JPH02237676A - 塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁性塗料などをウェブに対して塗布する塗布
装置に関する。

〔従来の技術〕

磁気記録媒体を製造する際の磁性塗料の塗布、写真感光
材料液の塗布、感熱記録材料液の塗布などに際して、塗
布ヘッドから塗布液を押し出ししながらウェブに対して
塗布する押出し塗布方法（エクストルージョンコート法
）が知られている。

この押出し塗布方法は、ロールコート法、グラビアコー
ト法、スライドビードコート法、あるいはドクターコー
ト法を付加した方法などに対して膜厚制御性に優れるな
どの利点がある。

かかる押出し塗布方法に関しては、従来から種々の改良
の提案がある。たとえば、特公昭−６２８８５７４号に
は、予め支持体を加熱処理することにより、支持体の厚
みムラ、剛性のバラツキ、支持体の歪みを均一化するこ
と（先行技術ｌ）について、特公昭５４−７３０６号に
は、塗布ヘッドの先端線を振るように塗布ヘッドを振動
させることによって、ウェブの流れに追従させ塗布性を
向上させることがそれぞれ教示されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、先行技術ｌおよび２は、ある場合におい
て有効かもしれないが、既に存在するウェブの歪みなど
を実質的に解消することは難しいばかりでなく、むしろ
後述する本発明に係る手段による方がその利点が大きく
あらわれる。

さらに、これら先行技術には、重要な視点が欠けている
。

すなわち、ウェブはサポートロール間で保持し、その背
面は支持しないで塗布を行うので、サポートロールに伝
わる周囲からの振動がウェブに作用しウェブが振動する
。この振動があると、スロットとウェブとの距離が経時
的に変化して、長手方向の塗布ムラを生じる。

そこで、本発明の主たる目的は、ウェブを安定して走行
させる条件を設定することによって、ウェブの振動、シ
ワ、サポートロールに対する滑りや遊びを防止し、もっ
て塗布性に優れる塗布装置を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記課題は、可撓性ウェブが通る一対の上流がわおよび
下流がわサポートロール間に配された押出し型塗布ヘッ
ドが前記ウェブに対して押し付けられ塗布ヘッドのスロ
ットから塗布液を押し出してウェブに塗布する装置にお
いて； 前記上流がわサポートロールの下流に出側ガイドロール
を有し、 前記上流がわサポートロールにおけるウェプの抱き角α
が４５°〜９０°、下流がわサポートロールにおけるウ
ェブの抱き角βが２０°〜１２００さらに、入側ガイド
ロールと上流がわサポートロールの中心間距離をｙｍｍ
、上流がわサポートロールと下流がわサポートロールの
中心間距離をＸ国としたとき、ｙ＝７０の直線と次記Ａ
式の曲線とで囲まれる領域内、 Ｙ＝−０．０１５（Ｘ−３００）”＋５５０・−・・・
・（Ａ）に設定してあることで解決できる。

〔作用〕

本発明にしたがって、αおよびβが上記の規定範囲内で
あると、ウェブが各サポートロールに対して良好に接触
し、もってサポートロールに対するスリップや遊びがな
く良好に走行する。

また、上記Ｘおよびｙが第２図の２領域内にあると、推
測であるが、ウェブの歪み、シワ等が解消されるととも
に、ウェブ形状を修正した状態で上流がわサポートロー
ルにウェブを導入できるので、ウェブの走行性が高まる
と考えられる。

さらに、サポートロール間でウェブが安定して走行し、
ウェブが両サポートロールに確実に抱かれるので、サポ
ートロールに振動が外部から加えられたとしても、その
振動からウェブに伝わり難くなる。

上記のような各要因が重畳して良好な塗布性が得られる
。

〔発明の具体的構成〕

以下本発明をさらに詳説する。

第１および２図は本発明を実施するための装置を示した
もので、ウェブｌは入側ガイドロール２、上流がわおよ
び下流がわサポートロール３，４および出側ガイドロー
ル５を通り後工程、たとえば乾燥工程に導かれる。

サポートロール３，４間には、塗布ヘッド６がウェブ１
表面に対して押し付けられ、これによってウェブｌの塗
布部における押し付け力が設定されるようになっており
、液圧力とバランスするこの設定に際しては、塗布ヘッ
ドｌの背後からたとえばスクリューねじ７によって塗布
ヘッド６をウェブＩに対しての押し付け力を調整するこ
とで設定される。

塗布ヘッド６は、フロントエッジ６Ａおよびパックエッ
ジ６Ｂを有し、これらの間に液溜め部６ｃおよびこれに
幅が狭い連通ずるスロット６Ｄを有する。塗布液は、ボ
ンブ（図示せず）により、液溜め部６Ｃに圧送され、ス
ロット６Ｄを通ってウェブ１に対して塗布される。

本発明では、前記上流がわサポートロール３におけるウ
ェブ１の抱き角αが４５°〜９０°、下流がわサポート
ロール４のウェブ１の抱き角βが２０°〜１２０°に設
定されるとともに、入側ガイドロールと上流がわサポー
トロールの中心間距離をｙＩＩＩＩＩ１１上流がわサポ
ートロールと下流がわサポートロールの中心間距離をＸ
Ｍとしたとき、ｙ＝７０の直線と次記Ａ式の曲線とで囲
まれる領域内に設定してある。

ｙ＝　−０．　０１５（　Ｘ　−３００）　”　＋５５
０・・・・・・（Ａ）前記α、β、Ｘおよびｙは各ロー
ル２，３，４．５の位置を調整することで変更できる。

なお、上記Ｘは２００〜４００であるのがより好ましい
。

かかる条件の何れか一つでも外れると、後記実施例で示
すように、良好な塗布性が得られない。

本発明者らの種々の実験・研究によって、基本的に次の
ことが判明した。

すなわち、ウェブ自体には、ロフト間の残留応力の差、
ひとつのロット内においても長さ方向位置におけるシワ
やツレ状態の差などがみられ、また、サポートロールか
らの振動によるウェブの振動による塗布ムラがみられる
。つまり前者と後者とは相反する現象である。たとえば
、振動を抑制しようとして抱き角を大きくすると、サポ
ートロールに対してウェブの滑りや遊びが無くなるため
、シワを解消することができない。逆に、シワを無くす
ために抱き角を小さくすると、サポートロールの振動が
直接的にウェブに作用し、ウェブが振動し、ウェブのい
わゆるビビリが発生し、ウェブ両側における耳高を招き
、塗布性が乱れる。

かかる装置条件の下で、スロット６Ｄから塗布液がウェ
ブ１表面に塗布される。

ところで、ウェブｌの塗布部における張力としては、１
４〜２８ｋｇ／ｍ幅とするのが好ましい。

１４ｋｇｌｍ幅未満では両側部での厚膜化を十分防止で
きず、２８ｋｇ／ｍ幅を超えるとウェブ１に大きな伸長
力が作用し主に幅中央部に長手方向に沿ったツレすじが
発生しウェブ１の平面性を阻害するばかりでなく、塗布
層の表面に凹凸ができ塗布ムラを生じる傾向がみられる
。ウェブの押し付け力の調整にあたって、塗布ヘッドの
ウェブに対する押し付け量のほか、サポートロールの塗
布ヘッドがわへの位置によってもよい。

塗布膜厚の幅方向分布は上記ウェブの張力とともに、塗
布液の吐出圧力とも相関する。実際のスロット出口の吐
出圧力は、スロットの幅が狭いなどの理由によって検出
が困難である。しかし、液溜め部における圧力は検出で
きるので、これを指標とするとき、その圧力は０．０２
〜０．　２　ｋｇｆ／ｃｄが好ましい。さらに好ましく
は０．０４〜０．　１　ｋｇｆ／ａｄが良い。

本発明におけるウェブとしては、裸の支持体のほかその
支持体に塗布層を有し、その塗布層に塗布する際にも本
発明を適用できる。塗布ヘッドには、１つのスロットの
ほか複数のスロットを有していてもよい。本発明は、磁
性塗料の塗布のばか写真感光材料または感熱記録材料の
塗布にも適用できる。支持体の材質としては、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリルなど
のプラスチック、紙、アルミなどの金属板、あるいはそ
れらの積層体などを用いることができる。

〔実施例〕

次に実施例を示し本発明の効果を明らかにする。

厚み７５μｍ，幅５００ｍｍのＰＥＴフィルムを１５０
ｍ／分で走行させながら、磁性塗料を７５０ｇ／分の塗
布量および４５０ｏｍの塗布幅をもって上記例にしたが
って塗布した。その際、張力の大きさとしては、１６ｋ
ｇ／ｍ幅とした。

かかる条件の下で、抱き角α、β、Ｘおよびｙを種々変
更しながら、塗布性を調べたところ、抱き角αおよびβ
が上記範囲を外れると、さらに第２図の２領域を外れる
と、いずれの場合も良好な塗布性が得られない。これに
対して、本発明の設定条件下では、いずれの場合も良好
な塗布性がみられた。

〔発明の効果〕

以上のとおり、本発明によれば、ウェブの安定した走行
性を保ちながら、良好な塗布を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を実施するための塗布装置の概要図、第
２図は本発明装置の装置条件の好適範囲を示す説明図で
ある。 １・・・ウェブ　　２・・・入側ガイドロール３．４・
・・サポートロール

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）可撓性ウェブが通る一対の上流がわおよび下流が
   わサポートロール間に配された押出し型塗布ヘッドが前
   記ウェブに対して押し付けられ塗布ヘッドのスロットか
   ら塗布液を押出してウェブに塗布する装置において； 前記上流がわサポートロールの上流に入側ガイドロール
   を有し、下流がわサポートロールの下流に出側ガイドロ
   ールを有し、 前記上流がわサポートロールにおけるウェブの抱き角α
   が４５°〜９０°、下流がわサポートロールにおけるウ
   ェブの抱き角βが２０°〜１２０°、さらに、入側ガイ
   ドロールと上流がわサポートロールの中心間距離をｙｍ
   ｍ、上流がわサポートロールと下流がわサポートロール
   の中心間距離をｘｍｍとしたとき、ｙ＝７０の直線と次
   記Ａ式の曲線とで囲まれる領域内、 ｙ＝−０．０１５（ｘ−３００）＾２＋５５０……（Ａ
   ）に設定してあることを特徴とする塗布装置。