JPH0223351A

JPH0223351A - フォトソルダーレジスト組成物

Info

Publication number: JPH0223351A
Application number: JP63173193A
Authority: JP
Inventors: Katsumi Watanabe; 克己渡辺; Kyoichi Awaji; 淡路　享一; Hiroyuki Kubota; 裕之久保田; Hiroaki Tsuruta; 洋明鶴田
Original assignee: Toyo Ink Mfg Co Ltd
Current assignee: Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Priority date: 1988-07-12
Filing date: 1988-07-12
Publication date: 1990-01-25

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［発明の目的］（産業上の利用分野）本発明は、印刷回路製造工程などにおいて好適に用いら
れるフォトソルダーレジストに関し、さらに詳しくは１
本発明は紫外線などの放射線による照射でパターン形成
し１弱アルカリ水溶液による現像の後にすぐれた耐熱性
、耐薬品性、耐溶剤性および電気絶縁性を発現するフォ
トソルダーレジスト組成物に関する。

（従来の技術）従来、フォトソルダーレジストとしては、露光後１．１
．１−　）リクロロエタンなどのハロゲン系有機溶剤に
より現像される溶剤現像型のものが知られていた。

しかしながら、ハロゲン系有機溶剤は有機溶剤の中では
毒性が高く２作業環境保全、大気汚染防止などの面から
９弱アルカリ現像型のものへの転換が望まれていた。

そこで、アルカリ現像型のフォトソルダーレジスト組成
物が特開昭６３−１１９３０号などで提案されている。

しかしながら、上記の組成物で得られる画像被膜は耐薬
品性、耐溶剤性が不充分であり、保護被膜おしての使用
範囲は限られている。例えば、これらの被膜は１弱アル
カリ性溶液１弱酸性溶液には耐えるが強アルカリ、強酸
性溶液では、浮きやはがれが発生し、従って、エツチン
グめっき等の処理液の種類が制限される。又、メチレン
クロライド等の浸透性の強い有機溶剤には浸されやすい
。また、熱硬化は少なくとも１５０°Ｃ，１時間の加熱
が必要でありプリント配線基板が熱変形して１反りやね
じれを生じる危険性があるという欠点があった。

（発明が解決しようとする課題）本発明は、上記の種々の欠点を改良し１弱アルカリ水溶
液で現像することができ、露光現像後の熱硬化反応にお
いての作業性の向上、およびすぐれた耐熱性、耐薬品性
、耐溶剤性、電気絶縁性を発現するフォトソルダーレジ
スト組成物を提供するものである。

［発明の構成］（課題を解決するための手段）本発明は、無水マレイン酸および（または）無水イタコ
ン酸１０モル％以上と無水マレイン酸および無水イタコ
ン酸以外のラジカル重合性モノマー９０モル％以下とを
共重合して得られる共重合の無水マレイン酸および無水
イタコン酸成分１当量に対してラジカル重合性のｍ個ア
ルコールおよび（または）一価エポキシ化合物、および
必要に応じてラジカル重合でないｍ個アルコールおよび
（または）一価エポキシ化合物０．０５〜０．９５当量
の割合で反応させて得られるエステル化物（Ａ）、エポ
キシ基を少なくとも１個有する化合物（Ｂ）、潜在硬化
剤、常温で固定状の熱硬化剤、熱硬化促進剤（Ｃ）から
選ばれる１種または２種以上、必要に応じて、有機溶剤
（Ｄ）および（または）エポキシ基を有さないエチレン
不飽和化合物（Ｅ）からなるフォトソルダーレジスト組
成物である。

本発明において無水マレイン酸および（または）無水イ
タコン酸と共重合される無水マレイン酸および無水イタ
コン酸以外のラジカル重合性モノマーとしては、無水マ
レイン酸および（または）無水イタコン酸とゲル化せず
に共重合可能なモノマーであり無水酸基と反応するエポ
キシ基、イソシアネート４水酸基、あるいはアミノ基な
どの活性栽を有しないモノマーである。このようなモノ
マーとしては、スチレン、α−メチルスチレンなどのス
チレン系モノマー類、メチル（メタ）アクリレート、エ
チル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレー
トなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル類、酢酸
ビニルなどあるいはこれらの混合物を用いることができ
るが、得られる液状フォトソルダーレジスト組成物の露
光現像後の硬度の面からは、スチレン、α−メチルスチ
レン、メチルメタアクリレートあるいはこれらの混合物
を主成分とするものを用いることが好ましい。また１本
発明のフォトソルダーレジスト組成物の性能を阻害しな
い範囲で、目的に応じて（メタ）アクリル酸、マレイン
酸などの不飽和酸を含んでいてもよい。

本発明においては、まず、無水マレイン酸および（また
は）無水イタコン酸１０モル％以上と無水マレイン酸お
よび環水イタコン酸以外の七ツマー９０モル％以下とを
共重合することによって酸無水物を含有するポリマーを
得る。無水マレイン酸および（または）無水イタコン酸
の量が１０モル％未満の場合には、露光後、露光部分の
弱アルカリ水溶液への溶解性が低くなるとともに、　ｉ
ｌｓ光部骨部分ンダメ・シキ耐性が低くなる。

得られた共重合物の無水マレイン酸および無水イタコン
酸成分１当量に対して、ラジカル重合性のｍ個アルコー
ルおよび（または）一価エポキシ化合物および必要に応
じてラジカル重合性でないｍ個アルコールおよび（また
は）一価エポキシ化合物０．０５〜０．９５当番の割合
で常法により反応させることにより、エステル化物（Ａ
）が得られる。

ラジカル重合性のｍ個アルコールとしては、２ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレ−１〜、２−ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メ
タ）アクリレートなどの水酸基含有（メタ）アクリル酸
エステル、アリルアルコールなど、あるいはこれらの混
合物を用いることができるが、得られる共重合物の無水
マレイン酸および無水イタコン酸成分とのエステル化反
応が速（、エステル化物（Ａ）の露光時の硬化反応が速
いことから。

２−ヒドロ；１−ジエチル（メタ）アクリレートを用い
ることが好ましい。また、ラジカル重合性のｍ個エポキ
シ化合物としては、グリシジル（メタ）アクリレート、
アリルグリシジルエーテル、シクロヘキセンビニルモノ
エポキサイドなど、あるいはこれらの混合物を用いるこ
とができる。

また、得られるエステル化物（Ａ）のエチレン性二重結
合の密度すなわち露光時の硬化性と弱アルカリ水溶液へ
の溶解性とのバランスを調節するために。

上記ラジカル重合性のｍ個アルコールおよび（または）
一価エポキシ化合物に、ラジカル重合性であいｍ個アル
コールおよび（または）一価エポキシ化合物を併用する
こともできる。このようなラジカル重合性でないｍ個ア
ルコールには、メタノール、エタノール５　プロピルア
ルコール、ブタノールなどの脂肪族一価アルコール、ベ
ンジルアルコール、フェノールやアルキルフェノールの
アルキレンオキサイド付加物などの芳香族アルコール、
シクロヘキサノールなどの脂環族アルコールなど、ある
いはこれらの混合物を用いることができる。また、ラジ
カル重合性でないｍ個エポキシ化合物としては、ｎ−ブ
チルグリシジルエーテルなどのアルキルグリシジルエー
テル、フェニルグリシジルエーテルなどのアリールグリ
シジルエーテル、スチレンオキサイド、プロピレンオキ
サイド　オクチレンオキサイドなどのアルキレンオキサ
イド、三級カルボン酸グリシジルエステルなどをあげる
ことができる。

上記共重合物の無水マレイン酸および無水イタコン酸成
分１モルに対して１反応されるラジカル重合性のｍ個ア
ルコールおよび（または）一価エポキシ化合物の割合が
Ｏ，ＯＳモル未満の場合には、露光後未露光部分の弱ア
ルカリ水溶液への溶解性が低くなるとともに、露光部分
のハンダメツキ耐性が低くなり、また、ラジカル重合性
のｍ個アルコールおよび（または）一価エポキシ化合物
、および必要に応じてラジカル重合性でないｍ個アルコ
ールおよび（または）一価エポキシ化合物の割合が０．
９５モルを越える場合には、露光部分のハンダメツキ耐
性が低くなる。

本発明においてエポキシ基を少なくとも１個有する化合
物（Ｂ）としては、１分子当たり平均１個より多くのエ
ポキシ基を含有するものであって、この基は分子末端位
置にある。

Ｃ）ｌｚ−Ｃｔｔ− ＼　　／でもよく、或いは一般に内部エポキシドと呼ばれる分子
式の途中に介在して −ＣＨ２−ＣＨ−ＣＩ（−Ｃｌ−１２＼　　１の形の基を形成してもよい。このエポキシ基を少なくと
も１個有する化合物は脂肪族、環状脂肪族、芳香族、ま
たは複素環式のものでもよく、また水酸基。

アルキル基、アルコキシ基、エステル基、アセタール基
、エーテル２５のような非妨害性の置換基で置換されて
いても良い。

例えば、ヒスフェノール−Ａ−グリシジルエーテル　ビ
スフェノール−Ｆ−グリシジルエーテル、ビスフェノー
ル−８−グリシジルエーテルのようなエビビスタイプの
エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ樹脂
、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂のような多価フ
ェノールのグリシジルエーテル、ハイドロキノングリシ
ジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート　レゾ
ルシングリシジルエーテル或いは（ポリ）エチレングリ
コール、　（ポリ）プロピレングリコール、グリセリン
、トリメチロールプロパン　１４−ブタンジオールのよ
うな多価アルコールのグリシジルエーテル、フタル酸テ
トラヒドロフタル酸、メチノ１−エンドメチレンテトラ
ヒドロフタル酸、アジピン酸、ダイマー酸のような多価
カルボン酸のポリグリシジルエステルアニリン、トルイ
ジン、４．４−ジアミノジフェニルメタンのようなポリ
アミンから誘導されるグリシジルアミン類、ビニルシク
ロヘキセンオキナイド３．４−エポキシシクロへキシル
−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、
ビス−（３４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメ
チル）−アジペートのようなエポキシ化ポリオレフィン
グリシジル（メタ）アクリレート、ブチルグリシジルエ
ーテル、フェニルグリシジルエーテルのようなモノエポ
キシ化合物、或いはエポキシ化植物油などがあるが本発
明においては、ビスフェノール−３−グリシジルエーテ
ル、ハイドロキノングリシジルエーテル、トリグリシジ
ルイソシアヌレートを主成分とするものが貯蔵安定性が
高く、このようなものを用いることが好ましい。

エステル化物（Ａ）に対するエポキシ化合物（Ｂ）の肴
には、特に制限はないが、エステル化物（Ａ）の無水マ
レイン酸および無水イタコン酸成分に対して　エポキシ
化合物（Ｂ）を当量比０．２〜５．０の割合で、特に好
ましくは当量比１．０〜２．０前後の割合で用いること
が好ましい。エポキシ化合物（Ｂ）を当量比０．２未満
、または５．０を超えて用いる場合には、ハンダメツキ
耐性が低くなる傾向がある。また。

上記共重合物に反応させるラジカル重合性のｍ個アルコ
ールおよび（または）一価エポキシ化合物の量が多い場
合には、エポキシ化合物（Ｂ）の量を少なくすることが
できる。

本発明において、潜在性熱硬化剤、常温で固体状の熱硬
化剤、熱硬化促進剤（Ｃ）から選ばれる１種または２′
Ｊ＠以上が用いられるが、従来公知のもの。

例えば「新エポキシ樹脂」　（昭晃堂刊、昭和６０年５
月）第１６４頁〜２６３頁および第３５６頁〜４０５頁
記載のもの、「架橋剤ハンドブック」　（大成社用、昭
和５６年１０月）第６０６頁〜６５５頁記載のものなど
のうち、貯蔵安定性の良好なものが選択されるが１本発
明はこれに限定されるものではない。潜在性熱硬化剤と
しては、三フフ化ホウ素−アミン・コンプレックス、ジ
シアンジアミド（ＤＩＣＹ）およびその誘導体、有機酸
ヒドラジッド、ジアミノマレオニトリル（ＤＡＭＮ）と
その誘導体、メラミンとその誘導体、アミンイミド（Ａ
Ｉ）、ポリアミンの塩などがあり、常温で固体の熱硬化
剤としては、メタフェニレンジアミン（ＭＰ−ＤＡ）、
ジアミノジフェニルメタン（ＤＤＭ）、　　ジアミノジ
フェニルスルフォン（ＤＤＳ）、ｒハードナーＨＴ９７
２」　（チバ・ガイキー社製。商品名）などの芳香族ア
ミン１１２　無水フタル酸、無水トリメリット酸。

エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）
、グリセロールトリス（アンヒドロトリメリテート）、
３．３’、４．４’−ヘンシフエノンテトラカルボン酸
無水物などの芳香族酸無水物、無水マレイン酸、無水コ
ハク酸、テトラヒドロ無水フタル酸などの環状脂肪族酸
無水物などがあり、また熱硬化促進剤としてはアセチル
アセトンー）Ｚｎ、アセチルアセトネートＣｒなどのア
セチルアセトンの金属塩、エナミン、オクチル酸スズ、
第４級ホスホニウム塩、トリフェニルホスフィン、１．
８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７及び
、その２−エチルヘキサン酸塩及びフェノール塩、イミ
ダゾール、イミダツリウム塩、トリエタノールアミンボ
レートなどがあるが、ＤＩＣＹを主成分とするものが特
に貯蔵安定性が高く、このようなものを用いることが最
も好しい。

（Ｃ）の配合量は、（Ｂ）の化学当量と大略同じとし、
配合量が化学当量より極端に増減しないことが好ましい
。（Ｃ）の配合量が化学当量より極端に少ない場合硬化
が不十分になり、極端に多い場合貯蔵安定性が悪くなる
。

本発明において、粘度調整などの目的で、必要に応して
有機溶剤（Ｄ）を用いることができる。有機溶剤（Ｄ）
は［Ｊ的に応じて適宜選択される。

本発明において、硬化性の向上、銅箔回路への接着性の
向上などの目的で、必要に応じて、エポキシ基を有さな
いエチレン不飽和化合物（Ｅ）を用いることができる。

このようなエチレン不飽和化合物（Ｅ）としては９例え
ばエチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリ
レート　２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート　
２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート　スチレ
ン、α−アルキルスチレン、オリゴエステル（メタ）モ
ノアクリレート、（メタ）アクリル酸などのモノ（メタ
）アクリレート類、エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート５　ポリエチレングリコールジアクリレート。

ネオペンチルグリコールジアクリレートネオベンチルグ
リコールジ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメ
タンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ　（メタ）アクリレート　トリメチロールメタント
リ　（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
　（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サ（メタ）アクリレート２−ヒドロキシ−１−（メタ）
アクリロキシ−３（メタ）アクリレート、ポリウレタン
ポリ　（メタ）アクリレートなどのポリ　（メタ）アク
リレート類。

ジアリルフタレート類など、あるいはこれらの混合物を
用いることができる。

本発明において、ｉ７Ｓ光に用いられる放射線が紫外線
の場合には、硬化性の面から、光重合開始剤および必要
に応じて光重合促進剤（Ｆ）を添加することが好ましい
。このような光重合開始剤としては、ベンゾフェノン　
メチルベンゾフェノン、０−ペンゾイル安息香酸、ベン
ゾイルエチルエーテル、２．２−ジェトキシアセトフェ
ノン　２．４−ジエチルチオキサントンなどがあり、光
重合促進剤としてはｐ−ジメチル安息香酸イソアミル、
４．４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ジメ
チルエタノールアミンなどがある。

本発明に係るフォトソルダーレジスト組成物には。

印刷・塗布状態を確認するためのフタロシアニングリー
ン１チタンホワイトなどの染顔料、流動性を改良するた
めの微粉シリカ、タルク、マイカ、炭酸マグネシウム、
炭酸カルシウムなどの耐湿顔料を目的に応じて添加して
使用することができる。

上記（Ａ）、　　（Ｂ）および（Ｃ）、必要に応じて（
Ｄ）、（Ｅ）および（Ｆ）が混合され、三本ロール、ボ
ールミルなどの分散手段、あるいはスーパーミキサーな
どの撹拌手段により混練または混合される。このように
混練または混合して得られたフォトソルダーレジスト組
成物は、スクリーン印刷、ロールコート　カーテンフロ
ーコート　スプレーコートなどの方法により、銅箔回路
上全面に印刷塗布される。印刷塗布後、必要に応じて遠
赤外線または温風により５０〜８０°Ｃ程度にプリベー
タにより有機溶剤（Ｄ）が除去され、ハンダメツキされ
る部分だけが放射線を通さないようにしたネガマスクを
用いて放射線による露光が行なわれる。ネガマスクとし
ては、放射線が紫外線の場合にはネガフィルムが、電子
線の場合には金属製マスクが、Ｘ線の場合には鉛製マス
クが、それぞれ使用されるが、ＷＩ便な皐ガフィルムが
使用できるため放射線としては紫外線を用いることが好
ましい。紫外線の強度としては７００〜６００ｍＪ／ｃ
＋ａである。次に、炭酸ナトリウム水溶液などの弱アル
カリ性現像液によりスプレーなどの手段で現像され、そ
の後１３５〜１６０°Ｃ程度の熱風で１時間あるいは赤
外線で１１０〜１５０°Ｃに７〜８分程度ポストベーク
され１ハンダメツキ耐性を有するソルダーレジスト基板
を得られる。

（実施例）以下、実施例により本発明を説明する。例中１部とは重
量部を２％とは重量％をそれぞれ表わす。

合成例１スチレン−無水マレイン酸共重合体ｒｓＭＡｌ。

００Ｊ　　（ＡＲＣＯ社製、商品名、無水マレイン酸含
有率５０モル％）４０４部をジエチレングリコールジメ
チルエーテル４２５部に加熱溶解したものに空気を吹き
込みながら、２−ヒドロキシエチルアクリレート（以下
２−ＨＥＡという。）４６．４部を滴下し、１１０°Ｃ
で１８時間加熱反応させた後、８０°Ｃにまで冷却し、
エタノール５０部を滴下し、さらに８０゛Ｃで８時間加
熱反応させた。得られたエステル化物溶液（ａ）は、固
形分５４％、酸価ｌ、６０の粘稠褐色液体であった。

合成例２ｒｓＭＡｌｏｏｏ、４０４部をジエチレングリコールジ
メチルエーテル５００部に加熱溶解したものに、空気を
吹き込みながら、２−ＨＥＡ５０部を滴下し、１１０°
Ｃで１８時間反応させた。得られたエステル化物溶液（
ｂ）は、固形分５０％、酸価１６５の褐色の粘稠液体で
あった。

合成例３９０°Ｃに加熱したジエチレングリコールジメチルエー
テル４００部に、スチレン９０部、メチルメタアクリレ
ート６０部、無水マレイン酸１５０部、アブビスイソブ
チロニトリル３部およびイソオクチルメルカプトプロピ
オネート３部を３０分間で滴下した後、窒素気流中にて
９０°Ｃで２時間反応させた。

次に、このようにして得られたスチレン−メチルメタア
クリレート−無水マレイン酸共重合体溶液に２−ＨＥＡ
Ｌ　Ｏ０部を滴下し、１００°Ｃで１８時間反応させた
。得られたエステル化物溶液（Ｃ）は、固形分５２％、
エステル化物含有率４６．３％、酸価１５２の褐色粘稠
液体であった。

合成例４９０゛Ｃに加熱したジエチレングリコールジメチルエー
テル４３０部に、スチレン９０部、メチルメタアクリレ
ート５０部、無水マレイン酸１５０部、アゾビスイソブ
チロニトリル３部およびイソオクチルメルカプトプロピ
オネート３部を３０分間で滴下し窒素気流中、９０’Ｃ
で２時間反応させた後、２−ヒドロキシエチルメタアク
リレート１５６部を滴下し空気を吹き込みながら１００
°Ｃで２０分間反応させた。得られたエステル化物溶液
（ｄ）は、固形分５１％、酸価１３２の褐色粘稠液体で
あった。

合成例５スチレン−無水マレイン酸共重合体（無水マレイン酸含
有率１２．５モル％１分子量３６００）８６０部をブチ
ルセロソルブアセテート９４２部に溶解したものを１０
０°Ｃに加熱し、これに２−ＨＥＡＩＩ６部を滴下し、
空気を吹き込みなから１００　’Ｃで１８時間反応させ
た。得られたエステル化物溶液（ｅ）は、固形分５０％
、酸価１２０の粘稠液体であった。

合成例６ｒｓＭＡｌｏｏｏ、＋　４０４部をジエチレングリコー
ルジメチルエーテル４００部に溶解したものにグリシジ
ルメタアクリレート１１３．６部を滴下し酸素気流中、
ｓｏ”ｃで６時間反応させた。得られたエステル化物溶
液（「）は、固形分５７％、酸価１８８の粘稠液体であ
った。

実施例１〜６および比較例１〜６合成例１〜６で得られたエステル化合物溶液（ａ）〜（
ｆ）、エポキシ基を少なくとも１個有する化合物（Ｂ）
、並びに潜在性熱硬化剤および（または）。

常温で固体状の熱硬化剤および（または）、熱硬化促進
剤（Ｃ）を表１に示す配合比で混合し、それぞれにテト
ラメチロールメタントリアクリレート３５部、２，４−
ジエチルチオキサントン３．０部、ｐ−ジメチル安息香
酸イソアミル０．８部、フタロシアニングリーン１．０
部、微粉シリカ３．０部、タルク１５部を加え、三本ロ
ールで混練し、フォトソルダーレジストの組成物を得た
。また、比較例として上記（Ｃ）の未添加のフォトソル
ダーレジスト組成物６点を表１に示すように作製し、比
較例１〜６とした。

得られたフォトソルダーレジスト組成物を１５０メツシ
ユのシルクスクリーン版を用いて、銅装着エポキシーガ
ラス繊維積層板上全面に塗工し、８０°Ｃの温風乾燥炉
で２０分間プリベークした後、ネガフィルムを接触させ
、高圧水銀灯により、露光量７００ｍＪ／ｃ−の条件で
紫外線露光した。露光後、３０°Ｃの１．０％炭酸ナト
リウム水溶液を用いて、スプレー圧２．５　ｋｇ　／　
ｃｆｆｌで４０秒間現像した。現像後１４０“Ｃの温風
乾燥炉で４０分間ポストベークした後、得られたフォト
ソルダーレジストの硬化塗膜に対し物性評価を行なった
。その評価結果を表２に示す。

なお１表２で示される物性評価法は、レジストを形成し
た積層板について以下のように評価したものである。

※Ｉ；ロジン系フラックスｒＬＯＮｃＯ７７−２５Ｊ　
　（ＬＯＮＣＯ社製、商品名）を塗布し、熔融したハン
ダ浴（２６０°Ｃ）の中に１０秒間浸漬後、セロファン
粘着テープ基盤目剥離試験により密着性の評価を行なっ
た。これを１回目として、続いて２回目以降フラックス
塗布、ハンダ浴浸漬からセロファン粘着テープ基盤目剥
離試験までのサイクルをくりかえした。

※２：有機酸素水溶製フラックスｒ　ＫＥＮＣＯ＃　１
８３　Ｊ（ＫＥＮＣＯ社製、商品名）を塗布し、溶融し
たハンダ浴（２６０°Ｃ）の中に１０秒間浸漬後、セロ
ファン粘着テープ基盤目剥離試験により密着性の評価を
行なった。これを１回目として、続いて２回目以陪フラ
ンクス塗布、ハンダ浴浸漬からセロファン粘着テープ基
盤目剥離試験までのハイクルをくりかえした。

以上※ｌ〜※２の評価結果は、下記の基準で表２に示し
た。

０　サイクル１回目で密着の異常が認められた。

ｌ　サイクル２回目で密着の異常が認められた。

２　サイクル３回目で密着の異常が認められた。

３　サイクル３回目でも何等の異常も認められなかった
。

※３；ｌ　　１，１−１−リクロロエタンに５０°Ｃ，
１時間浸漬けした後、セロファンテープ基盤目剥離試験
により密着性の評価を行なった。

※４；２５“Ｃ１塩化メチレンに１時間浸漬した後セロ
ファンテープ基盤目剥離試験により密着性の評価を行な
った。

※５；イソプロピルアルコールに５０°Ｃ，１時間浸漬
した後、セロファンテープ基盤目剥離試験により密着性
の評価を行なった。

※６；メチルエチルケトンに５０”Ｃ，１時間浸漬後、
セロファンテープ基盤目剥離試験により密着性の評価を
行なった。

※７；１０％塩酸水溶液に５０°Ｃ，１時間浸漬した後
セロファンテープ基盤目剥離試験により密着性の評価を
行なった。

※８；２０％塩酸水溶液に５０°Ｃ，１時間浸漬した後
。

セロファンテープ基盤目剥離試験により密着性の評価を
行なった。

※９；ｌＯ％硫酸水溶液に５０’Ｃ，１時間浸漬した後
。

※１０；２０％硫酸水溶液に５０’Ｃ，１時間浸漬した
後。

※１１；５％水酸化ナトリウム水溶液に２５°Ｃ，を時
間浸漬した後、セロファンテープ基盤目剥離試験により
密着性の評価を行なった。

※１２；１０％１２；１０リウム水溶液に２５℃、１時
間浸漬した後、セロファンテープ基盤目剥離試験により
密着性の評価を行なった。

以上※３〜※１２の評価結果は、下記の基準で表１に示
した。

○　何等の異常も認められなかった。

×　密着性不良が認められた。

※１３；プリント配線基板、銅装着上に電解ニッケルメ
ッキを２μｍ行なった後、硬化塗膜の目視観察を行なっ
た・ ※１４；プリント配線基板、銅装着上に電解ニッケルメ
ッキ（５μｍ厚）を行なった後、硬化塗膜の目視観察を
行なった。

※１５；プリント配線基板、銅装着上に電解金メツキ（
１μｍ厚）を行なった後、硬化塗膜の目視観察を行なっ
た。

※１６；プリント配線基板９ｗ４装着上に電解金メツキ
（２μｍ厚）を行なった後、硬化塗膜の目視観察を行な
った。　以上※１３〜※１２の評価結果は、下記の基準
で表１に示した。

Ｏ何等の異常も認められなかった。

×　浮き、はがれ等の異常が認められた。

なお１表１中、略号は次の通りである。

ＴＧ［Ｃ：）リグリシジルイソシアヌレートＨＱＤＧＥ
　：ハイドロキノンジグリシジリエーテルＢＰＳＤＧＥ
　：ビスフェノールＳジグリシジルエーテルエピクロンＮ−６９５：クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂（大日本インキ化学工業■製）エビクロンＮ−７７５：フェノールノボラック型エポキ
シ樹脂（大日本インキ化学工業■製）ＤＩＣＹニジシアンジアミドＤＡＭＮ　ニジアミノマレオニトリルＡＡＤＨ：アジビン酸ヒドラジドＤＤＳ　ニジアミノジフェニルスルフォンＤＢＵ：１．
８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７アセチルアセトネートｚｎニアセチルアセトネート亜鉛
塩表１〔発明の効果〕本発明により３弱アルカリ水溶液で現像することができ
１作業環境保全や大気汚染の問題がな（、露光現像後に
すぐれた耐熱性、耐溶剤性、耐薬品性および耐メツキ性
を発現するフォトソルダーレジスト組成物が得られる。

Claims

【特許請求の範囲】

１．無水マレイン酸および（または）無水イタコン酸１
０モル％以上と無水マレイン酸および無水イタコン酸以
外のラジカル重合性モノマー９０モル％以下とを共重合
して得られる共重合物の無水マレイン酸および無水イタ
コン酸成分１当量に対して，ラジカル重合性の一価アル
コールおよび（または）一価エポキシ化合物，および必
要に応じてラジカル重合性でない一価アルコールおよび
（または）一価エポキシ化合物０．０５〜０．９５当量
の割合で反応させて得られるエステル化物（Ａ），エポ
キシ基を少なくとも１個有する化合物（Ｂ），潜在性熱
硬化剤，常温で固体状の熱硬化剤，熱硬化促進剤（Ｃ）
から選ばれる１種または２種以上，必要に応じて有機溶
剤（Ｄ）および（または）エポキシ基を有さないエチレ
ン不飽和化合物（Ｅ）からなるフォトソルダーレジスト
組成物。