JPH02238919A - 滴下灌漑用導管を生産する方法と装置 - Google Patents

滴下灌漑用導管を生産する方法と装置

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JPH02238919A
JPH02238919A JP1132938A JP13293889A JPH02238919A JP H02238919 A JPH02238919 A JP H02238919A JP 1132938 A JP1132938 A JP 1132938A JP 13293889 A JP13293889 A JP 13293889A JP H02238919 A JPH02238919 A JP H02238919A
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unit
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extruded
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、プラスチック管の押し出し成形中にプラスチ
ック管へ要素(element)を導入すること、及び
管の内側,表面の所定位置への要素の接着に関する。本
発明は、特に、内側表面の軸方向に間隔をあけた位置に
て接着された離散して内部に位置するエミッター・ユニ
ット(emitter unit)を有する滴下潅激用
導管(drip irrigation condui
t)を生産する方法と装置に関する。
本発明を要約すれば、滴下潅流用導管の内側表面の軸方
向に間隔をあけた位置において接着された離散して内部
に位置するエミッター・ユニットを有する滴下潅漑用導
管を生産する方法と装置であり、この場合、潅淑用導管
は、第1の外径と第1の線速度において押し出しクロス
ヘッドから連続的に押し出し成形され、そして第1の線
速度よりも早い第2の線速度においてそしてより小さな
第2の外径にキヤリプレータ●ユニットを通して引き延
ばされ、エミッター・ユニットは、押し出し機のクロス
ヘッド内からキヤリプレータ・ユニットの入口の領域に
延びる搬送部材上に連続的に供給される.そのように支
持されながら、エミッター・ユニットは、前記第2の線
速度に実質的に等しいエミッター・ユニット線速度に達
するように加速され、そして既に第2の線速度に実質的
に達している押し出し成形された導管との接触状態にこ
の速度にて移動させられ、こうして、エミッター・ユニ
ットが加熱溶接されるまで、押し出し成形された導管と
接触状態にて支持されながら移動し統ける。
プラスチック・スリーブの押し出し成形中に円筒形物体
を封入すること又は包み込むことは、例えば、被覆ケー
ブル又は同等物の生産において長く公知であった。更に
、押し出し成形中に分離した円筒形物体を管に導入する
ことは公知である。
こうして、例えば、米国特許第2.484.965号(
スラフター)に、押し出し成形された収縮管を作製する
方法が開示されており、この場合、本質的に、押し出し
クロスヘッドにより連続管を押し出し成形することと、
管が閉鎖体の回りに形成されるように、適統した間隔を
あけられた管閉鎖体を押し出し成型品に連続的に供給す
ることとを含む。同様に、米国特許第2,575.13
8号(スラフター)に、円筒形物品を連続管内にパッケ
ージするためのプロセスが開示されており、この場合、
押し出しクロスヘッドにより管を押し幽し成形する段階
と、管によって閉鎖されるようにクロスヘッドを通して
パッケージされる物品を連続的に供給する段階とを含み
、継続的に閉鎖された物品の間の管の部分は統いて密封
されそして切断される。
両方の場合に、管は、(押し出しクロスヘッドとして公
知な)角形の押し出しノズルによって押し出し成形され
、円筒形物体は、適切な押し込み機構によりクロスヘッ
ド中に連続的に供給される。
完全に類似の方式により、米国特許第3.981.45
2号には、潅表用導管の生産において公知なこのプロセ
スの応用が開示され、この場合、導管の内面と共に複数
のエミッター・ユニットを形成する連続した円筒形ユニ
ットが、所定の間隔で潅漑用導管内に位置させられる. 上記の先行技術のすべての場合、押し出し成形された管
によって閉鎖される要素は、その性質がどうであれ、円
筒形状であ7り、そして押し出し成形された管によって
完全に閉鎖される。
他方、本発明は、特に、滴下潅漑用導管の生産に関し、
この場合内部に接着されたエミッター・ユニットは、周
囲の導管の完全な周縁部にわたって広がる円形断面では
なく、制限された深さであり、その接着領域は、管の直
径の半分よりも小さ《導管内に広がる.この種類のエミ
ッターを有する滴下潅漑用導管は、例えば、我々の先の
米国特許第4.307.841号に開示されている。
この種類の内部に加熱溶接されたエミッター・ユニット
を有する滴下潅漑用導管を押し出し成形生産するための
新しい方法と装置を提供することが本発明の目的である
本発明の1つの見地により、内部に加熱溶接されたエミ
ッター・ユニットを有する滴下潅漑用導管を生産する方
法が提供され、ここで、各エミッター・ユニットは、導
管の横断方向の周縁部範囲の半分よりも大きくない横断
方向の周縁部範囲を有する溶接領域を含み、この方法は
、 第1の外径と第1の線速度において、押し出しクロスヘ
ッドから潅漑用導管を連続的に押し出し成形し; 第1の外径よりも小さい第2の外径に引き延ばしそして
第1の線速度よりも大きな第2の線速度を有するように
、押し出し成形された導管を中間ゾーンを通してキヤリ
プレータ・ユニットへと通過させ; 押し出し機のクロスヘッド内に位置する一方の端部から
キヤリプレータ・ユニット内に位置する反対側の端部に
まで誕び、そして押し出し成形された導菅と同軸である
支持領域上で前記エミッター・ユニットを支持し; 前記第2の線速度に実質的に等しいエミッター・ユニッ
ト線速度を達成するために、前記支持されたエミッター
・ユニットを連続的に加速し;該エミッター・ユニット
線速度において各支持されたエミッター・ユニットを、
前記第2の線速度に実質的に達した前記押し出し成形さ
れた導管との接触状態に移動させ; エミッター・ユニットが実質的に前記反対側の端部にお
いて導管に加熱溶接されるまで、該エミッター・ユニッ
ト線速度において各支持されt;エミッター・ユニット
を押し出し成形された導管との接触状態に移動させ; 押し出し成形された導管と、内部に加熱溶接されたエミ
ッター・ユニットを冷却し: 導管に加熱溶接されたエミッター・ユニットの位置を連
続的に決定し: エミッター・ユニットのためのそれぞれの滴下出口を形
成するために導管に穴を開ける;ことから成ることを特
徴とする。
本発明の第2の見地により、前記の方法を実施する際に
使用される押し出し成形装置が提供され、この装置は、 軸方向の孔を有する押し出しクロスヘッドと:中関領域
によってそこから間隔をあけられたキヤリプレータ・ユ
ニットと; 導管線速度においてキヤリプレータ・ユニットを通して
且つキヤリプレータ・ユニットから押し出し成形された
導管を引き抜くために、該キャリプレーク・ユニットの
下流に位置する引き抜き手段と; 前記孔内に位置するM1の端部と、前記キヤリプレータ
・ユニット内に位置する第2の反対側の端都とを有し、
前記軸方向の孔と同軸に位置付けられたエミッター搬送
要素と; エミッター・ユニットを該搬送要素に継続的に供給する
ためのエミッター送り手段と;前記導管線速度に実質的
に等しいエミッター・ユニット速度を達成するために、
前記搬送要素に沿って前記エミッター・ユニットを連続
的に加速し、押し出し成形された導管が前記導管線速度
に実質的に達したとき前記エミッター・ユニット速度に
おいて前記搬送要素に沿って前記エミッター・ユニット
を押し出し成形された導管との接触状態に移動させ、そ
してエミッター・ユニットが前記搬送要素の実質的に前
記反対側の端都において導管に加熱溶接されるまで前記
搬送要素に沿って前記エミッター・ユニットを移動させ
る、エミッター移動手段; とを備えて成ることを特徴とする。
本発明の第3の見地により、前記の方法を実施する際に
使用される押し出し成形装置が提供され、この装置は、 軸方向の孔を有する押し出しクロスヘッドと;中関領域
によってそこから間隔をあけられたキヤリプレータ・ユ
ニットと; 導管線速度においてキヤリプレータ・ユニットを通して
且つキヤリプレータ・ユニットから押し出し成形された
導管を引き抜くために、該キヤリプレータ・ユニットの
下流に位置する引き抜き手段と: 前記孔内に位置する第1の端部と、前記キヤリプレータ
・ユニット内に位置する第2の反対側の端部とを有し、
前記軸方向の孔と同軸に位置付けられたエミッター搬送
要素と; エミッター・ユニットを該搬送要素に継続的に供給する
ためのエミッター送り手段と:前記導管線速度に実質的
に等しいエミッター・ユニット速度において、前記搬送
要素に沿って、前記エミッター・ユニットを、前記導管
線速度に実質的に達した押し出し成形された導管と接触
状態に移動させるエミッター移動手段; とを備えて成ることを特徴とする。
本発明の第4の見地により、内部に加熱溶接されたエミ
ッター・ユニットを有する滴下潅漑用導管を生産する方
法が提供され、ここで、各エミッター・ユニットは、導
管の横断方向の周縁部範囲の半分よりも大きくない横断
方向の周縁部範囲を有する溶接領域を含み、この方法は
、 第1の外径と第1の線速度において、押し出しクロスヘ
ッドから潅漑用導管を連続的に押し出し成形し; 第1の外径よりも小さい第2の外径に引き延ばしそして
第1の線速度よりも大きな第2の線速度を有するように
、押し出し成形された導管を中間ゾーンを通してキヤリ
プレータ・ユニットへと通過させ; 押し出し機のクロスヘッド内に位置する一方の端部から
キヤリプレータ・ユニット内に位置スる反対側の端部に
まで延び、そして押し出し成形された導管と同軸である
支持領域上で前記エミッター・ユニットを支持し; エミッター・ユニット線速度において各支持されたエミ
ッター・ユニットを、前記第2の線速度に実質的に達し
た前記押し出し成形された導管との接触状態に移動させ
: 押し出し成形された導管と、内部に加熱溶接されたエミ
ッター・ユニットを冷却し; 導管に加熱溶接されたエミッター・ユニットの位置を連
続的に決定し; エミッター・ユニットのためのそれぞれの滴下出口を形
成するために導管に穴を開ける;ことから成ることを特
徴とする. 本発明による方法と装置により、押し出し成形された導
管は、半溶融の展性状態にある間に、導管線速度に実質
的に等しい移動速度に達するように静止状態から加速さ
れた継続的なエミッター・ユニットによって接触させら
れることを確実なものとすることが可能であり、この場
合、エミッター・ユニットは、導管に接触しそして導管
に十分に加熱溶接されるまで常時支持され、これによっ
て押し出し成形工程又は導管の全体特性を乱すことなし
に、押し出し成形工程全体の一部として、導管へのエミ
ッター・ユニットの有効な加熱溶接を確実なものとする
. 本発明のより良い理解のために、そして実際に本発明が
実施される方法を示すために、添付の図面を参照する。
第1図に見られるように、本装置は、長く伸びたエミッ
ター搬送装置4が延びる同軸の孔3を有する押し出しヘ
ッド2を備えた押し出し機lを具備する。搬送装置4の
上流端部4aは、エミッター・スタック5に対して併置
され、エミッター・スタック5からエミッタ−6を搬送
装置4の上流端部に継続的に供給することができる。
キヤリプレーシ層冫及び冷却ユニット8は、押し出しヘ
ッド2から下流に位置しそして中間領域9によってそこ
から間隔をあけられる。搬送装置4の下流端fi4bは
ユニット8に突出する。ユニット8の下流に複数のさら
に別の冷却ユニット10があり、導管穴開けfillと
、押し出し成形された導管l3を引き抜くためのキャタ
ピラー形式の引き抜き手段l2と、導管巻取り機構14
とが続く。
エミッター移動手段l6は、搬送装置4の上流端部4a
の上流に位置し、そして搬送装置4と整合したプッシャ
ーl7を備える。操作要求条件により常に制御される速
度においてプッシャー17を移動させるように、移動手
段は、例えば、機械的、電気機械的、又は水力学的に動
作させられる.押し出しクロスヘッド2、搬送装置4及
びキャリプレーション及び冷却ユニット8のさらに詳細
な説明のために、第2図と第3図を参照する。押し出し
クロスヘッド2は、ダイ要素23がねじ装着された円筒
形スリーブ22にボルト留めされた外側に向いた7ラン
ジ21aを有するマンドレル2lを具備し、この場合ダ
イ要素23とマンドレル2lの間で、導管13が押し出
し成形される間隔が規定される。
中間領域9によって押し出しクロスヘッド2から間隔を
あけられて、キヤリプレータ及び冷却ユニット8があり
、このユニット8は、ユニット8の壁に固定されたキヤ
リプレータ・7ランジ25と一体形成された穴付きキヤ
リプレータ管24を具備し、ユニット8は真空下で冷却
水を満たされる。
押し出しクロスへッド2の軸方向の孔3と中間領域9を
通ってキヤリプレータ管24の軸方向の孔26に、長く
伸びた搬送装置4が突き出し、第3図に見られるように
、搬送装置4には搬送装置の長さに沿って通過しそして
入口ニツプル28から冷却水の流路のために役立つ一対
の長く伸びたダクト27が形成される。
搬送装置4には、エミッタ−6の基部に形成された対応
する凹部に嵌まるように適合しエミッタ−6を支持しか
つ整合させるために、軸方向上方リブ29が形成される
。搬送装置4は、支持柱30によってその上流端部4a
において支持される。
操作において、押し出し成形された大きな直径の溶融し
た導管l3として第1の線速度においてそこから出現す
るように、プラスチック材料3lは、押し出し機lから
押し出しクロスヘッド2を通過する。引き抜き手段l2
によって及ぼされた牽引力の下で、導管l3はキヤリプ
レータ管24の狭い開口を通過し、その直径と璧厚さは
最終寸法に実質的に減少させられ、そして第2の早い線
速度になる。押し出し成形された導管l3が第2の線速
度においてキヤリプレータ・ユニット8と続く冷却ユニ
ット9を通過するので、押し出し成形された導管l3は
、最終硬化状態に達するまで冷却させられる。
同時に、エミッタ−6は搬送装置4の上流端部4aに継
続的に供給される。そして、導管がキヤリプレータ・ユ
ニット8への入口領域において半溶融状S+こまだあり
そして導管が第2の線速度に実質的に達したとき、継続
的な各エミッター6の上方表面が導管の間隔をあけられ
た内側表面部に接触するまで、導管の第2の線速度に実
質的に対応する線速度にまで加速させられるように、エ
ミッタ−6は搬送装置4に沿ってプッシャーl7によっ
て移動させられる。
こうして各エミッタ−6は、導管の内側表面に加熱溶接
され始め、一方導管の第2の線速度に実質的に等しい線
速度において搬送装置に沿って移動し、エミッターが搬
送装置の端部に到達するときまでに、導管に確実に加熱
溶接される。
プッシャ−17によるエミッタ−6の移動は直接的又は
間接的に行われる。間接的な場合とは1つ又はそれ以上
の中間要素又はエミッターを経由することである。
搬送装置の要素は、常に押し出し成形された導管に接触
することがなく、そして導管に究極的に加熱溶接される
エミッターの表面から離れたその表面においてエミッタ
ーを支持することが理解されよう。
導管l3内のエミッタ−6の間隔は、搬送装置4に沿っ
たエミッタ−6の継続的な移動間の時間間隔によって決
定される。
一旦エミッタ−6が、導管に確実に加熱溶接されたなら
ば、そして導管が最終冷却ユニット9から出現した後に
、導管l3内のエミッター・ユニット6の位置が検出さ
れ、そして導管13は穴開け部11を通過し、ここで導
管はエミッター出口に対応する位置に穴を開けられる。
引き抜き機構によって引き抜かれた、内部に加熱溶接さ
れたエミッターを有する導管l3は、巻取り機構l4に
よって巻き取られる。
第2図と第3図に示された実施態様において、搬送装置
4は、エミッター・ユニット6を搬送装RJこよって支
持しかつ搬送装置上jz整合させるように構成される(
これを示すさらに別の実施態様が第4a図と第4b図に
示される)が、搬送装置の構造は、エミッター・ユニッ
トが搬送装置から有効に吊されかつ搬送装置によって整
合されるように設計されていればよい。
さらに、上記で特に記載された実施態様において、エミ
ッター・ユニットと押し出し成形された導管との間の接
触を確実なものとしそしてエミッター・ユニットが最終
の実質的に一定の速度に達したとき十分な加熱溶接が行
われるように、搬送装置4はキヤリプレータ・ユニット
8に突出するが、代替的に、搬送装置4を、搬送装置4
の入口の領域のみに延ばすこともできる。この状況は、
上記で詳細に記載したものに比較して、製品の最終品質
に関して理想から離れたものとなるが、この場合、導管
l3へのエミッタ−6の加熱溶接は、導管に不当な応力
を生じさせず、そして押し出し成形工程の安定性又は押
し出し成形された導管へ悪影響を与えないことが保証さ
れる。
本発明の主なる特徴及び態様は以下のとおりである。
1、 内部に加熱溶接されたエミッター・ユニットを有
する滴下潅漑用導管を生産する方法であつて、 ここで、該エミッター・ユニットの各々は、導管の横断
方向の周縁部範囲の半分よりも大きくない横断方向の周
縁部範囲を有する・溶接領域を含み、 第1の外径と第1の線速度において、押し出しクロスヘ
ッドから潅漑用導管を連続的に押し出し成形し; 第iの外径よりも小さい第2の外径に引き延ばしそして
第1の線速度よりも大きな第2の線速度を有するように
、押し出し成形された導管を中間ゾーンを通してキヤリ
プレータ・ユニットへと通過させ; 押し出し機のクロスヘッド内に位置する一方の端部から
キヤリプレータ・ユニット内に位置する反対側の端部に
まで延び、そして押し出し成形された導菅と同軸である
支持領域上で前記エミッター・ユニットを支持し; 第2の線速度に実質的に等しいエミッター・ユニット線
速度を達成するために、前記支持されたエミッター・ユ
ニットを連続的に加速し;エミッター・ユニット線速度
において各支持されたエミッター・ユニットを、第2の
線速度に実質的に達した前記押し出し成形された導管と
の接触状態に移動させ; エミッター・ユニットが実質的に前記反対側の端部にお
いて導管に加熱溶接されるまで、エミッター・ユニット
線速度において各支持されたエミッター・ユニットを押
し出し成形された導管との接触状態に移動させ: 押し出し成形された導管と、内部に加熱溶接されたエミ
ッター・ユニットを冷却し; 導管に加熱溶接されたエミッター・ユニットの位置を連
続的に決定し; エミッター・ユニットのためのそれぞれの滴下出口を形
成するために導管に穴を開ける;ことから成ることを特
徴とする方法。
2.支持領域の前記反対側の端部が、キヤリプレータ・
ユニットの入口領域に位置することを特徴とする上記l
に記載の方法. 3.内部に加熱溶接されたエミッター・ユニットを有す
る滴下潅漑用導管を生産する方法であって、 二二で、該エミッター・ユニットの各々は、導管の横断
方向の周縁部範囲の半分よりも大きくない横断方向の周
縁部範囲を有する溶接領域を含み、 第1の外径と第1の線速度において、押し出しクロスヘ
ッドから潅漑用導管を連続的に押し出し成形し; 第1の外径よりも小さい第2の外径に引き延ばしそして
第1の線速度よりも大きな第2の線速度を有するように
、押し出し成形された導管を中間ゾーンを通してキヤリ
プレータ・ユニットへと通過させ; 押し出し機のクロスヘッド内に位置する一方の端部から
キヤリプレータ・ユニット内に位置する反対側の端部に
まで延び、そして押し出し成形された導管と同軸である
支持領域上で前記エミッター・ユニットを支持し; エミッター・ユニット線速度において各支持されたエミ
ッター・ユニットを、第2の線速度に実質的に達した前
記押し出し成形された導管との接触状態に移動させ; 押し出し成形された導管と、内部に加熱溶接されたエミ
ッター・ユニットを冷却し; 導管に加熱溶接されたエミッター・ユニットの位置を連
続的に決定し; エミッター・ユニットのためのそれぞれの滴下出口を形
成するために導管に穴を開ける;ことから成ることを特
徴とする方法. 4.滴下潅漑用導管を生産する押し出し成形装置であっ
て、 軸方向の孔を有する押し出しクロスヘッドと;中間領域
によってそこから間隔をあけられたキヤリプレータ・ユ
ニットと: 導管線速度においてキヤリプレータ・ユニットを通して
且つキャリプレータ・ユニットから押し出し成形された
導管を引き抜くために、該キヤリプレータ・ユニットの
下流に位置する引き抜き手段と; 前記軸方向の孔内に位置するMlの端部と、前記キヤリ
プレータ・ユニット内に位置する第2の反対側の端部と
を有し、前記軸方向の孔と同軸に位置付けられたエミッ
ター搬送要素と:エミッター・ユニットを該搬送要素に
継続的に供給するためのエミッター送り手段と:導管線
速度に実質的に等しいエミッター・ユニット速度を達成
するために、前記搬送要素に沿ってエミッター・ユニッ
トを連続的に加速し、押し出し成形された導管が導管線
速度に実質的に達したときエミッター・ユニット速度に
おいて前記搬送要素に沿ってエミッター・ユニットを押
し出し成形された導管との接触状態に移動させ、そして
エミッター・ユニットが前記搬送要素の実質的に前記反
対側の端部において導管に加熱溶接されるまで前記搬送
要素に沿ってエミッター・ユニットを移動させる、エミ
ッター移動手段; とを備えて成ることを特徴とする装置。
5.該移動手段は、前記搬送要素によって保持されたエ
ミッターに係合するのに適しそして該搬送要素と整合し
た移動可能なプッシャーを含む上記4に記載の押し出し
成形装置。
6.前記移動手段は、電気機械的に作動される上記5に
記載の押し出し成形装置。
7.前記移動手段は、空気圧により作動される上記5に
記載の押し出し成形装置。
8.前記移動手段は、水力学的に作動される上記5に記
載の押し出し成形装置。
9.前記搬送要素は、冷却用流体輸送手段を備える上記
4〜8のいづれか1つに記載の押し出し成形装置。
10.前記搬送要素は、前記エミッターを支持゛するよ
うに設計されている上記4〜9のいづれか1つに記載の
押し出し成形装置。
11.前記搬送要素は、そこから前記エミッターを吊す
ように設計されている上記4〜9のいづれか1つに記載
の押し出し設計装置。
12,搬送要素の反対側の端部は、キヤリプレータ・ユ
ニットの入口領域に位置する上記4に記載の押し出し成
形装置。
13.滴下潅漑用導管を生産する押し出し成形装置であ
って、 軸方向の孔を有する押し出しクロスヘッドと;中閲領域
によってそこから間隔をあけられたキヤリプレータ・ユ
ニットと; 導管線速度においてキヤリプレータ・ユニットを通して
且つキャリプレータ・ユニットから押し出し成形された
導管を引き抜くt;めに、該キヤリプレータ・ユニット
の下流に位置する引き抜き手段と; 前記軸方向の孔内に位置する第1の端部と、前記キヤリ
プレータ・ユニット内に位置する第2の反対側の端部と
を有し、前記軸方向の孔と同軸に位置付けられたエミッ
ター搬送要素と;エミッター・ユニットを該搬送要素に
継続的に供給するためのエミッター送り手段と;導管線
速度に実質的に等しいエミッター・ユニツト速度におい
て、前記搬送要素に沿って、エミッター・ユニットを、
導管線速度に実質的に達した押し出し成形された導管と
接触状態に移動させるエミッター移動手段; とを備えて成ることを特徴とする装置。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明による滴下潅漑用導管押し出し成形装
置の概略図。 第2図は、第1図に示された装置の一部分の拡大縦断面
図。 第3図は、第2図の線■一■に沿って取られた装置の断
面図。 第4a図及び第4b図は、第2悶と第3図に示された装
置の詳細の種々の修正の断面図。 l・・・・・・押し出し機 2・・・・・・押し出しツヘッド 3・・・・・・孔 4・・・・・・エミッター搬送装置 4a・・・・上流端部 5・・・・・・エミッター・スタック 6・・・・・・エミッター 8・・・・・・キヤリプレーション及び冷却ユニツ9・
・・・・・中間領域 10φ・・●・・冷却ユニット 11・・・・・・導管穴開け部 l2・・・・・・引き抜き手段 l3・・・・・・導管 l4・・・・・・導菅巻取り機構 16・・・・・・エミッター移動手段 l7・・・・・・プッシャー 23・・・・・・グイ要素 22・●・・・●スリーブ 2l●●●●●●マンドレノレ 24・・・・・・キヤリプレータ管 25・・・・・・キヤリプレータ・フランジ26・・・
・・・孔 27・・・・・・ダクト 28#I14a##λ口ニッグル 29・・・・・・リブ 30・・・・・・支持柱

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、内部に加熱溶接されたエミッター・ユニットを有す
    る滴下潅漑用導管を生産する方法であって、 ここで、該エミッター・ユニットの各々は、導管の横断
    方向の周縁部範囲の半分よりも大きくない横断方向の周
    縁部範囲を有する溶接領域を含み、 第1の外径と第1の線速度において、押し出しクロスヘ
    ッドから潅漑用導管を連続的に押し出し成形し; 第1の外径よりも小さい第2の外径に引き延ばしそして
    第1の線速度よりも大きな第2の線速度を有するように
    、押し出し成形された導管を中間ゾーンを通してキヤリ
    プレータ・ユニットへと通過させ; 押し出し機のクロスヘッド内に位置する一方の端部から
    キヤリプレータ・ユニット内に位置する反対側の端部に
    まで延び、そして押し出し成形された導管と同軸である
    支持領域上で前記エミッター・ユニットを支持し; 第2の線速度に実質的に等しいエミッター・ユニット線
    速度を達成するために、前記支持されたエミッター・ユ
    ニットを連続的に加速し; エミッター・ユニット線速度において各支持されたエミ
    ッター・ユニットを、第2の線速度に実質的に達した前
    記押し出し成形された導管との接触状態に移動させ; エミッター・ユニットが実質的に前記反対側の端部にお
    いて導管に加熱溶接されるまで、エミッター・ユニット
    線速度において各支持されたエミッター・ユニットを押
    し出し成形された導管との接触状態に移動させ; 押し出し成形された導管と、内部に加熱溶接されたエミ
    ッター・ユニットを冷却し; 導管に加熱溶接されたエミッター・ユニットの位置を連
    続的に決定し; エミッター・ユニットのためのそれぞれの滴下出口を形
    成するために導管に穴を開ける; ことから成ることを特徴とする方法。 2、内部に加熱溶接されたエミッター・ユニットを有す
    る滴下潅漑用導管を生産する方法であって、 ここで、該エミッター・ユニットの各々は、導管の横断
    方向の周縁部範囲の半分よりも大きくない横断方向の周
    縁部範囲を有する溶接領域を含み、 第1の外径と第1の線速度において、押し出しクロスヘ
    ッドから潅漑用導管を連続的に押し出し成形し; 第1の外径よりも小さい第2の外径に引き延ばしそして
    第1の線速度よりも大きな第2の線速度を有するように
    、押し出し成形された導管を中間ゾーンを通してキヤリ
    プレータ・ユニットへと通過させ; 押し出し機のクロスヘッド内に位置する一方の端部から
    キヤリプレータ・ユニット内に位置する反対側の端部に
    まで延び、そして押し出し成形された導管と同軸である
    支持領域上で前記エミッター・ユニットを支持し: エミッター・ユニット線速度において各支持されたエミ
    ッター・ユニットを、第2の線速度に実質的に達した前
    記押し出し成形された導管との接触状態に移動させ; 押し出し成形された導管と、内部に加熱溶接されたエミ
    ッター・ユニットを冷却し; 導管に加熱溶接されたエミッター・ユニットの位置を連
    続的に決定し; エミッター・ユニットのためのそれぞれの滴下出口を形
    成するために導管に穴を開ける; ことから成ることを特徴とする方法。 3、滴下潅漑用導管を生産する押し出し成形装置であっ
    て、 軸方向の孔を有する押し出しクロスヘッドと;中間領域
    によってそこから間隔をあけられたキヤリプレータ・ユ
    ニットと; 導管線速度においてキヤリプレータ・ユニットを通して
    且つキヤリプレータ・ユニットから押し出し成形された
    導管を引き抜くために、該キヤリプレータ・ユニットの
    下流に位置する引き抜き手段と; 前記軸方向の孔内に位置する第1の端部と、前記キヤリ
    プレータ・ユニット内に位置する第2の反対側の端部と
    を有し、前記軸方向の孔と同軸に位置付けられたエミッ
    ター搬送要素と; エミッター・ユニットを該搬送要素に継続的に供給する
    ためのエミッター送り手段と; 導管線速度に実質的に等しいエミッター・ユニット適度
    を達成するために、前記搬送要素に沿ってエミッター・
    ユニットを連続的に加速し、押し出し成形された導管が
    導管線速度に実質的に達したときエミッター・ユニット
    適度において前記搬送要素に沿ってエミッター・ユニッ
    トを押し出し成形された導管との接触状態に移動させ、
    そしてエミッター・ユニットが前記搬送要素の実質的に
    前記反対側の端部において導管に加熱溶接されるまで前
    記搬送要素に沿ってエミッター・ユニットを移動させる
    、エミッター移動手段; とを備えて成ることを特徴とする装置。 4、滴下潅漑用導管を生産する押し出し成形装置であっ
    て、 軸方向の孔を有する押し出しクロスヘッドと;中間領域
    によってそこから間隔をあけられたキヤリプレータ・ユ
    ニットと; 導管線速度においてキヤリプレータ・ユニットを通して
    且つキヤリプレータ・ユニットから押し出し成形された
    導管を引き抜くために、該キヤリプレータ・ユニットの
    下流に位置する引き抜き手段と; 前記軸方向の孔内に位置する第1の端部と、前記キヤリ
    プレータ・ユニット内に位置する第2の反対側の端部と
    を有し、前記軸方向の孔と同軸に位置付けられたエミッ
    ター搬送要素と; エミッター・ユニットを該搬送要素に継続的に供給する
    ためのエミッター送り手段と; 導管線速度に実質的に等しいエミッター・ユニット速度
    において、前記搬送要素に沿って、エミッター・ユニッ
    トを、導管線速度に実質的に達した押し出し成形された
    導管と接触状態に移動させるエミッター移動手段; とを備えて成ることを特徴とする装置。
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