1、R,及びRhoが水素原子を表わし、R1及び
++ttが一緒になって単結合を形成する時には、式(
1)(但しR7及びR,が二重結合を形成する)のδ−
ラクトン化合物の接触還元又は式(1)(但しR3、R
,及びR10は水素原子を表わす)の対応の酸性化合物
のラクトン化を行なうか、又は (f)エステル又はδ−ラクトン形の式(1)の化合物
のアミノリンスを行なうか、又は (g) R9及びR10が一緒になってジアルキルアル
キレン基を形成する時には式(1)(但しR1及びR1
0の各々は水素原子を表わす)の対応の化合物をアルコ
キシアルケンを用いて環化することからなる本発明の化
合物の製造方法に関する。
前記式1(但しX、 R1,R2、R3、R1、R1、
R1、R。
R1、R。
及びR8は前述した意義を有し、R9及びR10は水素
原子を表わす)の化合物は次の反ル図式lに例示した反
応順序によってエステル形で製造できる。
原子を表わす)の化合物は次の反ル図式lに例示した反
応順序によってエステル形で製造できる。
反応図式I
反応図式Iに示した如く、前記式2(但しRいR2、R
5、R4,Rs、 R1、R,及びR2は前述した如く
である)のアルデヒド化合物を式3(但しR工、は前述
した如くである)のナトリウムとリチウムとの混合複塩
の形の適当なアセドアテートと共にTHFの如き極性溶
剤中でアルドール縮合にかけると、式4の7−置換−5
−ヒドロキシ−3−オキソヘプト−6−エノエートを得
る(KrausらのJ 、 Org。
5、R4,Rs、 R1、R,及びR2は前述した如く
である)のアルデヒド化合物を式3(但しR工、は前述
した如くである)のナトリウムとリチウムとの混合複塩
の形の適当なアセドアテートと共にTHFの如き極性溶
剤中でアルドール縮合にかけると、式4の7−置換−5
−ヒドロキシ−3−オキソヘプト−6−エノエートを得
る(KrausらのJ 、 Org。
Chem、、 48.2111.1983参照)。
THF又はエーテルの如き不活性溶剤に溶解しであるエ
ステル4をホウ水素化アルカリ金属、好ましくはホウ水
素化ナトリウムで処理して(方法A)スレオ異性体とエ
リスロ異性体との混合物の形の化合物1を生成し、これ
は例えばクロマトグラフィーの如き通常の物理化学的方
法によって分離できる。
ステル4をホウ水素化アルカリ金属、好ましくはホウ水
素化ナトリウムで処理して(方法A)スレオ異性体とエ
リスロ異性体との混合物の形の化合物1を生成し、これ
は例えばクロマトグラフィーの如き通常の物理化学的方
法によって分離できる。
エリメロ形の本発明の化合物を与える点で方法Aよりも
好ましい刑法(方法B)は、THFの如き適当な溶剤に
溶解しであるエステル4を錯化剤、好ましくはトリブチ
ルボランの如きトリアルキルボランで処理するか(Na
rasakaのChew。
好ましい刑法(方法B)は、THFの如き適当な溶剤に
溶解しであるエステル4を錯化剤、好ましくはトリブチ
ルボランの如きトリアルキルボランで処理するか(Na
rasakaのChew。
Letters、 1415〜1418.1980参照
)又はメトキシジエチルボランの如きアルコキシジアル
キルボランで処理してから(ChemらのTetrah
ed。
)又はメトキシジエチルボランの如きアルコキシジアル
キルボランで処理してから(ChemらのTetrah
ed。
Letters、 28(2)、 155〜158.1
987参照)ホウ水素化アルカリ金属で還元することに
在る。
987参照)ホウ水素化アルカリ金属で還元することに
在る。
前記式2(但しR7及びRoは一緒になって二重結合を
形成する)の化合物は次の反応図式Hに例示した反応順
序により製造できる。
形成する)の化合物は次の反応図式Hに例示した反応順
序により製造できる。
反応図式■
る)の化合物は、アセトニトリルの如き不活性溶剤中で
20℃と還流温度との間の温度でN、N−ジメチル−3
−アミノアクロレインと共にビルスマイヤー反応にかけ
て(υ1lrich及びBreitmaierの5yn
thesis 8.641〜645.1983参照)、
NMR分光分析によって示される如きトランス形の化合
物2を得る。
20℃と還流温度との間の温度でN、N−ジメチル−3
−アミノアクロレインと共にビルスマイヤー反応にかけ
て(υ1lrich及びBreitmaierの5yn
thesis 8.641〜645.1983参照)、
NMR分光分析によって示される如きトランス形の化合
物2を得る。
前記式2(但しR7及びR8は一緒になって二重結合を
形成する)のアルデヒドを製造する別の方法は次の反応
図式■によって例示される。
形成する)のアルデヒドを製造する別の方法は次の反応
図式■によって例示される。
反応図式■
反応図式■に示した如く、前記式5(但しX、R1、R
1、R1、R4、R5びR,は前述の意義を有す分析に
よって示される如きトランス形のアルデヒド2を形成す
る。
1、R1、R4、R5びR,は前述の意義を有す分析に
よって示される如きトランス形のアルデヒド2を形成す
る。
前記式2(但しR7及びR,は一緒になって二重結合を
形成する)のアルデヒド中間体を製造する別法は次の反
応図式■によって例示される。
形成する)のアルデヒド中間体を製造する別法は次の反
応図式■によって例示される。
反応図式■
反応図式■に示した如く、前記式5の化合物をN、N−
ジメチルホルムアミド(DMF)又は四塩化炭素又は塩
化メチレンの如き塩素化溶剤中でN−ブロムスクシンイ
ミド(NBS)と臭素化反応にかけて対応の3−ブロム
化合物6を生成し、これを適当な溶剤、好ましくはエー
テル例えばジエチルエーテル中でブチルリチウムで次い
で3−エトキシアクロレイン又はN、N−ジメチル−3
−アミノアクロレインで連続的に処理して、 NMR,
分光反応図式■ (続き) 反応図式■に示した如く、前記式5の化合物を不活性溶
剤中でN、N−ジメチル−ホルムアミドと共にビルスマ
イヤー反応にかけて(JackgonらのJ、 Am、
Chew、 Soc、 103.533.1981参
照)対応のアルデヒド7を形成し、これをエトキシ又は
メトキシカルボニルメチレントリフェニルホスホラン又
はメチル又はエチルホスホノアセテートと共にウィチッ
ヒ反応にかけて(OrganicReactions、
14.273.1656参照)NNR分光分析によっ
て示さ九るトランス形の3−置換プロペン酸エステル8
を得る。
ジメチルホルムアミド(DMF)又は四塩化炭素又は塩
化メチレンの如き塩素化溶剤中でN−ブロムスクシンイ
ミド(NBS)と臭素化反応にかけて対応の3−ブロム
化合物6を生成し、これを適当な溶剤、好ましくはエー
テル例えばジエチルエーテル中でブチルリチウムで次い
で3−エトキシアクロレイン又はN、N−ジメチル−3
−アミノアクロレインで連続的に処理して、 NMR,
分光反応図式■ (続き) 反応図式■に示した如く、前記式5の化合物を不活性溶
剤中でN、N−ジメチル−ホルムアミドと共にビルスマ
イヤー反応にかけて(JackgonらのJ、 Am、
Chew、 Soc、 103.533.1981参
照)対応のアルデヒド7を形成し、これをエトキシ又は
メトキシカルボニルメチレントリフェニルホスホラン又
はメチル又はエチルホスホノアセテートと共にウィチッ
ヒ反応にかけて(OrganicReactions、
14.273.1656参照)NNR分光分析によっ
て示さ九るトランス形の3−置換プロペン酸エステル8
を得る。
Xが硫黄原子を表わす時が特に好ましい式8の中間体化
合物を製造する別の方法は、トリエチルアミン又は重炭
酸ナトリウムの如き塩基性試薬の存在下に、木炭上に分
散させたパラジウム又はパラジウ゛ムシクロライド又は
そのアセテートの如きパラジウムの誘導体の存在下に且
つ配位子、好ましくはトリアリールホスフィン例えば、
トリーオルト−トリルホスフィンの如き配位子の存在下
にN、N−ジメチルホルムアミドの如き適当な溶剤中で
弐6のブロム化合物をアルキルアクリレート好ましくは
メチル又はエチルアクリレートと反応させることに在る
。
合物を製造する別の方法は、トリエチルアミン又は重炭
酸ナトリウムの如き塩基性試薬の存在下に、木炭上に分
散させたパラジウム又はパラジウ゛ムシクロライド又は
そのアセテートの如きパラジウムの誘導体の存在下に且
つ配位子、好ましくはトリアリールホスフィン例えば、
トリーオルト−トリルホスフィンの如き配位子の存在下
にN、N−ジメチルホルムアミドの如き適当な溶剤中で
弐6のブロム化合物をアルキルアクリレート好ましくは
メチル又はエチルアクリレートと反応させることに在る
。
エステル8を溶剤中で一般にはジエチルエーテル又はT
HF中でジイソブチルアルミニウム水素化物(DIBA
L)で還元して対応の3−置換トランスプロペノール9
にさせ、次いでこれをDMSO中で塩化オキザリルで(
SwernらのJ、Org、Chem、。
HF中でジイソブチルアルミニウム水素化物(DIBA
L)で還元して対応の3−置換トランスプロペノール9
にさせ、次いでこれをDMSO中で塩化オキザリルで(
SwernらのJ、Org、Chem、。
43、2480.1978)又は例えばTHFの如き適
当な溶剤中で二酸化マンガンで酸化を加減しながら行な
ってトランス形の式2のアルデヒドを生成する。
当な溶剤中で二酸化マンガンで酸化を加減しながら行な
ってトランス形の式2のアルデヒドを生成する。
前記式2(R1及びR3は水素原子を表わす)のアルデ
ヒドは、次の反応図式■によって例示した反応順序によ
り製造できる。
ヒドは、次の反応図式■によって例示した反応順序によ
り製造できる。
反応図式■
反応図式■の反応順序によると、前記式2(但しR7及
びR8は二重結合を形成する)のアルデヒドを酸性樹脂
の存在下に例えば式 HC(OR11)バ但しR12は1〜4個の炭素原子を
含有するアルキル好ましくはメチル又はエチル基を表わ
す)のオルトホルメートでアセタール化反応にかけるか
あるいは式R工20H〔式中R1は前記の意義を有する
か又は式−(CH2)qo旧但しqは2又は3である)
の基を表わしつる〕のアルコールで酸触媒反応にかけて
化合物10(但しメチレン基−RIZ・・・R12−は
その時これが結合している酸素原子と共に5又は6員環
を形成する)を形成する。
びR8は二重結合を形成する)のアルデヒドを酸性樹脂
の存在下に例えば式 HC(OR11)バ但しR12は1〜4個の炭素原子を
含有するアルキル好ましくはメチル又はエチル基を表わ
す)のオルトホルメートでアセタール化反応にかけるか
あるいは式R工20H〔式中R1は前記の意義を有する
か又は式−(CH2)qo旧但しqは2又は3である)
の基を表わしつる〕のアルコールで酸触媒反応にかけて
化合物10(但しメチレン基−RIZ・・・R12−は
その時これが結合している酸素原子と共に5又は6員環
を形成する)を形成する。
次いで化合物lOは、例えばT旺又はメタノールの如き
アルコールの様な適当な溶剤中で、例えば木炭上に分散
させたパラジウムの如き金属触媒の存在下に好ましくは
低圧で水素添加して対応の3−置換プロパンアルデヒド
11とし、次いでこれを通常の脱アセタール化法によっ
てプロパンアルデヒド2に脱アセタール化でき、通常の
脱アセタール化法には例えばアセトン−水混合物中で酸
性樹脂で7セタールの処理又はより一般には単一の溶剤
中で又は適当な溶剤の混合物中で酸性触媒でアセタール
の処理がある。
アルコールの様な適当な溶剤中で、例えば木炭上に分散
させたパラジウムの如き金属触媒の存在下に好ましくは
低圧で水素添加して対応の3−置換プロパンアルデヒド
11とし、次いでこれを通常の脱アセタール化法によっ
てプロパンアルデヒド2に脱アセタール化でき、通常の
脱アセタール化法には例えばアセトン−水混合物中で酸
性樹脂で7セタールの処理又はより一般には単一の溶剤
中で又は適当な溶剤の混合物中で酸性触媒でアセタール
の処理がある。
前記式2(但しR7及びR,は水素原子を表わす)のア
ルデヒド化合物を製造する別法は、トリエチルアミン又
は重炭酸ナトリウムの如き塩基性試薬の存在下に、木炭
上に分散させたパラジウム又はパラジウムジクロライド
又はそのアセテートの如きパラジウムの誘導体の存在下
に及び配位子、好ましくは例えばトリーオルト−トリル
ホスフィンの如きトリアリールホスフィンの存在下にN
、N−ジメチルホルムアミドの如き適当な溶剤中で弐6
のブロム化合物をアリルアルコールと反応させることに
在る。
ルデヒド化合物を製造する別法は、トリエチルアミン又
は重炭酸ナトリウムの如き塩基性試薬の存在下に、木炭
上に分散させたパラジウム又はパラジウムジクロライド
又はそのアセテートの如きパラジウムの誘導体の存在下
に及び配位子、好ましくは例えばトリーオルト−トリル
ホスフィンの如きトリアリールホスフィンの存在下にN
、N−ジメチルホルムアミドの如き適当な溶剤中で弐6
のブロム化合物をアリルアルコールと反応させることに
在る。
式5の化合物は次の反応図式■によって例示された反応
順序により製造できる。
順序により製造できる。
反応図式■
適当なリチウム又はマグネシウム化合物で処理して1−
2付加により対応のアルコール14を生成し1次いでこ
れを酸性硫酸カリウム又はP−トルエンスルホン酸の如
き脱水剤の作用によって脱水して所望の化合物とする。
2付加により対応のアルコール14を生成し1次いでこ
れを酸性硫酸カリウム又はP−トルエンスルホン酸の如
き脱水剤の作用によって脱水して所望の化合物とする。
前記式12(但しXは酸素又は硫黄原子を表わし、Rい
R2、R5及びR6は前述の如くである)の化合物はK
abbeらの5ynthesis、 12.886.1
978の方法により調製される。
R2、R5及びR6は前述の如くである)の化合物はK
abbeらの5ynthesis、 12.886.1
978の方法により調製される。
前記式12(但しXはメチレン連鎖を表わし、Ro、R
2、R9及びR6は前述の如くである)の化合物は次の
反応図式■によって例示された反応順序により製造され
る。
2、R9及びR6は前述の如くである)の化合物は次の
反応図式■によって例示された反応順序により製造され
る。
反応図式■によると、式12(但しX、 R1、R5、
R5びR6は前述の如くである)のケトン化合物を式1
3(但しR1及びR4は前述の如くである)の反応図式
■によって示される如く、前記式15(但しR1、R1
、R,及びR,は前述の如くである)のシアノエステル
をグリコール性水酸化カリウムにより加水分解且つ脱カ
ルボキシル化して対応の酸16にし1次いでこれを酸性
媒質中で加熱することにより化合物12に環化させる。
R5びR6は前述の如くである)のケトン化合物を式1
3(但しR1及びR4は前述の如くである)の反応図式
■によって示される如く、前記式15(但しR1、R1
、R,及びR,は前述の如くである)のシアノエステル
をグリコール性水酸化カリウムにより加水分解且つ脱カ
ルボキシル化して対応の酸16にし1次いでこれを酸性
媒質中で加熱することにより化合物12に環化させる。
式15の化合物はProutらのOrg、 5ynth
、、 Co11. IV巻、 93.1963に記載さ
れた方法により調製される。
、、 Co11. IV巻、 93.1963に記載さ
れた方法により調製される。
エステル形の式1の化合物は、R11が異なる式1の化
合物のエステル交換によっであるいはδ−ラクトン形の
式1の化合物のアルコーリシスによっであるいは塩好ま
しくはナトリウム塩の形の式1の化合物を式R1m−B
r(1)(但しLxは前述の如くである)の臭化物又は
ヨウ化物でO−アルキル化することによって製造できる
。
合物のエステル交換によっであるいはδ−ラクトン形の
式1の化合物のアルコーリシスによっであるいは塩好ま
しくはナトリウム塩の形の式1の化合物を式R1m−B
r(1)(但しLxは前述の如くである)の臭化物又は
ヨウ化物でO−アルキル化することによって製造できる
。
前記式1(但しR?及びR,は水素原子を表わす)に対
応するエステルは、好ましくは低圧で例えばTHFの如
き適当な溶剤中でパラジウム又は白金酸化物の如き金属
触媒の存在下に前記式1(但しR1及びR9は二重結合
を形成する)の対応のエステルを水素添加することによ
り製造できる。
応するエステルは、好ましくは低圧で例えばTHFの如
き適当な溶剤中でパラジウム又は白金酸化物の如き金属
触媒の存在下に前記式1(但しR1及びR9は二重結合
を形成する)の対応のエステルを水素添加することによ
り製造できる。
塩の形の式1の化合物は、エステルの形好ましくはメチ
ル又はエチルエステルあるいはδ−ラクトン形の式1の
対応の化合物を、適当な溶剤例えばアルコール中で例え
ば水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムで塩基性加水分
解することにより製造できる。
ル又はエチルエステルあるいはδ−ラクトン形の式1の
対応の化合物を、適当な溶剤例えばアルコール中で例え
ば水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムで塩基性加水分
解することにより製造できる。
式1(但しR1及びR6は一緒になって二重結合を形成
する)のδ−ラクトン化合物は塩好ましくはナトリウム
塩の形の式1の対応化合物を適当な溶剤好ましくはアセ
トン又はブタノンの如きカルボニル含有溶剤中でクロル
アミン、好ましくは2−クロルエチル−N、N−ジエチ
ルアミンと反応させることにより製造できる。
する)のδ−ラクトン化合物は塩好ましくはナトリウム
塩の形の式1の対応化合物を適当な溶剤好ましくはアセ
トン又はブタノンの如きカルボニル含有溶剤中でクロル
アミン、好ましくは2−クロルエチル−N、N−ジエチ
ルアミンと反応させることにより製造できる。
前記式1(但しR3、R8及びR10は水素原子を表わ
す)のδ−ラクトン化合物は式1(但しR1,はヒドロ
キシル基である)の対応の酸のラクトン化によって製造
され;該ラクトン化反応はベンゼン、トルエン、キシレ
ン又はこれらの混合物の如き不活性芳香族溶剤中でしか
も適当ならば例えばP−トルエンスルホン酸の如き脱水
剤の存在下に前記の式1の酸を加熱することにより行な
うのが好ましく;前記式1(但しR1、R,及びR10
は水素原子を表わす)のδ−ラクトン化合物を製造する
別の高度に有用な方法は、金属触媒好ましくは木炭上に
分散させたパラジウム又は酸化白金の存在下に適当な溶
剤中で好ましくはT)IFの如きエーテル又はメタノー
ル又はエタノールの如きアルコール中で前記式1(但し
R7及びR8又はR,及びRLXは一緒になって結合を
形成する)の対応の不飽和化合物を不均質な相中で水素
添加することに在る。
す)のδ−ラクトン化合物は式1(但しR1,はヒドロ
キシル基である)の対応の酸のラクトン化によって製造
され;該ラクトン化反応はベンゼン、トルエン、キシレ
ン又はこれらの混合物の如き不活性芳香族溶剤中でしか
も適当ならば例えばP−トルエンスルホン酸の如き脱水
剤の存在下に前記の式1の酸を加熱することにより行な
うのが好ましく;前記式1(但しR1、R,及びR10
は水素原子を表わす)のδ−ラクトン化合物を製造する
別の高度に有用な方法は、金属触媒好ましくは木炭上に
分散させたパラジウム又は酸化白金の存在下に適当な溶
剤中で好ましくはT)IFの如きエーテル又はメタノー
ル又はエタノールの如きアルコール中で前記式1(但し
R7及びR8又はR,及びRLXは一緒になって結合を
形成する)の対応の不飽和化合物を不均質な相中で水素
添加することに在る。
前記式1(但しR9及びR10は水素原子を表わす)の
酸性化合物は塩の形の式1の対応の化合物の酸性化によ
り又は木炭上に分散させたパラジウムの存在下に対応の
ベンジルエステル即ち式1(但しnxzはベンジルオキ
シ残基を表わす)の化合物を水添分解することにより製
造できる。
酸性化合物は塩の形の式1の対応の化合物の酸性化によ
り又は木炭上に分散させたパラジウムの存在下に対応の
ベンジルエステル即ち式1(但しnxzはベンジルオキ
シ残基を表わす)の化合物を水添分解することにより製
造できる。
アミド形の式1の化合物は極性溶剤中で好ましくはメタ
ノール又はエタノール中で式1の対応のエステル好まし
くはメチル又はエチルエステルあるいはδ−ラクトン形
の式1の対応の化合物を過剰のアミンでアミノリンスす
ることにより製造される。
ノール又はエタノール中で式1の対応のエステル好まし
くはメチル又はエチルエステルあるいはδ−ラクトン形
の式1の対応の化合物を過剰のアミンでアミノリンスす
ることにより製造される。
前記式1(但しR9及びR10が一緒になって01〜。
ジアルキルメチレン基を形成する)の化合物は式1(但
しR3及びR10は水素原子を表わす)の対応の化合物
を、適当な溶剤中で例えばN、N−ジメチルホルムアミ
ドの如き溶剤中でp−トルエンスルホン酸の如き酸性触
媒の存在下に適当なアルコキシアルケン(用語アルコキ
シアルケンは前述した如きアルコキシ好ましくはメトキ
シにより二重結合上に置換された3〜7個の炭素原子を
含有するアルケンを表わす)と反応させることにより製
造される。
しR3及びR10は水素原子を表わす)の対応の化合物
を、適当な溶剤中で例えばN、N−ジメチルホルムアミ
ドの如き溶剤中でp−トルエンスルホン酸の如き酸性触
媒の存在下に適当なアルコキシアルケン(用語アルコキ
シアルケンは前述した如きアルコキシ好ましくはメトキ
シにより二重結合上に置換された3〜7個の炭素原子を
含有するアルケンを表わす)と反応させることにより製
造される。
種々の形での本発明の化合物;酸、塩、エステル、アミ
ド又はラクトンは前記した方法により相互に転化でき従
ってこれらの種々の形状は本発明の化合物の合成に用い
得る中間体を成すことを認めるのが適当である。
ド又はラクトンは前記した方法により相互に転化でき従
ってこれらの種々の形状は本発明の化合物の合成に用い
得る中間体を成すことを認めるのが適当である。
立体異性体(シス、トランス、スレオ、エリスロ、鏡像
体)の混合物は適当な合成段階で常法によって分離でき
る。
体)の混合物は適当な合成段階で常法によって分離でき
る。
常法は、例えば再結晶、クロマトグラフィー又は光学活
性化合物との組合せ体の形成の如き当業者に周知の全て
の方法を意味することを意図する9前記式2.4,5.
6.7.8.9.10.11及び14に対応の合成中間
体化合物は、式5(但しR1及びR8は水素を表わし、
XはS又はC12を表わす)の生成物を除いては本発明
の一部を成し、これらの化合物の若干はDegani、
Ann、 CheIl、 (Rome)1971.6
1(2) p793〜813により且っPenn、 J
、 Magn、 Re5on。
性化合物との組合せ体の形成の如き当業者に周知の全て
の方法を意味することを意図する9前記式2.4,5.
6.7.8.9.10.11及び14に対応の合成中間
体化合物は、式5(但しR1及びR8は水素を表わし、
XはS又はC12を表わす)の生成物を除いては本発明
の一部を成し、これらの化合物の若干はDegani、
Ann、 CheIl、 (Rome)1971.6
1(2) p793〜813により且っPenn、 J
、 Magn、 Re5on。
1975、18(1) p6〜11により知られている
。
。
本発明はまたこれらの合成中間体を製造する方法に関す
る。
る。
前記式1の化合物は3−ヒドロキシ−3−メチルグルタ
リル補磐素Aレダクターゼを阻害する特性を有し、従っ
て強力な低コレステロール血症作用を発揮する。
リル補磐素Aレダクターゼを阻害する特性を有し、従っ
て強力な低コレステロール血症作用を発揮する。
前記式1の化合物はまた、血小板の抗凝集作用に反映さ
れる特性であるトロンボキサンA2の受容体に拮抗しう
るちのである。
れる特性であるトロンボキサンA2の受容体に拮抗しう
るちのである。
本発明の化合物のこれらの特性は、例えば糖尿病の血栓
徴候、アテローム性動脈硬化及び過脂肪蛋白血症の如き
種々の心臓血管疾患を処置するのに医薬として用いるの
に該化合物を特に有利とさせる。
徴候、アテローム性動脈硬化及び過脂肪蛋白血症の如き
種々の心臓血管疾患を処置するのに医薬として用いるの
に該化合物を特に有利とさせる。
更には、本発明の化合物には抗菌特性が付与され、これ
によって該化合物に抗真菌作用を有する医薬として多大
の利点を与える。
によって該化合物に抗真菌作用を有する医薬として多大
の利点を与える。
本発明の化合物の製薬特性は次の試験によって証明され
ている。
ている。
試験A : BucherらのJ、 Biol、 Ch
eIll、、222.1〜15、1955びAlber
tsらのProc、 Natl、 Aced、 Sci
。
eIll、、222.1〜15、1955びAlber
tsらのProc、 Natl、 Aced、 Sci
。
USA、 77(7)、 3957〜3961.198
0によって記載された方法によりラットにおける生体内
での肝臓の140−コレステロール発生の測定。
0によって記載された方法によりラットにおける生体内
での肝臓の140−コレステロール発生の測定。
試験B :EndoらのBiochim、 Bioph
ys、 Acta、 575゜226〜276、197
9によって記載された方法によりトリトンVR1339
で静脈内処置したラットにおける生体内の全コレステロ
ール血症の測定。
ys、 Acta、 575゜226〜276、197
9によって記載された方法によりトリトンVR1339
で静脈内処置したラットにおける生体内の全コレステロ
ール血症の測定。
試験08次の要領でモルモットにおけるTXA、受容体
のアゴニストによって誘発された血小板凝集の測定;麻
酔したモルモットの大動脈穿刺によって血小板富化血漿
(PRP)を製造する;血液(9容量)をクエン酸三ナ
トリウム(1容量)の106mM溶液上に収集して凝固
を防止する。緩慢な遠心分離によりPRPを単離しく1
0分、380 g )、Chromlog−400型の
凝集計中で放置して少なくとも3分間反応させる(37
℃、緩慢な撹拌付き)。血小板の凝集は例えば)lal
BsteinのLife、 Sci、、 18.169
〜178.1976により略号名U46619により知
られる化合物(20mMの濃度)の如きTXA、受容体
の直接的なアゴニストの添加により誘発される0本発明
の化合物を試験管内で試験する。
のアゴニストによって誘発された血小板凝集の測定;麻
酔したモルモットの大動脈穿刺によって血小板富化血漿
(PRP)を製造する;血液(9容量)をクエン酸三ナ
トリウム(1容量)の106mM溶液上に収集して凝固
を防止する。緩慢な遠心分離によりPRPを単離しく1
0分、380 g )、Chromlog−400型の
凝集計中で放置して少なくとも3分間反応させる(37
℃、緩慢な撹拌付き)。血小板の凝集は例えば)lal
BsteinのLife、 Sci、、 18.169
〜178.1976により略号名U46619により知
られる化合物(20mMの濃度)の如きTXA、受容体
の直接的なアゴニストの添加により誘発される0本発明
の化合物を試験管内で試験する。
例えば、試験Aでは、化合物翫1.2.19及び65に
ついて0 、17 mg / kg、 0 、6 mg
/ kg、0.09■/kg及び0.78■/kgの
HD、。値がそれぞれ得られ、同じ条件下でロベスタチ
ンについては0.39■/kgのHD、。値が得られた
。
ついて0 、17 mg / kg、 0 、6 mg
/ kg、0.09■/kg及び0.78■/kgの
HD、。値がそれぞれ得られ、同じ条件下でロベスタチ
ンについては0.39■/kgのHD、。値が得られた
。
試験Bでは、同じ化合物について29.100.110
及び74■/kgのED□値がそれぞれ得られ、同じ条
件下でロベスタチンについては130■/kgのEDz
、値が得られた。
及び74■/kgのED□値がそれぞれ得られ、同じ条
件下でロベスタチンについては130■/kgのEDz
、値が得られた。
試験Cでは、化合物Nα1及び19について91及び2
8 X 10−’モル/QのIC10値が得られた。
8 X 10−’モル/QのIC10値が得られた。
本発明はまた、純粋な状態で又は不活性又は生理的に活
性でありうる、製薬観点から許容できる他の生成物と組
合せた形で、そのまま用いた式1の化合物よりなる医薬
に関する。
性でありうる、製薬観点から許容できる他の生成物と組
合せた形で、そのまま用いた式1の化合物よりなる医薬
に関する。
これらの医薬は錠剤、ゼラチンカプセル、カプセル、粉
末、顆粒等の如き広範囲の種々の薬量形態により投与で
きる。これらの組成物においては活性成分をラクトース
又は澱粉の如き1つ又はそれ以上の不活性希釈剤と混合
し;更にはこれらの組成物は希釈剤以外の物質例えばタ
ルク又はステアリン酸マグネシウムの如き潤滑剤を含有
でき、経口投与用の水性懸濁液、エリキシル剤又はシロ
ップが望ましい時には、水、エタノール、プロピレング
リコール及び種々の同様な組合せの如き希釈剤と同時に
適当ならば乳化剤及び/又は懸濁剤と共に、必須の活性
成分を種々の甘味剤及び/又は芳香剤と組合せることが
できる。
末、顆粒等の如き広範囲の種々の薬量形態により投与で
きる。これらの組成物においては活性成分をラクトース
又は澱粉の如き1つ又はそれ以上の不活性希釈剤と混合
し;更にはこれらの組成物は希釈剤以外の物質例えばタ
ルク又はステアリン酸マグネシウムの如き潤滑剤を含有
でき、経口投与用の水性懸濁液、エリキシル剤又はシロ
ップが望ましい時には、水、エタノール、プロピレング
リコール及び種々の同様な組合せの如き希釈剤と同時に
適当ならば乳化剤及び/又は懸濁剤と共に、必須の活性
成分を種々の甘味剤及び/又は芳香剤と組合せることが
できる。
経口投与に適当で単一投薬量の形で与えた本発明の製薬
組成物は1〜500■の活性成分を含有する。
組成物は1〜500■の活性成分を含有する。
次の実施例はこの型式の組成物を例示するが、何らこれ
に限定するものではない。
に限定するものではない。
叉庶五
活性成分 10■
ラクトース 104■
小麦澱粉 30■
タルク 2.5mgボリビドン賦
形剤 3mg ステアリン酸マグネシウム 0.5■ 本発明を次の実施例により説明するが、これに限定され
るものではない。実施例において;但し書きがなければ
全ての蒸発は減圧下で回転蒸発器で行なう。
形剤 3mg ステアリン酸マグネシウム 0.5■ 本発明を次の実施例により説明するが、これに限定され
るものではない。実施例において;但し書きがなければ
全ての蒸発は減圧下で回転蒸発器で行なう。
温度は℃で表わす。
室温を示す時には、これは18℃〜25℃の温度である
。
。
但し書きがなければ1反応進行の程度は薄層クロマトグ
ラフィー(TLC)により監視する。
ラフィー(TLC)により監視する。
適当な場合には、新規な化合物はそれらの物理定数、M
Pとして示した融点又はBとして示した沸点、応用でき
るならば続いてミリバールで表わした圧力の例示によっ
て特徴付けられる。
Pとして示した融点又はBとして示した沸点、応用でき
るならば続いてミリバールで表わした圧力の例示によっ
て特徴付けられる。
示される収率は単に例として与えてあり可能な最高値で
はない。
はない。
但し書きがなければ、核磁気共鳴スペクトル(NMR)
はプロトンNMRであり、内部標準としてテトラメチル
シランの存在下に60MHzで記録し;化学シフトはp
pmで与えてあり;信号は次の略号:S=−重項、d=
二重項、dd=二重項の対、t=三重項、9=四重項、
11=多重項を用いて記載する。
はプロトンNMRであり、内部標準としてテトラメチル
シランの存在下に60MHzで記録し;化学シフトはp
pmで与えてあり;信号は次の略号:S=−重項、d=
二重項、dd=二重項の対、t=三重項、9=四重項、
11=多重項を用いて記載する。
化合物の赤外スペクトル(IR)は固体化合物の場合に
は臭化カリウムに分散させた試料を用いて記録し、液体
の場合にはフィルムとして記録する。
は臭化カリウムに分散させた試料を用いて記録し、液体
の場合にはフィルムとして記録する。
去W
(+、−)エチル 6E−エリスロ−7− (4−(4
−フルオルフェニル)−3−スピロ−(2,1’−シク
ロペンチルー2H−1ベンゾビラン)〕 −3,5−ジ
ヒドロキシ−ヘプト−6−エノエート〔化合物Na 1
−式1 : X = O、R1−R1=−(CH2)4
−、 R,=4’F、 R4=R,=R,=R,=R1
0=H。
−フルオルフェニル)−3−スピロ−(2,1’−シク
ロペンチルー2H−1ベンゾビラン)〕 −3,5−ジ
ヒドロキシ−ヘプト−6−エノエート〔化合物Na 1
−式1 : X = O、R1−R1=−(CH2)4
−、 R,=4’F、 R4=R,=R,=R,=R1
0=H。
R,−R,=結合、Rt L = OCz Hs )の
製造工豊工= 4−(4−フルオルフェニル)−3,4−ジヒドロ−4
−ヒドロキシスピロ(2H−1−ベンゾピラン−2,1
′−シクロペンタン)(反応図式■−式14) 操作は湿分から保護した反応器中で窒素雰囲気中で行な
った。エーテル還流を温和に保持するように、200d
のジエチルエーテルに溶かした1−ブロム−4−フルオ
ルベンゼンの43.75g(0,25モル)を、130
dのジエチルエーテルに懸濁させたマグネシウム削り屑
の6.07g(0,25g原子)に添加した。該混合物
を4時間還流保持し1次いで室温に冷却し。
製造工豊工= 4−(4−フルオルフェニル)−3,4−ジヒドロ−4
−ヒドロキシスピロ(2H−1−ベンゾピラン−2,1
′−シクロペンタン)(反応図式■−式14) 操作は湿分から保護した反応器中で窒素雰囲気中で行な
った。エーテル還流を温和に保持するように、200d
のジエチルエーテルに溶かした1−ブロム−4−フルオ
ルベンゼンの43.75g(0,25モル)を、130
dのジエチルエーテルに懸濁させたマグネシウム削り屑
の6.07g(0,25g原子)に添加した。該混合物
を4時間還流保持し1次いで室温に冷却し。
この温度で、60dのジエチルエーテルに溶かしたスピ
ロ(2H−1−ベンゾピラン−2,1′−シクロペンタ
ン−4−オン)CKabbeらの5ynthesis
12. &86.1978により!111mシた〕の2
0g(0,1モル)の溶液を、温和にニーチル還流を保
持するのに要した割合で添加した。
ロ(2H−1−ベンゾピラン−2,1′−シクロペンタ
ン−4−オン)CKabbeらの5ynthesis
12. &86.1978により!111mシた〕の2
0g(0,1モル)の溶液を、温和にニーチル還流を保
持するのに要した割合で添加した。
該混合物を室温で2時間攪拌し次いで化学量論に関して
大過剰の塩化アンモニウムの氷入り水溶液にそそぎ;懸
濁液を完全に溶解させるに十分な量の希塩酸を添加し、
有機相を分離し、中性のPHとなるまで水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、溶剤を蒸発させた
;30gの油状物が得られ、これを次の合成にそのまま
用いた。
大過剰の塩化アンモニウムの氷入り水溶液にそそぎ;懸
濁液を完全に溶解させるに十分な量の希塩酸を添加し、
有機相を分離し、中性のPHとなるまで水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、溶剤を蒸発させた
;30gの油状物が得られ、これを次の合成にそのまま
用いた。
二呈又:
4−(4−フルオルフェニル)スピロ(2)1−1−ベ
ンゾピラン−2,1′−シクロペンタン)(反応図式■
−式5)30g(0,1モル)の工程1からの粗製物と
3gのKH3O,(処理すべき化合物の重量の1/10
)との混合物を30分間減圧(16mmHg)下に12
0℃の温度に加熱した。残渣を必要な量のジクロルメタ
ンに溶解させ、この溶液を水洗し1次いで硫酸ナトリウ
ム上で乾燥させ、濾過し、溶剤を蒸発させ;得られた固
体をメチルアルコールに分散させた。
ンゾピラン−2,1′−シクロペンタン)(反応図式■
−式5)30g(0,1モル)の工程1からの粗製物と
3gのKH3O,(処理すべき化合物の重量の1/10
)との混合物を30分間減圧(16mmHg)下に12
0℃の温度に加熱した。残渣を必要な量のジクロルメタ
ンに溶解させ、この溶液を水洗し1次いで硫酸ナトリウ
ム上で乾燥させ、濾過し、溶剤を蒸発させ;得られた固
体をメチルアルコールに分散させた。
に、P、=76−8℃(ジイソプロピルエーテル)−収
率=75%。
率=75%。
(TLCニジリカゲル:酢酸エチル(AcOEt)−ヘ
キサン: 5−95: 1スポツト 元素分析: CtsHltFOM、w、(分子量) =
280..33CHF 計算値 81,40 6,11 6.7
8%実測値 81,53 6.20 6
.75%fi、M、R,(CDCI、): 1.25−2.70(m、8)1); 5..73(s
、IH);6.50−7.87(m、8H) 工五主: 2E−3−(4−(4−フルオルフェニル)−3−スピ
ロ(2,1’−シクロペンチル−2H−ベンゾピラン)
〕〕プロプー2−エナール反応図式■−式2) 操作は湿分から保護した反応器中で窒素雰囲気下に行っ
た。但し書きがなければ、反応混合物の温度は次の操作
中は一20℃に保持した。29.1g(0,19モル)
のオキシ塩化燐を、 30分に亘って攪拌しながら、
200ajのアセトニトリルに溶かした20.9g(0
,2モル)のN、N−ジメチル−3−アミノアクロレイ
ンの溶液に添加し;攪拌を10分間持続し、次いで1o
oL:iのアセトニトリルに溶かした工程2からの化合
物11.2g(0,04モル)を15分間に亘って添加
した0次いで該混合物を室温に戻させ、薄層クロマトグ
ラフィーにより監視して原料が消失するまで加熱還流し
た。この場合には要した加熱時間は40時間であった。
キサン: 5−95: 1スポツト 元素分析: CtsHltFOM、w、(分子量) =
280..33CHF 計算値 81,40 6,11 6.7
8%実測値 81,53 6.20 6
.75%fi、M、R,(CDCI、): 1.25−2.70(m、8)1); 5..73(s
、IH);6.50−7.87(m、8H) 工五主: 2E−3−(4−(4−フルオルフェニル)−3−スピ
ロ(2,1’−シクロペンチル−2H−ベンゾピラン)
〕〕プロプー2−エナール反応図式■−式2) 操作は湿分から保護した反応器中で窒素雰囲気下に行っ
た。但し書きがなければ、反応混合物の温度は次の操作
中は一20℃に保持した。29.1g(0,19モル)
のオキシ塩化燐を、 30分に亘って攪拌しながら、
200ajのアセトニトリルに溶かした20.9g(0
,2モル)のN、N−ジメチル−3−アミノアクロレイ
ンの溶液に添加し;攪拌を10分間持続し、次いで1o
oL:iのアセトニトリルに溶かした工程2からの化合
物11.2g(0,04モル)を15分間に亘って添加
した0次いで該混合物を室温に戻させ、薄層クロマトグ
ラフィーにより監視して原料が消失するまで加熱還流し
た。この場合には要した加熱時間は40時間であった。
該混合物を蒸発させ、残渣を1000adの氷入り水に
そそぎ、必要量の濃水酸化ナトリウムの添加により中和
しくpH= 9) 、該溶液を15分間攪拌し次いで1
000aJの塩化メチレンで抽出した(2 X 500
aJ) 。
そそぎ、必要量の濃水酸化ナトリウムの添加により中和
しくpH= 9) 、該溶液を15分間攪拌し次いで1
000aJの塩化メチレンで抽出した(2 X 500
aJ) 。
有機相を水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し
、100OCI/のヘキサンをこ九に添加し、100g
のシリカゲルの存在下に攪拌した。濾過及び蒸発後に、
油状物が得られ、これはヘキサンに分散させた時には晶
出して黄色固体となる。
、100OCI/のヘキサンをこ九に添加し、100g
のシリカゲルの存在下に攪拌した。濾過及び蒸発後に、
油状物が得られ、これはヘキサンに分散させた時には晶
出して黄色固体となる。
M、P、=108〜11℃(ジイソプロピルエーテル)
−収率=8.4g=63% (丁LC: シリカゲル: Ac0Et−ヘキサン:1
−9:1スポツト 元素分析: C22H10FO,Ml/=334.37
CHF 計算値 79,02 5.73 5.
68%実測値 78,82 5,75
5.65%1Jユ: νC1(0,1670ロー1 N、M、R,(CDCI、): 1.225−2−87(+8)1);5.98 (dd
、1)I J=17Hz及び7Hz); 6.37−7
.5(m、98); 9.25(d、IHJニアHz)
工nu D、−)エチル 6E−7−(4−(4−フルオルフェ
ニル)−3−スピロ(2,1,’−シクロペンチルー2
H−1−ベンゾピラン)〕−〕5−ヒドロキシー3−オ
キソヘプト6−エノエート(反応図式■−式4) 操作は窒素雰囲下で湿分の不在下に行ない、混合物の温
度は但し書きがなければ一20℃に保持した。25dの
T)IFに溶かした5、6 g (0,043モル)の
エチルアセトアセテートを、300cdのテトラヒドロ
フラン(T11F)に入れた1、2 g (0,05モ
ル)の水素化ナトリウムの懸濁物に溶かし;該混合物を
20分間攪拌し、ヘキサンに入れたブチルリチウムの1
.6N溶液の27d(即ち0.043モルのBuL4)
を次いでこれに15〜20分間に亘って添加し、該混合
物の攪拌を20分間持続し1次いで140dのTHFに
入れた工程3からのアルデヒドの8.7 g (0,0
26モル)の溶液をこれに滴加させた。該混合物の攪拌
を3時間続行し、3N塩酸溶液の40mnをこれに一2
0℃と10℃との間で滴加した。酢酸エチルで抽出後に
、有機相をpH7となるまで水洗し、硫酸ナトリウム上
で乾燥させ。
−収率=8.4g=63% (丁LC: シリカゲル: Ac0Et−ヘキサン:1
−9:1スポツト 元素分析: C22H10FO,Ml/=334.37
CHF 計算値 79,02 5.73 5.
68%実測値 78,82 5,75
5.65%1Jユ: νC1(0,1670ロー1 N、M、R,(CDCI、): 1.225−2−87(+8)1);5.98 (dd
、1)I J=17Hz及び7Hz); 6.37−7
.5(m、98); 9.25(d、IHJニアHz)
工nu D、−)エチル 6E−7−(4−(4−フルオルフェ
ニル)−3−スピロ(2,1,’−シクロペンチルー2
H−1−ベンゾピラン)〕−〕5−ヒドロキシー3−オ
キソヘプト6−エノエート(反応図式■−式4) 操作は窒素雰囲下で湿分の不在下に行ない、混合物の温
度は但し書きがなければ一20℃に保持した。25dの
T)IFに溶かした5、6 g (0,043モル)の
エチルアセトアセテートを、300cdのテトラヒドロ
フラン(T11F)に入れた1、2 g (0,05モ
ル)の水素化ナトリウムの懸濁物に溶かし;該混合物を
20分間攪拌し、ヘキサンに入れたブチルリチウムの1
.6N溶液の27d(即ち0.043モルのBuL4)
を次いでこれに15〜20分間に亘って添加し、該混合
物の攪拌を20分間持続し1次いで140dのTHFに
入れた工程3からのアルデヒドの8.7 g (0,0
26モル)の溶液をこれに滴加させた。該混合物の攪拌
を3時間続行し、3N塩酸溶液の40mnをこれに一2
0℃と10℃との間で滴加した。酢酸エチルで抽出後に
、有機相をpH7となるまで水洗し、硫酸ナトリウム上
で乾燥させ。
次いで蒸発乾固させると油状物が得られ、ヘキサンに分
散させた時には晶出した6 M、P、=87〜90℃(酢酸エチル)−収率、=11
0g=90.9% (TLCニジリカゲル: Ac0Et−ヘキサン: 1
−2: 1スポツト 元素分析: C1、H1、FO,MV=464.51C
HF 計算値 72,40 6,29 4.
09%実測値 72.33 6.31
4.05%1、R工: 90H: 3420am−1 vCO: 1740及び1710cn−”N、M、R,
(CDCI、): !、32(t、3H); 1.5−2.35(m、8
)1); 2.52(d、2)1);3.92−4.
65(m、3H); 5.30(dd、IHJ=15
□8玉及び5.51(z); 6.00(d、IHJ=
15j3Hz);6.25−7.50(m、8H)。
散させた時には晶出した6 M、P、=87〜90℃(酢酸エチル)−収率、=11
0g=90.9% (TLCニジリカゲル: Ac0Et−ヘキサン: 1
−2: 1スポツト 元素分析: C1、H1、FO,MV=464.51C
HF 計算値 72,40 6,29 4.
09%実測値 72.33 6.31
4.05%1、R工: 90H: 3420am−1 vCO: 1740及び1710cn−”N、M、R,
(CDCI、): !、32(t、3H); 1.5−2.35(m、8
)1); 2.52(d、2)1);3.92−4.
65(m、3H); 5.30(dd、IHJ=15
□8玉及び5.51(z); 6.00(d、IHJ=
15j3Hz);6.25−7.50(m、8H)。
工程5:
(+、−)xチfiv 6E−11Jス0−7−(4
−(4−7#t#フエニル)−3−スピロ(2,1’−
シクロペンチル−2H−1−ベンゾビラン)〕−3,5
−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート(化合物Nα1
) 操作は窒素雰囲下に湿気から保護した反応器中で行なっ
た。但し書きがなければ、反応混合物の温度は次の操作
中は一70℃に保持した。THFに入れたジエチルメト
キシボランのIN溶液の1.7ai(即ち0.007モ
ル+10%のボラン)を攪拌しながら5分間に亘って、
65cdのT)IFと15(!+?のメタノムルとの混
合物に入れた工程4からのケトエステルの3.25g
(0,007モル)の溶液に添加した。該混合物の攪拌
は40分間持続し4.ホウ水素化ナトリウム0.29g
(0,007モルで10%)をこれに添加した。該混合
物の攪拌を5時間持続し、該混合物を6.5−の酢酸の
添加により酸性化し、その後に80cdの酢酸エチルを
これに添加した。
−(4−7#t#フエニル)−3−スピロ(2,1’−
シクロペンチル−2H−1−ベンゾビラン)〕−3,5
−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート(化合物Nα1
) 操作は窒素雰囲下に湿気から保護した反応器中で行なっ
た。但し書きがなければ、反応混合物の温度は次の操作
中は一70℃に保持した。THFに入れたジエチルメト
キシボランのIN溶液の1.7ai(即ち0.007モ
ル+10%のボラン)を攪拌しながら5分間に亘って、
65cdのT)IFと15(!+?のメタノムルとの混
合物に入れた工程4からのケトエステルの3.25g
(0,007モル)の溶液に添加した。該混合物の攪拌
は40分間持続し4.ホウ水素化ナトリウム0.29g
(0,007モルで10%)をこれに添加した。該混合
物の攪拌を5時間持続し、該混合物を6.5−の酢酸の
添加により酸性化し、その後に80cdの酢酸エチルを
これに添加した。
該混合物の温度を室温に戻させ、該混合物を重炭酸ナト
リウムの飽和水溶液で洗浄しく2 X 200al)、
次いで水で洗浄し、有機相を分離し、硫酸ナトリウム上
で乾燥させ、溶剤を蒸発させた。得られた残留油を60
aJのメタノールに溶かし、この溶液を35℃で20分
間攪拌し、次いで蒸発乾固させた。この操作を一定重量
となるまで更新し、この場合には操作は4回更新した。
リウムの飽和水溶液で洗浄しく2 X 200al)、
次いで水で洗浄し、有機相を分離し、硫酸ナトリウム上
で乾燥させ、溶剤を蒸発させた。得られた残留油を60
aJのメタノールに溶かし、この溶液を35℃で20分
間攪拌し、次いで蒸発乾固させた。この操作を一定重量
となるまで更新し、この場合には操作は4回更新した。
3.1gの固体がかくして得られジイソプロピルエーテ
ルに分散させた。
ルに分散させた。
に、P、 = 112〜4℃(酢酸エチル)−収率=
2.48 g =76%(TLCニジリカゲル: Ac
0Et−ヘキサン: 1−1: 1スポツト 元素分析: C1、H1、FO,MV=466.55C
HF 計算値 72゜08 6.70 4.
07%実測値 71,82 6,83
3.90%T、R,: vOH: 3390aa−1 vCo : 1715aa−1 N−M−R−(CDC1a )−200MHz:1.2
7(t、3H); 1.20−1.58(m、2H)
; 1.60−2.29(m、8H); 2.36−2
.44(m、2H); 4.17(q、2H);4.0
0−4.29(+、21();5.34(dd、IHJ
=16.1七及びJ=6.3七); 5.94(dd、
IHJ=16.1七及び1.2玉);6.54(dd、
1)I J=7.7七及び1.5七);6.70−6.
85(m、2H) ;7.00−7.20(m、5t(
)。
2.48 g =76%(TLCニジリカゲル: Ac
0Et−ヘキサン: 1−1: 1スポツト 元素分析: C1、H1、FO,MV=466.55C
HF 計算値 72゜08 6.70 4.
07%実測値 71,82 6,83
3.90%T、R,: vOH: 3390aa−1 vCo : 1715aa−1 N−M−R−(CDC1a )−200MHz:1.2
7(t、3H); 1.20−1.58(m、2H)
; 1.60−2.29(m、8H); 2.36−2
.44(m、2H); 4.17(q、2H);4.0
0−4.29(+、21();5.34(dd、IHJ
=16.1七及びJ=6.3七); 5.94(dd、
IHJ=16.1七及び1.2玉);6.54(dd、
1)I J=7.7七及び1.5七);6.70−6.
85(m、2H) ;7.00−7.20(m、5t(
)。
H,P、L、C,ニ
−250スフエロジル 5μ シリカカラム−254n
m UV検出 一可動相: Ac0Et−ヘキサン−AcOll: 3
5−65−0.011ピーク(11,1分) 尖産皿又 (+、−)メチル 6E−エリスロ−7−(1,2−ジ
ヒドロ−2゜2−ジメチル−4−フェニル−3−ナフチ
ル)−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート(
化合物&2−式1:%式% 及びR,=結合;R11=OCH2)の製造盃艮上土 エチル 2−(2,2−ジメチル−3−フェニルプロピ
ル)シアノアセテート(反応図式■−式15)温和な還
流を保持するように、400dのエーテルに入れた10
0 g (0,79モル)の塩化ベンジルの溶液を、1
00dのエーテル中の19.2g (0,79g原子)
のマグネシウム削り屑の懸濁物に添加した。該混合物を
15分間加熱還流させ、次いで130dのエーテルに入
れたエチルイソプロピリデンシアノアセテートの101
.1 g (0,66モル)の溶液を添加して温和な還
流を保持した6該混合物を2時間加熱還流させ次いで冷
却し、400a+?の水を徐々に添加し。
m UV検出 一可動相: Ac0Et−ヘキサン−AcOll: 3
5−65−0.011ピーク(11,1分) 尖産皿又 (+、−)メチル 6E−エリスロ−7−(1,2−ジ
ヒドロ−2゜2−ジメチル−4−フェニル−3−ナフチ
ル)−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート(
化合物&2−式1:%式% 及びR,=結合;R11=OCH2)の製造盃艮上土 エチル 2−(2,2−ジメチル−3−フェニルプロピ
ル)シアノアセテート(反応図式■−式15)温和な還
流を保持するように、400dのエーテルに入れた10
0 g (0,79モル)の塩化ベンジルの溶液を、1
00dのエーテル中の19.2g (0,79g原子)
のマグネシウム削り屑の懸濁物に添加した。該混合物を
15分間加熱還流させ、次いで130dのエーテルに入
れたエチルイソプロピリデンシアノアセテートの101
.1 g (0,66モル)の溶液を添加して温和な還
流を保持した6該混合物を2時間加熱還流させ次いで冷
却し、400a+?の水を徐々に添加し。
続いて100dの20%硫酸を添加した。該混合物を3
0分間攪拌し1次いで有機相を分離した。水性相をエー
テルで抽出し、合したエーテル相をIA酸ナトリウム上
で乾燥させ、濾過し、蒸留した。
0分間攪拌し1次いで有機相を分離した。水性相をエー
テルで抽出し、合したエーテル相をIA酸ナトリウム上
で乾燥させ、濾過し、蒸留した。
B、、、=11.5〜121℃−収率−147g =9
0%T、R,: v C=0: 1740a++−’ ; v CN;
2250a++−”N、M、R,(CDCI、): 1−1.5(m、9t()i 2.75(s、2H)
; 3.25(s、LH);4.2(q、2H);
6,7−7.6(m、5H)。
0%T、R,: v C=0: 1740a++−’ ; v CN;
2250a++−”N、M、R,(CDCI、): 1−1.5(m、9t()i 2.75(s、2H)
; 3.25(s、LH);4.2(q、2H);
6,7−7.6(m、5H)。
工払λ工
3.3−ジメチル−フェニルブタンra(反応図式−式
16)230cdのエチレングリコールに入れた70g
の水酸化カリウムの溶液を冷却することなく工程1から
の化合物70g(0,285モル)に添加した。該混合
物を3時間15分加熱還流した(140℃)。揮発性溶
剤を15++mHgで蒸発させ1次いで混合物を6時間
加熱還流した(197℃)、該混合物を冷却し、500
dの水をこれに添加し、エーテルで抽出した。水性相は
濃塩酸の添加により酸性化し、ベンゼンで抽出した。
16)230cdのエチレングリコールに入れた70g
の水酸化カリウムの溶液を冷却することなく工程1から
の化合物70g(0,285モル)に添加した。該混合
物を3時間15分加熱還流した(140℃)。揮発性溶
剤を15++mHgで蒸発させ1次いで混合物を6時間
加熱還流した(197℃)、該混合物を冷却し、500
dの水をこれに添加し、エーテルで抽出した。水性相は
濃塩酸の添加により酸性化し、ベンゼンで抽出した。
ベンゼン相を水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾
過し、蒸発乾固させた。48.7gの油状物がかくして
単離され、これをそのまま次の合成に用いた。収率=8
9% LLニ ジC=O: 1700ロ″1 N、M、R,(CDCI、 ) : 1(s、6H); 2.2(s、2)1); 2.
65(s、2)1);6.8〜7.5(m、5H)。
過し、蒸発乾固させた。48.7gの油状物がかくして
単離され、これをそのまま次の合成に用いた。収率=8
9% LLニ ジC=O: 1700ロ″1 N、M、R,(CDCI、 ) : 1(s、6H); 2.2(s、2)1); 2.
65(s、2)1);6.8〜7.5(m、5H)。
工程3 :
1.2,3.4−テトラヒドロ−3,3−ジメチル−1
−オキソナフタレン(反応図式■−式12) 292gのポリ燐酸と860cnrのキシレンとの混合
物を70〜80℃に加熱し、550dのキシレンに入れ
た工程2からの化合物48.7 g (0,253モル
)をこの温度で添加した。該混合物を6時間30分加熱
還流させ、次いで冷却し、キシレン相を分離した。20
00dの水を残留無機相に添加し、これをキシレンで抽
出した。有機相を合し、水酸化ナトリウムの10%水溶
液次いで水で洗浄し、次いで硫酸ナトリウム上で乾燥さ
せた。該混合物を濾過し、溶剤を蒸発させ、残留油を蒸
留した。
−オキソナフタレン(反応図式■−式12) 292gのポリ燐酸と860cnrのキシレンとの混合
物を70〜80℃に加熱し、550dのキシレンに入れ
た工程2からの化合物48.7 g (0,253モル
)をこの温度で添加した。該混合物を6時間30分加熱
還流させ、次いで冷却し、キシレン相を分離した。20
00dの水を残留無機相に添加し、これをキシレンで抽
出した。有機相を合し、水酸化ナトリウムの10%水溶
液次いで水で洗浄し、次いで硫酸ナトリウム上で乾燥さ
せた。該混合物を濾過し、溶剤を蒸発させ、残留油を蒸
留した。
B、、2=72〜90℃−収率=87.5%L虹ニ
ジC=0: 1680G−1
N、M、R,(CDCI、):
0.8−1.2(m、611)i 2.5(s、2H)
; 2.8(s、2H);7−7.7(m、3H);
8(dd、IH)。
; 2.8(s、2H);7−7.7(m、3H);
8(dd、IH)。
工JしLL
1.2,3.4−テトラヒドロ−1−ヒドロキシ−3,
3−ジメチル−1−フェニルナフタレン(反応図式■−
式14)エーテル還流を温和に保持するように150a
lのエーテルに入れた86.95g (0,55モル)
のブロムベンゼンの溶液を、 200a&のエーテルに
懸濁させた8、07g (1,16g原子)のリチウム
に添加した。該混合物を45分間加熱還流させ、次いで
冷却し、150dのエーテルに入れた工程3からの化合
物38.6g(0,19モル)を5〜10℃でこれに添
加した。該混合物を室温で4時間攪拌し、150mの水
をこれに添加しその間温度を5〜10℃に保持した。該
混合物を15分間攪拌し、次いで有機相を分離し、水洗
し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、溶剤を蒸発
させた。黄色固体が得られ、これをヘキサンに分散させ
、濾取し、乾燥した。
3−ジメチル−1−フェニルナフタレン(反応図式■−
式14)エーテル還流を温和に保持するように150a
lのエーテルに入れた86.95g (0,55モル)
のブロムベンゼンの溶液を、 200a&のエーテルに
懸濁させた8、07g (1,16g原子)のリチウム
に添加した。該混合物を45分間加熱還流させ、次いで
冷却し、150dのエーテルに入れた工程3からの化合
物38.6g(0,19モル)を5〜10℃でこれに添
加した。該混合物を室温で4時間攪拌し、150mの水
をこれに添加しその間温度を5〜10℃に保持した。該
混合物を15分間攪拌し、次いで有機相を分離し、水洗
し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、溶剤を蒸発
させた。黄色固体が得られ、これをヘキサンに分散させ
、濾取し、乾燥した。
M、P、 = 107−110℃ 収率=47.4
g =85%二艮l上 1.2−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−フェニルナ
フタレン(反応図式■−式5)を実施例1の工程2の方
法により工程4の化合物から製造した。
g =85%二艮l上 1.2−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−フェニルナ
フタレン(反応図式■−式5)を実施例1の工程2の方
法により工程4の化合物から製造した。
B、、、=103〜105℃ M、P、=82〜84℃
収率:89%元素分析: C1,Hl、 M、L
=234.34CH 計算値 92,26 7.74%実測値
92,42 7.64%N、M、R,(CDC
I、 ) : 1.05(s、61(); 2.7(s、2)1);
5.7(s、1tO;6.75−7.4(a、9H)。
収率:89%元素分析: C1,Hl、 M、L
=234.34CH 計算値 92,26 7.74%実測値
92,42 7.64%N、M、R,(CDC
I、 ) : 1.05(s、61(); 2.7(s、2)1);
5.7(s、1tO;6.75−7.4(a、9H)。
工丘且工
3−ブロム−1,2−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4
−フェニルナフタレン(反応図式■−弐6) 反応混合物の温度が30℃を越えないような割合で、
120cdのDMFに溶解した25g(0,14モル)
のN−ブロムスクシンイミドを120dのDMFに入れ
た工程5からの化合物27.3 g (0,117モル
)の適当に攪拌したl!I濁物に添加した。該混合物の
攪拌は室温で24時時間待し次いで48時間放置した1
次いで該混合物を800dの氷水にそそぎ、 400a
Jのエーテルで抽出しく2 X 200C!Iり、合し
た抽出液を水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、エー
テルを蒸発させ、残留油を溶離剤としてヘキサンを用い
てシリカゲル上でクロマトグラフィーにかけた。ヘキサ
ンの蒸発後に油状物が得られ、これを次の合成にそのま
ま用いた。
−フェニルナフタレン(反応図式■−弐6) 反応混合物の温度が30℃を越えないような割合で、
120cdのDMFに溶解した25g(0,14モル)
のN−ブロムスクシンイミドを120dのDMFに入れ
た工程5からの化合物27.3 g (0,117モル
)の適当に攪拌したl!I濁物に添加した。該混合物の
攪拌は室温で24時時間待し次いで48時間放置した1
次いで該混合物を800dの氷水にそそぎ、 400a
Jのエーテルで抽出しく2 X 200C!Iり、合し
た抽出液を水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、エー
テルを蒸発させ、残留油を溶離剤としてヘキサンを用い
てシリカゲル上でクロマトグラフィーにかけた。ヘキサ
ンの蒸発後に油状物が得られ、これを次の合成にそのま
ま用いた。
収率=32.4g=89%
N、M、R,(CDCI、):
]、、2(s、6H); 2.95(s、2H); 6
.3〜7.5(m、9H)。
.3〜7.5(m、9H)。
工丘ユ±
3E−3−(1,2−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4
−フェニル−3−ナフチル)プロプ−2−エナール(反
応図式■−式但し書きがなければ、次の操作は一50℃
の温度で行なった。ヘキサンに入れたブチルリチウムの
1.6N溶液の13.8aJ (即ち0.022モルの
Buli)を。
−フェニル−3−ナフチル)プロプ−2−エナール(反
応図式■−式但し書きがなければ、次の操作は一50℃
の温度で行なった。ヘキサンに入れたブチルリチウムの
1.6N溶液の13.8aJ (即ち0.022モルの
Buli)を。
−50℃に冷却し且つ適当に攪拌した100dのエーテ
ルに入れた工程6からの化合物6.26g(0,02モ
ル)の溶液に添加した。該混合物の温度を次いで室温に
戻させ、該混合物を1時間20分加熱還流させ次いで−
50〜−60℃に冷却し、30dのエーテルに溶かした
2gのN、N−ジメチル−3−アミノアクロレインをこ
れに添加した。該混合物の攪拌を一50℃で1時間30
分持続し、その温度を室温に戻させ、攪拌を30分間持
続し5次いで全体を攪拌しながら300dの10%塩酸
にそそいだ。有機相を分離し、吹いで水洗し、水性相を
塩化メチレンで抽出し、抽出液を水洗し、全ての有機相
を合し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、溶剤を蒸発させ
、残留油をペンタンから晶出させた。
ルに入れた工程6からの化合物6.26g(0,02モ
ル)の溶液に添加した。該混合物の温度を次いで室温に
戻させ、該混合物を1時間20分加熱還流させ次いで−
50〜−60℃に冷却し、30dのエーテルに溶かした
2gのN、N−ジメチル−3−アミノアクロレインをこ
れに添加した。該混合物の攪拌を一50℃で1時間30
分持続し、その温度を室温に戻させ、攪拌を30分間持
続し5次いで全体を攪拌しながら300dの10%塩酸
にそそいだ。有機相を分離し、吹いで水洗し、水性相を
塩化メチレンで抽出し、抽出液を水洗し、全ての有機相
を合し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、溶剤を蒸発させ
、残留油をペンタンから晶出させた。
河、p、 = tos〜108℃−収率=2.6g=4
5%1、R,: v C:o : 1680aa−” N、M、R,(CDC12): 1.2(s、6H); 2.8(s、2H); 6.0
5(dd、 J=16.5及び7.5. IH); 6
,4−7.5(+、 l0H):9.5(d: J=7
.5. III)。
5%1、R,: v C:o : 1680aa−” N、M、R,(CDC12): 1.2(s、6H); 2.8(s、2H); 6.0
5(dd、 J=16.5及び7.5. IH); 6
,4−7.5(+、 l0H):9.5(d: J=7
.5. III)。
二1目LL
(±)メチル 6E−1−(1,2−ジヒドロ−2,2
−ジメチル−4−フェニル−3−ナフチル)−5−ヒド
ロキシージヒドロキシヘプト−6−エノエート(反応図
式I−式4)実施例1の工程4の方法により工程7の化
合物から標記化合物を製造した。これは油状物の形であ
る。収率=87% N、M、R,(CDCI、 ) : 1.1(s、6H); 1.9−2.6(+mt3)1
); 2.72(s、2)り;3.3(s、2H);
3.65(s、3)1); 3.45−4.5(+、2
)1);4.8−5.35(m、IH); 6(d、
J=15.75.18);6.35−7.5(m、5H
)。
−ジメチル−4−フェニル−3−ナフチル)−5−ヒド
ロキシージヒドロキシヘプト−6−エノエート(反応図
式I−式4)実施例1の工程4の方法により工程7の化
合物から標記化合物を製造した。これは油状物の形であ
る。収率=87% N、M、R,(CDCI、 ) : 1.1(s、6H); 1.9−2.6(+mt3)1
); 2.72(s、2)り;3.3(s、2H);
3.65(s、3)1); 3.45−4.5(+、2
)1);4.8−5.35(m、IH); 6(d、
J=15.75.18);6.35−7.5(m、5H
)。
工監l±
(+、−)メチル 6E−エリスロ−7−(1,2−ジ
ヒドロキシル2,2−ジメチル−4−フェニル−3−ナ
フチル) −3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエ
ート(化合物島2)実施例1の工程5の方法により工程
8の化合物から標記化合物を製造した(黄色固体)。
ヒドロキシル2,2−ジメチル−4−フェニル−3−ナ
フチル) −3,5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエ
ート(化合物島2)実施例1の工程5の方法により工程
8の化合物から標記化合物を製造した(黄色固体)。
河、P、 = 101〜1103℃ 収率=2゜2g
= 67%元素分析二c、、o、、0. MV=
406.52CN 計算値 76.82 7.44%実測値
76.57 7゜43%去】1」止 (1)メチル 6E−エリスロ−7− (4−(4−ク
ロルフェニル)−2,2−ジメチル−2H−ベンゾチア
ピラン−3−イル)−3,5−ジヒドロキシヘプト−6
−エノエート(化合物Nc3−式1 : X=5、 R
□、 R2=CH1、R,=4’CQ; R。
= 67%元素分析二c、、o、、0. MV=
406.52CN 計算値 76.82 7.44%実測値
76.57 7゜43%去】1」止 (1)メチル 6E−エリスロ−7− (4−(4−ク
ロルフェニル)−2,2−ジメチル−2H−ベンゾチア
ピラン−3−イル)−3,5−ジヒドロキシヘプト−6
−エノエート(化合物Nc3−式1 : X=5、 R
□、 R2=CH1、R,=4’CQ; R。
=R,=R,=R,=R10=H、R5及びR,=結合
、 R1、=OCJI、)の製造 工五よ± 4−(4−クロルフェニル)−3,4−ジヒドロ−4−
ヒドロキシ−2,2〜ジメチル−2H−ベンゾチアピラ
ン(反応図式■9式14) 実施例2の工程4の方法により2,3−ジヒドロ−2゜
2−ジメチル−4H−ベンゾチアピラン−4−オンから
標記化合物を製造した。
、 R1、=OCJI、)の製造 工五よ± 4−(4−クロルフェニル)−3,4−ジヒドロ−4−
ヒドロキシ−2,2〜ジメチル−2H−ベンゾチアピラ
ン(反応図式■9式14) 実施例2の工程4の方法により2,3−ジヒドロ−2゜
2−ジメチル−4H−ベンゾチアピラン−4−オンから
標記化合物を製造した。
次の合成にそのまま用いた。
工里呈上
4−(4−クロルフェニル)−2,2−ジメチル−2H
−ベンゾチアピラン(反応図式■−5)、これは実施例
1の工程2の方法により工程1の化合物から製造した。
−ベンゾチアピラン(反応図式■−5)、これは実施例
1の工程2の方法により工程1の化合物から製造した。
河、P、 = 100−102℃(ジイソプロピルエー
テル)−収率=50% 元素分析: C1、H1、CIS MV=285.
81HCl5 計算値 71,19 5.27 I2.36
11.111%実測値 70,94 5.42 1
2.60 10.90%N、M、R,(CDCI、
): 2(I!、6)1); 5.75(5、IH); 6.
75−7.5(m、8H)。
テル)−収率=50% 元素分析: C1、H1、CIS MV=285.
81HCl5 計算値 71,19 5.27 I2.36
11.111%実測値 70,94 5.42 1
2.60 10.90%N、M、R,(CDCI、
): 2(I!、6)1); 5.75(5、IH); 6.
75−7.5(m、8H)。
工匿主上
3−ブロム−4−(4−クロルフェニル)−2,2−ジ
メチル−2トベンゾチアビラン(反応図式■−弐6)、
これは実施例2の工程6の方法により工程2の化合物か
ら製造した:エーテルの蒸発後に、固体が得られこれを
一20℃に冷却したメタノールの必要量に分散させ、生
成し光固体を次いで濾過し、乾燥させた。
メチル−2トベンゾチアビラン(反応図式■−弐6)、
これは実施例2の工程6の方法により工程2の化合物か
ら製造した:エーテルの蒸発後に、固体が得られこれを
一20℃に冷却したメタノールの必要量に分散させ、生
成し光固体を次いで濾過し、乾燥させた。
月、P、 = 150〜156℃−収率=88%N」■
(、(CDCi、3: 1.6(s、6H): 6.2〜7.8(m、8H)。
(、(CDCi、3: 1.6(s、6H): 6.2〜7.8(m、8H)。
工Uと
エチル 2E−3−(4−(4−クロルフェニル)−2
,2−ジメチル−211−ベンゾチアピラン−3=イル
)プロプ−2−エノエート(反応図式■−式8) 操作は窒素雰囲気下で、大気の湿分から保護した反応器
中で行なった。工程3からの化合物20.1g (0,
055モル)と27.5aJ (0,254モル)のア
クリル酸エチルと1302のN、N−ジメチルホルムア
ミドと130dのトリエチルアミンと1gのトリーオル
ト−トリルホスフィンど0,25 gのパラジウムジア
セテートとの混合物を4時間加熱還流させ、該混合物を
氷水にそそぎ、必要量のエーテルで抽出し、ごのエーテ
ル抽出液を塩酸及び水で交互にPH=7となるまで洗浄
し、次いで硫酸ナトリウム上で乾燥させ;濾過し、エー
テルを蒸発させ、残渣を一20℃に冷却したヘキサンに
分散させ、生成した固体を濾取し、乾燥させた。
,2−ジメチル−211−ベンゾチアピラン−3=イル
)プロプ−2−エノエート(反応図式■−式8) 操作は窒素雰囲気下で、大気の湿分から保護した反応器
中で行なった。工程3からの化合物20.1g (0,
055モル)と27.5aJ (0,254モル)のア
クリル酸エチルと1302のN、N−ジメチルホルムア
ミドと130dのトリエチルアミンと1gのトリーオル
ト−トリルホスフィンど0,25 gのパラジウムジア
セテートとの混合物を4時間加熱還流させ、該混合物を
氷水にそそぎ、必要量のエーテルで抽出し、ごのエーテ
ル抽出液を塩酸及び水で交互にPH=7となるまで洗浄
し、次いで硫酸ナトリウム上で乾燥させ;濾過し、エー
テルを蒸発させ、残渣を一20℃に冷却したヘキサンに
分散させ、生成した固体を濾取し、乾燥させた。
M、P、 = 97−99℃(CH,0H)−収率=9
1%91%元素 C1、)!、、C1O,S MW
=364.91CHCI S 計算値 6111,65 5.50 9.21 8
.33%実測値 68,58 5,79 9.45
8.30%N。M、R,(CDCI、): 1−1.75(m、9H);3.75−4.5(9,2
8); 5.3−5.75(d。
1%91%元素 C1、)!、、C1O,S MW
=364.91CHCI S 計算値 6111,65 5.50 9.21 8
.33%実測値 68,58 5,79 9.45
8.30%N。M、R,(CDCI、): 1−1.75(m、9H);3.75−4.5(9,2
8); 5.3−5.75(d。
LH); 6,5−7.5(n+、9B)。
工J目LL
2E−3〜[4−C4−クロルフェニル)−2,2−ジ
メチル−2H−ベンゾチアピラン−3−イル〕プロプー
2−エノール(反応図式■−式9) 操作は窒素雰囲気下に大気の湿分から保護した反応器で
行なった。テトラヒドロフランに入れた水素化ジイソブ
チルアルミニウムのIN溶液の196−(即ち0,04
9X4モルのDIBAL)を、−20℃に冷却した18
0dのテトラヒドロフランに入れたIL9g(0,04
9モル)の工程4からの化合物の溶液に添加し、該混合
物を室温で1時間撹拌し、20Mの水を該混合物に添加
した。この添加は発熱反応であり、添加割合は混合物の
温度を30℃以下に保持するように加減し、該混合物を
必要量の濃塩酸の添加によりpH=1にまで酸性化し、
次いでエーテルで抽出した。エーテル相を水で中性とな
るまで洗浄し、次いで硫酸ナトリウム上で乾燥させた。
メチル−2H−ベンゾチアピラン−3−イル〕プロプー
2−エノール(反応図式■−式9) 操作は窒素雰囲気下に大気の湿分から保護した反応器で
行なった。テトラヒドロフランに入れた水素化ジイソブ
チルアルミニウムのIN溶液の196−(即ち0,04
9X4モルのDIBAL)を、−20℃に冷却した18
0dのテトラヒドロフランに入れたIL9g(0,04
9モル)の工程4からの化合物の溶液に添加し、該混合
物を室温で1時間撹拌し、20Mの水を該混合物に添加
した。この添加は発熱反応であり、添加割合は混合物の
温度を30℃以下に保持するように加減し、該混合物を
必要量の濃塩酸の添加によりpH=1にまで酸性化し、
次いでエーテルで抽出した。エーテル相を水で中性とな
るまで洗浄し、次いで硫酸ナトリウム上で乾燥させた。
濾過続いてエーテルの蒸発後に油状物が得られこれを5
℃に冷却した必要量のヘキサンに分散させ。
℃に冷却した必要量のヘキサンに分散させ。
生成した固体を濾取し、乾燥させた。
M、P、=105−108℃(ヘキサン)−収率=87
%元素分析: C1、l(、、ClO3MV=342.
87CHCI S 計算値 70.06 5.59 10.34 9
.35%実測値 69,91 5.7g 10
,52 9.30%工l且上 2E−3−(4−(4−クロルフェニル)−2,2−ジ
メチル−2H−ベンゾチアピラン−3−イル〕プロプー
2−エナール(反応図式■−式2) 操作は大気の湿分から保護した反応器中で行ない、工程
5からの化合物14.63g(0,0427モル)と2
2.26g(0,0427X6モル)の二酸化マンガン
と300aiのジクロルメタンとの混合物を室温で48
時間撹拌し1次いで該混合物を濾過し、ジクロルメタン
を濾液から蒸発させ、固体の残渣を必要量のジイソプロ
ピルエーテルに分散させ、濾過し、乾燥させた。
%元素分析: C1、l(、、ClO3MV=342.
87CHCI S 計算値 70.06 5.59 10.34 9
.35%実測値 69,91 5.7g 10
,52 9.30%工l且上 2E−3−(4−(4−クロルフェニル)−2,2−ジ
メチル−2H−ベンゾチアピラン−3−イル〕プロプー
2−エナール(反応図式■−式2) 操作は大気の湿分から保護した反応器中で行ない、工程
5からの化合物14.63g(0,0427モル)と2
2.26g(0,0427X6モル)の二酸化マンガン
と300aiのジクロルメタンとの混合物を室温で48
時間撹拌し1次いで該混合物を濾過し、ジクロルメタン
を濾液から蒸発させ、固体の残渣を必要量のジイソプロ
ピルエーテルに分散させ、濾過し、乾燥させた。
M、P、 = 132−134℃(CHa Cow C
z )Is )−収率=82%元素分析: C2,H1
、ClO3MW=340.86CHCI S 計算値 70,47 5.03 10.40 9.
41%実測値 70,27 4.9g 10.5
1 9.85%N。M、ft、(C[lC12): 1.5(s、6)1); 5,75−6.25(9,I
H); 6.75−7.5(m。
z )Is )−収率=82%元素分析: C2,H1
、ClO3MW=340.86CHCI S 計算値 70,47 5.03 10.40 9.
41%実測値 70,27 4.9g 10.5
1 9.85%N。M、ft、(C[lC12): 1.5(s、6)1); 5,75−6.25(9,I
H); 6.75−7.5(m。
9H); 9.25−9.5(d、1it)。
工jビしL
(+、−)メチル 6E−7−[4−(4−クロルフェ
ニル)−2゜2−ジメチル−2H−ベンゾチアピラン−
3−イル]−5−ヒドロキシー3−オキソヘプト−6−
エノエート(反応図式l−式4) これは実施例1の工程4の方法により工程6の化合物か
ら製造した。
ニル)−2゜2−ジメチル−2H−ベンゾチアピラン−
3−イル]−5−ヒドロキシー3−オキソヘプト−6−
エノエート(反応図式l−式4) これは実施例1の工程4の方法により工程6の化合物か
ら製造した。
M、P、=86−88℃(CIl、0)l)−収率=9
4%肛肛: v C=O: 1740及び1700011″′1N
、M、R,(CDCI□): 1.5(s、6H); 2.25−2.75(m、3H
); 3.3(s、2H);3.75(s、3H);4
.25−4.5(m、IH); 5−5.55(dd、
LH);5.75−6.25(d、IH); 6.5−
7.5(+a、8N)。
4%肛肛: v C=O: 1740及び1700011″′1N
、M、R,(CDCI□): 1.5(s、6H); 2.25−2.75(m、3H
); 3.3(s、2H);3.75(s、3H);4
.25−4.5(m、IH); 5−5.55(dd、
LH);5.75−6.25(d、IH); 6.5−
7.5(+a、8N)。
ユj目LL
(1)メチル 6E−エリスロ−7− [4−(4−ク
ロルフェニル)−2,2−ジメチル−2H−ベンゾチア
ピラン−3−イル)−3,5−ジヒドロキシヘプト−6
−エノエート(反応図式I−式1) これは実施例1の工程5の方法により工程1の化合物か
ら製造した。
ロルフェニル)−2,2−ジメチル−2H−ベンゾチア
ピラン−3−イル)−3,5−ジヒドロキシヘプト−6
−エノエート(反応図式I−式1) これは実施例1の工程5の方法により工程1の化合物か
ら製造した。
M、P、=115−117℃(ジイソプロピルエーテル
)−収率=58% 元素分析: C1、H,7CIO,S M11=4
58.99CHCI S 計算値 65,42 5.93 7,72 6.
98%実測値 65.52 6.02 7.80
7.09%L虹: ? CO=1720cm−1 y OH=3400cm−1 N、M、R,(CDCI□): 1.5(s、5B); 2,5(d、2H); 3
−3.75(m、2)+); 3.75(s、3)1
); 4−4.5 (m、2H);5−5.5(d
d、IH); 5.75−6.25(d、IH);
6.5−7.5(m、8H)。
)−収率=58% 元素分析: C1、H,7CIO,S M11=4
58.99CHCI S 計算値 65,42 5.93 7,72 6.
98%実測値 65.52 6.02 7.80
7.09%L虹: ? CO=1720cm−1 y OH=3400cm−1 N、M、R,(CDCI□): 1.5(s、5B); 2,5(d、2H); 3
−3.75(m、2)+); 3.75(s、3)1
); 4−4.5 (m、2H);5−5.5(d
d、IH); 5.75−6.25(d、IH);
6.5−7.5(m、8H)。
スJ1例工
ζ1.−)エチル エリスロー7− (4−(4−フル
オルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチ
ル−2H−1−ベンゾビラン)〕−3,5−ジヒドロキ
シヘプタノエート(化合物4−式1 : x=o; R
,−R2ニー(CH2)、、 R3=4’F、 R4=
R,=R,=R,=R,=R,=R10=)I、 R4
=OC2H2)の製造工Jl: 3E−3−(4−(4−フルオルフェニル)−3−スピ
ロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾビラ
ン)〕〕プロプー2−エナールジメチルアセタール反応
図式V−式10)操作は窒素雰囲気下に湿分から保護し
た反応器中で行なった。 16.75g(0,05モル
)の3E−3−(4−(4−フルオルフェニル)−3−
スピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾ
ビラン)〕〕プロプー2−エナールこれ自体実施例1の
工程1.2及び3の方法によりスピロ(2H−1−ベン
ゾビラン−2,1′−シクロペンタン−4−オン)から
mlKした〕と2.25gのアンバーリスト15樹脂と
の混合物を、625dのメチルオルトホルメート中で室
温で7時間撹拌した。2.25gのアンバーリスト樹脂
を再び添加し該混合物を室温で12時間撹拌した。この
処理を4回連続して反復し1次いで混合物を濾過し、過
剰のメチルオルトホルメートを蒸発させた。白色固体を
単離し、ヘキサンに分散させ、濾取し乾燥させた。
オルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチ
ル−2H−1−ベンゾビラン)〕−3,5−ジヒドロキ
シヘプタノエート(化合物4−式1 : x=o; R
,−R2ニー(CH2)、、 R3=4’F、 R4=
R,=R,=R,=R,=R,=R10=)I、 R4
=OC2H2)の製造工Jl: 3E−3−(4−(4−フルオルフェニル)−3−スピ
ロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾビラ
ン)〕〕プロプー2−エナールジメチルアセタール反応
図式V−式10)操作は窒素雰囲気下に湿分から保護し
た反応器中で行なった。 16.75g(0,05モル
)の3E−3−(4−(4−フルオルフェニル)−3−
スピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾ
ビラン)〕〕プロプー2−エナールこれ自体実施例1の
工程1.2及び3の方法によりスピロ(2H−1−ベン
ゾビラン−2,1′−シクロペンタン−4−オン)から
mlKした〕と2.25gのアンバーリスト15樹脂と
の混合物を、625dのメチルオルトホルメート中で室
温で7時間撹拌した。2.25gのアンバーリスト樹脂
を再び添加し該混合物を室温で12時間撹拌した。この
処理を4回連続して反復し1次いで混合物を濾過し、過
剰のメチルオルトホルメートを蒸発させた。白色固体を
単離し、ヘキサンに分散させ、濾取し乾燥させた。
に、P、 = 112−114℃−収率=16.3g=
88%N0M、R,(CDC12): 2.1−2.2(m、3N); 3.07(s、6H)
; 6.05 (d、IN、に5Hz); 5.3(d
d、LH,J:5Hz及び16)1z); 6.05(
d。
88%N0M、R,(CDC12): 2.1−2.2(m、3N); 3.07(s、6H)
; 6.05 (d、IN、に5Hz); 5.3(d
d、LH,J:5Hz及び16)1z); 6.05(
d。
LH,J=16Hz); 6.3−7.2(m、8H)
。
。
1呈呈上
3− C4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(
2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾビラン)
〕プロパナールジメチルアセタール(反応図式■−式1
1)10(la&のTl(Fに溶解した工程1からの化
合物3.8g(o、oiモル)を、木炭に分散させた0
、5gのパラジウムの存在下に常圧で且つ室温で水添し
た、吸収されるべき理論容量の水素に達した後に、該混
合物を濾過し、THFを蒸発させた。油状物が得られ、
放置すると晶出した。かくして得られた固体をヘキサン
に分散させ次いで濾取し、乾燥させた。
2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾビラン)
〕プロパナールジメチルアセタール(反応図式■−式1
1)10(la&のTl(Fに溶解した工程1からの化
合物3.8g(o、oiモル)を、木炭に分散させた0
、5gのパラジウムの存在下に常圧で且つ室温で水添し
た、吸収されるべき理論容量の水素に達した後に、該混
合物を濾過し、THFを蒸発させた。油状物が得られ、
放置すると晶出した。かくして得られた固体をヘキサン
に分散させ次いで濾取し、乾燥させた。
河、P、=83−85℃−収率=3.2g=84%(T
LC: シリカゲル: Ac0Et−ヘキサン:1−9
ニスポツト) N、M、R,(CDCI、 ): 1.9−2.5(m、12H); 3.2(s、6H
);4.15(t、IH,J:5Hz); 6.3−
7.25(1m、8H)。
LC: シリカゲル: Ac0Et−ヘキサン:1−9
ニスポツト) N、M、R,(CDCI、 ): 1.9−2.5(m、12H); 3.2(s、6H
);4.15(t、IH,J:5Hz); 6.3−
7.25(1m、8H)。
工JじLL
3− (4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(
2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾビラン)
〕プロパナール(反応図式■−式2) 工程2からの化合物2g(0,0052モル)と2gの
アンバーリスト15樹脂との混合物を室温で96時間撹
拌し、該樹脂を濾去し、濾液を蒸発乾固させ5残渣を4
Mの塩化メチレンに溶解させ、水洗し、硫酸ナトリウム
上で乾燥させ、濾過し蒸発乾固させた。かくしてo、9
gの化合物が得られた。
2,1’−シクロペンチル−2H−1−ベンゾビラン)
〕プロパナール(反応図式■−式2) 工程2からの化合物2g(0,0052モル)と2gの
アンバーリスト15樹脂との混合物を室温で96時間撹
拌し、該樹脂を濾去し、濾液を蒸発乾固させ5残渣を4
Mの塩化メチレンに溶解させ、水洗し、硫酸ナトリウム
上で乾燥させ、濾過し蒸発乾固させた。かくしてo、9
gの化合物が得られた。
暦、P、 = 113−120℃=(ジイソプロピルエ
ーテル)1、R,: V C=O: 1720ai−’ N、M、R,(CDCI、 ): 1−2.5(m、10)1); 6.2−7.2(m
、8H); 9.55 ;s、1B)元素分析: C2
2H1、FO,MIi=336.39CHF 計算値 78.55 6,29 5.65%実測値
7g、33 6.04 5.57%工程4: (1)エチル 7− (4−(4−フルオルフェニル)
−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−
ベンゾビラン)〕−〕5−ヒドロキシー3−オキソーヘ
プタノエート反応図式I−式4−R,=R,=)I) これは実施例1の工程4の方法により工程3の化合物か
ら製造した。標記化合物は油状物(収率:51%)の形
で得られ、これを次の合成にそのまま用いた。
ーテル)1、R,: V C=O: 1720ai−’ N、M、R,(CDCI、 ): 1−2.5(m、10)1); 6.2−7.2(m
、8H); 9.55 ;s、1B)元素分析: C2
2H1、FO,MIi=336.39CHF 計算値 78.55 6,29 5.65%実測値
7g、33 6.04 5.57%工程4: (1)エチル 7− (4−(4−フルオルフェニル)
−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル−2H−1−
ベンゾビラン)〕−〕5−ヒドロキシー3−オキソーヘ
プタノエート反応図式I−式4−R,=R,=)I) これは実施例1の工程4の方法により工程3の化合物か
ら製造した。標記化合物は油状物(収率:51%)の形
で得られ、これを次の合成にそのまま用いた。
工1Jニー
(+、−)エチル エリスロー7− (4−(4−フル
オルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチ
ル−2H−1−ベンゾピラン)〕−3,5−ジヒドロキ
シヘプタノエート(化合物NQ 4 ) これは実施例1の工程5の方法により工程4の化合物の
還元により製造した(白色化合物)。
オルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチ
ル−2H−1−ベンゾピラン)〕−3,5−ジヒドロキ
シヘプタノエート(化合物NQ 4 ) これは実施例1の工程5の方法により工程4の化合物の
還元により製造した(白色化合物)。
阿、P、 = 103−105℃(ジイソプロピルエー
テル)−収率=65% 元素分析:C3,H,3FOsMV=468.54CH
F 計算値 71,77 7,10 4.05%実測値
71.63 7゜11 3.9111%N。M、
R,(CDCI、): 0.9−2.25(m、17H); 2.35(d、2
H,J=6)1z); 3−3.5(m、2)1);
3.5−3.9(+a、LH); 3.9−4.4(m
、3H);6.2−7.2(鳳、8)1)。
テル)−収率=65% 元素分析:C3,H,3FOsMV=468.54CH
F 計算値 71,77 7,10 4.05%実測値
71.63 7゜11 3.9111%N。M、
R,(CDCI、): 0.9−2.25(m、17H); 2.35(d、2
H,J=6)1z); 3−3.5(m、2)1);
3.5−3.9(+a、LH); 3.9−4.4(m
、3H);6.2−7.2(鳳、8)1)。
1厳■旦
り、−)ナトリウム 6E−エリスロ−?−(4−(4
−フルオルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロ
ペンチル−2H−1−ベンゾピラン)〕−3,5−ジヒ
ドロキシヘプト−6−エノエート〔化合物Hα5−式1
: X=O,R1−R2=−(C)!、)、−: R
,=4’F; R4=R,=R,=R,=R10=H:
R7及びR,=結合;R11=−0−Na”)の製造
30dのエタノールに入れた2、14g(0,0046
モル)の化合物Na4を60℃に加熱して澄明な溶液を
得。
−フルオルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロ
ペンチル−2H−1−ベンゾピラン)〕−3,5−ジヒ
ドロキシヘプト−6−エノエート〔化合物Hα5−式1
: X=O,R1−R2=−(C)!、)、−: R
,=4’F; R4=R,=R,=R,=R10=H:
R7及びR,=結合;R11=−0−Na”)の製造
30dのエタノールに入れた2、14g(0,0046
モル)の化合物Na4を60℃に加熱して澄明な溶液を
得。
この溶液を次いで室温に冷却し、0.18g(0,00
46モル)の水酸化ナトリウムベレットを100dの水
に溶かすことにより前もって調製した水酸化ナトリウム
の水溶液をこれに添加した。該混合物を30分間撹拌し
、濾過し、蒸発乾固させ、残渣は60℃で減圧(0,5
+*+mHg)下に1時間加熱することにより乾燥させ
た。
46モル)の水酸化ナトリウムベレットを100dの水
に溶かすことにより前もって調製した水酸化ナトリウム
の水溶液をこれに添加した。該混合物を30分間撹拌し
、濾過し、蒸発乾固させ、残渣は60℃で減圧(0,5
+*+mHg)下に1時間加熱することにより乾燥させ
た。
に、P、=不確定−収率=2.04g=96%(TLC
ニジリカゲル: Ac0Et−ヘキサン: 1−1+3
%AcOH: 1スポツト) 元素分析: Cff5H1、FNaO,−MV=460
.47CHF Na 計算値 67.82 5.69 4,13 4.
99%実測値 67.44 5,71 3,91
5.11%失111影 (+、−)ベンジル 6E−エリスロ−7− (4−(
4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シク
ロペンチルー2H−1−ベンゾピラン)]−3,5−ジ
ヒドロキシヘプト−6−エノエート〔化合物NO2−式
1 ;x=o、 R1−R,=−(CH2)、−、R,
=4’F、 R,=R,=R,=R,=R10=H,R
7及びR,=結合重 R11=C,H,CH,O−)の
製造0.638g (0,00337モル+10%)の
臭化ベンジルを、40ai?のメチルエチルケトンに入
れた1、55g(0,00337モル)の化合物No
5の溶液に添加し、該混合物を3時間加熱還流させた。
ニジリカゲル: Ac0Et−ヘキサン: 1−1+3
%AcOH: 1スポツト) 元素分析: Cff5H1、FNaO,−MV=460
.47CHF Na 計算値 67.82 5.69 4,13 4.
99%実測値 67.44 5,71 3,91
5.11%失111影 (+、−)ベンジル 6E−エリスロ−7− (4−(
4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シク
ロペンチルー2H−1−ベンゾピラン)]−3,5−ジ
ヒドロキシヘプト−6−エノエート〔化合物NO2−式
1 ;x=o、 R1−R,=−(CH2)、−、R,
=4’F、 R,=R,=R,=R,=R10=H,R
7及びR,=結合重 R11=C,H,CH,O−)の
製造0.638g (0,00337モル+10%)の
臭化ベンジルを、40ai?のメチルエチルケトンに入
れた1、55g(0,00337モル)の化合物No
5の溶液に添加し、該混合物を3時間加熱還流させた。
0.638gの臭化ベンジルを再び添加し、該混合物
を8時間加熱還流させた。
を8時間加熱還流させた。
該混合物を濾過し、濾液を蒸発させ、残渣を必要量の酢
酸エチルに溶解させ、この溶液を水洗し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥させ、濾過し、蒸発乾固させた。
酸エチルに溶解させ、この溶液を水洗し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥させ、濾過し、蒸発乾固させた。
残留油は、酢酸エチル−ヘキサンの30/70%混合物
を溶離剤として用いて15gのシリカゲル上でクロマト
グラフィーにかけた。収集したフラクション■は溶剤の
蒸発後に固体を生成し、これをジイソプロピルエーテル
に分散させた。固体を濾取し乾燥させた。
を溶離剤として用いて15gのシリカゲル上でクロマト
グラフィーにかけた。収集したフラクション■は溶剤の
蒸発後に固体を生成し、これをジイソプロピルエーテル
に分散させた。固体を濾取し乾燥させた。
河、P、 = 81−83℃、収率=1.17g=66
%元素分析 C33H,1FO,MW=528.59H
F 計算値 74,98 6,29 3.59%実測
値 74.91 6,23 3.55%N。M、
R,(CDCI3) : 1.1−2.3(m、l0H); 2.45(d、2
HJ=6.7Hz); 2.7−3.2(m、LH(
DzO)〕; 3,3−3.6(a、IH(D、O)
; 3.8−4.5(+1,2H); 5.0−5
.6(s+d、 3H); 5.9(d、IHJ:1
5.7Hz); 6,3−7.7(m、13H)。
%元素分析 C33H,1FO,MW=528.59H
F 計算値 74,98 6,29 3.59%実測
値 74.91 6,23 3.55%N。M、
R,(CDCI3) : 1.1−2.3(m、l0H); 2.45(d、2
HJ=6.7Hz); 2.7−3.2(m、LH(
DzO)〕; 3,3−3.6(a、IH(D、O)
; 3.8−4.5(+1,2H); 5.0−5
.6(s+d、 3H); 5.9(d、IHJ:1
5.7Hz); 6,3−7.7(m、13H)。
ス】1」入
(+、−)−6E−エリスロ−7− (4−(4−フル
オルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチ
ルー2H−1−ベンゾピラン)〕 −3,5−ジヒドロ
キシ−N−メチルヘプト−6−ニンアミド〔化合物Na
’l−式1 ;x=o、 R,−R,=−(CI、)、
−、R,=4’F、 1(4=R,=R,=R,=)i
10=H。
オルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチ
ルー2H−1−ベンゾピラン)〕 −3,5−ジヒドロ
キシ−N−メチルヘプト−6−ニンアミド〔化合物Na
’l−式1 ;x=o、 R,−R,=−(CI、)、
−、R,=4’F、 1(4=R,=R,=R,=)i
10=H。
R7及びR,=結合、R工、=CH,N)l−]の製造
エタノールに入れたメチルアミンの33%溶液の25c
dに溶かした0、67g(0,00165モル)の化合
物Nα1の溶液を室温で24時間攪拌した。溶剤を蒸発
させ、残渣を8dの酢酸エチルに分散させ、濾過し、乾
燥させた。
エタノールに入れたメチルアミンの33%溶液の25c
dに溶かした0、67g(0,00165モル)の化合
物Nα1の溶液を室温で24時間攪拌した。溶剤を蒸発
させ、残渣を8dの酢酸エチルに分散させ、濾過し、乾
燥させた。
阿、P、 = 150−152℃、収率=0.52g=
70%元素分析 C1、H10FNO4MW==451
.54HNF 計算値 71,66 6.90 3.10 4
.20%実測値 71,47 6.76 2,9
3 4.08%人血叢且 (+、−)トランス−6−(IE−2−(4−(4−フ
ルオルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペン
チル−2H−1−ベンゾピラン)〕エチニル)−4−ヒ
ドロキシ−3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−ビラ
ンー2−オン〔化合物NO2−式1;x=Q、 R,−
R2=−(CH2)、−、R,=4’F、 R4=R,
=R,=R10=H、R5及びR,=結合重 R%及び
R11=結合〕の製造 操作は湿分の不在下に行なった。120−のアセトンに
入れた6g(0,0135モル)の化合物Nα4と1.
94g(0,0135モル)の2−クロルエチルジエチ
ルアミンとの混合物を3時間加熱還流させた。アセトン
を蒸発させ、残渣を必要量の酢酸エチルに溶解させた。
70%元素分析 C1、H10FNO4MW==451
.54HNF 計算値 71,66 6.90 3.10 4
.20%実測値 71,47 6.76 2,9
3 4.08%人血叢且 (+、−)トランス−6−(IE−2−(4−(4−フ
ルオルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペン
チル−2H−1−ベンゾピラン)〕エチニル)−4−ヒ
ドロキシ−3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−ビラ
ンー2−オン〔化合物NO2−式1;x=Q、 R,−
R2=−(CH2)、−、R,=4’F、 R4=R,
=R,=R10=H、R5及びR,=結合重 R%及び
R11=結合〕の製造 操作は湿分の不在下に行なった。120−のアセトンに
入れた6g(0,0135モル)の化合物Nα4と1.
94g(0,0135モル)の2−クロルエチルジエチ
ルアミンとの混合物を3時間加熱還流させた。アセトン
を蒸発させ、残渣を必要量の酢酸エチルに溶解させた。
該溶液をPH7となるまで水洗し次いで硫酸ナトリウム
」二で乾燥させた。これを濾過し、酢酸エチルを蒸発さ
せた。固体が得られ、これを120aJの酢酸エチルか
ら直ちに再結晶させた。
」二で乾燥させた。これを濾過し、酢酸エチルを蒸発さ
せた。固体が得られ、これを120aJの酢酸エチルか
ら直ちに再結晶させた。
に、P、 = 188−191℃、収率=4.27g=
79%元素分析: C1、)!、、FO,MW=420
.49HF 計算値 74.27 5,99 4.52%実測値
74,07 6,04 4,49%hムR,(D
NSO−d、) −200MHz:1.45−2.20
(a、10)1); 2.34(dd、1)I J=1
6)1z及び3.45Hz); 3.93−4.1.O
(m、It(); 4.85−5.0(m、1N);5
.11(d、IHJ=3.3Hz); 4.42(dd
、IHJ=16.3Hz及び6.7Hz); 6.02
(d、IHJ=16.3Hz); 6.42−6.54
(m、LH); 6,72−6.83(m、2H);
7.07−7.34(m。
79%元素分析: C1、)!、、FO,MW=420
.49HF 計算値 74.27 5,99 4.52%実測値
74,07 6,04 4,49%hムR,(D
NSO−d、) −200MHz:1.45−2.20
(a、10)1); 2.34(dd、1)I J=1
6)1z及び3.45Hz); 3.93−4.1.O
(m、It(); 4.85−5.0(m、1N);5
.11(d、IHJ=3.3Hz); 4.42(dd
、IHJ=16.3Hz及び6.7Hz); 6.02
(d、IHJ=16.3Hz); 6.42−6.54
(m、LH); 6,72−6.83(m、2H);
7.07−7.34(m。
5H)。
次1α1史
(+、−)トランス−4−ヒドロキシ−3,4,5−テ
トラヒドロ−6−(2−C4−(4−フルオルフェニル
)−3−スピロ(2゜1′−シクロペンチル−2H−1
−ベンゾピラン)〕エチル)ピラン−2−オン〔化合物
NQ9−式1 ;X=0. R,−R,=−(CH2)
、−、R,=4’F、 R4=R,=R,=R,=R
,=R10=H、R5及びR10=結合重の製造 70adのTHFに入れた1、72g(0゜00409
モル)の化合物Nn 8を、 0.1gの木炭分散パラ
ジウムの存在下に常圧で且つ室温で水素添加した。吸取
すべき理論量の水素に達した後に、該混合物を濾過し、
濾液を蒸発させ、得られた残渣をジイソプロピルエーテ
ルに分散させた。
トラヒドロ−6−(2−C4−(4−フルオルフェニル
)−3−スピロ(2゜1′−シクロペンチル−2H−1
−ベンゾピラン)〕エチル)ピラン−2−オン〔化合物
NQ9−式1 ;X=0. R,−R,=−(CH2)
、−、R,=4’F、 R4=R,=R,=R,=R
,=R10=H、R5及びR10=結合重の製造 70adのTHFに入れた1、72g(0゜00409
モル)の化合物Nn 8を、 0.1gの木炭分散パラ
ジウムの存在下に常圧で且つ室温で水素添加した。吸取
すべき理論量の水素に達した後に、該混合物を濾過し、
濾液を蒸発させ、得られた残渣をジイソプロピルエーテ
ルに分散させた。
かくして得られた固体を濾取し、乾燥させた。
M、P、= 156−157℃(ジイソプロピルエーテ
ル)−収率=0.7g=41% 元素分析 C32)!2.FO4Ml/=422.50
HF 計算値 73,91 6,44 4.50%実測
値 73,83 6.32 4.40%N。M、
R,(DMSO−d、)=200MHz:1.38−2
.21(a+、14H); 2.39(dd、1)I
H:17.2Hz及び2,1ll(z); 2.57(
dd、IHJ:17.2Hz及び4.6Hz);3.9
6−4.11(m、IH); 4.25−4.46(m
、IH); 5,04(d。
ル)−収率=0.7g=41% 元素分析 C32)!2.FO4Ml/=422.50
HF 計算値 73,91 6,44 4.50%実測
値 73,83 6.32 4.40%N。M、
R,(DMSO−d、)=200MHz:1.38−2
.21(a+、14H); 2.39(dd、1)I
H:17.2Hz及び2,1ll(z); 2.57(
dd、IHJ:17.2Hz及び4.6Hz);3.9
6−4.11(m、IH); 4.25−4.46(m
、IH); 5,04(d。
IHJ=3.2Hz); 6.31−6.41(m、
18); 6.69−6.85(m、2H); 7.
Q2−7.34(m、5H)。
18); 6.69−6.85(m、2H); 7.
Q2−7.34(m、5H)。
去】11制
(÷、−)ナトリウム エリスロー7− (4−(4−
フルオルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペ
ンチル−2H−1−ベンゾピラン)〕 −3,5−ジヒ
ドロキシヘプタノエート〔化合物NQLO−式1 ;
X=O,R1−R2=−(’CHI’)4−。
フルオルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペ
ンチル−2H−1−ベンゾピラン)〕 −3,5−ジヒ
ドロキシヘプタノエート〔化合物NQLO−式1 ;
X=O,R1−R2=−(’CHI’)4−。
R,=4’F、 R4:R,=I’l、=R7=R,=
=R,=R1,=H、R5。
=R,=R1,=H、R5。
=−0−Na”)の製造
0.22g (0,00052モル)の化合物IJQ
9と、25fflのエタノールに入れた水酸化ナトリウ
ムのIN水溶液の0.52cd (0,00052モル
−5%)との混合物を室温で攪拌させた。エタノールを
蒸発させ、残渣をエーテルに分散させ、かくして得られ
た固体を濾取し、乾燥させた。
9と、25fflのエタノールに入れた水酸化ナトリウ
ムのIN水溶液の0.52cd (0,00052モル
−5%)との混合物を室温で攪拌させた。エタノールを
蒸発させ、残渣をエーテルに分散させ、かくして得られ
た固体を濾取し、乾燥させた。
(丁LC; シリカゲル; Ac0Et−ヘキサン:
1−I+3%Acute:1スポツト 阿、P、=不確定=収率=0.12g=50%元素分析
: C2gHzsFNaO,MW=462.48CH
F Na 計算値 67.52 6.10 4,11 4
.97%実測値 67.30 5.92 3.9
0 5.00%実施例11 (+、−)エチル エリスロー?−(4−(4−フルオ
ルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル
−2H−1−ベンゾピラン)〕−3,5−ジヒドロキシ
ヘプタノエート(化合物Nα4)の製造 100dのT1イFに溶かした1、4g(0,0(13
モル)の化合物Nα1を0.6gの木炭分散パラジウム
の存在下に常圧で水添した。
1−I+3%Acute:1スポツト 阿、P、=不確定=収率=0.12g=50%元素分析
: C2gHzsFNaO,MW=462.48CH
F Na 計算値 67.52 6.10 4,11 4
.97%実測値 67.30 5.92 3.9
0 5.00%実施例11 (+、−)エチル エリスロー?−(4−(4−フルオ
ルフェニル)−3−スピロ(2,1’−シクロペンチル
−2H−1−ベンゾピラン)〕−3,5−ジヒドロキシ
ヘプタノエート(化合物Nα4)の製造 100dのT1イFに溶かした1、4g(0,0(13
モル)の化合物Nα1を0.6gの木炭分散パラジウム
の存在下に常圧で水添した。
吸収すべき理論量の水素に達した後に、該混合物を濾過
し、濾液を蒸発乾固させ、残渣をヘキサンに分散させ3
濾過し乾燥させた7 呂、P、 = 103〜105℃(ジイソプロピルエー
テル)、収率=1g=71% 夫ル鮮U (+、−)エチル トランス−(6−(−1E−2−(
4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2,1’
−シクロベンチルー2ト1−ベンゾピラン)〕エチニル
)−2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン−4−イル
)アセテート〔化合物N011−式1式% ] 25cdのDMFに入れた2g(0,0043モル)の
化合物Nα1と0.7 gの2−メトキシプロペンと8
mgのp−)−ルエンスルホン酸1水和物との混合物を
室温で48時間攪拌した。125ajのエーテルを添加
し、該混合物を重炭酸ナトリウムの飽和水溶液で洗浄し
次いで水で洗浄した。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥
させ、濾過し、蒸発乾固させた。油状物が得られ、これ
をヘキサンから晶出させた。固体を濾取し、乾燥し、溶
剤及び溶離剤としてヘキサン−酢酸エチルの1=1の混
合物を用いて20gのシリカゲル上でグロマトグラフィ
ーにかけた。合したフラクションI及び■を蒸発させ、
得られた残渣をヘキサンから晶出させた。固体を濾取し
乾燥させた。
し、濾液を蒸発乾固させ、残渣をヘキサンに分散させ3
濾過し乾燥させた7 呂、P、 = 103〜105℃(ジイソプロピルエー
テル)、収率=1g=71% 夫ル鮮U (+、−)エチル トランス−(6−(−1E−2−(
4−(4−フルオルフェニル)−3−スピロ(2,1’
−シクロベンチルー2ト1−ベンゾピラン)〕エチニル
)−2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン−4−イル
)アセテート〔化合物N011−式1式% ] 25cdのDMFに入れた2g(0,0043モル)の
化合物Nα1と0.7 gの2−メトキシプロペンと8
mgのp−)−ルエンスルホン酸1水和物との混合物を
室温で48時間攪拌した。125ajのエーテルを添加
し、該混合物を重炭酸ナトリウムの飽和水溶液で洗浄し
次いで水で洗浄した。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥
させ、濾過し、蒸発乾固させた。油状物が得られ、これ
をヘキサンから晶出させた。固体を濾取し、乾燥し、溶
剤及び溶離剤としてヘキサン−酢酸エチルの1=1の混
合物を用いて20gのシリカゲル上でグロマトグラフィ
ーにかけた。合したフラクションI及び■を蒸発させ、
得られた残渣をヘキサンから晶出させた。固体を濾取し
乾燥させた。
河、P、 = 103〜105℃−収率=0.95g=
44%元素分析: C1、)R3,F’0. MW
=506.61HF 計算値 73,50 6.96 3.75%実測
値 73.54 6.98 3.73%5M、R
,(cocl、 ): 0.9〜2.5(m、1.68)? 3.9〜4.5
(m、2H);4.05(q、2N>;5.15(dd
、LH);5.95(d、II(); 6.2−7.
25(m、8H)。
44%元素分析: C1、)R3,F’0. MW
=506.61HF 計算値 73,50 6.96 3.75%実測
値 73.54 6.98 3.73%5M、R
,(cocl、 ): 0.9〜2.5(m、1.68)? 3.9〜4.5
(m、2H);4.05(q、2N>;5.15(dd
、LH);5.95(d、II(); 6.2−7.
25(m、8H)。
本発明の化合物の次の実施例において、用いた略号は次
の意義を有する;Me=メチル、Et=エチル、Pr=
プロピル、8z=ベンジル、Pe = n−ペンチル、
dBu =第3級ブチル、i、Pr=イソプロピル、P
he =フェニル、 Pyr=ピロリジノ。
の意義を有する;Me=メチル、Et=エチル、Pr=
プロピル、8z=ベンジル、Pe = n−ペンチル、
dBu =第3級ブチル、i、Pr=イソプロピル、P
he =フェニル、 Pyr=ピロリジノ。
実−度珂i旦
実施例1〜12の適当な方法を用いて、式1 〔但しX
=Oであり、Ro及びR2は−(CH2)=一連鎖を形
成し、R1及びR,は一緒になって単結合を形成し、、
R。
=Oであり、Ro及びR2は−(CH2)=一連鎖を形
成し、R1及びR,は一緒になって単結合を形成し、、
R。
及びR10の各々は水素原子を表わす〕の化合物を製造
した(以下の表参照)。
した(以下の表参照)。
(前頁続き)
しX = O、R,=R,=R,=R,=R10=H、
R5及びR1は結合を形成する)の化合物を製造した(
以下の表参照)。
R5及びR1は結合を形成する)の化合物を製造した(
以下の表参照)。
実施例1〜12の適当な方法を用いて、式1(但し、R
4=R,=R10=Hであり、R7及びR1又はR,及
びR□1は一緒になって単結合を形成する)の化合物を
製造した(以下の表参照)。
4=R,=R10=Hであり、R7及びR1又はR,及
びR□1は一緒になって単結合を形成する)の化合物を
製造した(以下の表参照)。
実施例1〜12の適当な方法を用いて、式1
実施例1〜12の適当な方法を用いて、式1(但しX=
CH,又はSであり、R4=R,=R,=R10:Hで
あり、R7及びR,は単結合を形成する)の化合物を製
造した(以下の表参照)。
CH,又はSであり、R4=R,=R,=R10:Hで
あり、R7及びR,は単結合を形成する)の化合物を製
造した(以下の表参照)。
適当な場合には実施例1〜4の中間体工程の方法を用い
て、次の中間体化合物を製造したが、これに限定される
ものではない。
て、次の中間体化合物を製造したが、これに限定される
ものではない。
災1舅H
前記式4〔但しX=Oであり、R1及びR1は−(CO
2)イー連鎖を形成し、R7及びR1は一緒になって結
合を形成し、R1は水素を表わす〕の中間体化合物:(
前頁続き) 前記式4(但L X = O、R4=R,=R,=Rg
=H。
2)イー連鎖を形成し、R7及びR1は一緒になって結
合を形成し、R1は水素を表わす〕の中間体化合物:(
前頁続き) 前記式4(但L X = O、R4=R,=R,=Rg
=H。
びR1は結合を形成する)の中間体化合物:R1及
前記式4(但しX士CH,又はS 、 R4=R,=R
,=)l、R7及びR1は結合を形成し、R□1=メト
キシである)の中間体化合物ニ ス」1匹20 前記式2〔但しX=0、R1及びR2は−(CH2)n
−を形成し、R7及びR,は結合を形成する)の中間体
化合物: (前頁続き) 失J!jLul 前記式2 %式% R7及びR8は一緒になって結合を形成する) の中間体化合物: 前記式6 %式% : 前記式5 (但しX=Oであり、 R1及びRはテト ラメチレン連鎖ニ ー(coり*−を形成する)の中間体 化合物: 去JLf2L遅− 前記式5 %式%) : 去】11匝 前記式8 (但しX=S。
,=)l、R7及びR1は結合を形成し、R□1=メト
キシである)の中間体化合物ニ ス」1匹20 前記式2〔但しX=0、R1及びR2は−(CH2)n
−を形成し、R7及びR,は結合を形成する)の中間体
化合物: (前頁続き) 失J!jLul 前記式2 %式% R7及びR8は一緒になって結合を形成する) の中間体化合物: 前記式6 %式% : 前記式5 (但しX=Oであり、 R1及びRはテト ラメチレン連鎖ニ ー(coり*−を形成する)の中間体 化合物: 去JLf2L遅− 前記式5 %式%) : 去】11匝 前記式8 (但しX=S。
R4” Rs ” H。
R,=C2)!、で
ある)
の中間体化合物;
前記式9
%式%
:
Ca1c、は計算値、Fd、は実測値を表わす。
11/2分子の水で算出した。
Ca lc、は計算値、Fd、は実測値を表わす。
1172分子の水で算出した。
Cafe、は計算値、Fd、は実測値を表わす。
−1/2分子の水で算出した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次式1 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) 〔式中Xは−CH_2−メチレン鎖結合又は酸素又は硫
黄原子を表わし;R_1及びR_1は同じでも異なって
も良く、水素、1〜3個の炭素原子を含有するアルキル
基を表わすか又はR_1及びR_2が一緒になって適当
ならば1〜3個の炭素原子を含有するアルキル基の1個
又は2個により対称置換された−(CH_2)_n−ア
ルキレン連鎖(但しnは4又は5に等しい)を形成でき
;R_3及びR_4は同じでも異なっても良く、水素、
フッ素、塩素又は臭素原子、トリフルオルメチル、1〜
3個の炭素原子を含有するN,N−ジアルキルアミノ、
1〜4個の炭素原子を含有するアルキル、1〜5個の炭
素原子を含有するアルコキシ、1〜3個の炭素原子を含
有するアルキルチオ、あるいは場合によっては1〜3個
の炭素原子を含有するアルキル、1〜3個の炭素原子を
含有するアルコキシ、フッ素又は塩素を表わしうる同じ
でも異なっていても良い置換基の精々2個で置換された
フェニル基を表わし、置換基R_3及びR_4の1方が
トリフルオルメチル、N,N−ジアルキルアミノ、フェ
ニル又は置換フェニル基を表わす時には3′,4′又は
5′位(メタ又はパラ位)に存在し、他方の置換基は水
素原子を表わすものとし;R_5及びR_6は同じでも
異なっていても良く、水素、フッ素、塩素又は臭素原子
、トリフルオルメチル、1〜3個の炭素原子を含有する
アルキル、1〜3個の炭素原子を含有するアルコキシ、
あるいは適当な場合には1〜3個の炭素原子を含有する
アルキル、1〜3個の炭素原子を含有するアルコキシ、
フッ素又は塩素原子を表わしうる同じでも異なっていて
も良い置換基の精々2個で置換されたフェニル基を表わ
し、置換基R_5及びR_6の1方がトリフルオルメチ
ル、フェニル又は置換フェニル基を表わす時には6又は
7位に存在し、他方の置換基は水素原子を表わすものと
し;置換基R_3及びR_4又はR_5及びR_6はま
た2個の隣接した位置にある場合には一緒になって次式
:−CH=CH−CH=CH−、−(CH_2)_m−
又は−O(CH_2)_pO− (但しmは3又は4であり、pは1又は2である)のジ
エチレン、アルキレン又はアルキレンジオキシよりなる
2価の基を形成でき、R_3及びR_4又はR_5及び
R_6が2価のアルキレンジオキシ基を表わす時には3
′及び4′位又は4′及び5′位又は6及び7位に結合
しているものとし;R_7及びR_8の各々は水素原子
を表わすか又は存在するC−C結合と一緒になってトラ
ンス形(E)の二重結合を形成し;R_9及びR_1_
0の各々は水素原子を表わすか又は一緒になって1〜3
個の炭素原子を含有するジアルキルメチレン基を形成し
;R_1_1はこれが結合しているCO基と共に遊離酸
、エステル、アミド又は酸塩の官能基を表わすか又はR
_9と共にδ−ラクトン環を形成する〕を有するベンゾ
シクロアルケニルジヒドロキシアルカン酸化合物。 2、R_1_1がヒドロキシ、1〜4個の炭素原子を含
有するアルコキシ、ベンジルオキシ、1〜3個の炭素原
子を含有するアルキルアミノ又はN,N−ジアルキルア
ミノ、4〜6個の炭素原子を含有するイミノ、3〜6個
の炭素原子を含有するシクロアルキルアミノ、アミノ又
はベンジルアミノ又は−O^−M^+(但しM^+は製
薬上許容しうるカチオンを表わす)を表わすか、又はR
_1_1がR_9と共に単結合を形成する請求項1記載
の化合物。 3、R_1及びR_2の各々がメチル基を表わす又は一
緒になってテトラメチレン連鎖を形成し、R_3及びR
_4又はR_5及びR_6は同じでも異なっても良く、
水素、フッ素又は塩素原子、メチル、エチル、メトキシ
、メチルチオ、フェニル、4−フルオルフェニル、4−
メチルフェニル又は4−メトキシフェニル基を表わすか
又は一緒になってジエチレン−CH=CH−CH=CH
−、テトラメチレン−(CH_2)_4−又はメチレン
ジオキシ−O(CH_2)O−の2価の基を形成する請
求項1又は2に記載の化合物。 4、(A)Xが酸素又は硫黄原子又はメチレン連鎖を表
わし、R_1及びR_2の各々がメチル基を表わすか又
は一緒になって−(CH_2)_4−のテトラメチレン
連鎖を形成し、R_3及びR_4又はR_5及びR_6
の1方のみが水素原子を表わし、R_7及びR_8が一
緒になって二重結合を形成し、R_9及びR_1_0の
各々が水素原子を表わすか、又は (B)X、R_1、R_2、R_7、R_8、R_9及
びR_1_0が(A)に定義した意義を有し、R_3及
びR_4の1方が水素原子を表わし、他方がフッ素又は
塩素原子を表わし、R_5及びR_6の1方のみが水素
原子を表わすか、又は(C)X、R_1、R_2、R_
7、R_8、R_9及びR_10が(A)に定義した意
義を有し、R_3及びR_4の1方が水素原子であり、
他方がフッ素又は塩素原子であり、R_5及びR_6の
各々が水素原子を表わすか、又は (D)X、R_1、R_2、R_7、R_8、R_9及
びR_1_0が(A)に定義した意義を有し、R_3及
びR_4の各々が水素原子であり、R_5びR_6の1
方のみが水素原子を表わすか、又は (E)X、R_3、R_4、R_5、R_6、R_7、
R_8、R_9及びR_1_0が(C)に定義した意義
を有し、R_1及びR_2が一緒になって−(CH_2
)_4−のテトラメチレン連鎖を形成するか、又は (F)X、R_1、R_2、R_7、R_8、R_9及
びR_1_0が(E)に定義した意義を有し、R_3、
R_4、R_5及びR_6の各々が水素原子を表わす請
求項1又は2記載の化合物。 5、(+、−)エチル6E−エリスロ−7−〔4−(4
−フルオルフェニル)−3−スピロ(2,1′−シクロ
ペンチル−2H−1−ベンゾピラン)〕−3,5−ジヒ
ドロキシヘプト−6−エノエート、(+、−)ナトリウ
ム6E−エリスロ−7−〔4−(4−フルオルフェニル
)−3−スピロ(2,1′−シクロペンチル−2H−1
−ベンゾピラン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプト−6
−エノエート、(+、−)メチル6E−エリスロ−7−
(1,2−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−フェニル
−3−ナフチル)−3,5−ジヒドロキシヘプト−6−
エノエート、(+、−)エチル6E−エリスロ−7−〔
4−(4−クロルフェニル)−3−スピロ−(2,1′
−シクロペンチル−2H−1−ベンゾピラン)〕−3,
5−ジヒドロキシヘプト−6−エノエート、(+、−)
ナトリウム6E−エリスロ−7−〔4−(4−クロルフ
ェニル)−3−スピロ(2,1′−シクロペンチル−2
H−1−ベンゾピラン)〕−3,5−ジヒドロキシヘプ
ト−6−エノエート、(+、−)メチル6E−エリスロ
−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−フェニル−2,2
−ジメチル−3−2H−ベンゾチアピラニル)ヘプト−
6−エノエート、(+、−)ナトリウム6E−エリスロ
−3,5−ジヒドロキシ−7−(4−フェニル−2,2
−ジメチル−3−2H−ベンゾチアピラニル)ヘプト−
6−エノエート、(+、−)ナトリウム6E−エリスロ
−3,5−ジヒドロキシ−7−〔4−フェニル−3−ス
ピロ(2,1′−シクロペンチル−2H−1−ベンゾチ
アピラン)〕ヘプト−6−エノエート、(+、−)エチ
ルエスリロ−7−〔4−(4−フルオルフェニル)−3
−スピロ(2,1′−シクロペンチル−2H−1−ベン
ゾピラン)〕−3,5−ジヒドロキシペプタノエートか
ら選ばれる請求項1又は2記載の化合物。 6、少なくとも次の工程 (a)次式4 ▲数式、化学式、表等があります▼(4) (式中X、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5、
R_6、R_7、R_8及びR_1_1は後記の如くで
ある)のケトエステルを還元し且つ適当な場合には (b)式(1)の化合物のエステル交換又はδ−ラクト
ン形の式(1)の化合物のアルコーリシス又は塩の形の
式(1)の化合物のアルキル化を行なうか、又は (c)エステル又はδ−ラクトン形の式(1)の化合物
の加水分解を行なうか、又は (d)R_7及びR_8又はR_9及びR_1_1が一
緒になって単結合を形成する時には、塩の形の式(1)
の対応の化合物を第3級クロルアミンで処理するか、又
は(e)R_7、R_8及びR_1_0が水素原子を表
わし、R_9及びR_1_1が一緒になって単結合を形
成する時には、式(1)(但しR_7及びR_8が二重
結合を形成する)のδ−ラクトン化合物の接触還元又は
式(1)(但しR_7、R_8及びR_1_0は水素原
子を表わす)の対応の酸性化合物のラクトン化を行なう
か、又は (f)エステル又はδ−ラクトン形の式(1)の化合物
のアミノリンスを行なうか、又は (g)R_9及びR_1_0が一緒になってジアルキル
アルキレン基を形成する時には式(1)(但しR_9及
びR_1_0の各々は水素原子を表わす)の対応の化合
物をアルコキシアルケンを用いて環化することからなる
請求項1又は2に記載の式(1)の化合物の製造方法。 7、次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼2 ▲数式、化学式、表等があります▼4 ▲数式、化学式、表等があります▼5 ▲数式、化学式、表等があります▼6 ▲数式、化学式、表等があります▼7 ▲数式、化学式、表等があります▼8 ▲数式、化学式、表等があります▼9 ▲数式、化学式、表等があります▼10 ▲数式、化学式、表等があります▼11 ▲数式、化学式、表等があります▼14 〔式中R_1、R_2、R_3、R_4、R_5、R_
6、R_7、R_8、R_9、R_1_0及びR_1_
1は請求項1に定義した如くであり、R_1_2は1〜
4個の炭素原子を含有するアルキル基を表わすか又はR
_1_2・・・R_1_2は−(CH_2)_q−メチ
レン基(但しqは2又は3である)を表わすか又はこれ
らが結合している酸素原子と共に5員又は6員環を形成
し、但しR_1及びR_2が水素原子を表わしXがS又
はCH_2を表わす式5の化合物を除く]で表わされる
、請求項1又は2に記載の式1の化合物を製造する際の
中間体化合物。 8、適当な錯化剤の存在下に適当な溶剤中で対応のアセ
トアセテートLiCH_2CO(Na)COR_1_1
を式2の対応の化合物とアルドール縮合させることから
なる、請求項7に記載の式4の中間体化合物の製造方法
。 9、式5の対応の化合物を以下の成分と反応させること
からなり、即ち (A)20℃と還流温度との間の温度で不活性溶剤中に
N,N′−ジメチル−3−アミノアクロレインと反応さ
せてトランス形の式2の対応化合物を形成するか;又は (B)適当な溶剤中でN−ブロムスクシンイミドと反応
させて式6の対応の3−臭素化化合物を製造し、(a)
これを適当な溶剤中でブチルリチウム、次いで3−エト
キシアクロレイン又はN,N−ジメチル−3−アミノア
クロレインと反応させてトランス形の式2の対応化合物
を形成するか;又は (b)これを塩基性試薬及びパラジウム誘導体の存在下
に適当な溶剤中でアルキルアクリレートと反応させて対
応の化合物8を形成するか;又は(C)N,N−ジメチ
ルホルムアミドと反応させて式7の対応のアルデヒドを
製造し、これをエトキシ−又はメトキシ−カルボキシメ
チレントリフェニルホスホラン又はメチル又はエチルト
リフェニルホスホノアセテートと反応させてトランス形
の式8の対応の3−置換プロペン酸エステルを与え、対
応の化合物8を還元してトランス形の式9の対応の3−
置換プロペノールの形にさせ、次いでこれを適当な溶剤
中で酸化を加減しながら行なってトランス形の式2の対
応の化合物を製造することからなる、請求項7に記載の
式2(但しR_7及びR_8は二重結合を表わす)の中
間体化合物の製造方法。 10、式11の対応の化合物を適当な溶剤中で酸性触媒
と共に脱アセタール化反応にかけ、対応の化合物11は
式2の対応のアルデヒドのアセタール化により得られた
式10(但しR_7及びR_8は二重結合を表わす)の
対応の化合物の接触水添によって製造するものとし、あ
るいは式6の対応の化合物を適当な塩基性試薬の存在下
にアリルアルコールで処理して式2の対応のアルデヒド
を得ることからなる、請求項7に記載の式(但しR_7
及びR_8は水素を表わす)の中間体化合物の製造方法
。 11、製薬上許容しうる賦形剤と混合して請求項1に記
載のベンゾシクロアルケニルジヒドロキシアルカン酸化
合物の少なくとも1種を有効成分として含有することか
らなる、心臓血管疾患、糖尿病の血栓徴候、アテローム
性動脈硬化又は過脂肪蛋白血症を処置する際の低コレス
テロール血症剤、アテローム性動脈硬化防止剤又は抗血
栓剤として有用な製薬組成物。 12、製薬上許容しうる賦形剤と混合して1〜500m
gの有効成分を含有する単位投薬の形で用いる、請求項
11記載の組成物。
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