JP2001055527A - 着色被膜およびその被膜形成法 - Google Patents

着色被膜およびその被膜形成法

Info

Publication number
JP2001055527A
JP2001055527A JP23031999A JP23031999A JP2001055527A JP 2001055527 A JP2001055527 A JP 2001055527A JP 23031999 A JP23031999 A JP 23031999A JP 23031999 A JP23031999 A JP 23031999A JP 2001055527 A JP2001055527 A JP 2001055527A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
colored
metal
alkoxide
molar ratio
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP23031999A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3912938B2 (ja
Inventor
Atsushi Takamatsu
敦 高松
Hiroaki Arai
宏明 荒井
Yasuo Moriguchi
泰夫 森口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Central Glass Co Ltd
Original Assignee
Central Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Central Glass Co Ltd filed Critical Central Glass Co Ltd
Priority to JP23031999A priority Critical patent/JP3912938B2/ja
Publication of JP2001055527A publication Critical patent/JP2001055527A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3912938B2 publication Critical patent/JP3912938B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • C03C17/25Oxides by deposition from the liquid phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/213SiO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/23Mixtures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/11Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/113Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 塗装液の焼成に際する基板、特にソーダ石灰
シリカ系ガラス基板の反りを抑制し、被膜の光散乱、白
濁の発生を抑え、堅固な被膜を形成する。 【解決手段】 透明基板の少なくとも片面に形成した、
Si−アルコキシドを前駆体とするシリカおよびコロイダ
ルシリカからなるSiO2系ベースマトリックス中に、着色
性金属塩を前駆体とする着色金属酸化物を析出、分散さ
せた着色被膜であって、Si−アルコキシドにおけるSi
(Si-a)とコロイダルシリカにおけるSi(Si-c)の各Si
モル比 Si-c/Si-aが、0.4〜1.0であり、前記Siの総モ
ル数 T-Siと着色金属酸化物の金属の総モル数ΣMiとの
金属モル比 ΣMi/T-Siが、0.1〜2である着色被膜、お
よび該被膜の形成法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明基板、特にソ
ーダ石灰シリカ系ガラス板に形成する着色被膜、および
その被膜形成法に関する。前記着色被膜を形成すること
により、美装性を与えたり、透明基板の可視光の透過を
適度に抑制したり、プライバシー性を付与したり、日射
や紫外線の透過を抑制したりするもので、該被膜形成基
板は、建築、構築物や車両等輸送機器の窓材や、表示装
置の窓材として好適に採用されるものである。
【0002】
【従来の技術】金属のアルコキシド(例えばSi−アルコ
キシド)と、他の金属無機塩との混合溶液を用いて被膜
を形成することは公知であり、例えば特開昭62−158136
号公報には、導電膜付ガラス等におけるアルカリガラス
基板のアルカリ拡散を抑制する膜で、Si−アルコキシド
を出発原料とするシリカゾルと、リン化合物と、Al、C
r、Mo、Fe、またはSnの有機溶媒に可溶性の化合物(塩
化物、酢酸塩など)のいずれか1種以上を混合した溶液
を、基板に塗布、熱処理し、膜形成することが、或いは
特開昭63−124331号公報には、ブラウン管に防眩、帯電
防止膜を形成するうえで、Si−アルコキシド等を元とす
るシリカゾル溶液に、Fe、Co、Ni、Cu等のハロゲン化
物、硝酸塩、または硫酸塩のいずれか1種以上の化合物
を添加し、これをブラウン管にスプレー、熱処理するこ
とが開示されている。但しこれらは本発明が一目途とす
る着色美装性を付与したり、可視光、日射、紫外線等を
抑制したりすることとは異なる。
【0003】本出願人の出願にかかる特開平11−152425
号公報には、Si−アルコキシドと、Cu、Mn、Crの少なく
とも3種の着色性金属塩、および溶媒を含み、前記着色
性金属塩の相互の金属モル%を特定範囲に調製した灰色
着色膜形成用塗装液、および前記着色膜形成用塗装液を
透明無着色基板に塗布、熱処理し、灰色着色塗膜を形成
することが開示されている。該公知例は可視光、日射等
の抑制を目途とするものであるが、開示される成分組成
においては透明基板、特にソーダ石灰シリカ系ガラス板
に被膜形成した場合、基板に反りを与え易い。
【0004】金属アルコキシド(Si−アルコキシド)と
コロイダルシリカとを含む混合溶液を用いて被膜を形成
することに関しては、特開昭62− 17044号公報におい
て、光学素子用ガラス表面に、水又は有機溶媒で分散し
たコロイダルシリカに金属(Si、Al等)アルコレートを
混合し、加水分解・部分縮合したゾル溶液を塗布し熱処
理することにより、レーザーダメージに強く、耐摩耗性
の高いガラス質の反射防止膜を形成することが、また、
本出願人の出願にかかる特開平5− 32433号には、ガラ
ス基板に透明金属および透明金属化合物よりなる機能性
積層膜(電磁遮蔽膜、熱線反射膜等)を形成し、その外
面にコロイダルシリカ、オルガノアルコキシシランの部
分縮合物、アルコール−水溶媒を含む組成物を塗布、硬
化し、耐候耐久性、耐擦過性に優れる保護被膜を施すこ
とが、或いは、特開平8− 12943号公報には、オルガノ
アルコキシシランと、熱硬化性樹脂と、有機溶媒および
水と、平均粒径を特定した非水溶性の充填剤(シリカ)
からなり、金属、ガラス、セラミックス、プラスチック
ス等に耐アルカリ性、防食性、耐衝撃性等を付与するコ
ーティング用組成物が開示されている。これらは、本発
明における着色美装性を付与し、可視光透過率等を抑制
したりすることとは異なる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】Si−アルコキシド、あ
るいはそれに基づくシリカゾルや、着色性金属塩を含む
塗装液を基板に塗布し、これを熱処理するに際して、前
記アルコキシ基構造におけるシラノール基、アルキル基
等を分解し、緻密なシリカを形成し、また着色性金属塩
を分解し着色金属酸化物結晶を析出、分散させ、従って
堅固な被膜を形成するうえでは 550℃以上、好適には 6
00℃以上の焼成温度を必要とする。
【0006】他方、透明基板についてみれば、歪点 (粘
度1014.5ポイズ温度)510〜530℃程度の汎用されるソー
ダ石灰シリカ系ガラスをはじめ、多くのガラスは歪点が
550℃未満であり、焼成温度が歪点を越える程、軟化傾
向を生ずる。
【0007】コロイダルシリカを含まない前記塗装液
を、前記透明基板に施し、その歪点を越える温度で焼成
した場合、前記塗装膜は焼成過程で収縮(体積が縮小)
し、軟化傾向にある透明基板は前記塗装膜の縮小に伴
い、塗装膜面側に反るという不具合が生ずる。本発明は
上記不具合を解消することを主たる目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、透明基板の少
なくとも片面に形成した、Si−アルコキシドを前駆体と
するシリカおよびコロイダルシリカからなるSiO2系ベー
スマトリックス中に、着色性金属塩を前駆体とする着色
金属酸化物を析出、分散させた着色被膜であって、Si−
アルコキシドにおけるSi(Si-a)とコロイダルシリカに
おけるSi(Si-c)の各Siモル比 Si-c/Si-aが、0.4〜1.
0であり、前記Siの総モル数 T-Siと着色金属酸化物の金
属の総モル数ΣMiとの金属モル比 ΣMi/T-Siが、0.1〜
2である着色被膜である。
【0009】上記着色被膜は、透明基板がソーダ石灰シ
リカ系ガラスである場合に好適に適用される。なお、上
記コロイダルシリカの平均粒径を10〜20nmの範囲とする
ことが望ましい。好適例として、上記被膜中に、CuOx、
MnOx、CrOx(xは夫々金属の+価数に応じた酸素O-2の数
である)の少なくとも3種の着色金属酸化物、またはそ
れらの複合酸化物を有するものが挙げられる。
【0010】本発明はまた、前記した着色被膜を形成す
る方法であって、着色被膜形成用塗装液を基板に塗布、
乾燥後、 550℃以上で焼成するに際して、前記着色被膜
形成用塗装液がSi−アルコキシドと、コロイダルシリカ
と、着色性金属塩と、溶媒とを含み、塗装液中の総Siモ
ル濃度を0.01〜1.0mol/ltr に調整することによる着色
被膜形成法である。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明の塗装液を用いた被塗膜形
成基板においては、熱処理に際して基板の反りがなく、
また被膜にムラ、ヘーズ感ばなく、金属塩の選択により
各種所望の色調が得られ、可視光線透過率は広い範囲で
調整可能であるが、特に透過率が30%オーダーまたはそ
れ以下のものを得易く、従ってプライバシー保護性に優
れるものが得られ、相応して日射の透過、紫外線の透過
を抑制することができる。
【0012】Si−アルコキシド(Si−アルコキシドの加
水分解によるSiシリカゾルも含む)は、基板にガラス質
塗膜を形成するうえで、基板とよく密着し、着色性金属
塩を均一に分散し、また着色金属酸化物の微結晶を均一
に核生成・結晶成長させるうえで不可欠のものである。
Si−アルコキシドとしては、特に特定するものではない
が、原料入手が容易で比較的安価なもの、例えばテトラ
エトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルト
リメトキシシラン等が採用できる。なお、Siの一部を無
着色のB、Ca、Mg、P、Na等と置換することも本発明の
範疇である。
【0013】コロイダルシリカは、平均粒径10〜20nmの
ものを使用することが好ましく、平均10nm以下では焼成
に際する被膜の収縮、それに基づく基板の反りを抑える
ことが困難になる傾向があり、他方、平均20nmを越える
と、シリカ粒による光散乱が目立つようになる。なお、
平均粒径10nmとは、例えば走査電子顕微鏡下で観察し
て、単純平均でサイズ10nmであり、大半の粒子がそのサ
イズの70%〜130%の間に分布することをいい、他の平
均粒径においても同様である。
【0014】Si−アルコキシドにおけるSi(Si-a)とコ
ロイダルシリカにおけるSi(Si-c)の各Siモル比 Si-c
/Si-aは、0.4〜1.0の範囲とするもので、0.4未満では
上記シルカ粒径とも絡むが、基板の反りを抑制する作用
は小さく、他方1.0を越えるとシリカ粒による光散乱が
目立つようになり、また膜の脆化の傾向が伺える。
【0015】塗装液中のSi(Si-a + Si-cすなわち T-S
i)の総モル濃度は0.01〜1.0mol/ltrとするもので、0.
01mol 未満では十分な厚さの膜が得られずに膜が疎にな
りやすく、一方、1.0molを越えると成膜時に膜が厚くな
りすぎて膜にクラックが発生し易く、均質な膜が得られ
ない。好ましくは 0.05〜0.8mol/ltrとする。また、膜
厚としては、クラックが入らずに十分に目的とする機能
が果たせるように適宜設計すればよいが、焼成後の膜厚
が150nm〜600nmであることが望ましい。
【0016】着色性金属塩としては、入手、調製容易
で、水やアルコール溶媒の存在下前記Si−アルコキシド
液中に均一溶解しミクロ的に分散し得る硝酸塩、酢酸
塩、塩化物等を採用するのが望ましい。前記着色を与え
る金属としては、所望の着色を得るべく適宜のものを採
用するものであるが、好適な一例としてはCu塩、Mn塩、
Cr塩の少なくとも3種の着色性金属塩を前駆体とし、Cu
Ox、MnOx、CrOx(xは金属の価数により定まる)よりな
る着色金属酸化物、またはそれらの2種以上の複合酸化
物、例えばCuMnCrOxを析出させ、中性灰色系〜暗灰色系
着色被膜を形成するもので、該被膜付きガラスは可視光
の透過を抑制してプライバシー性を付与し、日射の透過
を抑制して断熱性を向上させ、特に車両用の窓材として
好適に採用できる。
【0017】Siの総モル数T-Siと、着色性金属の総モル
数ΣMiとの金属モル比ΣMi/T-Siは、 0.1〜2とする。
金属モル比ΣMi/T-Siが 0.1未満ではシリカマトリック
スに対して着色性金属の量が少ないために可視光透過率
を適度に抑え、プライバシー性、日射遮蔽性を与えるう
えで不充分である。一方、上記金属モル比2を越えると
膜にヘーズが発生しやすく、良好な透視性が得られな
い。また、シリカを膜中に有することで膜全体の屈折率
を下げることができ、光の干渉によって生ずる膜の反射
や色を抑制するのに有効である。好ましくは 0.2〜1.7
とするのがよい。
【0018】塗装液における溶媒としてはアルコール、
水を主成分とする。ここで水は、Si−アルコキシドが数
々の中間生成物を経て、最終的に強固なガラス質膜を形
成する3次元網目構造の構造単位であるシロキサン結合
を作るための反応、つまり加水分解と縮合重合反応に不
可欠なものでもある。またそれらアルコール、水と相溶
性で、塗装液の粘度調整をするうえでのエチルセロソル
ブ、メチルセロソルブ等のセロソルブ類を適宜採用する
のが望ましい。なお、塗装液中の水/Si−アルコキシド
のモル比を10以上とすれば、塗装液を調製後、2週間以
上の長期間放置した後基板に塗装しても、焼付け後の塗
膜に濃淡ムラ、白濁(ヘーズ)が認められず、また、膜
品質が成膜環境の湿度に影響され難くなり、取扱が容易
となる。
【0019】塗装液は、透明無着色基板としてのソーダ
石灰シリカ系ガラスの他にも、アルミノ石灰珪酸系ガラ
ス、ほう珪酸アルカリ系ガラス等のガラスに、ロールコ
ート法、浸漬法、フローコート法、スプレー法、スピン
コート法、バーコート法、フレキソ印刷等の塗布手段で
塗布したうえで、乾燥し、更に 550℃以上の温度で焼成
する必要がある。なお、塗布、乾燥後、 600℃以上の焼
成温度で曲げ処理、強化処理、合わせ曲げ処理等を兼ね
て膜形成することもでき、例えば自動車用窓ガラスとし
て好適に採用できる。
【0020】また、基板上に多層積層膜を形成する場合
において、これらの膜のうち、少なくとも1層を前記着
色被膜によって形成せしめることもできる。
【0021】
【実施例】以下に自動車等の窓ガラスとして多く採用さ
れる濃灰色膜付きガラス(可視光透過率30%前後)の例
を挙げて詳しく説明する。なお、各実施例において着色
性金属塩の種類、その量比を固定しているが、所望の色
調、濃度を得るうえで着色性金属塩の種類、量比は適宜
設定できることはいうまでもない。
【0022】〔実施例1〕 (塗装液の調製) アルコキシド液の作製:テトラエトキシシラン62.5g
をエタノール90gに溶解した後、42gの水と少量の硝酸
を加え、更に全量が 200gになるようにエタノールを添
加した。これを2時間攪拌して加水分解・脱水重合し
て、Si濃度が約1.4mol/ltrのアルコキシドベースのシ
リカゾル液を得た。 コロイダルシリカ液の作製:日産化学工業(株)製のコ
ロイダルシリカゾル液:商品記号IPA−ST(平均粒
径が10〜20nmの範囲内にある)を、Si濃度が約1.4mol/
ltrになるようにエタノールで希釈した。 塗装液の調製:アルコキシドベースシリカゾル液 12
4.4gに、希釈したコロイダルシリカゾル液62.2gを加
えて数分攪拌した。この溶液にCu(NO3)2・3H2O を16.9
g、Mn(NO3)2・6H2O を20.1g、Cr(NO3)3・9H2O を28.0g
を添加、溶解し、更にエタノールを加えて全量を400gと
し、1時間攪拌して各着色金属硝酸塩を溶解した塗装液
とした。各成分比率は以下のとおりである。
【0023】 塗装液中、総Siモル濃度; 約 0.65mol/ltr 総Si中アルコキシドベースのSi(Si-a)と、コロイダル
シリカのSi(Si-c)とのSiモル比 Si-c/Si-a; 0.5 総Si(T-Si)と総着色金属塩における金属(ΣMi)のモ
ル比 ΣMi/T-Si; 0.75 各着色金属塩の金属モル比; Cu:Mn:Cr=1:1:1
【0024】(成膜) 基板:サイズ100×100mm、厚さ3.5mmで全く平板のソ
ーダ石灰シリカ系フロートガラス板を洗浄、乾燥させ、
裏面にマスキングテープを貼付けて成膜用基板とした。 成膜:基板を先に調整した塗装液に浸漬し、引上げ速
度6mm/sで引上げ、ディッピング膜を形成した。マス
キングテープを剥離除去した後、 350℃で10分加熱乾燥
し、更にトングスでガラスを鉛直に吊下したうえで、予
め 750℃に設定した加熱炉に移送し、3分間加熱後、冷
却して膜付けを完了した。なお、加熱に際しガラス温度
は 630℃に達した。得られた膜の膜厚は、約350nmであ
った。
【0025】(各種試験)膜付きガラスについて色調、
可視光透過率、光散乱(ヘーズ値)、板の反り、加傷に
よる傷の有無について測定、観察した。 色調; 所望の濃灰色色調 可視光透過率; 分光透過率測定によるところの可視域
の平均透過率30.5% 光散乱(ヘーズ値); 分光透過率測定により得られた
ヘーズ値△H 0.6%(外観の目視観察においても白濁は
認められず、良好) 反り; 触針式表面粗さ測定器(小坂研究所製、商品名
サーブコーダSE−30H)にて測定、膜面側を凹面とす
る最大反り量0.10mmと軽微(許容できる) 耐加傷性; スチールウールを用い手操作により膜面を
擦過。傷や膜の剥離なし(被膜は堅固であり使用に耐え
得る)
【0026】〔実施例2〕 (塗装液の調製)アルコキシドベースのSi(Si-a)と、
コロイダルシリカのSi(Si-c)とのSiモル比 Si-c/Si-
aを 0.69とした以外は、全く実施例1と同様とした。各
成分比率は以下のとおりである。 塗装液中、総Siモル濃度; 約 0.65mol/ltr 総Si中、Si-c(コロイダルシリカ)/Si-a(アルコキシ
ド)のSiモル比; 0.69 総着色金属塩の金属(ΣMi)/総Si(T-Si) モル比;
0.75 各着色金属塩の金属モル比; Cu:Mn:Cr=1:1:1 (成膜)採用基板、塗布、熱処理条件は実施例1と全く
同様である。得られた膜の膜厚は、約370nmであった。 (各種試験)実施例1同様に各種測定、観察した。 色調; 所望の濃灰色色調 可視光透過率; 可視域の平均透過率 30.8% 光散乱(ヘーズ値); △H 0.6%(外観の目視観察に
おいても白濁は認められず、良好) 反り; 最大反り量0.09mmと軽微(許容できる) 耐加傷性; 実施例1と同一条件になる様留意し、スチ
ールウールで擦過。傷や膜の剥離なし(被膜は堅固であ
り使用に耐え得る)
【0027】〔実施例3〕 (塗装液の調製)アルコキシドベースのSi(Si-a)と、
コロイダルシリカのSi(Si-c)とのSiモル比 Si-c/Si-
aを 1.0とした以外は、全く実施例1と同様とした。各
成分比率は以下のとおりである。 塗装液中、総Siモル濃度; 約 0.65mol/ltr 総Si中、Si-c(コロイダルシリカ)/Si-a(アルコキシ
ド)のSiモル比; 1.0 総着色金属塩の金属(ΣMi)/総Si(T-Si) モル比;
0.75 各着色金属塩の金属モル比; Cu:Mn:Cr=1:1:1 (成膜)採用基板、塗布、熱処理条件は実施例1と全く
同様である。得られた膜の膜厚は、約400nmであった。 (各種試験)実施例1同様に各種測定、観察した。 色調; 所望の濃灰色色調 可視光透過率; 可視域の平均透過率 30.5% 光散乱(ヘーズ値); △H 0.7%(外観の目視観察に
おいても白濁は認められず、良好) 反り; 最大反り量0.08mmと軽微(許容できる) 耐加傷性; 実施例1と同一条件になる様留意し、スチ
ールウールで擦過。傷や膜の剥離なし(被膜は堅固であ
り使用に耐え得る)
【0028】〔実施例4〕 (塗装液の調製)以下の条件で実施例1と同様に調製し
た。 塗装液中、総Siモル濃度; 約 0.05mol/ltr 総Si中、Si-c(コロイダルシリカ)/Si-a(アルコキシ
ド)のSiモル比; 0.5 総着色金属塩の金属(ΣMi)/総Si(T-Si) モル比;
1.7 着色金属塩の金属モル比; Cu:Mn:Cr=1:1:1 (成膜)採用基板、成膜条件、熱処理条件は実施例1と
全く同様である。得られた膜の膜厚は、約450nmであっ
た。 (各種試験)実施例1同様に各種測定、観察した。 色調; 所望の濃灰色色調 可視光透過率; 可視域の平均透過率 39.5% 光散乱(ヘーズ値); △H 0.9%(外観の目視観察に
おいても白濁は認められず、良好) 反り; 最大反り量0.13mmと許容できる範囲であった。 耐加傷性; 実施例1と同一条件になる様留意し、スチ
ールウールで擦過。傷や膜の剥離なし(被膜は堅固であ
り使用に耐え得る)
【0029】〔実施例5〕 (塗装液の調製)以下の条件で実施例1と同様に調製し
た。 塗装液中、総Siモル濃度; 約 0.80mol/ltr 総Si中、Si-c(コロイダルシリカ)/Si-a(アルコキシ
ド)のSiモル比; 1.0 総着色金属塩の金属(ΣMi)/総Si(T-Si) モル比;
0.2 着色金属塩の金属モル比; Cu:Mn:Cr=1:1:1 (成膜)実施例1同様の片面を洗浄した基板に、スピン
コート法により350回転で30sec間塗膜形成した。熱処理
条件は実施例1と同様にした。得られた膜の膜厚は、約
210nmであった。 (各種試験)実施例1同様に各種測定、観察した。 色調; 所望の濃灰色色調 可視光透過率; 可視域の平均透過率 24.5% 光散乱(ヘーズ値); △H 0.4%(外観の目視観察に
おいても白濁は認められず、良好) 反り; 最大反り量0.05mmと許容できる範囲であった。 耐加傷性; 実施例1と同一条件になる様留意し、スチ
ールウールで擦過。傷や膜の剥離なし(被膜は堅固であ
り使用に耐え得る)
【0030】〔比較例1〕 (塗装液の調製)シリカ源としてSi−アルコキシドのみ
を使用し、コロイダルシリカは使用しなかった以外は、
実施例1と同様とした。各成分比率は以下のとおりであ
る。 塗装液中、総Siモル濃度; 約 0.65mol/ltr 総Si中、Si-c(コロイダルシリカ)/Si-a(アルコキシ
ド)のSiモル比; 0 総着色金属塩の金属(ΣMi)/総Si(T-Si) モル比;
0.75 各着色金属塩の金属モル比; Cu:Mn:Cr=1:1:1 (成膜)採用基板、塗布、熱処理条件は実施例1と全く
同様である。 得られた膜の膜厚は、約340nmであっ
た。 (各種試験)実施例1同様に各種測定、観察した。 色調; 所望の濃灰色色調 可視光透過率; 可視域の平均透過率 32.0% 光散乱(ヘーズ値); △H 0.2%(外観の目視観察に
おいても白濁は認められず、良好) 反り; 最大反り量0.37mm(不可、目視においても反り
が明確) 耐加傷性; 実施例1と同一条件になる様留意し、スチ
ールウールで擦過。傷や膜の剥離なし(被膜は堅固であ
り使用に耐え得る) なお、300mm□のソーダ石灰シリカ系フロートガラス板
に上記塗装液を塗布、熱処理し、得られた膜付きガラス
の反りを測定したところ、膜面側を凹面とする反り量が
約6mmであり、反りが顕著で製品として不適当である。
【0031】〔比較例2〕 (塗装液の調製)アルコキシドベースのSi(Si-a)と、
コロイダルシリカのSi(Si-c)とのSiモル比 Si-c/Si-
aを 0.20とした以外は、全く実施例1と同様とした。各
成分比率は以下のとおりである。 塗装液中、総Siモル濃度; 約 0.65mol/ltr 総Si中、Si-c(コロイダルシリカ)/Si-a(アルコキシ
ド)のSiモル比; 0.20 総着色金属塩の金属(ΣMi)/総Si(T-Si) モル比;
0.75 各着色金属塩の金属モル比; Cu:Mn:Cr=1:1:1 (成膜)採用基板、塗布、熱処理条件は実施例1と全く
同様である。得られた膜の膜厚は、約340nmであった。 (各種試験)実施例1同様に各種測定、観察した。 色調; 所望の濃灰色色調 可視光透過率; 可視域の平均透過率 31.8% 光散乱(ヘーズ値); △H 0.6%(外観の目視観察に
おいても白濁は認められず、良好) 反り; 最大反り量0.26mm(不可、目視においても反り
が明確) 耐加傷性; 実施例1と同一条件になる様留意し、スチ
ールウールで擦過。傷や膜の剥離なし(被膜は堅固であ
り使用に耐え得る)
【0032】〔比較例3〕 (塗装液の調製)アルコキシドベースのSi(Si-a)と、
コロイダルシリカのSi(Si-c)とのSiモル比 Si-c/Si-
aを 1.38とした以外は、全く実施例1と同様とした。各
成分比率は以下のとおりである。 塗装液中、総Siモル濃度; 約 0.65mol/ltr 総Si中、Si-c(コロイダルシリカ)/Si-a(アルコキシ
ド)のSiモル比; 1.38 総着色金属塩の金属(ΣMi)/総Si(T-Si) モル比;
0.75 各着色金属硝酸塩の金属モル比; Cu:Mn:Cr=1:1:
1 (成膜)採用基板、塗布、熱処理条件は実施例1と全く
同様である。得られた膜の膜厚は、約450nmであった。 (各種試験)実施例1同様に各種測定、観察した。 色調; 所望の濃灰色色調 可視光透過率; 可視域の平均透過率 29.4% 光散乱(ヘーズ値); △H 1.7%(外観観察において
僅かに白濁が認められる) 反り; 最大反り量0.06mmと軽微 耐加傷性; 実施例1と同一条件になる様留意し、スチ
ールウールで擦過。僅かに膜に傷が認められる(被膜は
稍弱い)
【0033】〔比較例4〕 (塗装液の調製)コロイダルシリカとして平均粒径が5
〜10μmのものを使用した以外は、比較例2と同じ組成
とした。各成分比率は以下のとおりである。 塗装液中、総Siモル濃度; 約 0.65mol/ltr 総Si中、Si-c(コロイダルシリカ)/Si-a(アルコキシ
ド)のSiモル比; 0.20 総着色金属塩の金属(ΣMi)/総Si(T-Si) モル比;
0.75 各着色金属塩の金属モル比; Cu:Mn:Cr=1:1:1 (成膜)採用基板、塗布、熱処理条件は実施例1と全く
同様である。膜厚は330nmであった。 (各種試験)実施例1同様に各種測定、観察した。 色調; 所望の濃灰色色調 可視光透過率; 可視域の平均透過率 28.0% 光散乱(ヘーズ値); △H 2.9%(外観観察において
白濁が認められ、使用上問題がある) 反り; 最大反り量0.18mm(不可) 耐加傷性; 実施例1と同一条件になる様留意し、スチ
ールウールで擦過。傷や膜の剥離なし(使用に耐え得
る)
【0034】〔比較例5〕 (塗装液の調製)コロイダルシリカとして平均粒径が40
〜60μmのものを使用した以外は、比較例3と同じ組成
とした。各成分比率は以下のとおりである。 塗装液中、総Siモル濃度; 約 0.65mol/ltr 総Si中、Si-c(コロイダルシリカ)/Si-a(アルコキシ
ド)のSiモル比; 1.38 総着色金属塩の金属(ΣMi)/総Si(T-Si) モル比;
0.75 各着色金属硝酸塩の金属モル比; Cu:Mn:Cr=1:1:
1 (成膜)採用基板、塗布、熱処理条件は実施例1と全く
同様である。膜厚は450nmであった。 (各種試験)実施例1同様に各種測定、観察した。 色調; 所望の濃灰色色調 可視光透過率; 可視域の平均透過率 28.0% 光散乱(ヘーズ値); △H 5.5%(外観観察において
白濁が明白) 反り; 最大反り量0.10mmと少なく使用に耐える 耐加傷性; 実施例1と同一条件になる様留意し、スチ
ールウールで擦過。傷が発生し、使用に耐え得ない 以上のとおり、比較例に示したものは、基板の反りが顕
著であり、または光散乱率が高く、あるいは耐加傷性に
おいて劣る。
【0035】
【発明の効果】本発明において、被膜にコロイダルシリ
カを適量混入することにより、塗装液の焼成に際する基
板、特にソーダ石灰シリカ系ガラス基板の反りを抑制す
ることができ、被膜の光散乱、白濁の発生も抑えられ、
被膜も堅固である。
フロントページの続き (72)発明者 森口 泰夫 三重県松阪市大口町1510 セントラル硝子 株式会社硝子研究所 Fターム(参考) 4G059 AA01 AC08 FA05 FA27 FB03 4J038 AA011 HA216 HA441 JC32 KA06 KA08

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】透明基板の少なくとも片面に形成した、Si
    −アルコキシドを前駆体とするシリカおよびコロイダル
    シリカからなるSiO2系ベースマトリックス中に、着色性
    金属塩を前駆体とする着色金属酸化物を析出、分散させ
    た着色被膜であって、Si−アルコキシドにおけるSi(Si
    -a)とコロイダルシリカにおけるSi(Si-c)の各Siモル
    比 Si-c/Si-aが、0.4〜1.0であり、前記Siの総モル数
    T-Siと着色金属酸化物の金属の総モル数ΣMiとの金属モ
    ル比 ΣMi/T-Siが、0.1〜2であることを特徴とする着
    色被膜。
  2. 【請求項2】請求項1記載の着色被膜を形成する方法で
    あって、着色被膜形成用塗装液を基板に塗布、乾燥後、
    550℃以上で焼成するに際して、前記着色被膜形成用塗
    装液がSi−アルコキシドと、コロイダルシリカと、着色
    性金属塩と、溶媒とを含み、塗装液中の総Siモル濃度を
    0.01〜1.0mol/ltr に調整したことを特徴とする着色被
    膜形成法。
JP23031999A 1999-08-17 1999-08-17 着色被膜形成法 Expired - Fee Related JP3912938B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23031999A JP3912938B2 (ja) 1999-08-17 1999-08-17 着色被膜形成法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23031999A JP3912938B2 (ja) 1999-08-17 1999-08-17 着色被膜形成法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001055527A true JP2001055527A (ja) 2001-02-27
JP3912938B2 JP3912938B2 (ja) 2007-05-09

Family

ID=16905979

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23031999A Expired - Fee Related JP3912938B2 (ja) 1999-08-17 1999-08-17 着色被膜形成法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3912938B2 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007200841A (ja) * 2006-01-24 2007-08-09 Samsung Sdi Co Ltd 有機電界発光表示装置及びその製造方法
US8038495B2 (en) 2006-01-20 2011-10-18 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic light-emitting display device and manufacturing method of the same
US8063561B2 (en) 2006-01-26 2011-11-22 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic light emitting display device
US8125146B2 (en) 2006-01-27 2012-02-28 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic light emitting display having a second frit portion configured to melt more easily than a frit portion
WO2014112526A1 (ja) * 2013-01-15 2014-07-24 旭硝子株式会社 アルカリバリア層形成用コート液及び物品
US9004972B2 (en) 2006-01-20 2015-04-14 Samsung Display Co., Ltd. Organic light-emitting display device with frit seal and reinforcing structure

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8038495B2 (en) 2006-01-20 2011-10-18 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic light-emitting display device and manufacturing method of the same
US9004972B2 (en) 2006-01-20 2015-04-14 Samsung Display Co., Ltd. Organic light-emitting display device with frit seal and reinforcing structure
JP2007200841A (ja) * 2006-01-24 2007-08-09 Samsung Sdi Co Ltd 有機電界発光表示装置及びその製造方法
JP4624309B2 (ja) * 2006-01-24 2011-02-02 三星モバイルディスプレイ株式會社 有機電界発光表示装置及びその製造方法
US8063561B2 (en) 2006-01-26 2011-11-22 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic light emitting display device
US8125146B2 (en) 2006-01-27 2012-02-28 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Organic light emitting display having a second frit portion configured to melt more easily than a frit portion
WO2014112526A1 (ja) * 2013-01-15 2014-07-24 旭硝子株式会社 アルカリバリア層形成用コート液及び物品
CN104918897A (zh) * 2013-01-15 2015-09-16 旭硝子株式会社 碱金属阻挡层形成用涂布液及物品
JPWO2014112526A1 (ja) * 2013-01-15 2017-01-19 旭硝子株式会社 アルカリバリア層形成用コート液及び物品

Also Published As

Publication number Publication date
JP3912938B2 (ja) 2007-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20010036547A1 (en) Article with antifogging film and process for producing same
JP6586897B2 (ja) 防眩膜付き基材、膜形成用塗布液およびその製造方法
JP2009526727A (ja) 反射防止被覆ガラスプレート
JPH11228183A (ja) 親水性基材およびその製造方法
ES2755412T3 (es) Lámina de vidrio recubierta
JP2001278637A (ja) 低反射ガラス物品
JP2015049319A (ja) 透明基材と防汚性反射防止膜とを備える物品およびその製造方法
JPH0956549A (ja) 防曇性鏡
JP3912938B2 (ja) 着色被膜形成法
WO2011090156A1 (ja) 防曇性物品
JP2007241177A (ja) 反射防止構造及び構造体
JPH0781977A (ja) 反射防止膜およびその製造方法
JP3678043B2 (ja) 自動車用低反射ガラス物品
JP2004352524A (ja) 低反射物品及びその製法
JP3788532B2 (ja) 防曇性被膜およびその製造方法
JP7083342B2 (ja) 低反射膜付き透明基板、光電変換装置、低反射膜付き透明基板の低反射膜を形成するための塗工液及び低反射膜付き透明基板の製造方法
JP3391972B2 (ja) 成膜法
WO1998041481A1 (fr) Composition permettant de former un revetement colore et procede de production d'un article en verre pourvu dudit revetement colore
JP2000335940A (ja) 低反射ガラス物品
JPH0854502A (ja) 着色低抵抗膜形成用塗布液、着色低抵抗膜及び着色低抵抗膜を形成したガラス物品
JP3347467B2 (ja) 着色薄膜形成用塗布液、着色薄膜とその製造方法、およびガラス物品
JP2011119626A (ja) 低反射膜で被覆してなる太陽電池パネル用カバーガラス及びその製法
JPH0789720A (ja) 着色膜形成用塗布液、着色膜、着色帯電防止膜、および着色低反射帯電防止膜
JPH0474568A (ja) 低反射帯電防止膜及びその製造方法、及びその用途
JPWO2004046057A1 (ja) 熱遮蔽板とその製造方法、およびそれに用いる液組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Effective date: 20050217

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050517

A521 Written amendment

Effective date: 20050706

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20060421

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070130

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Effective date: 20070130

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100209

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 3

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100209

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 4

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110209

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110209

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120209

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120209

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 5

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120209

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130209

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 6

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130209

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 6

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130209

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees