JPH02215154A - 電圧制御回路 - Google Patents
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- JPH02215154A JPH02215154A JP1036479A JP3647989A JPH02215154A JP H02215154 A JPH02215154 A JP H02215154A JP 1036479 A JP1036479 A JP 1036479A JP 3647989 A JP3647989 A JP 3647989A JP H02215154 A JPH02215154 A JP H02215154A
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- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
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- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body
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- G05F—SYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
- G05F3/00—Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
- G05F3/02—Regulating voltage or current
- G05F3/08—Regulating voltage or current wherein the variable is dc
- G05F3/10—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics
- G05F3/16—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
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- H02M3/02—Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac
- H02M3/04—Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters
- H02M3/06—Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using resistors or capacitors, e.g. potential divider
- H02M3/07—Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using resistors or capacitors, e.g. potential divider using capacitors charged and discharged alternately by semiconductor devices with control electrode, e.g. charge pumps
- H02M3/073—Charge pumps of the Schenkel-type
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、半導体集積回路に設けられる電圧制御回路に
係り、特に制御対象である電圧発生回路の出力電圧をほ
ぼ一定レベルに制御する回路ニ関する。
係り、特に制御対象である電圧発生回路の出力電圧をほ
ぼ一定レベルに制御する回路ニ関する。
(従来の技術)
例えば不揮発性メモリを内蔵する半導体集積回路におい
ては、第6図に示すように、外部から電圧入力端61を
経て供給される供給される電圧入力Vlから例えば書込
み用の高電圧を発生するための昇圧回路62の出力側に
、出力電圧Voutのレベルを一定に制御するために電
圧制御回路63に設けられている。なお、第6図中、v
CCは通常の電源電圧、Vssは接地電位、ENは活性
化制御信号である。
ては、第6図に示すように、外部から電圧入力端61を
経て供給される供給される電圧入力Vlから例えば書込
み用の高電圧を発生するための昇圧回路62の出力側に
、出力電圧Voutのレベルを一定に制御するために電
圧制御回路63に設けられている。なお、第6図中、v
CCは通常の電源電圧、Vssは接地電位、ENは活性
化制御信号である。
この電圧制御回路63は、従来、第7図に示すように構
成されている。即ち、制御対象である電圧発生回路の電
圧出力端と基準電位端との間(つまり、昇圧回路62の
電圧出力端aと電圧入力端61と間)にくそれぞれドレ
イン・ゲート相互が接続されると共に直列接続された複
数個(n個)のNチャネル絶縁ゲート型(MOS)トラ
ンジスタN1−Nnが接続されている。これにより、昇
圧回路62の出力電圧V outを、NチャネルMOS
)ランジスタNl〜Nnの接続段数に応じた一定レベル
となるように制御する。
成されている。即ち、制御対象である電圧発生回路の電
圧出力端と基準電位端との間(つまり、昇圧回路62の
電圧出力端aと電圧入力端61と間)にくそれぞれドレ
イン・ゲート相互が接続されると共に直列接続された複
数個(n個)のNチャネル絶縁ゲート型(MOS)トラ
ンジスタN1−Nnが接続されている。これにより、昇
圧回路62の出力電圧V outを、NチャネルMOS
)ランジスタNl〜Nnの接続段数に応じた一定レベル
となるように制御する。
しかし、この電圧制御回路63は、バックゲートバイア
ス効果によるNチャネルMOS)−ランジスタN1xN
nの特性のばらつきが大きいので、所望の電圧制御特性
を得るためのNチャネルMOSトランジスタの接続段数
の設定が難しく、電圧制御特性の信頼性が低い。
ス効果によるNチャネルMOS)−ランジスタN1xN
nの特性のばらつきが大きいので、所望の電圧制御特性
を得るためのNチャネルMOSトランジスタの接続段数
の設定が難しく、電圧制御特性の信頼性が低い。
また、電圧制御回路63は、昇圧回路62から急激に高
電圧が印加されると、この高電圧が直接にドレインに印
加されるNチャネルMOSトランジスタNlのドレイン
・ソース間に急激に高電圧が加わり、このNチャネルM
OSトランジスタN1の信頼性にかかわることがある。
電圧が印加されると、この高電圧が直接にドレインに印
加されるNチャネルMOSトランジスタNlのドレイン
・ソース間に急激に高電圧が加わり、このNチャネルM
OSトランジスタN1の信頼性にかかわることがある。
このNチャネルMOSトランジスタN1に短絡などが生
じると、電圧制御特性の劣化が生じ、最悪の場合には電
圧制御が不能になるので、この電圧制御回路63を組込
んだ集積回路の信頼性が低くなる。
じると、電圧制御特性の劣化が生じ、最悪の場合には電
圧制御が不能になるので、この電圧制御回路63を組込
んだ集積回路の信頼性が低くなる。
(発明が解決しようとする課題)
上記したように従来の電圧制御回路は、所望の電圧制御
特性を得るためのNチャネルMOSトランジスタの接続
段数の設定が難しく、電圧制御特性の信頼性が低いとい
う問題がある。
特性を得るためのNチャネルMOSトランジスタの接続
段数の設定が難しく、電圧制御特性の信頼性が低いとい
う問題がある。
また、従来の電圧制御回路は、制御対象である電圧発生
回路から急激に高電圧が印加されると、電圧制御特性の
劣化、最悪の場合には電圧制御が不能になり、これを組
込んだ集積回路の信頼性が低くなるという問題がある。
回路から急激に高電圧が印加されると、電圧制御特性の
劣化、最悪の場合には電圧制御が不能になり、これを組
込んだ集積回路の信頼性が低くなるという問題がある。
本発明は、上記問題点を解決すべくなされたもので、そ
の目的は、所望の電圧制御特性を得るためのMOS)ラ
ンジスタの接続段数の設定が容易になり、電圧制御特性
の信頼性を向上し得る電圧制御回路を提供することにあ
る。
の目的は、所望の電圧制御特性を得るためのMOS)ラ
ンジスタの接続段数の設定が容易になり、電圧制御特性
の信頼性を向上し得る電圧制御回路を提供することにあ
る。
また、本発明は、制御対象である電圧発生回路から急激
に高電圧・が印加されても、この高電圧によりMOSト
ランジスタの信頼性が低下することを防止でき、しかも
、上記電圧発生回路からの電圧入力がない時には直流電
流による不要な消費電流を防止し得る電圧制御回路を提
供することを目的とする。
に高電圧・が印加されても、この高電圧によりMOSト
ランジスタの信頼性が低下することを防止でき、しかも
、上記電圧発生回路からの電圧入力がない時には直流電
流による不要な消費電流を防止し得る電圧制御回路を提
供することを目的とする。
また、本発明は、テスト時などに制御対象である電圧発
生回路の基準電位側の出力端の電位が、この電圧発生回
路の電圧出力端の電位よりも高くなっても、不要な直流
電流が流れることを防止し得る電圧制御回路を提供する
ことを目的とする。
生回路の基準電位側の出力端の電位が、この電圧発生回
路の電圧出力端の電位よりも高くなっても、不要な直流
電流が流れることを防止し得る電圧制御回路を提供する
ことを目的とする。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
第1の発明の電圧制御回路は、半導体集積回路に設けら
れた制御対象である電圧発生回路の電圧出力端と基準電
位端との間に、それぞれソース・基板相互が接続される
と共にそれぞれゲート・ドレイン相互が接続された複数
個のPチャネルMOS)ランジスタが直列に接続されて
なることを特徴とする。
れた制御対象である電圧発生回路の電圧出力端と基準電
位端との間に、それぞれソース・基板相互が接続される
と共にそれぞれゲート・ドレイン相互が接続された複数
個のPチャネルMOS)ランジスタが直列に接続されて
なることを特徴とする。
第2の発明の電圧制御回路は、第1の発明の電圧制御特
性炉おける電圧発生回路の電圧出力端と前記直列接続さ
れた複数個のPチャネルMOSトランジスタの一端側と
の間に、ソース・基板相互が接続されると共にゲートに
前記制御対象である電圧発生回路の活性化制御信号に同
期して活性化制御信号が与えられる1個のPチャネルM
OSトランジスタが付加挿入されてなることを特徴とす
る。
性炉おける電圧発生回路の電圧出力端と前記直列接続さ
れた複数個のPチャネルMOSトランジスタの一端側と
の間に、ソース・基板相互が接続されると共にゲートに
前記制御対象である電圧発生回路の活性化制御信号に同
期して活性化制御信号が与えられる1個のPチャネルM
OSトランジスタが付加挿入されてなることを特徴とす
る。
第3の発明の電圧制御回路は、第1の発明または第2の
発明の電圧制御回路における直列接続さ゛れた複数個の
PチャネルMOSトランジスタの他端側と前記電圧発生
回路の基準電位端との間に、基板・ゲート−ドレイン相
互が接続されている1個のPチャネルMOS)ランジス
タまたは1個のダイオードが付加挿入されてなることを
特徴とする。
発明の電圧制御回路における直列接続さ゛れた複数個の
PチャネルMOSトランジスタの他端側と前記電圧発生
回路の基準電位端との間に、基板・ゲート−ドレイン相
互が接続されている1個のPチャネルMOS)ランジス
タまたは1個のダイオードが付加挿入されてなることを
特徴とする。
(作 用)
第1の発明の電圧制御回路は、複数のPチャネルMOS
トランジスタが使用されているので、バックゲートバイ
アス効果をあまり受けないで済み、所望の電圧制御特性
を得るためのPチャネルMOSトランジスタの接続段数
の設定が容易になり、電圧制御特性の信頼性が向上する
。
トランジスタが使用されているので、バックゲートバイ
アス効果をあまり受けないで済み、所望の電圧制御特性
を得るためのPチャネルMOSトランジスタの接続段数
の設定が容易になり、電圧制御特性の信頼性が向上する
。
m2の発明の電圧制御回路は、制御対象である電圧発生
回路から急激に高電圧が印加されても、同時に、この高
電圧が直接にソースに印加されるPチャネルMOSトラ
ンジスタはゲートに活性化制御信号が与えられてオンに
なっているので、このPチャネルMOS)ランジスタの
信頼性が低下することはなく、電圧制御特性の劣化とか
電圧制御の不能などという問題はなく、この電圧制御回
路を組込んだ集積回路の信頼性が低下することはない。
回路から急激に高電圧が印加されても、同時に、この高
電圧が直接にソースに印加されるPチャネルMOSトラ
ンジスタはゲートに活性化制御信号が与えられてオンに
なっているので、このPチャネルMOS)ランジスタの
信頼性が低下することはなく、電圧制御特性の劣化とか
電圧制御の不能などという問題はなく、この電圧制御回
路を組込んだ集積回路の信頼性が低下することはない。
しかも、上記電圧発生回路からの電圧入力かない時には
、上記PチャネルMO8)ランジスタはオフになってお
り、電圧制御回路には直流電流が流れず、不要な消費電
流は生じない。
、上記PチャネルMO8)ランジスタはオフになってお
り、電圧制御回路には直流電流が流れず、不要な消費電
流は生じない。
第3の発明の電圧制御回路は、テスト時などに、制御対
象である電圧発生回路の基準電位端の電位が電圧発生回
路の電圧出力端の電位よりも高くなることがあっても、
基板・ゲート・ドレイン相互が接続されているPチャネ
ルMOSトランジスタのPN接合ダイオードの存在によ
り、上記準電位端側から電圧出力端側へ逆方向に電流が
流れることは阻止され、不要な直流電流が流れることは
ない。
象である電圧発生回路の基準電位端の電位が電圧発生回
路の電圧出力端の電位よりも高くなることがあっても、
基板・ゲート・ドレイン相互が接続されているPチャネ
ルMOSトランジスタのPN接合ダイオードの存在によ
り、上記準電位端側から電圧出力端側へ逆方向に電流が
流れることは阻止され、不要な直流電流が流れることは
ない。
(実施例)
以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳細に説明す
る。
る。
第1図は、本発明の電圧制御回路を内蔵する半導体集積
回路、例えば不揮発性メモリの一部を示しており、外部
から電圧入力端1を経て供給される電圧入力Vlから例
えば消去用の高電圧を発生するための昇圧回路2の出力
側に、出力電圧V outのレベルを一定に制御するた
めに電圧制御回路3が接続されている。
回路、例えば不揮発性メモリの一部を示しており、外部
から電圧入力端1を経て供給される電圧入力Vlから例
えば消去用の高電圧を発生するための昇圧回路2の出力
側に、出力電圧V outのレベルを一定に制御するた
めに電圧制御回路3が接続されている。
なお、第1図中、Vccは通常の電源電圧、Vssは接
地電位、ENは活性化制御信号、4はこの活性化制御信
号ENを反転して電圧制御回路3に活性化制御信号EN
を供給するインバータである。
地電位、ENは活性化制御信号、4はこの活性化制御信
号ENを反転して電圧制御回路3に活性化制御信号EN
を供給するインバータである。
この電圧制御回路3は、例えば第2図に示すようにエン
ハンスメント型PチャネルMO8)ランジスタ群により
構成されている。即ち、制御対象である電圧発生回路の
電圧出力端と基準電位端との間(つまり、昇圧回路2の
電圧出力端aと電圧入力端1と間)に、それぞれソース
・基板相互が接続されると共にそれぞれゲートψドレイ
ン相互が接続され、直列接続された複数個のPチャネル
MOS)ランジスタP2〜P (n−1)が接続されて
いる。
ハンスメント型PチャネルMO8)ランジスタ群により
構成されている。即ち、制御対象である電圧発生回路の
電圧出力端と基準電位端との間(つまり、昇圧回路2の
電圧出力端aと電圧入力端1と間)に、それぞれソース
・基板相互が接続されると共にそれぞれゲートψドレイ
ン相互が接続され、直列接続された複数個のPチャネル
MOS)ランジスタP2〜P (n−1)が接続されて
いる。
昇圧回路2の電圧出力端aと上記直列接続された複数個
のPチャネルMOS)ランジスタP2〜P (n−1)
の一端側(PチャネルMOSトランジスタP2のソース
・基板相互接続点)との間に、ソース・基板相互が接続
されると共にゲートに活性化制御信号ENが与えられる
1個のPチャネルMOS)ランジスタPlのソース・ド
レイン間が挿入されている。
のPチャネルMOS)ランジスタP2〜P (n−1)
の一端側(PチャネルMOSトランジスタP2のソース
・基板相互接続点)との間に、ソース・基板相互が接続
されると共にゲートに活性化制御信号ENが与えられる
1個のPチャネルMOS)ランジスタPlのソース・ド
レイン間が挿入されている。
また、上記直列接続された複数個のPチャネルMOSト
ランジスタP 2〜P (n−1)の他端側(Pチャネ
ルMOS)ランジスタP (n−1)のゲート・ドレイ
ン相互接続点)と昇圧回路2の電圧入力端1との間に、
基板やゲートやドレイン相互が接続された1個のPチャ
ネルMOS)ランジスタPn(または、1個のダイオー
ドでもよい)が挿入されている。
ランジスタP 2〜P (n−1)の他端側(Pチャネ
ルMOS)ランジスタP (n−1)のゲート・ドレイ
ン相互接続点)と昇圧回路2の電圧入力端1との間に、
基板やゲートやドレイン相互が接続された1個のPチャ
ネルMOS)ランジスタPn(または、1個のダイオー
ドでもよい)が挿入されている。
次に、この電圧制御回路3の動作について第3図を参照
して説明する。活性化制御信号ENが非活性状態、即ち
、信号ENが低レベル″L″、反転信号ENが高レベル
“H″の時には、昇圧回路2が非動作状態、Pチャネル
MOSトランジスタPlがオフ状態であり、電圧制御回
路3はオフ状態である。時刻tiに、活性化制御信号E
Nが活性状態になると、昇圧回路2が活性化されると同
時にPチャネルMOSトランジスタP1がオンになる。
して説明する。活性化制御信号ENが非活性状態、即ち
、信号ENが低レベル″L″、反転信号ENが高レベル
“H″の時には、昇圧回路2が非動作状態、Pチャネル
MOSトランジスタPlがオフ状態であり、電圧制御回
路3はオフ状態である。時刻tiに、活性化制御信号E
Nが活性状態になると、昇圧回路2が活性化されると同
時にPチャネルMOSトランジスタP1がオンになる。
これにより、昇圧回路2の昇圧出力が立上がり、図示点
線のように徐々に上昇するが、出力電圧V outは電
圧制御回路3によりほぼ一部レベルとなるように制御さ
れる。ここで、電圧入力端1の電圧をvt、pチャネル
MOSトランジスタPnのPN接合ダイオードの順方向
電圧をvpSpチャネルMOS)ランジスタP 1−
P (n−1)の各閾値電圧をVTHで表すと、 Vo u t =V1 +VF + (n −1)
l VTIIとなる。
線のように徐々に上昇するが、出力電圧V outは電
圧制御回路3によりほぼ一部レベルとなるように制御さ
れる。ここで、電圧入力端1の電圧をvt、pチャネル
MOSトランジスタPnのPN接合ダイオードの順方向
電圧をvpSpチャネルMOS)ランジスタP 1−
P (n−1)の各閾値電圧をVTHで表すと、 Vo u t =V1 +VF + (n −1)
l VTIIとなる。
なお、第4図は、出力電圧V Outと電圧制御回路3
の電流との関係を示している。
の電流との関係を示している。
上記電圧制御回路3によれば、複数のPチャネルMOS
トランジスタが使用されているので、バックゲートバイ
アス効果をあまり受けないで済み、所望の電圧制御特性
を得るためのPチャネルMOS)ランジスタの接続段数
の設定が容易になり、電圧制御特性の信頼性が向上する
。
トランジスタが使用されているので、バックゲートバイ
アス効果をあまり受けないで済み、所望の電圧制御特性
を得るためのPチャネルMOS)ランジスタの接続段数
の設定が容易になり、電圧制御特性の信頼性が向上する
。
また、上記電圧制御回路3は、昇圧回路2から急激に高
電圧が印加されても、この高電圧が直接にソースに印加
されるPチャネルMOSトランジスタPIは同時にオン
になっているので、このPチャネルMOSトランジスタ
P1の信頼性が低下することはなく、電圧制御特性の劣
化とか電圧制御の不能などという問題はなく、この電圧
制御回路3を組込んだ集積回路の信頼性が低下すること
はない。
電圧が印加されても、この高電圧が直接にソースに印加
されるPチャネルMOSトランジスタPIは同時にオン
になっているので、このPチャネルMOSトランジスタ
P1の信頼性が低下することはなく、電圧制御特性の劣
化とか電圧制御の不能などという問題はなく、この電圧
制御回路3を組込んだ集積回路の信頼性が低下すること
はない。
しかも、昇圧回路2からの電圧入力がない時には、Pチ
ャネルMOS)ランジスタPlはオフになっており、電
圧制御回路3には直流電流が流れず、不要な消費電流は
生じない。
ャネルMOS)ランジスタPlはオフになっており、電
圧制御回路3には直流電流が流れず、不要な消費電流は
生じない。
また、上記電圧制御回路3は、テスト時などに、電圧入
力端1の電位が昇圧回路2の電圧出力端aの電位よりも
高くなることがあっても、PチャネルMOS)ランジス
タPnのPN接合ダイオードの存在により、電圧入力端
1側から電圧出力端a側へ逆方向に電流が流れることは
阻止され、不要な直流電流が流れることはない。
力端1の電位が昇圧回路2の電圧出力端aの電位よりも
高くなることがあっても、PチャネルMOS)ランジス
タPnのPN接合ダイオードの存在により、電圧入力端
1側から電圧出力端a側へ逆方向に電流が流れることは
阻止され、不要な直流電流が流れることはない。
なお、第5図は、電圧制御回路3におけるPチャネルM
OS)ランジスタPnおよび、これに接続されているP
チャネルMOS)ランジスタP(r+−1>部を取出し
、その断面構造を示している。
OS)ランジスタPnおよび、これに接続されているP
チャネルMOS)ランジスタP(r+−1>部を取出し
、その断面構造を示している。
即ち、50はP型半導体基板、51・・・はNウェル、
52・・・はソース用のP÷型不純物領域、53・・・
はドレイン用のP◆型不純物領域、54・・・はゲート
電極、55.・・・はN十型ウェル電極、56・・・は
配線である。この図から分かるように、電圧入、力端1
に基板(Nウェル)幸ゲートードレイン相互が接続され
ているPチャネルMOSトランジスタPnは、ソース会
基板間にPN接合ダイオード57が形成されているので
、電圧入力端1側からの電流の逆流を阻止することが可
能になっている。
52・・・はソース用のP÷型不純物領域、53・・・
はドレイン用のP◆型不純物領域、54・・・はゲート
電極、55.・・・はN十型ウェル電極、56・・・は
配線である。この図から分かるように、電圧入、力端1
に基板(Nウェル)幸ゲートードレイン相互が接続され
ているPチャネルMOSトランジスタPnは、ソース会
基板間にPN接合ダイオード57が形成されているので
、電圧入力端1側からの電流の逆流を阻止することが可
能になっている。
なお、上記実施例のPチャネルMOS)ランジスタPl
は必要に応じて省略してもよく、同様に、PチャネルM
OSトランジスタPnも必要に応じて省略してもよい。
は必要に応じて省略してもよく、同様に、PチャネルM
OSトランジスタPnも必要に応じて省略してもよい。
[発明の効果]
上述したように本発明によれば、所望の電圧制御特性を
得るためのMOSトランジスタの接続段数の設定が容易
になり、電圧制御特性の信頼性を向上し得る電圧#I御
回路を実現できる。
得るためのMOSトランジスタの接続段数の設定が容易
になり、電圧制御特性の信頼性を向上し得る電圧#I御
回路を実現できる。
また、本発明によれば、制御対象である電圧発生回路か
ら急激に高電圧が印加されても、この高電圧によりMO
Sトランジスタの信頼性が低下することを防止でき、し
かも、上記電圧発生回路からの電圧入力がない時には直
流電流による不要な消S[流を防止し得る電圧制御回路
を実現できる。
ら急激に高電圧が印加されても、この高電圧によりMO
Sトランジスタの信頼性が低下することを防止でき、し
かも、上記電圧発生回路からの電圧入力がない時には直
流電流による不要な消S[流を防止し得る電圧制御回路
を実現できる。
また、本発明によれば、テスト時などに制御対象である
電圧発生回路の基準電位側の出力端の電位が、この電圧
発生回路の電圧出力端の電位よりも高くなっても、不要
な直流電流が流れることを防止し得る電圧制御回路を実
現できる。
電圧発生回路の基準電位側の出力端の電位が、この電圧
発生回路の電圧出力端の電位よりも高くなっても、不要
な直流電流が流れることを防止し得る電圧制御回路を実
現できる。
第1図は本発明の電圧制御回路を内蔵する半導体集積回
路の一部を示す構成説明図、第2図は第1図中の電圧制
御回路の一実施例を示す回路図、第3図は第2図の電圧
制御回路の制御特性を示す図、第4図は第2図の電圧制
御回路の電圧対電流特性を示す図、第5図は第2図の電
圧制御回路中のMOS)ランジスタの一部を示す断面図
、第6図は従来の電圧制御回路を内蔵する半導体集積回
路の一部を示す構成説明図、第7図は第6図中の従来の
電圧制御回路を示す回路図である。 1・・・電圧入力端、2・・・昇圧回路、3・・・電圧
制御回路、4・・・インバータ、a・・・昇圧回路2の
電圧出力端、PI−Pn・・・PチャネルMOS)ラン
ジスタ。
路の一部を示す構成説明図、第2図は第1図中の電圧制
御回路の一実施例を示す回路図、第3図は第2図の電圧
制御回路の制御特性を示す図、第4図は第2図の電圧制
御回路の電圧対電流特性を示す図、第5図は第2図の電
圧制御回路中のMOS)ランジスタの一部を示す断面図
、第6図は従来の電圧制御回路を内蔵する半導体集積回
路の一部を示す構成説明図、第7図は第6図中の従来の
電圧制御回路を示す回路図である。 1・・・電圧入力端、2・・・昇圧回路、3・・・電圧
制御回路、4・・・インバータ、a・・・昇圧回路2の
電圧出力端、PI−Pn・・・PチャネルMOS)ラン
ジスタ。
Claims (3)
- (1)半導体集積回路に設けられた電圧発生回路の電圧
出力端と基準電位端との間に複数個のPチャネルMOS
トランジスタが直列接続され、この各PチャネルMOS
トランジスタは、それぞれソース・基板相互が接続され
ると共にそれぞれゲート・ドレイン相互が接続されてい
ることを特徴とする電圧制御回路。 - (2)前記電圧発生回路の電圧出力端と前記直列接続さ
れた複数個のPチャネルMOSトランジスタの一端側と
の間に、ソース・基板相互が接続されると共にゲートに
前記制御対象である電圧発生回路の活性化制御信号に同
期して活性化制御信号が与えられる1個のPチャネルM
OSトランジスタが挿入されてなることを特徴とする請
求項1記載の電圧制御回路。 - (3)前記直列接続された複数個のPチャネルMOSト
ランジスタの他端側と前記電圧発生回路の基準電位端と
の間に、基板・ゲート・ドレイン相互が接続されている
1個のPチャネルMOSトランジスタまたは1個のダイ
オードが挿入されてなることを特徴とする請求項1また
は2記載の電圧制御回路。
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EP (1) | EP0382929B1 (ja) |
JP (1) | JPH02215154A (ja) |
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