JPS62209037A

JPS62209037A - α−ヒドロキシケトン誘導体の製造法

Info

Publication number: JPS62209037A
Application number: JP5179486A
Authority: JP
Inventors: Katsuyuki Ogura; 克之小倉; Toshihiko Tsuruta; 鶴田　利彦
Original assignee: Nissan Chemical Corp
Current assignee: Nissan Chemical Corp
Priority date: 1986-03-10
Filing date: 1986-03-10
Publication date: 1987-09-14

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、α−ヒドロキシケトン誘導体の製造法に関す
る。さらに詳しくは９本発明は。

一般式（ＩＶ）（式中　Ｒ１は置換または非置換アルキル基またはアラ
ルキル基を　Ｈｚは置換または非置換アルキル基、アラ
ルキル基またはアリール基を、又は水素原子またはアシ
ル基を示す。）工表されるα−ヒドロキシケトン誘導体
の製造法に関する。

ｆＱ式ｃＩＶ）で表されるα−ヒドロキシケトン誘導体
は工業薬品、溶剤、医薬、農薬等として有用なものが多
く、またこれらの合成中間体、特に各種生理活性中間体
として重要な化合物である。

例えば、還元条件を選択することによって、エリトロ−
１，２−ジオールとトレオー１．２−ジオールを高選択
的に得ることができる。

従来、メチルチオメチルアリールスルホン誘導体からケ
トン誘導体を得る方法としては、塩酸−メタノールＣＫ
、Ｏｇｕｒａ　ｅｔ　ａｌ、、Ｃｈｅｍ、Ｌ：ｅｔｔ、
、１９８２．８１３）あるいはシリカゲル−塩化銅（Ｙ
、Ｍｕｒａｔａ　ｅｔ　ａｔ、。

Ｂｕｌｌ、Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　Ｊｐｎ、、５４．２
５３９（１９８３）で処理する方法等が用いられてきた
が、これらの方法は一般式（ＩＶ）で表されるα−ヒド
ロキシケトン誘導体の製造法に適用した場合は経済性が
悪く、工業的製造法としては実用的でなかった。

本発明者らはこの問題を解決すべく鋭意研究を重ねた結
果、一般式（１）ルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を示す）を
　Ｒ１は置換または非置換アルキル基またはアラルキル
基を示す〕で表される化合物、すなわち、メチルチオメ
チルアリールスルホンの置換または非置換アルキル化体
あるいはアラルキル体を塩基でアニオン化したのち、一
般式（ＩＩ）Ｒ”−ＣＨｏ　　（ｎ）（式中　、Ｒ２は置換または非置換アルキル基、アラル
キル基またはアリール基を示す。）で表されるアルデヒ
ドに付加させ、そのまま、またはアシル化して得られた
一般式〔■〕（式中Ｉ　　Ｒ’　は置換または非置換アルキル基また
はアラルキル基を　Ｒ２は置換または非置換アルキル基
、アラルキル基または了り−ル基を、Ｘは水素原子また
はアシル基を示す。）で表される化合物をシリカゲル上で加水分解することに
よって目的化合物を高収率で得る方法をみいだし２本発
明を完成した。

以下に本発明の製造法を反応式を記して詳細に説明、す
るが１本発明はこれらによって限定されるものではない
。

以下余白（ＴＶ）アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を示す）
を、Ｒ′は置換または非置換アルキル基またはアラルキ
ル基を　、Ｒ２は置換または非置換アルキル基、アラル
キル基またはアリール基を、Ｘは水素原子またはアシル
基を示す。

〕本発明の第一工程は一般式ＣＩ）で表される化合物を
塩基でアニオン化した後、一般式（ＩＩ）で表されるア
ルデヒドと反応させるものであるが、この工程で用いる
塩基としては、水素化ナトリウムや水素化カリウムの如
きアルカ゛り金属水素化物。

リチウムイソプロピルアミドの如きアルカリ金属または
アルカリ土類金属アミド等が挙げられる。

収率の点からリチウムアミド誘導体およびアルキルリチ
ウムが好適に用いられ、使用量は１当量で十分である。

この工程の実施にあたってはテトラヒドロフランやジオ
キサン等の非プロトン性溶媒を用いることが好ましい。

反応終了後、水等のプロトン源を添加した後、一般的後
処理によってほぼ純粋な一般式〔■゛〕（式中　Ｒ１は置換または非置換アルキル基またはアラ
ルキル基を　Ｈ２は置換または非置換アルキル基、アラ
ルキル基またはアリール基を示す。）で表される化合物
を得ることができる。所望ならこの水酸基を、酸無水物
や酸塩化物などカルボン酸活性誘導体をピリジンやトリ
エチルアミンなどの塩基存在下で反応させて、保護する
ことによって一般式〔■”〕（式中　Ｒ１は置換または非置換アルキル基またはアラ
ルキル基を　Ｂｔは置換または非置換アルキル基、アラ
ルキル基またはアリール基を、Ｘはアシル基を示す、）
で表される化合物に導くことができる。

このようにして得られた一般式（Ｉ［［）で表される化
合物の粗製物を、シリカゲルで処理して一般式（ＩＶ）
で表されるα−ヒドロキシケトン誘導体に導く工程は、
シリカゲル処理で達成できる。用いるシリカゲルは市販
品を特に処理することな（。

そのまま使用できる。一般式ＣＩ［［］で表される化合
物をシリカゲルに吸着させ放置するという極めて簡単な
操作で加水分解は進行する。温度は室温で十分であるが
、加温することによって促進される傾向にある。一般に
は０℃から８０℃が好ましい。これによって生成した一
般式（ＩＶ）で表されるα−ヒドロキシケトン誘導体は
溶媒により溶出させ、減圧により濃縮して、高純度・高
収率で得ることができる。

以下、実施例を挙げてさらに詳細に説明するが。

本発明はこれらによって限定されるものではない。

去止五−上ｌ−メチルチオ−１−（ｐ−トリルスルホニル）プロパ
ン５３９ｍｇを無水テトラヒドロフラン１５ｍ１に溶か
し、−７８℃冷却した。ｎ−ブチルリチウムのヘキサン
溶液（１，５５Ｍ）　１．９ｍ１（１，３ｍｏｌ　ｅｑ
、）を３分間で滴下した。これを−４０〜−５０℃で１
時間攪拌した。再び一７８℃に冷却したのち３−フェニ
ルプロパナール４０４ｍｇ　（１，４ｍｏｌ　ｅｑ、）
を２分間で滴下し−６０〜−７０℃で１時間攪拌した。

水２０ｍ１に注ぎエーテル２０＋＋＋１で１回、１０ｍ
１で３回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧濃縮し、淡黄色油状物１．０４７ｇを得た
。このものは、はぼ純粋な２−メチルチオ−２−（ｐ−
トリルスルホニル）−１−（２−フェニルエチル）−１
−ブクノールの２種の混合物であった。

ＮＭ　Ｒ（ＣＤＣＩ：ｌ）：主たるジアステレオマーをＡ。

副のジアステレオマーをＢとする。

６０．９１　（ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ、　Ａ）と１．０２（
ｔ、Ｊ＝８Ｈｚ、Ｂ）合わせて３１（。

１．７５（ｓ、Ａ）と２．０９（ｓ、Ｂ）合わせて３１
１゜２．４３　（３ｔｌ、　ｓ、　Ａ＋Ｂ）　、　７．
２３　（５１１，ｓ、　Ａ＋８）７．３４（２１１，ｄ
、Ｊ＝８．４Ｈｚ、Ａ＋Ｂ）７．８１（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝
８．４１１ｚ、Ａ＋８）その他１．０〜４．４（８８，
ｍ）このうち、　６０７ｍｇ　（全体の５８％）を１０ｍ１
ナスフラスコにとり、ベンゼン３　ｍｌを加え、シリカ
ゲル１．５ｇを加え、室温で１６時間放置した。溶媒を
留去し。

カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ベンゼン）で
分離して４−ヒドロキシ−６−フェニル−３−へキサノ
ン２３７ｍｇを無色油状物質として得た。収率は９６％
であった。

（Ｒ（ｎｅａｔ）　　：　３４８０．１７１０ｃｍ　−
ｔＮＭＲ（ＣＤＣ１ｆｆ）　：６７．２９（５Ｈ，ｓ）。

４．１５（ＩＨ，ｍ、ＤｚＯ添加でｄｄ、　Ｊ＝３．６
．７．８１１ｚ）　。

３．７０（１Ｂ、ｂｒｏａｄ　ｄ、ＤｚＯ添加で消失）
２．９０−１．５７（６１１，ｍ）、　　１．０５（３
１１，ｔ、Ｊ＝７．２）１ｚ）ＭＳ（相対強度）：ｍ／ｅ　１９２（Ｍ”　、６）、１３４（４０）、１１
７（２６）、１０５（５０）。

９２　（３７）　、　９１　（１００）　、　８Ｂ　（
４９）　、　５７　（２２）　。

ス１貰二」− １−メチルチオ−１−（ｐ−）リルスルホニル）−２−
フェニルエタン３６１ｍｇを無水テトラヒドロフラン１
０−１に溶かし、−７８℃冷却した。ｎ−ブチルリチウ
ムのヘキサン溶液（１，５５Ｍ）　１．０ｍ１（１，３
■ｏｌ　ｅｑ、）を１分間で滴下した。はじめ淡黄色で
あった反応系が、３０分で一５０℃まで昇温するうちに
。

しだいに赤褐色に変化をしてきた。再び一７８℃に冷却
したのち３−フェニルプロパナール２０６ｍｇ（１，３
■ｏｌ　ｅｑ、）を１分間で滴下した。反応系はすぐに
淡黄色に変化した。そのまま１時間攪拌した。

水２０ｍ　ｌに注ぎ、エーテル２０ｍ１で１回、１０ｍ
１で３回抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧濃縮し、淡黄色油状物６３２ｍｇを得た。

このものは、２−メチルチオ−１，５−ジフェニル−２
−（ｐ４リルスルホニル）−３−ベンテノールの２種の
混合物であった。

ＮＭＲ（ＣＤＣｈ）　：主たるジアステレオマーをＡ。

副のジアステレオマーをＢとする。

δ２．０２（ｓ、Ａ）と２．２８（ｓ、Ｂ）合わせて３
Ｌ２．４６（３Ｈ，ｓ、Ａ＋８）、　　６．９〜７．５
（１２Ｈ，ａ、Ａ十Ｂ）７．８１　（ｄ、　Ｊ−８，４
Ｈｚ、　Ａ）と７．８４（ｄ、Ｊ＝８４１１ｚ、Ｂ）合
わせて２１（。

その他１．０〜４．５（８Ｈ，ｍ）これにベンゼン５　ｍｌを加え、シリカゲル２．５ｇを
加え、室温で１２時間、３０℃で２時間、４０〜５０℃
で２７時間放置した。溶媒を留去し、カラムクロマトグ
ラフィー（シリカゲル、ベンゼン−酢酸エチル５０：１
））により分離して、３−ヒドロキシ−１゜５−ジフェ
ニル−２−ペンタノン２５９ｍｇを無色油状物質として
得た。収率は９６％であつた。

Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　　：　３４９０，１７１２ｃｍ　
−’Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣｈ）　：６７．０−７，５（５Ｌｍ）、　　７．２３（５Ｈ，ｓ
）。

４．２４（ｌｔｌ、ｍ、ＤｔＯ添加でｄｄ、Ｊ＝４．２
，７．８Ｈｚ）３、７１　（２Ｈ，ｓ）　。

３．４３（１）１．ｄ、Ｊ−４，８１１ｚ、ＤｚＯ添加
で消失）２．９６−２．３８（２Ｈ，ｍ）、　　２．２
４−１．６４（２Ｈ，ｍ）ＭＳ（相対強度）：ｖａｌｅ　２５４（Ｍ″″、　３’）　、　１５０　（
７０）　、　１３４　（４９）　、　１２１　（２４）
　。

１１７（２５）　、　１０５（２６）　、９２（５６）
　、９１　（１００）　。

６５　（２６）　。

大隻■工主１−メチルチオ−１−（ｐ−）リルスルホニル）プロパ
ン３１５ｍｇを無水テトラヒドロフラン７ｍｌに溶かし
、−７８℃冷却した。ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶
−ａ（１，５５Ｍ）　１．０ｍ１（１，２ｍｏｌ　ｅｑ
、）を１分間で滴下した。これを−４０〜−５０℃で１
時間攪拌した。再び一７８℃に冷却したのち３−フェニ
ルプロパナール２５５ｍｇ　（１，５ａ＋ｏｌｅｑ、）
を１分間で滴下し−６０〜−７０℃で１時間攪拌した。

水２０ｍ１に注ぎ。

エーテル２０ｍ　ｌで１回、１０ｍ１で３回抽出した。

有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮し
、淡黄色油状物６３９ｍｇを得た。これをさらにデシケ
ータ中で減圧乾燥した。窒素雰囲気下、無水ピリジン４
ｍｌ＋蒸溜した無水酢酸１．５　ｍｌを加え。

室温で２０時間攪拌した。減圧濃縮し黄褐色油状物６９
７ｍｇを得た。これにベンゼン３ｍｌを加え、シリカゲ
ル１．５ｇを加えて、室温で４４時間放置した。溶媒を
留去し、カラムクロマトグラフィー（シリカケル、ヘキ
サン−ベンゼン、１：３）で分離して４−アセトキシ−
６−フェニル−３−へキサノン２０８ｍｇを得た。収率
は６９％であった。

Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　　：　１７４５，１７３０．１２
４５ｃｍ　−’ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）　：６７．２３（５Ｈ，ｓ）、　　　　５．０１（ＬＨ，ｔ
、Ｊ＝６．０ｆｌｚ）。

２．８６−１．８４（６８，ｍ）、　２．１２（３Ｈ，
ｓ）。

１．０３（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）特許出願人　日
産化学工業株式会社手続補正書（方式）％式％ｌ　事件の表示昭和６１年特許願第５１７９４号２　発明の名称 α−ヒドロキシケトン誘導体の製造法３　補正をする者事件との関係　　特許出願人住所　東京都千代田区神田錦町３丁目７番地１名称　（
３９８）日産化学工業株式会社４　補正命令の日付（発
送日）（２）明細書第１頁第３行と同第４行の間に「２、特許
請求の範囲」を補充する。

−ハ　・−、芝ム）

Claims

【特許請求の範囲】

（１）一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕〔式中、Ａは、▲数式、化学式、表等があります▼（Ｒ
は水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基またはハロ
ゲン原子を示す）を、Ｒ＾１は置換または非置換アルキ
ル基またはアラルキル基を示す〕で表されるメチルチオ
メチルアリールスルホン誘導体を塩基存在下、一般式〔
II〕Ｒ＾２−ＣＨＯ〔II〕（式中、Ｒ＾２は置換または非置換アルキル基、アラル
キル基またはアリール基を示す。）で表されるアルデヒ
ドと反応させ、そのまま、またはさらにアシル化して一般式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕（式中、Ｒ＾１は置換または非置換アルキル基またはア
ラルキル基を、Ｒ＾２は置換または非置換アルキル基、
アラルキル基またはアリール基を、Ｘは水素原子または
アシル基を示す。）で表される化合物を得て、該化合物
にシリカゲルを作用させることを特徴とする一般式〔IV〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔IV〕（式中、Ｒ＾１は置換または非置換アルキル基またはア
ラルキル基を、Ｒ＾２は置換または非置換アルキル基、
アラルキル基またはアリール基を、Ｘは水素原子または
アシル基を示す。）で表されるα−ヒドロキシケトン誘
導体の製造法。
（２）一般式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕（式中、Ｒ＾１は置換または非置換アルキル基またはア
ラルキル基を、Ｒ＾２は置換または非置換アルキル基、
アラルキル基またはアリール基を、Ｘは水素原子または
アシル基を示す。）で表される化合物にシリカゲルを作
用させることを特徴とする一般式〔IV〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔IV〕（式中、Ｒ＾１は置換または非置換アルキル基またはア
ラルキル基を、Ｒ＾２は置換または非置換アルキル基、
アラルキル基またはアリール基を、Ｘは水素原子または
アシル基を示す。）で表されるα−ヒドロキシケトン誘
導体の製造法。