JPH02237963A - トロポロン誘導体 - Google Patents
トロポロン誘導体Info
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- JPH02237963A JPH02237963A JP5777589A JP5777589A JPH02237963A JP H02237963 A JPH02237963 A JP H02237963A JP 5777589 A JP5777589 A JP 5777589A JP 5777589 A JP5777589 A JP 5777589A JP H02237963 A JPH02237963 A JP H02237963A
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- JP
- Japan
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- formula
- alkyl
- tropolone
- compound
- dodecyloxycarbonyltetrafluorophenoxy
- Prior art date
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- Pending
Links
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く産業上の利用分野〉
本発明は、殺菌剤等の農薬の原料あるいは医薬中間体と
して有用なトロボロン誘導体に関するものである. く従来の技術〉 本発明における新規なトロボロン誘導体は、今まで全く
報告されていない。またこれらの製造法についても今ま
で全く報告されていない。
して有用なトロボロン誘導体に関するものである. く従来の技術〉 本発明における新規なトロボロン誘導体は、今まで全く
報告されていない。またこれらの製造法についても今ま
で全く報告されていない。
く発明の構成〉
この発明は、下記一般式(1)で示されるトロボロン誘
導体を提供するものである。
導体を提供するものである。
F
F
〔ただし式中、R1は炭素数1〜20のアルキル基を表
わし、R8は炭素数1〜20のアルキル基〜20のアル
キル基を表わす)を表わす。〕具体的には例えば、(a
)〜(C)等の構造式の化合物が挙げられる。
わし、R8は炭素数1〜20のアルキル基〜20のアル
キル基を表わす)を表わす。〕具体的には例えば、(a
)〜(C)等の構造式の化合物が挙げられる。
本発明の化合物はいずれも文献未載の新規化合物であり
、たとえば、上記化合物(a)〜(C)等については、
下記の経路で合成することができる.この経路に関して
、化合物(C)を合成する方法で説明する.精製したベ
ンゼン(Bz)にペンタフルオロ安息香酸、ドデシルア
ルコール、および硫酸を加えモレキュラーシープで水を
除去しながら、窒素気流下で加熱還流し、反応後、溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
で分離精製し、ペンタフルオロ安息香酸ドデシルエステ
ルを得る. 次に精製したべキサメチルホスホリツクトリアミド(以
後HMPAと略す)に5−(4−ドデシルオキシカルボ
ニルテトラフルオロフエノキシ)トロポロンと水素化ナ
トリウム(Nap)を加え、窒素気流下で撹拌したもの
に、得られたペンタフルオロ安息香酸ドデシルエステル
を加え、反応させる。次いで得られた反応溶液を塩酸水
溶液中に加え、その後酢酸エチルで抽出する.有機層を
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒
を留去した後、残渣を酢酸エチルを溶離液としたシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、化合物(
C)を得る。
、たとえば、上記化合物(a)〜(C)等については、
下記の経路で合成することができる.この経路に関して
、化合物(C)を合成する方法で説明する.精製したベ
ンゼン(Bz)にペンタフルオロ安息香酸、ドデシルア
ルコール、および硫酸を加えモレキュラーシープで水を
除去しながら、窒素気流下で加熱還流し、反応後、溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
で分離精製し、ペンタフルオロ安息香酸ドデシルエステ
ルを得る. 次に精製したべキサメチルホスホリツクトリアミド(以
後HMPAと略す)に5−(4−ドデシルオキシカルボ
ニルテトラフルオロフエノキシ)トロポロンと水素化ナ
トリウム(Nap)を加え、窒素気流下で撹拌したもの
に、得られたペンタフルオロ安息香酸ドデシルエステル
を加え、反応させる。次いで得られた反応溶液を塩酸水
溶液中に加え、その後酢酸エチルで抽出する.有機層を
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒
を留去した後、残渣を酢酸エチルを溶離液としたシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、化合物(
C)を得る。
なお本発明の化合物が上記の合成経路のみによって得ら
れるものでないことは言うまでもない.〈実施例〉 次に、実施例によって本発明をさらに詳細に説明する. 実施例1 精製されたHMPA5mj!中に、5−(4−ドデシル
オキシカルボニルテトラフルオロフエノキシ)トロポロ
ンを49■(0. 1 0mmol)および50%濃度
の水素化ナトリウム6■(0. 1 1mmol)を加
え、O℃で数分間撹拌した後、窒素気流下60゜Cに温
度を保ち、3時間加熱撹拌した.これに、ペンタフルオ
ロ安息香酸ドデシルエステル70■(0. i 8m−
o1)を加え、引続き同温度で7時間加熱撹拌した. 反応溶液をO″C 2N=塩酸水溶液中に加え、反応
を停止させ、酢酸エチルで抽出した.有機層を再び水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去
した. 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(へ率サン
=酢酸エチル−6:1)で分離精製し、2.5−ジ(4
−ドデシルオキシ力ルポニルテトラフルオロフェノキシ
)トロボンを収11.5ng,収率17%で得た. このものの物性を下記に示す. 融点 60℃ ’ H−NMR (CDC Il s)δ0.88(
6H,t,J−6.6Hz). 1.2−1.5(36
H,m),1:75(411,s), 4.38(4
H4),6.37(1B,brd,J−10.6}1z
). 7.21(IH,d,J=10.611z).7
.31(IH,dd,J−13.2Hz). 7.38
(IH.dd,J=13.2Hz)IコC−NMR
(CDC l x)δ 14.1, 22.7,
25.77. 25.80. 28.5. 29
.2.29.4. 29.5. 29.56,
29.64. 31.9. 66.7.67.2,
110.8, 111.6, 121.3,
131.2, 140,5.158.2, 15
8.8, 159.1, 159.8, 177
.4”F−NMR (CDC13) δ 6.4. 9.7. 21.8. 24.0
(1:1:1:1)MS m/z 858(M”−
1), 859(MつIR (KBr,disc) v 3000−2800. 1710, 1580.
1470. 1310. 1200,Calcd
(%) C 62.93 H 6.34Fo
und (%) C 62.74 H 6
.47実施例2 実施例1において5−(4−ドデシルオキシヵルボニル
テトラフルオロフェノキシ)トロボロンの代りに、5−
ドデシルオキシトロボロン31■(0. 1 0mmo
l)を用いた以外実施例1と同様に操作して5−ドデシ
ルオキシ−2−(4−ドデシルオキシカルボニルテトラ
フルオロフェノキシ)トロボンを得た. このものの物性を下記に示す. 融点 54゜C ’H−NMR (CDC l 3) 60.88(6H.t.J=6.6Hz). 1.2−
1.5(36H.s),1.71(2H.quint.
J−7.2Hz) .1.82(2H.quint.J
=7.1Hz). 3.94(2H.t,J=6.6H
z).4.35(:llI.t.J=6.6Hz),
6.27(18,brd,J=10.6Hz).7.1
4(IH,dd,J−13.2Hz). 7.19(1
}1,dd,J=13.2}1z).7.37(IH,
d,J=10.6Hz)IC−NMR (CDCf s
) δ14.1, 22.7. 25.8. 26.0.
28.5. 2B.8. 29.2.29.3. 29
.4. 29.50. 29.53, 29.5?,
29.64.31.9. 66.5, 69.0. 1
06.0. 106.5, 124.5,134.3,
139.7, 139.9(Jcp252.41Lz)
.145.3(Jcr=249.4Hz). 155.
2, 160.0. 162.8.177.5 ’ ”F−NMR (CDC l s)δ 5.7,
21.2 (1:1)MS m/z 666(M
”−1), 667(M”)IR (KBr,di
sc) ν 2B90, 2830, 1700. 16
30. 1575, 1520. 1470.C
alcd (%) C 68.45 H
8.16Found (%) C 68.44
H 8.16実施例3 実施例2において、ペンタフルオ口安息香酸ドデシルエ
ステルの代りに、ペンタフルオロ安息香酸ヘキサデシル
エステル78.5■(0. 1 8+u+ol)を用い
た以外は、実施例2と同様に操作して、5ーオクチルオ
キシー2−(4−ヘキサデシルオキシカルボニルテトラ
フルオロフエノキシ)トロボンを得た. このものの物性を下記に示す。
れるものでないことは言うまでもない.〈実施例〉 次に、実施例によって本発明をさらに詳細に説明する. 実施例1 精製されたHMPA5mj!中に、5−(4−ドデシル
オキシカルボニルテトラフルオロフエノキシ)トロポロ
ンを49■(0. 1 0mmol)および50%濃度
の水素化ナトリウム6■(0. 1 1mmol)を加
え、O℃で数分間撹拌した後、窒素気流下60゜Cに温
度を保ち、3時間加熱撹拌した.これに、ペンタフルオ
ロ安息香酸ドデシルエステル70■(0. i 8m−
o1)を加え、引続き同温度で7時間加熱撹拌した. 反応溶液をO″C 2N=塩酸水溶液中に加え、反応
を停止させ、酢酸エチルで抽出した.有機層を再び水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去
した. 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(へ率サン
=酢酸エチル−6:1)で分離精製し、2.5−ジ(4
−ドデシルオキシ力ルポニルテトラフルオロフェノキシ
)トロボンを収11.5ng,収率17%で得た. このものの物性を下記に示す. 融点 60℃ ’ H−NMR (CDC Il s)δ0.88(
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1470. 1310. 1200,Calcd
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und (%) C 62.74 H 6
.47実施例2 実施例1において5−(4−ドデシルオキシヵルボニル
テトラフルオロフェノキシ)トロボロンの代りに、5−
ドデシルオキシトロボロン31■(0. 1 0mmo
l)を用いた以外実施例1と同様に操作して5−ドデシ
ルオキシ−2−(4−ドデシルオキシカルボニルテトラ
フルオロフェノキシ)トロボンを得た. このものの物性を下記に示す. 融点 54゜C ’H−NMR (CDC l 3) 60.88(6H.t.J=6.6Hz). 1.2−
1.5(36H.s),1.71(2H.quint.
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21.2 (1:1)MS m/z 666(M
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30. 1575, 1520. 1470.C
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H 8.16実施例3 実施例2において、ペンタフルオ口安息香酸ドデシルエ
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た以外は、実施例2と同様に操作して、5ーオクチルオ
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フルオロフエノキシ)トロボンを得た. このものの物性を下記に示す。
融点 61゜C
’H−NMR (CDC l 3)
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1.5(36H,s+),1.72(2H.quint
.J−7.1Hz) ,1.81(2H,quint.
J−7.0Hz), 3.95(21{,t.J=6.
611z),4.35(2H.t.J=6.6Hz),
6.28(IH,brd.J−10.6Hz),7.
14(IH.dd.J−13.1Hz). 7.19(
LH,dd,J=13.1Hz).7.37(IH,d
.J−10.6Hz)” C−NMR (CDC l
s> δ14.09. 14.12. 22.66. 22.
70. 25.8. 26.0.2B.5. 2B.8
. 29.18. 29.24. 29.4. 29.
5.29.6. 29.68. 29.71. 31.
8. 32.0. 66.5.69.0, 106.1
, 106.5, 124.6, 134.4, 13
9.7,139.9(JCF=253.3H2). 1
45.4(Jcy”253.3tlz),155.2,
160.0. 162.9. 177.5”P−NM
R (CDC l s) δ5.7. 21.2 (1:1) MS mHz 665(M”−2), 666(
M”−1). 667(MつCa 1 cd (%) C 68.45 H 8.16 Found (%) C 68.61 I1 8.34
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Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式( I )で示されるトロポロン誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔ただし式中、R_1は炭素数1〜20のアルキル基を
表わし、R_2は炭素数1〜20のアルキル基または▲
数式、化学式、表等があります▼(ただしR_3は炭素
数1 〜20のアルキル基を表わす)を表わす。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5777589A JPH02237963A (ja) | 1989-03-13 | 1989-03-13 | トロポロン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5777589A JPH02237963A (ja) | 1989-03-13 | 1989-03-13 | トロポロン誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02237963A true JPH02237963A (ja) | 1990-09-20 |
Family
ID=13065242
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5777589A Pending JPH02237963A (ja) | 1989-03-13 | 1989-03-13 | トロポロン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02237963A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010105961A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Asahi Kasei E-Materials Corp | トロポロン誘導体のエーテル類の製造方法 |
-
1989
- 1989-03-13 JP JP5777589A patent/JPH02237963A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010105961A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Asahi Kasei E-Materials Corp | トロポロン誘導体のエーテル類の製造方法 |
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