JPH02202045A - リードフレームの製造方法 - Google Patents

リードフレームの製造方法

Info

Publication number
JPH02202045A
JPH02202045A JP1021197A JP2119789A JPH02202045A JP H02202045 A JPH02202045 A JP H02202045A JP 1021197 A JP1021197 A JP 1021197A JP 2119789 A JP2119789 A JP 2119789A JP H02202045 A JPH02202045 A JP H02202045A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead frame
resin
lead
leads
corners
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1021197A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2606736B2 (ja
Inventor
Atsushi Fukui
淳 福井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui High Tec Inc
Original Assignee
Mitsui High Tec Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui High Tec Inc filed Critical Mitsui High Tec Inc
Priority to JP1021197A priority Critical patent/JP2606736B2/ja
Publication of JPH02202045A publication Critical patent/JPH02202045A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2606736B2 publication Critical patent/JP2606736B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、リードフレームの製造方法に係り、特に、そ
の形状加工に関する。
(従来の技術) IC,LSI等の半導体装置の実装に際して用いられる
リードフレームは、鉄系あるいは銅系等の帯状の金属材
料(条材)をプレス加工又はエツチングにより所望のパ
ターンに成形することによって形成される。
通常、リードフレーム1は、第2図に示す如く、半導体
集積回路チップ(以下半導体チップ)2を搭載するダイ
パッド11と、ダイパッドを取り囲むように配設せしめ
られた複数のインナーリード12とインナーリード12
を一体的に連結するタイバー13と、各インナーリード
に連結せしめられタイバーの外側に伸張するアウターリ
ード14と、タイバー13を両サイドから支持するサイ
ドパー15.16と、ダイパッド11を支持するすボー
トパー17とから構成されている。
このようなリードフレームを用いて実装せしめられる半
導体装置は第3図に示す如くであり、リードフレーム1
のダイパッド11上に、半導体チップ2を搭載し、この
半導体チップのポンディングパッドとリードフレームの
インナーリード12とを金線あるいはアルミ線のボンデ
ィングワイヤ3によって結線し、更にこれらを樹脂やセ
ラミック等の封止材料4で封止した後、タイバーやサイ
ドバーを切断し、アウターリードを所望の形状に折り曲
げて完成せしめられる。
ところで、このようなリードフレームはプレス加工で成
型する場合、帯状材料をリードフレーム打抜用金型内で
連続的に打ち抜くことにより製造されるため、打ち抜か
れたリード表面は、第4図(a)に示すように抜きダレ
dに起因して凸面形状となり、裏面側は抜きパリbに起
因して凹面形状となっている。
ところで、アウターリードは、封止後、所望の形状に折
り曲げられるため、抜きパリ側から折り曲げられると、
折り曲げ作業時にパリが折り曲げパンチによってこすら
れ、金属粉が発生することがある。
また、第5図(a)および第5図(b)に示すように、
樹脂封止に際し、パッケージラインpからタイバー付近
tにかけてのリード間では、樹脂封止用金型との間に隙
間を作ることになり、樹脂パリが生じるが、この抜きダ
レのために、断面がシャープな直角とはならず丸くなっ
ているため、第6図に示すように樹脂パリ除去用パンチ
によって樹脂パリを除去した後も、この丸くなった部分
に入り込んだ樹脂パリは残留してしまう。このような樹
脂パリは、タイバーカット工程においてら容易には剥離
されず、樹脂パリが付着したまま搬送されることが多い
、このように付着したまま搬送された場合、搬送途中で
この樹脂パリが脱落し搬送装置の諸機能の障害の発生原
因となるのみならず、工場のクリーン化を阻害する原因
となるなど、数々の弊害をもたらしていた。
そこで、このリードの角部に残留するパリを除去するた
めに、化学的または機械的処理によりこのパリを除去す
るデイフラッシャ−工程を必要とし、工数増大の原因と
なっていた。
また、エツチング法により形状加工がなされる場合、通
常エツチングは等方的に進行するため、第7図に示すよ
うに、厚みの中央部分が幅広となっており、断面が直角
とはならず、打ち抜き法による場合と同様、リードの角
部に残留するパリによる数々の問題があった。
(発明が解決しようとする課題) このように、従来、打ち抜き法による場合にもエツチン
グ法による場合にも、インナーリードの断面が直角とは
ならず、このリードの角部に残留するパリに起因するい
ろいろな問題があり、これが信頼性低下の原因となって
いた。
本発明は、前記実情に鑑みてなされたもので、樹脂パリ
の残留を防止し、信頼性の高いリードフレームを提供す
ることを目的とする。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段) そこで本発明のリードフレームの製造方法では、条材か
らリードフレームを成型する成型工程において、余材か
ら前記インナーリード、アウターリードおよびタイバー
を含むリードフレームとなるように形状加工したのち、
少なくともインナーリードの樹脂封止領域の外側端部付
近を、角部が直角となるように整形する仕上げ成型をお
こなうようにしている。
(作用) 上記構成によれば、仕上げ成型工程により、少なくとも
インナーリードの樹脂封止領域の外側端部付近では、角
部が直角となるように整形されるため、樹脂が角部に入
り込むことはなくなり、樹脂パリの残留を抑制すること
ができる。
従って、搬送に際しては樹脂パリの残留は無いため、搬
送途中で樹脂パリが脱落し搬送装置の諸機能に障害を与
えたり、工場のクリーン化を阻害するというような弊害
をひきおこすことはなくなる。
また、付随的効果として、リード断面が直角であるため
、リード間隔に影響を与えることなく、充分な有効平面
幅を得ることができる。
(実施例) 以下、本発明実施例のリードフレームの製造方法につい
て、図面を参照しつつ詳細に説明する。
まず、第1図(a)に示すように、帯状材料を、所望の
形状のインナーリード、アウターリード、タイバーなど
の抜き型を具備した金型に装着し、プレス加工を行なう
ことにより、リードフレームをパターニングする。この
ときの断面図を第1図fb)に示すように、打ち抜かれ
たリード表面は、抜きダレdに起因して凸面形状となり
、裏面側は抜きパリbに起因して凹面形状となっている
。この工程では、インナーリードの樹脂封止領域の外側
端部付近はリード間隔が仕上げ寸法(点線で示す)より
もやや小さくなるように形成しておく。
次いで、この金型内で、仕上げ寸法のリード間隔となる
ように形成されたパンチを用いて、シェービング加工を
行なうことにより、第1図FC)に示すように、仕上げ
寸法のリードフレームをパタニングする。この工程では
、前記打ち抜き工程でリード間隔が仕上げ寸法よりもや
や小さくなるように形成した、インナーリードの樹脂封
止領域の外側端部付近に対し、シェービング加工を行う
このようにして、先端部からタイバーの部分までのイン
ナーリードの断面は、直角となるように整形される。
こののち、インナーリード先端のメツキ工程等を経て、
リードフレームは完成する。
このようにして形成されたリードフレームは、半導体チ
ップを固着すると共に、ワイヤボンディング工程によっ
て、リードとチップとの電気的接続を行った後、第1図
(d)に示すように、樹脂封止がなされる。ここでは、
インナーリード12の樹脂封止領域4の外側端部付近の
断面図すなわち第1図(C)のA−A断面の部位を示す
このとき、パッケージラインpからタイバー付近tにか
けてのリード間では、樹脂封止用金型との間に隙間を作
ることになり、樹脂パリが生じているが、第1図(e)
に示すように、リード断面がシャープな直角となってい
るため、樹脂パリ除去用パンチによって樹脂パリは残留
すること無く完全に除去せしめられる。(第1図(f)
)そして、通常の如く、タイバーを切除し、アウターリ
ードを所望の形状に折り曲げ、実装が完了する。
なお、各部の形状は、第2図に示した従来例のJ−1<
フレームと全く同様であり、同一部には同一符号を付し
た。
このようにして形成されたリードフレームのインナーリ
ードの樹脂封止領域の外側端部は近では、角部が直角と
なるように整形されているため、樹脂が角部に入り込む
ことはなくなり、樹脂パリ除去用パンチによって樹脂パ
リは残留することなく完全に除去することができる。
従って、搬送に際しては樹脂パリの残留は無いため、搬
送途中で樹脂パリが脱落し搬送装置の諸機能に障害を与
えたり、工場のクリーン化を阻害するというような弊害
をひきおこすことはなくなる。
また、シェービング加工領域をインナーリード先端部ま
で延ばすようにすれば、付随的効果として、インナーリ
ード先端部の断面か直角であるため、リード間隔に影響
を与えることなく、充分な有効平面幅を得ることができ
、ボンディングを確実に行うことができ、信頼性が向上
する。
また、このようにして形成されたリードフレムは、パリ
かないため、アウターリードの折り曲げ時にも金属粉を
発生せしめることはない。
さらにまた、抜きパリが、はとんどないため、リードフ
レームを積み上げた際にも、下方に位置するリードフレ
ーム表面を傷付けることもなく、また自動搬送時におい
ては、円滑な搬送をおこなうことか可能となる。
なお、実施例では、1つの金型でインナーリードもアウ
ターリードも一度に打ち抜くようにしたが、タイバーを
境界として、2つの金型を用いて、インナーリード側を
打ち抜いた後、アウターリード側を打ち抜くようにして
もよい。
また、前記実施例では、打ち抜き法による成型に付いて
述べたが、条材からエツチング法により成型した場合に
も、同様にシェービング処理を行うことによって、イン
ナーリード断面を直角となるようにし同様の効果を奏功
することが可能である。
さらに、前記実施例では、インナーリードの樹脂封止領
域の外側端部付近にのみにシェービング処理を行うよう
にしたが、リードフレーム全体にシェービング処理を行
うようにしてもよい。
〔発明の効果〕
以上説明してきたように、本発明のリードフレームの製
造方法によれば、条材からリードフレームの形状に形状
加工した後、少なくともインナーリードの樹脂封止領域
の外側端部1寸近を、角部が直角となるように整形する
仕上げ成型をおこなうようにしているため、樹脂パリの
残留をなくするすることができ、信頼性の高い半導体装
1を容易に得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)乃至第1図(f)は、本発明実施例のリー
ドフレームの製造工程を示す説明図、第2図は従来のリ
ードフレームを示す図、第3図は、半導体装置を示す図
、第4図(a)および第4図(b)は従来例のリードフ
レームのインナーリード先端部の製造工程を示す図、第
5図(a)および第5図(b)は樹脂封止後のパッケー
ジラインpからタイバー付近tのリード断面を示す図、
第6図は従来の樹脂パリ除去工程を示す図、第7図はエ
ツチング法により成型加工したリードフレームの断面を
示す図である。 1・・・リードフレーム、2・・・半導体チップ、3・
・・ワイヤ、4・・・封止材料、11・・・ダイパッド
、12・・・インナーリード、13・・・タイバー、1
4・・・アウターリード、15.16・・・サイドバー
、17・・・サポートバー、d・・・抜きダレ、b・・
・抜きパリ。 第1図(Q) 第1図(C) ロロロロロ 第1図(b) 第1図(d) 第1図 (f) 第2図 第3図 1′#r脂バ′り分生箇所 第5図 (b)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 複数のインナーリードと、 該インナーリードから伸張するアウターリードと、 これらを連結するタイバーと を具えたリードフレームの製造方法において、条材から
    リードフレームを成型する成型工程が 条材から前記インナーリード、アウターリードおよびタ
    イバーを含むリードフレームとなるように形状加工する
    予備成型工程と、 前記インナーリードの内、少なくとも樹脂封止領域の外
    側端部付近を、角部が直角となるように整形する仕上げ
    成型工程とを、 含むようにしたことを特徴とするリードフレームの製造
    方法。
JP1021197A 1989-01-31 1989-01-31 リードフレームの製造方法 Expired - Lifetime JP2606736B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1021197A JP2606736B2 (ja) 1989-01-31 1989-01-31 リードフレームの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1021197A JP2606736B2 (ja) 1989-01-31 1989-01-31 リードフレームの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02202045A true JPH02202045A (ja) 1990-08-10
JP2606736B2 JP2606736B2 (ja) 1997-05-07

Family

ID=12048243

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1021197A Expired - Lifetime JP2606736B2 (ja) 1989-01-31 1989-01-31 リードフレームの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2606736B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0653381A (ja) * 1992-07-27 1994-02-25 Mitsui High Tec Inc 半導体装置及びそれに用いるリードフレームの製造方法
DE102011086312A1 (de) 2011-01-31 2012-08-02 Mitsubishi Electric Corp. Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5764956A (en) * 1980-10-09 1982-04-20 Nec Corp Semiconductor device
JPS6313358A (ja) * 1986-07-04 1988-01-20 Hitachi Ltd 半導体装置の製造方法およびその製造において用いるリ−ドフレ−ム

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5764956A (en) * 1980-10-09 1982-04-20 Nec Corp Semiconductor device
JPS6313358A (ja) * 1986-07-04 1988-01-20 Hitachi Ltd 半導体装置の製造方法およびその製造において用いるリ−ドフレ−ム

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0653381A (ja) * 1992-07-27 1994-02-25 Mitsui High Tec Inc 半導体装置及びそれに用いるリードフレームの製造方法
DE102011086312A1 (de) 2011-01-31 2012-08-02 Mitsubishi Electric Corp. Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung
JP2012160517A (ja) * 2011-01-31 2012-08-23 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置の製造方法
US8518751B2 (en) 2011-01-31 2013-08-27 Mitsubishi Electric Corporation Method for manufacturing semiconductor device including removing a resin burr
DE102011086312B4 (de) * 2011-01-31 2016-03-24 Mitsubishi Electric Corp. Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung

Also Published As

Publication number Publication date
JP2606736B2 (ja) 1997-05-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002064114A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPH036663B2 (ja)
JPH02202045A (ja) リードフレームの製造方法
JP3085278B2 (ja) 半導体装置の製造方法および半導体製造装置
JP2580740B2 (ja) リードフレーム
JP4800141B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPS6370548A (ja) 半導体装置用リ−ドフレ−ム
JP2700902B2 (ja) リードフレームの製造方法
JP2603814B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
WO2018088080A1 (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPH0661401A (ja) リードフレームおよびその製造方法
JP7057727B2 (ja) リードフレームおよび半導体装置
JPH10154784A (ja) リードフレームの製造方法
JPH01144661A (ja) リードフレームの製造方法
JP2003017643A (ja) 半導体装置の製造方法および切断装置
JPH04139868A (ja) 半導体装置用リードフレーム
KR200196988Y1 (ko) 반도체용 리드프레임
KR200168394Y1 (ko) 반도체 패키지의 리드 프레임
KR970006523Y1 (ko) 반도체 제조용 리드프레임 구조
JPH04368158A (ja) リードフレームと半導体装置の製造方法
JPH04324970A (ja) 半導体装置のリードフレームの製造方法
JPH0758262A (ja) リードフレーム
JPH0493057A (ja) 電子部品用リードフレーム及びこれを用いた電子部品の製造方法
JPH0622266B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPH06151681A (ja) 半導体装置の製造方法およびその製造において用いるリードフレーム

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080213

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090213

Year of fee payment: 12

EXPY Cancellation because of completion of term