JPH02247957A - 陰極線管 - Google Patents

陰極線管

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JPH02247957A
JPH02247957A JP1066275A JP6627589A JPH02247957A JP H02247957 A JPH02247957 A JP H02247957A JP 1066275 A JP1066275 A JP 1066275A JP 6627589 A JP6627589 A JP 6627589A JP H02247957 A JPH02247957 A JP H02247957A
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cathode ray
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conductive film
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Takao Kawamura
河村 孝男
Hiromitsu Kawamura
河村 啓溢
Katsumi Obara
小原 克美
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/42Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of particles only

Landscapes

  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は家庭用、工業用に用いられる陰極線管に係り、
特に、高光沢度であり、帯電防止機能を有し、しかも°
、引掻き等に対する強度の大きな前表面を有する陰極線
管に関する。
〔従来の技術〕
帯電防止機能を有する前表面を持つ陰極線管については
、これまでに、例えば、特開昭筒63−124331号
公報に記載の提案がなされている。同公報開示の内容は
陰極線管のフェース面にハロゲン化ケイ素、シランアル
コキシドあるいはシリルイソシアネート等を用いて作っ
たシリカゾル溶液にFe、 Co、 Ni、 Ag、 
 Zn、 AQ、  Inのハロゲン化物、硝酸塩ある
いは硫酸塩中から選んだ1種あるいは2種以上の化合物
を添加した溶液をスプレー塗布後、焼成することからな
るものであるが、得られる陰極線管の前表面は、帯電防
止性もあり膜強度も大であるが、光沢度が50%程度と
なるため解像度やコントラストが低く、映像精細度など
を重視する要求には不向きであった。
また、透明導電膜の上に、膜強度向上のために、アルキ
ルシリケート5i(OR)4(Rはアルキル基)のよう
な表面保護膜をスピンニング塗布し、焼成するという方
法も考えられるが、この場合には2層構成に由来する干
渉色1色ムラなどが発生する可能性が大きく、歩留り良
く製造することは難しし鳥。
また、従来仕様の塗布液を用いて表面保護膜をスプレー
塗布した場合には膜強度を十分に強く、また、歩留り良
く製造することができるが、この場合もまた、得られる
前表面の光沢度が低下し。
解像度、コントラストが低下してしまうことになる。な
お、スプレー塗布量を少なくし、面光沢度を80%程度
まで上げると実用的な膜強度が維持できない。
ここで、ティントバルブの表面(厚さ10mmにおいて
波長546nmの光の透過率56%)の表面に酸化スズ
(SnO,)と酸化アンチモン(sbzoz)とのアル
コール溶液をスピン塗布して透明導電層を設けた後該層
上にフルキルシリケートのアルゴール溶液を用いて保護
膜層を設けた場合の光沢度とパーチャート法による解像
度との関係を第2図に示す6図において、保護膜層を設
けず透明導電層のみの場合の光沢度(J I S  Z
8741方法2による)は110%(図の白丸)であり
、保護層を設けた場合にこれと同等の解像度を得るため
には、光沢度を80%以上とすることを要することがわ
かる。
また、第3図は、上記と同一の試料について。
光沢度と鉛筆引かき硬度(J I S  K5401に
よる)との関係を求めた結果を示したものである。この
結果から、膜の実用強度である鉛筆硬度H以上を確保し
ようとすると、光沢度が80%以下になってしまうこと
がわかる。
【発明が解決しようとする課題〕
上述したように、従来技術においては、導電性を確保し
、十分な膜強度を有し、しかも、十分な解像度(光沢度
と関連する)を示す前表面を有する陰極線管を得ること
がFIi難であった。
本発明の目的は、これら従来技術の有していた課題を解
決して、これらの要求を満足することのできる、例えば
光沢度80%以上、膜鉛筆硬度H以上、電気抵抗lXl
0’Ω以下の、前表面を有する陰極線管を提供すること
にある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的は、陰極線管の前表面を下記構成の前表面とす
ることによって達成することができる。
すなわち、まず第1層目の透明導電膜をSnO,,5b
201、In、O,の中から選ばれる少なくとも1種以
上のアルコール溶液を用いてスピン塗布により形成した
後、該導電膜上に、エチルシリケート(誘導されるSi
O□固形分として)0.5〜1.5%(重量%、以下同
様)、エタノール、イソプロパノールを主成分とする溶
媒75〜90%、加水分解に必要な触媒あるいは水また
は触媒+水2〜3%。
乾燥速度調節剤(ジアセトンアルコール、エチルセロソ
ルブ等)5〜20%からなる液を、第2層目の保護膜と
して、スプレー塗布し、160℃で30分子IR焼成す
る。また、この場合、形成される保護膜の特性が下記の
如くなるように、スプレー条件を調整する。すなわち1
日本工業規格(JIS  B12O3)による表面粗さ
Rz (10点平均粗さ)が0.01〜G、2.、粒子
径が10〜150umφ、長さ0.1+am内の粒子数
が0.5〜5個となるようにする。
〔作用〕
まず、保護膜特性を上記範゛囲に限定する理由について
説明する。すなわち、スプレー塗布によって形成される
保護膜(Sin、膜)の形状は、中央部に平らな円形の
底辺を持ち、周辺部が盛り上ったいわゆるクレータ状と
なる。第1図は、ともに同一の膜強度を有する膜につい
て、1Mの粒子の断面形状を模式的に示した図で、(a
)は上記膜特性とした場合の粒子断面、(b)は従来構
成の保護膜の粒子断面を示したものである。ここで。
(b)は(、)に比べて周辺部の盛り上りの高さが高く
、光沢度が下り、解像度、コントラストが低下する結果
を招来する。これに対し、(a)は周辺部の盛り上りが
低く、全体を均一に被覆しており、膜強度を維持しなが
ら、光沢度が高く、解像度、コントラストを低下させな
い結果を与えることになる。
次に、エチルシリケートから誘導されるSin。
固形分範囲を0.5〜1.5%とする理由は、該固形分
を0.5%以下とした場合には強度を維持するための被
覆が不完全となり、1.5%以上とした場合には周辺部
の盛り上りが高くなり、光沢度を低下させる結果を与え
ることによる。
また、エタノール、イソプロパノールを主成分とする溶
媒を75〜90%の範囲とする理由は、該溶媒を75%
以下とした場合には、乾燥速度およびゲル化速度が速く
なり、スプレー粒子相互の融合が少なくなるために粒子
数が多くなると同時に早期に固化し、個々の粒子の周辺
の盛り上りが高くなり、光沢度を下げる結果となること
、また90%以上では被覆の厚さが薄くなるため、膜強
度が低下することによる。
また、加水分解に必要とする触媒あるいは水または触媒
+水を2〜3%の範囲とする理由は、該成分を2%以下
とした場合にはSiO□が2強度保持のために必要な強
固な被覆を形成せず、また3%以上とした場合にはゲル
化の進行が促進されるため表面光沢度を下げる結果とな
ることによる。
また、乾燥速度調節剤を5へ20%の範囲に限定した理
由は、溶剤濃度の場合と同様の効果によって、5%以下
の場合には光沢度が下がり、20%以上では被覆の厚さ
が薄くなり強度が低下してしまう結果となることによる
なお、形成される保護膜の特性として5表面粗さRzが
0.01.以下、粒子径がIO/111以下1粒子以下
1粒子 均一な被覆が得られないため、十分な被覆強度が得られ
ず、また、Rzが0.2p以上、粒子径が150−以上
、粒子数が5個以上の場合は、十分な被覆強度は得られ
るが、光沢度が80%以下となる。
これらのことから、上記本発明諸条件の適用によって得
られる保護膜は、表面厚さも厚く全体的に均一で十分な
強度を有し、かつ、所望の高い光沢度を有する保護膜と
なる。
〔実施例〕
以下、本発明の陰極線管について、実施例によって具体
的に説明する。
実施例 1 陰極線管パネルの前表面に、それ自体導電性を有するS
nO,とエチルシリケート5i(O Ca H8)4と
を含有するアルコール溶液をスピンニング塗布して透明
導電膜を形成した後,該膜上に、エタノール80%,イ
ソプロパノール7%、触媒2.5%、エチルシリケート
( S x O z固形分として)1.0%、ジアセト
ンアルコール9.5%からなる溶液をスプレー塗布し、
160℃30分間の焼成を行った。
このようにして得られた陰極線管の前表面の表面光沢度
は90%、解像度は78本7cm、鉛筆硬度は3Hであ
った。
実施例 2 実施例1の場合と同様にして陰極線管前表面に透明導電
膜層を形成した後、該膜層上に,エタノール70%,イ
ソプロパノール8%,触媒2%、エチルシリケート(S
iO□固形分として)1.0%。
ジアセトンアルコール10%,エチルセロソルブ9%か
らなる溶液をスプレー塗布し,160℃30分間の焼成
を行った。
以上のようにして得られた陰極線管の前表面の表面光沢
度は95%、解像度は80本/c@、鉛筆硬度は2Hで
あった。
比較例 1 実施例1の場合と同様にして陰極線管前表面に透明導電
膜層を形成した後,該膜層上に,エタノール80%、イ
ソプロパノール8%、触媒9%、エチルシリケーh (
Sin,固形分として)3%からなる溶液をスプレー塗
布し、160℃30分間の焼成を行った.上記スプレー
塗布の場合、表面光沢度力(80%以上となるようにス
プレー条件を調節して塗布を行った。
このようにして得られた陰極線管の前表面の表面光沢度
は80%であるが,解像度は75本/am、鉛筆硬度は
H以下となった。
比較例 2 実施例1の場合と同様にして陰極線管前表面に透明導電
膜層を形成し、保護膜を形成することなく、そのまま1
60℃30分間の焼成を行った。
このようにして得られた陰極線管の前表面の光沢度は1
10%、解像度は80本7cmであるが、鉛筆硬度は2
Bとなった。
上記実施例、比較例の結果をまとめて第1表に示した。
第1表 以下余白 〔発明の効果〕 以上述べてきたように、陰極線管を本発明構成の陰極線
管とすることによって、従来技術の有していた課題を解
決して、十分な導電性を有し、光沢度が80%以上で、
しかも、鉛筆硬度が少なくとも1■以上の前表面を有す
る陰極線管を提供することができた。
すなわち、実用上の取扱いに十分耐え得るグレア陰極線
管が得られた。
【図面の簡単な説明】
第1図は陰極線管保護膜面スプレー粒子の断面形状を模
式的に示した図で、(a)は本発明陰極線管の場合、(
b)は従来技術の陰極線管の場合。 第2図は陰極線管前表面に従来技術により保護膜をスプ
レー塗布した場合の光沢度とパーチャート法による解像
度との関係を示す図、第3図は同じ〈従来技術における
保護膜の光沢度と膜強度との関係を示す図である。 1・・・陰極線管前面パネルガラス 2・・・透明導電膜    3・・・保護膜光沢液(匍 光り(夜 (6八)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、パネル前表面に、それ自体導電性を有する酸化スズ
    (SnO_2)、酸化インジウム(In_2O_3)お
    よび酸化アンチモン(Sb_2O_3)の中から選ばれ
    る少なくとも1種以上とアルキルシリケート(Si(O
    R)_4;Rはアルキル基)とを含有するアルコール溶
    液を塗布して透明導電膜を形成し、該導電膜上にさらに
    Si(OR)_4のアルコール溶液を塗布して第2の膜
    を形成してなり、かつ、日本工業規格JIS−Z874
    1方法2で規定する測定方法によって測定したその表面
    光沢度が80%以上であることを特徴とする陰極線管。 2、上記第2の膜の形成に用いる液の組成が、重量比で
    、エチルシリケート(SiO_2固形分として)0.5
    〜1.5%、加水分解に必要とする触媒あるいは水また
    は触媒+水が2〜3%、乾燥速度調整剤(ジアセトンア
    ルコール、エチルセロソルブ)5〜20%および溶媒(
    エタノール、イソプロパノール)75〜90%からなる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の陰極線管
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0778525A (ja) * 1993-09-07 1995-03-20 Hitachi Ltd 透明導電膜用材料とそれを用いた透明導電膜の製法
KR100553730B1 (ko) * 1999-01-29 2006-02-17 삼성에스디아이 주식회사 대전방지성 조성물 및 이로부터 형성된 대전방지막을 채용하고 있는 음극선관

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0778525A (ja) * 1993-09-07 1995-03-20 Hitachi Ltd 透明導電膜用材料とそれを用いた透明導電膜の製法
KR100553730B1 (ko) * 1999-01-29 2006-02-17 삼성에스디아이 주식회사 대전방지성 조성물 및 이로부터 형성된 대전방지막을 채용하고 있는 음극선관

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