JPH02174769A - 1,4―ジアザビシクロ[3.2.2]ノナンの製法 - Google Patents
1,4―ジアザビシクロ[3.2.2]ノナンの製法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D471/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00
- C07D471/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D471/08—Bridged systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C229/00—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C229/02—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton
- C07C229/04—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated
- C07C229/24—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having more than one carboxyl group bound to the carbon skeleton, e.g. aspartic acid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D243/00—Heterocyclic compounds containing seven-membered rings having two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D243/06—Heterocyclic compounds containing seven-membered rings having two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms having the nitrogen atoms in positions 1 and 4
- C07D243/08—Heterocyclic compounds containing seven-membered rings having two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms having the nitrogen atoms in positions 1 and 4 not condensed with other rings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は1.4−ジアザビシクロ[3,2゜2]ノナン
の製法およびその中間体に関する。
の製法およびその中間体に関する。
Zhurnal 0bshchei Khimii、
33 (7)、 2167−2172(1963)に記
載されているこの化合物は、米国特許第4.775.6
68号に記載の抗菌剤である7−(1,4−ジアザビシ
クロ[3,2,2]ノン−4−イル)−1−エチル−6
−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノ
リンカルボン酸メタンスルホネート塩を製造する際に有
用な化合物である。同様に1.4−ジアザビシクロ[3
,2゜2コノナンと反応させて抗菌性化合物を製造しつ
る他のキノリンカルボン酸については、米国特許第4,
571,396号に記載されている。
33 (7)、 2167−2172(1963)に記
載されているこの化合物は、米国特許第4.775.6
68号に記載の抗菌剤である7−(1,4−ジアザビシ
クロ[3,2,2]ノン−4−イル)−1−エチル−6
−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノ
リンカルボン酸メタンスルホネート塩を製造する際に有
用な化合物である。同様に1.4−ジアザビシクロ[3
,2゜2コノナンと反応させて抗菌性化合物を製造しつ
る他のキノリンカルボン酸については、米国特許第4,
571,396号に記載されている。
本発明は式:
(式中%R’はC1〜、アルキル、または1〜6個のハ
ロ基で置換されたC1〜4アルキルであり、R2は水素
、ナフトイル、置換ナフトイル、ベンジル、置換ベンジ
ル、ベンゾイルまたは置換ベンゾイルであり、上記各置
換ナフトイル、置換ベンジルおよび置換ベンゾイルはハ
ロ%C1〜4アルコキシおよびC1〜、アルキルよりな
る群がら選ばれる1〜3個の置換基で置換されている) の化合物の製法であって、式: (式中%R’およびR3は個々に、cl〜、アルキル、
または1〜6個のハロ基で置換されたC3〜4アルキル
である) の化合物をアルキルスタナンまたはトリアルキルアルミ
ニウムと反応させ、必要ならば、得られたR2が水素で
ある式IIIの化合物を、任意に置換されたナフトイル
クロリド、ナフトイルプロミド、ナフトイルトリフレー
ト、ベンゾイルクロリド、ベンゾイルプロミド、ベンゾ
イルトリフレート、ベンジルクロリド、ベンジルプロミ
ドおよびベンジルトリフレート(置換ナフトイル、置換
ベンジルおよび置換ベンゾイル上の置換基は前記の通り
である)から選ばれる試薬と反応させて、R2が水素以
外の前記の通りの式IIIの化合物を製造することより
なる上記の方法に関するものである、断りがなければ、
ハロはフルオロ、クロロ、ブロモおよびヨードを示す0
本発明の好ましい具体例では、R1およびRJは同じで
ある。別の本発明の好ましい具体例では、R2はベンゾ
イルである R1およびR3が同じで%R”がベンゾイ
ルであるとさらに好ましい R2が水素以外のものであ
る式IIIの化合物の製造に好ましい試薬は、前記の塩
化物である。最も好ましい試薬は塩化ベンゾイルである
。
ロ基で置換されたC1〜4アルキルであり、R2は水素
、ナフトイル、置換ナフトイル、ベンジル、置換ベンジ
ル、ベンゾイルまたは置換ベンゾイルであり、上記各置
換ナフトイル、置換ベンジルおよび置換ベンゾイルはハ
ロ%C1〜4アルコキシおよびC1〜、アルキルよりな
る群がら選ばれる1〜3個の置換基で置換されている) の化合物の製法であって、式: (式中%R’およびR3は個々に、cl〜、アルキル、
または1〜6個のハロ基で置換されたC3〜4アルキル
である) の化合物をアルキルスタナンまたはトリアルキルアルミ
ニウムと反応させ、必要ならば、得られたR2が水素で
ある式IIIの化合物を、任意に置換されたナフトイル
クロリド、ナフトイルプロミド、ナフトイルトリフレー
ト、ベンゾイルクロリド、ベンゾイルプロミド、ベンゾ
イルトリフレート、ベンジルクロリド、ベンジルプロミ
ドおよびベンジルトリフレート(置換ナフトイル、置換
ベンジルおよび置換ベンゾイル上の置換基は前記の通り
である)から選ばれる試薬と反応させて、R2が水素以
外の前記の通りの式IIIの化合物を製造することより
なる上記の方法に関するものである、断りがなければ、
ハロはフルオロ、クロロ、ブロモおよびヨードを示す0
本発明の好ましい具体例では、R1およびRJは同じで
ある。別の本発明の好ましい具体例では、R2はベンゾ
イルである R1およびR3が同じで%R”がベンゾイ
ルであるとさらに好ましい R2が水素以外のものであ
る式IIIの化合物の製造に好ましい試薬は、前記の塩
化物である。最も好ましい試薬は塩化ベンゾイルである
。
本発明はまた、式:
(式中、R2はナフトイル、置換ナフトイル、ベンジル
、置換ベンジル、ベンゾイルまたは置換ベンゾイルであ
り、上記各置換ナフトイル、置換ベンジルおよび置換ベ
ンゾイルはハロ、Cl−4フルコキシおよびC1〜、ア
ルキルよりなる群から選ばれる1〜3個の置換基で置換
されている)の化合物の製法であって、式: (式中、R1は上記の通りであり、R2は式■で定義し
た通りである) の化合物を還元することよりなる、上記の製法に関する
ものである。
、置換ベンジル、ベンゾイルまたは置換ベンゾイルであ
り、上記各置換ナフトイル、置換ベンジルおよび置換ベ
ンゾイルはハロ、Cl−4フルコキシおよびC1〜、ア
ルキルよりなる群から選ばれる1〜3個の置換基で置換
されている)の化合物の製法であって、式: (式中、R1は上記の通りであり、R2は式■で定義し
た通りである) の化合物を還元することよりなる、上記の製法に関する
ものである。
前記還元反応の結果、ベンゾイル基および置換ベンゾイ
ル基はそれぞれベンジル基および置換ベンジル基に還元
され、そしてナフトイル基および置換ナフトイル基はそ
れぞれメチルナフチル基および置換メチルナフチル基に
還元されることは言うまでもないことである。
ル基はそれぞれベンジル基および置換ベンジル基に還元
され、そしてナフトイル基および置換ナフトイル基はそ
れぞれメチルナフチル基および置換メチルナフチル基に
還元されることは言うまでもないことである。
本発明はまた、式:
の化合物の製法であって、上で定義した通りの式Vの化
合物を、ヒドロキシル基をクロロまたはブロモのような
残留基に代えることのできる塩化チオニルまたは臭化チ
オニルのような試薬と反応させ、塩基で閉環させ、そし
て任意に置換されたベンジル、任意に置換されたメチル
ナフチルまたは任意に置換されたベンゾイル基を水素で
置き換えることよりなる上記の方法に関する。
合物を、ヒドロキシル基をクロロまたはブロモのような
残留基に代えることのできる塩化チオニルまたは臭化チ
オニルのような試薬と反応させ、塩基で閉環させ、そし
て任意に置換されたベンジル、任意に置換されたメチル
ナフチルまたは任意に置換されたベンゾイル基を水素で
置き換えることよりなる上記の方法に関する。
本発明はまた、
[式中、ZはC=OまたはCH2であり、R2は水素、
ナフトイル、置換ナフトイル、ベンジル、置換ベンジル
、ベンゾイルまたは置換ベンゾイルであり、上記各置換
ナフトイル、置換ベンジルおよび置換ベンゾイルは八日
、C2〜4アルコキシおよびC3〜、アルキルよりなる
群から選ばれる1〜3個の置換基で置換されており、Q
は水素であり、そしてWは−CHt CH,OH,−c
Ht CHz X * f−Gt CHx COOR
’ (式中、R’はC1〜4アルキル、または1〜6
個のハロ基で置換されたC1〜4アルキルであり、Xは
残留基(例えば、クロロまたはブロモ)またはOHであ
るか、あるいはWとQとが式−CHzGHz−のアルキ
レン橋を形成するが、Wが一〇 H2G OOR’のと
き、ZはC=Oであり、Wが−CR2CR20Hまたは
−CI”It CH2XのときあるいはWとQとが上記
のアルキレン橋を形成するとき、ZはCHlである] の化合物に関する。好ましい残留基はクロロおよびブロ
モであり、最も好ましい残基はクロロである。
ナフトイル、置換ナフトイル、ベンジル、置換ベンジル
、ベンゾイルまたは置換ベンゾイルであり、上記各置換
ナフトイル、置換ベンジルおよび置換ベンゾイルは八日
、C2〜4アルコキシおよびC3〜、アルキルよりなる
群から選ばれる1〜3個の置換基で置換されており、Q
は水素であり、そしてWは−CHt CH,OH,−c
Ht CHz X * f−Gt CHx COOR
’ (式中、R’はC1〜4アルキル、または1〜6
個のハロ基で置換されたC1〜4アルキルであり、Xは
残留基(例えば、クロロまたはブロモ)またはOHであ
るか、あるいはWとQとが式−CHzGHz−のアルキ
レン橋を形成するが、Wが一〇 H2G OOR’のと
き、ZはC=Oであり、Wが−CR2CR20Hまたは
−CI”It CH2XのときあるいはWとQとが上記
のアルキレン橋を形成するとき、ZはCHlである] の化合物に関する。好ましい残留基はクロロおよびブロ
モであり、最も好ましい残基はクロロである。
ここで使用するように、「ハロ」と11う語番こlマフ
ルオロ、クロロ、ブロモおよびヨードカτ含まれる。一
般に、フルオロ、クロロおよびブロモカτ好ましい。
ルオロ、クロロ、ブロモおよびヨードカτ含まれる。一
般に、フルオロ、クロロおよびブロモカτ好ましい。
以下の反応式で本発明の詳細な説明する。
瓦嵐人ユ
フェニル
II
A
(R2
フェニル−CH,−)
IA
(R2
=フェニルーCH2−)
IIA
(R2
:フェニルーCH2−)
反応式の反応上では、R1およびR3が個々に、C1〜
、アルキル、または1〜6個のハロ基で置換されたC8
〜4アルキルである式■の化合物を、Hz N CHz
CHt N H2と反応させて、式IIの化合物を製
造する R1およびR3が同じであり、そのため工程又
で形成される生成物が2種の生成物とならないのが好ま
しい、溶媒は不活性溶媒にすべきである。適当な溶媒に
は1.2−エチレンジアミン、テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、ジオキサン、ジメトキシエタン、ベン
ゼン、トルエンおよびジメチルホルムアミドがある0反
応温度は限定されないが、一般に約り0℃〜約45℃の
範囲であり、25℃が最適である。R1およびR3が共
にエチルである式■の化合物は、アルドリッヒ・ケミカ
ル社から入手できる0式Iの他の化合物は以下のように
して製造しうる: これは、容易に入手し得る1、3−ジメチルアセトンジ
カルボキシレートを、ロケト(Lochte)の方法(
J、 Amer、 Chem、 Soc、、 68.7
21 (1946))でアルコールに接触還元し、塩基
で相当するメシレートを除去することによって製造され
る。
、アルキル、または1〜6個のハロ基で置換されたC8
〜4アルキルである式■の化合物を、Hz N CHz
CHt N H2と反応させて、式IIの化合物を製
造する R1およびR3が同じであり、そのため工程又
で形成される生成物が2種の生成物とならないのが好ま
しい、溶媒は不活性溶媒にすべきである。適当な溶媒に
は1.2−エチレンジアミン、テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、ジオキサン、ジメトキシエタン、ベン
ゼン、トルエンおよびジメチルホルムアミドがある0反
応温度は限定されないが、一般に約り0℃〜約45℃の
範囲であり、25℃が最適である。R1およびR3が共
にエチルである式■の化合物は、アルドリッヒ・ケミカ
ル社から入手できる0式Iの他の化合物は以下のように
して製造しうる: これは、容易に入手し得る1、3−ジメチルアセトンジ
カルボキシレートを、ロケト(Lochte)の方法(
J、 Amer、 Chem、 Soc、、 68.7
21 (1946))でアルコールに接触還元し、塩基
で相当するメシレートを除去することによって製造され
る。
上記のようにグルタコン酸およびトリフルオロエタノー
ルから製造される。
ルから製造される。
(式中、phはフェニルである)
これは、商業的に入手し得るグルタコン酸およびフェノ
ールと、ジシクロへキシルカルボジイミドおよびジメチ
ルアミノピリジンとの反応から製造される。
ールと、ジシクロへキシルカルボジイミドおよびジメチ
ルアミノピリジンとの反応から製造される。
これは、商業的に入手し得るグルタコン酸およびフルオ
ロエタノールと、ジシクロへキシルカルボジイミドおよ
びジメチルアミノピリジンとの反応から製造される。
ロエタノールと、ジシクロへキシルカルボジイミドおよ
びジメチルアミノピリジンとの反応から製造される。
上記のようにグルタコン酸およびクロロエタノールから
製造される。
製造される。
上記のようにグルタコン酸およびトリクロロエタノール
から製造される。
から製造される。
反応式1の反応又では、式IIの化合物を不活性溶媒中
でアルキルスタナン、例えばトリーn −ブチルスズト
リフレート、メシレート、トシレートまたはハロゲン化
物と、あるいはトリメチルアルミニウム、トリエチルア
ルミニウムまたはトリイソブチルアルミニウムのような
トリアルキルアルミニウムと反応させる。上記アルキル
スタナンの中で、トリーn−ブチルスズトリフレートが
最も反応性である。この化合物は、コレ−(Corey
)の方法(Tetrahedron Letters、
2419 (1984))で製造した。適した溶媒に
はテトラヒドロフラン、ジメトキシエタンおよびジオキ
サンがある0反応温度は限定されないが、一般に約り5
℃〜約100℃の範囲であり、67℃が最適である。ス
タナンの各アルキル基は約1〜約lOの炭素原子を有す
るものが好ましく、約1〜約4の炭素原子を有するもの
であるとさらに好ましい、トリアルキルアルミニウムの
アルキル基は約1〜約10の炭素原子を有するものが好
ましく、トリメチルアルミニウムが好ましい、この物質
はトルエン溶液としてまたは純粋な試薬としてアルドリ
ッヒ・ケミカル社から購入することができる0反応lの
生成物(III)は一般に単離しないで、直接反応lに
導く。
でアルキルスタナン、例えばトリーn −ブチルスズト
リフレート、メシレート、トシレートまたはハロゲン化
物と、あるいはトリメチルアルミニウム、トリエチルア
ルミニウムまたはトリイソブチルアルミニウムのような
トリアルキルアルミニウムと反応させる。上記アルキル
スタナンの中で、トリーn−ブチルスズトリフレートが
最も反応性である。この化合物は、コレ−(Corey
)の方法(Tetrahedron Letters、
2419 (1984))で製造した。適した溶媒に
はテトラヒドロフラン、ジメトキシエタンおよびジオキ
サンがある0反応温度は限定されないが、一般に約り5
℃〜約100℃の範囲であり、67℃が最適である。ス
タナンの各アルキル基は約1〜約lOの炭素原子を有す
るものが好ましく、約1〜約4の炭素原子を有するもの
であるとさらに好ましい、トリアルキルアルミニウムの
アルキル基は約1〜約10の炭素原子を有するものが好
ましく、トリメチルアルミニウムが好ましい、この物質
はトルエン溶液としてまたは純粋な試薬としてアルドリ
ッヒ・ケミカル社から購入することができる0反応lの
生成物(III)は一般に単離しないで、直接反応lに
導く。
反応式1の反応1では、式IIIの化合物を不活性溶媒
中、トリエチルアミンまたはジメチルアミノピリジンま
たはこれらの塩基の混合物のような有機塩基の存在下、
任意に置換されたナフトイルクロリド、ナフトイルプロ
ミド、ナフトイルトリフレート、ベンゾイルクロリド、
ベンゾイルプロミド、ベンゾイルトリフレート、ベンジ
ルクロリド、ベンジルプロミドおよびベンジルトリフレ
ート(置換ナフトイル、置換ベンジルおよび置換ベンゾ
イル上の置換基は前記の通りである。)よりなる群から
選ばれる試薬と反応させる。このような試薬は過剰量で
使用するのが好ましい、適当な溶媒にはテトラヒドロフ
ラン、ジメトキシエタン、ジオキサンおよび塩化メチレ
ンがある0反応温度は限定されないが、一般に約−10
℃〜約25℃、好ましくは約0℃である0式IVAにお
ける特定の窒素保護基はベンゾイルである。必要ならば
、上記の他の保護基の1つをベンゾイル基の代わりに使
用してもよい。
中、トリエチルアミンまたはジメチルアミノピリジンま
たはこれらの塩基の混合物のような有機塩基の存在下、
任意に置換されたナフトイルクロリド、ナフトイルプロ
ミド、ナフトイルトリフレート、ベンゾイルクロリド、
ベンゾイルプロミド、ベンゾイルトリフレート、ベンジ
ルクロリド、ベンジルプロミドおよびベンジルトリフレ
ート(置換ナフトイル、置換ベンジルおよび置換ベンゾ
イル上の置換基は前記の通りである。)よりなる群から
選ばれる試薬と反応させる。このような試薬は過剰量で
使用するのが好ましい、適当な溶媒にはテトラヒドロフ
ラン、ジメトキシエタン、ジオキサンおよび塩化メチレ
ンがある0反応温度は限定されないが、一般に約−10
℃〜約25℃、好ましくは約0℃である0式IVAにお
ける特定の窒素保護基はベンゾイルである。必要ならば
、上記の他の保護基の1つをベンゾイル基の代わりに使
用してもよい。
窒素がベンゾイル基で保護されている場合、反応ユから
の生成物を、シリカゲル上でのクロマトグラフィーによ
って単離して、残っているアルキルスズ酸化物を除く、
あるいは、ジャコバスの方法(J、 Org、 Che
Ill、、 44.449 (1979))を用いて、
油状粗生成物をメタノールに溶解し、この溶液を弗化カ
リウムの水溶液で処理してもよい、沈澱する弗化トリア
ルキルスズは濾過によって除去し、溶媒を蒸発させ、そ
して塩化メチレンおよびエチルエーテルから結晶化させ
て希望の生成物を得る。あるいは、残っている酸化スズ
は水性水酸化アンモニウムで抽出することによって除去
してもよい。
の生成物を、シリカゲル上でのクロマトグラフィーによ
って単離して、残っているアルキルスズ酸化物を除く、
あるいは、ジャコバスの方法(J、 Org、 Che
Ill、、 44.449 (1979))を用いて、
油状粗生成物をメタノールに溶解し、この溶液を弗化カ
リウムの水溶液で処理してもよい、沈澱する弗化トリア
ルキルスズは濾過によって除去し、溶媒を蒸発させ、そ
して塩化メチレンおよびエチルエーテルから結晶化させ
て希望の生成物を得る。あるいは、残っている酸化スズ
は水性水酸化アンモニウムで抽出することによって除去
してもよい。
反応式1の反応までは、式IVAの化合物を還元剤と反
応させて式VAの化合物を得る。適当な還元剤には水素
化リチウムアルミニウム、ビトライド(Vitride
) (商標)[水素化ビス(2−メトキシエトキシ)ア
ルミニウムのトルエン溶液]、テトラヒドロフラン(T
HF)中のボラン、硫化ジメチル中のボランおよび水素
化ジイソブチルアルミニウム(ジバール)がある、溶媒
は不活性のものか、あるいは還元剤として作用するもの
または還元剤の働きを助けるものでなければならない、
最適な溶媒は還元剤によって決まる。一般に、THFの
ようなエーテル性溶媒、エーテルまたはジメトキシエタ
ンが好ましい、ビトライド(商標)またはジバールを使
用する場合、反応はまたトルエン、ベンゼンまたはヘキ
サン中で行なってもよい。
応させて式VAの化合物を得る。適当な還元剤には水素
化リチウムアルミニウム、ビトライド(Vitride
) (商標)[水素化ビス(2−メトキシエトキシ)ア
ルミニウムのトルエン溶液]、テトラヒドロフラン(T
HF)中のボラン、硫化ジメチル中のボランおよび水素
化ジイソブチルアルミニウム(ジバール)がある、溶媒
は不活性のものか、あるいは還元剤として作用するもの
または還元剤の働きを助けるものでなければならない、
最適な溶媒は還元剤によって決まる。一般に、THFの
ようなエーテル性溶媒、エーテルまたはジメトキシエタ
ンが好ましい、ビトライド(商標)またはジバールを使
用する場合、反応はまたトルエン、ベンゼンまたはヘキ
サン中で行なってもよい。
式IVAの化合物のベンゾイル窒素保護基は反応4でベ
ンジル基に還元されるが、このベンジル基は窒素保護基
として作用し続けることに注意すべきである。
ンジル基に還元されるが、このベンジル基は窒素保護基
として作用し続けることに注意すべきである。
反応式1の反応基では、式VAの化合物を、ヒドロキシ
ル基を式VIAの化合物においてXで示される残留基に
変えることができる試薬と反応させる。この反応は不活
性溶媒中で行なう、好ましい溶媒は、希望する残留基が
どのような基であるかによって選ぶ、一般に、適した溶
媒にはジクロロエタン、トルエンおよびベンゼンがある
。また、溶媒はハロゲン化剤として作用することができ
る0反応温度は限定されないが、一般に、約70〜約1
20℃の範囲である。
ル基を式VIAの化合物においてXで示される残留基に
変えることができる試薬と反応させる。この反応は不活
性溶媒中で行なう、好ましい溶媒は、希望する残留基が
どのような基であるかによって選ぶ、一般に、適した溶
媒にはジクロロエタン、トルエンおよびベンゼンがある
。また、溶媒はハロゲン化剤として作用することができ
る0反応温度は限定されないが、一般に、約70〜約1
20℃の範囲である。
式VIAの化合物の場合、好ましい残留基はクロロであ
る。このクロロ基は、式vAの化合物を純粋な5OC1
2と高温で反応させて、Xがクロロである式VIの化合
物を形成させることによって導入することができる。こ
の反応の温度は限定されないが、一般に、約75〜約8
5℃の範囲である。
る。このクロロ基は、式vAの化合物を純粋な5OC1
2と高温で反応させて、Xがクロロである式VIの化合
物を形成させることによって導入することができる。こ
の反応の温度は限定されないが、一般に、約75〜約8
5℃の範囲である。
反応式1の反応6では、閉環は、式VIAの化合物を不
活性溶媒中、非求核性塩基と反応させることによって行
なう、水性塩基を使用する場合、水溶性生成物が溶解す
るのを避けるため、塩基は濃縮したものでなければなら
ない、適した塩基はアルカリ性水酸化物(例えば、水酸
化ナトリウムおよびカリウム)である、適した溶媒には
水がある。閉環を行なうための好ましい試薬は50%水
水酸化ナトリウムである1反応基の温度は限定されない
が、一般に、約り5℃〜約35℃である。
活性溶媒中、非求核性塩基と反応させることによって行
なう、水性塩基を使用する場合、水溶性生成物が溶解す
るのを避けるため、塩基は濃縮したものでなければなら
ない、適した塩基はアルカリ性水酸化物(例えば、水酸
化ナトリウムおよびカリウム)である、適した溶媒には
水がある。閉環を行なうための好ましい試薬は50%水
水酸化ナトリウムである1反応基の温度は限定されない
が、一般に、約り5℃〜約35℃である。
閉環を50%水性水酸化ナトリウムを用いて行なう場合
、好ましい温度は約20〜25℃である。
、好ましい温度は約20〜25℃である。
閉環を行なった後、式VIIAの化合物の窒素上の保護
基を、標準的な方法によって除去して式VIIIの化合
物を得る。保護基のそのような除去は、触媒としてpd
(OH)2を使用し、約55℃〜75℃で水素化するこ
とによって行ない得る。圧力は約3〜約6気圧であるの
が好ましい、適した溶媒にはアルコール(例えば、01
〜4アルコール)がある、好ましいアルコールはメタノ
ールである。他の好ましい水素化触媒には、炭素にパラ
ジウムを担持させた触媒がある。
基を、標準的な方法によって除去して式VIIIの化合
物を得る。保護基のそのような除去は、触媒としてpd
(OH)2を使用し、約55℃〜75℃で水素化するこ
とによって行ない得る。圧力は約3〜約6気圧であるの
が好ましい、適した溶媒にはアルコール(例えば、01
〜4アルコール)がある、好ましいアルコールはメタノ
ールである。他の好ましい水素化触媒には、炭素にパラ
ジウムを担持させた触媒がある。
この反応の圧力は一般に制限されない。上記水素化反応
の場合を除いて、この反応の圧力は好ましくは約0.5
〜約2気圧、さらに好ましくは周囲圧(すなわち、1気
圧)である。
の場合を除いて、この反応の圧力は好ましくは約0.5
〜約2気圧、さらに好ましくは周囲圧(すなわち、1気
圧)である。
反応基では、式VIIIの化合物をヨーロッパ特許出願
公報第0215650号に記載のように1−エチル−6
,7−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボン酸と反応させて、式IXで示される
7−(1,4−ジアザビシグロ[3,2,2コノン−4
−イル)−1−エチル−6−フルオロ−1,4−ジヒド
ロ−4=オキソ−3−キノリンカルボン酸メタンスルホ
ン酸塩を形成する。
公報第0215650号に記載のように1−エチル−6
,7−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3
−キノリンカルボン酸と反応させて、式IXで示される
7−(1,4−ジアザビシグロ[3,2,2コノン−4
−イル)−1−エチル−6−フルオロ−1,4−ジヒド
ロ−4=オキソ−3−キノリンカルボン酸メタンスルホ
ン酸塩を形成する。
以下の実施例で本発明の詳細な説明する。実施例中の融
点は全て未補正のものである。
点は全て未補正のものである。
実施例1
7.15s+1(0,107モルンのエチレンジアミン
へ、室温にて窒素雰囲気下、ジエチルゲルタコネート1
.89m1(0,0107モル)を5分かけて滴加した
。この混合物を室温で15分攪拌し、次に真空中で蒸発
させた0表題化合物2.6gを得た。この化合物は次の
工程に直接使用する。’ HNMR(CDC13,30
0MHz)δ:4.1 (4H,q、J=9 Hz)
、3.34 (LH,m) 、2.7 (4H,m)
、2.47(4H,d、J=6 Hz) 、1,88
(3H。
へ、室温にて窒素雰囲気下、ジエチルゲルタコネート1
.89m1(0,0107モル)を5分かけて滴加した
。この混合物を室温で15分攪拌し、次に真空中で蒸発
させた0表題化合物2.6gを得た。この化合物は次の
工程に直接使用する。’ HNMR(CDC13,30
0MHz)δ:4.1 (4H,q、J=9 Hz)
、3.34 (LH,m) 、2.7 (4H,m)
、2.47(4H,d、J=6 Hz) 、1,88
(3H。
brs)、1.22 (8H,t、J=9 Hz)実
施例 2 500m1三つ口丸底フラスコに窒素雰囲気下、実施例
1からの粗生成物8.37g (0,034モル)およ
び無水THF (テロラヒドロフラン)185mlを入
れた。0℃に冷却した得られた透明な溶液に、15g
(0,034モル)のトリーn−ブチルスズドリフルオ
ロメタンスルホネート(E、 J、コレ−1Tetra
hedron Letters、 2419 (198
4))を50m1無水THFに溶解した溶液を加えた。
施例 2 500m1三つ口丸底フラスコに窒素雰囲気下、実施例
1からの粗生成物8.37g (0,034モル)およ
び無水THF (テロラヒドロフラン)185mlを入
れた。0℃に冷却した得られた透明な溶液に、15g
(0,034モル)のトリーn−ブチルスズドリフルオ
ロメタンスルホネート(E、 J、コレ−1Tetra
hedron Letters、 2419 (198
4))を50m1無水THFに溶解した溶液を加えた。
添加は5分かけて行ない、発熱は見られなかった0次に
、反応混合物を還流下、18時間加熱した。再び0℃に
冷却したこの溶液に、9,48m1(0,068モル)
のトリエチルアミン、0.34g (0,0068モル
)のN5N−ジメチルアミノピリジンおよび7.93m
1(0,068モル)のベンゾイルクロリドを加えた。
、反応混合物を還流下、18時間加熱した。再び0℃に
冷却したこの溶液に、9,48m1(0,068モル)
のトリエチルアミン、0.34g (0,0068モル
)のN5N−ジメチルアミノピリジンおよび7.93m
1(0,068モル)のベンゾイルクロリドを加えた。
ベンゾイルクロリドを5分かけて添加したところ、同時
にトリエチルアミン塩酸塩が沈澱した。このスラリーを
、室温に温めながら、2.5時間攪拌した0次に、この
混合物を蒸発させて粗残留物を得、これを酢酸エチル中
の10%メタノールを用いてシリカゲル[ウォルム(W
oelm) (商標)32−83 m ]上で直接グロ
マトグラフにかけた。
にトリエチルアミン塩酸塩が沈澱した。このスラリーを
、室温に温めながら、2.5時間攪拌した0次に、この
混合物を蒸発させて粗残留物を得、これを酢酸エチル中
の10%メタノールを用いてシリカゲル[ウォルム(W
oelm) (商標)32−83 m ]上で直接グロ
マトグラフにかけた。
8.1g (78%)の表題化合物(融点158〜15
9℃)を得tニー ; ’ HNMR(DMSO360
@に、250 MHz)δニア、42(5H,m)
4.85 (LH,br) 4.10(2H,dq
、 J=9 Hz) 3
. 21 (LH,m) 、3.05 (4
H,s) 、2.90 (LH,dd、J=5 Hz
) 、2.65 (2H,ddd、J=15 Hz、
J=7 Hz、J=8Hz) 2.45 (LH
,dd、J=15 Hz、J=6Hz): I R(
CHCL3 )3410.2980,2920,173
0.1670.1630、工440.1200cm−’
;HRMS m/e C+aHzoNt 04に対
する計算値:304.1423 実験値:304.taas 以下の化合物を同様に製造した: エチル−4−[4−ブロモベンゾイル、l −5−(2
−エタン酸)−1,4−ジアゼピン−7−オン、融点1
58−162° ; エチル−4−[1−ナフトイル]−5−(2−エタン酸
)−114−ジアゼピン−7−オン、融点145−15
0@ ; エチル−4−[2−ナフトイル] −5−(2−エタン
酸)−1,4−ジアゼピン−7−オン、融点185−1
90” ; エチル−4−[2−ナフトイル] −5−(2−エタン
酸)−1,4−ジアゼピン−7−オン、融点144−1
45’ ; エチル−4−カルボベンジルオキシ−5−(2−エタン
酸)−114−ジアゼピン−7−オン、油実施例3 磁気撹拌棒、冷却器、滴下漏斗および窒素送入口を備え
た1リツター三つロフラスコへ、210m1(0,21
0モル)の1.0M水素化リチウムアルミニウムのTH
F溶液を加えた。室温で、上記化合物(8,0g、0.
026モル)の100m1THF溶液を15分かけて添
加したところ、同時に反応混合物からガスが発生した。
9℃)を得tニー ; ’ HNMR(DMSO360
@に、250 MHz)δニア、42(5H,m)
4.85 (LH,br) 4.10(2H,dq
、 J=9 Hz) 3
. 21 (LH,m) 、3.05 (4
H,s) 、2.90 (LH,dd、J=5 Hz
) 、2.65 (2H,ddd、J=15 Hz、
J=7 Hz、J=8Hz) 2.45 (LH
,dd、J=15 Hz、J=6Hz): I R(
CHCL3 )3410.2980,2920,173
0.1670.1630、工440.1200cm−’
;HRMS m/e C+aHzoNt 04に対
する計算値:304.1423 実験値:304.taas 以下の化合物を同様に製造した: エチル−4−[4−ブロモベンゾイル、l −5−(2
−エタン酸)−1,4−ジアゼピン−7−オン、融点1
58−162° ; エチル−4−[1−ナフトイル]−5−(2−エタン酸
)−114−ジアゼピン−7−オン、融点145−15
0@ ; エチル−4−[2−ナフトイル] −5−(2−エタン
酸)−1,4−ジアゼピン−7−オン、融点185−1
90” ; エチル−4−[2−ナフトイル] −5−(2−エタン
酸)−1,4−ジアゼピン−7−オン、融点144−1
45’ ; エチル−4−カルボベンジルオキシ−5−(2−エタン
酸)−114−ジアゼピン−7−オン、油実施例3 磁気撹拌棒、冷却器、滴下漏斗および窒素送入口を備え
た1リツター三つロフラスコへ、210m1(0,21
0モル)の1.0M水素化リチウムアルミニウムのTH
F溶液を加えた。室温で、上記化合物(8,0g、0.
026モル)の100m1THF溶液を15分かけて添
加したところ、同時に反応混合物からガスが発生した。
ガスの発生が止まった(15〜20分)後、反応混合物
を還流下、18時間加熱した。混合物を室温に冷却し、
ついで以下のように冷却した;8mlの水を30分かけ
て添加したところ、強い発熱があった。
を還流下、18時間加熱した。混合物を室温に冷却し、
ついで以下のように冷却した;8mlの水を30分かけ
て添加したところ、強い発熱があった。
生じたスラリーを8mlの15%(w / w )水性
水酸化ナトリウムで処理した。この混合物に24m1の
水を加え、この混合物をさらに15分間攪拌し、その後
濾過し、濾液を濃縮して油を得た。
水酸化ナトリウムで処理した。この混合物に24m1の
水を加え、この混合物をさらに15分間攪拌し、その後
濾過し、濾液を濃縮して油を得た。
5.65g (100%)の表題化合物が得られた。こ
の物質は、精製することなくその後の合成に使用するの
に満足なものであった。しかしながら、少量の試料を分
析のためにシリカゲルクロマトグラフィーで精製した(
CHCL3 :EtOH:水性NH,OH;9.O:
0.6:0.4)。
の物質は、精製することなくその後の合成に使用するの
に満足なものであった。しかしながら、少量の試料を分
析のためにシリカゲルクロマトグラフィーで精製した(
CHCL3 :EtOH:水性NH,OH;9.O:
0.6:0.4)。
HNMR(CDC1s 、 300MHz)δニア。
26 (5H,m) 、3.78 (5H,m)、3.
28 (IH,m)、2.88 (6H,brm) 、
2.66 (IH,m) 、1.84 (3H。
28 (IH,m)、2.88 (6H,brm) 、
2.66 (IH,m) 、1.84 (3H。
br m))、1.47 (IH,m):CICl5
N (CDC1a 、 75. 43MHz)
:138゜7 、129.0 、128.4 、12
7.1 、62、9、61 、9 、52 、9 、5
1 、8 、47゜1.46.9.35.4.33.8
;IRにト)3300.2920.1735.1450
.1360、1240、1050an−’;HRM S
m/ e C14H*tN ! Oに対する計算
値:234.1733 実験値:234.1695 実施例4 磁気撹拌棒、冷却器および硫酸カルシウム乾燥管を備え
た丸底フラスコに、1.3g (0,0055モル)の
前工程からの生成物を入れ、この系を0℃に冷却した。
N (CDC1a 、 75. 43MHz)
:138゜7 、129.0 、128.4 、12
7.1 、62、9、61 、9 、52 、9 、5
1 、8 、47゜1.46.9.35.4.33.8
;IRにト)3300.2920.1735.1450
.1360、1240、1050an−’;HRM S
m/ e C14H*tN ! Oに対する計算
値:234.1733 実験値:234.1695 実施例4 磁気撹拌棒、冷却器および硫酸カルシウム乾燥管を備え
た丸底フラスコに、1.3g (0,0055モル)の
前工程からの生成物を入れ、この系を0℃に冷却した。
この油に4.86+++1(0,066モル)の塩化チ
オニルを加えた。この黒ずんだ反応混合物を徐々に室温
に温め、ついで還流下、1時間加熱した。混合物を室温
に冷却し、そして30m1の水を滴加することによって
注意深く冷却した。得られた溶液を3gの活性炭で゛処
理し、70℃に1時間加熱した。熱い溶液を珪藻土[セ
ライト(商標)]に通して濾過し、濾液を濃縮して乾燥
させた。これは少量(約10+sl)のエタノールの助
けをかりて、最後に残った微量の水を除去することによ
って行なった6表題化合物は発泡体として収率64%(
1,43g)で得られた。この物質はさらに精製するこ
となく使用した。
オニルを加えた。この黒ずんだ反応混合物を徐々に室温
に温め、ついで還流下、1時間加熱した。混合物を室温
に冷却し、そして30m1の水を滴加することによって
注意深く冷却した。得られた溶液を3gの活性炭で゛処
理し、70℃に1時間加熱した。熱い溶液を珪藻土[セ
ライト(商標)]に通して濾過し、濾液を濃縮して乾燥
させた。これは少量(約10+sl)のエタノールの助
けをかりて、最後に残った微量の水を除去することによ
って行なった6表題化合物は発泡体として収率64%(
1,43g)で得られた。この物質はさらに精製するこ
となく使用した。
HRMS m/e C,Hx、N、CIに対する計
算値:252.1393 実験値:252.1281 実施例5 250m1三つ口丸底フラスコに窒素下、先の反応から
の生成物(1,43g、0.0038モル)および水に
加えた50%水酸化ナトリウム12m1を添加した。混
合物を1時間攪拌し、50m1の塩化メチレンで3回抽
出した。有機層をブラインで洗浄し、次に硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。
算値:252.1393 実験値:252.1281 実施例5 250m1三つ口丸底フラスコに窒素下、先の反応から
の生成物(1,43g、0.0038モル)および水に
加えた50%水酸化ナトリウム12m1を添加した。混
合物を1時間攪拌し、50m1の塩化メチレンで3回抽
出した。有機層をブラインで洗浄し、次に硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。
濃縮した後、0.7g (90%)の表題生成物が得ら
れた。この物質は精製しないで、次の工程に使用した。
れた。この物質は精製しないで、次の工程に使用した。
’HNMR(CDC1,,250MHz)δ: 7.3
0 (5H,m) 3.65(2H,s)、3.0
0 (6H,m) 、2.89(IH,m)、2.70
(2H,t、 J=6.2Hz) 、1.95 (2
H,m) 、1.6 (2H。
0 (5H,m) 3.65(2H,s)、3.0
0 (6H,m) 、2.89(IH,m)、2.70
(2H,t、 J=6.2Hz) 、1.95 (2
H,m) 、1.6 (2H。
rn) ;C”NMR(CDCl a 、 62.
9 MHz):139.67.128.70.12
8.29.126.91.61.89.55.43.5
2.70.51.00.46.92.25.61HRM
S m/e CzHzoNtに対する計算値:21
6.1628 実験値:218.1620 実施例6 先の反応からの生成物0.5g (0,0023モル)
のメタノール溶液に0.1gの水酸化パラジウム触媒(
20%炭素担持)を加えた。この混金物を50psi水
素圧下に置き、65℃に加熱し、合計18時間パー(P
arr)装置中で水素化した。この間、触媒を再び加え
た0反応混合物をセライト(商標)に通して濾過し、蒸
発させた。得られた油(0,222g)を使用して、さ
らに精製することなく7− (1,4−ジアザビシクロ
[3,2,2]ノン−4−イル)−1−エチル−6−フ
ルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリン
カルボン酸メタンスルホネートを得ることができた。し
かしながら、特性決定のために、これを2.0mlのイ
ソプロパツールに溶解し、2.5mlのイソプロパツー
ルに1.5g(0,0077モル)のトルエンスルホン
酸を加えたもので処理した。スラリーを0℃に冷却した
後、沈殿物が直ちに形成し、これを集めた0表題化合物
が全体収率51%(0,6g)で得られた。’ HNM
R(DM80,300MHz)δニア、49 (2H,
d、J=9Hz)、7.11(2H,d、J=9Hz)
、3.96 (IH,br、t) 、3.54 (4
H,m)、3.43 (4H,m) 、 3. 31
(2H,m)、 2. 28 (3H,s)
2. 19 (2H,m) ;C”NMR(
DMSo、 75. 43 MHz) :
1. 44゜7 、138.4 、128.4 、
125.5 、50、1 、46.9、44.8、37
.3、20゜8 、 io、s; HRMS m/e (,7HrsN*に対する計算
値+126.1158 実験値:126.1158 :・−埋入 弁理士 湯 浅 恭三 (外4名)
9 MHz):139.67.128.70.12
8.29.126.91.61.89.55.43.5
2.70.51.00.46.92.25.61HRM
S m/e CzHzoNtに対する計算値:21
6.1628 実験値:218.1620 実施例6 先の反応からの生成物0.5g (0,0023モル)
のメタノール溶液に0.1gの水酸化パラジウム触媒(
20%炭素担持)を加えた。この混金物を50psi水
素圧下に置き、65℃に加熱し、合計18時間パー(P
arr)装置中で水素化した。この間、触媒を再び加え
た0反応混合物をセライト(商標)に通して濾過し、蒸
発させた。得られた油(0,222g)を使用して、さ
らに精製することなく7− (1,4−ジアザビシクロ
[3,2,2]ノン−4−イル)−1−エチル−6−フ
ルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリン
カルボン酸メタンスルホネートを得ることができた。し
かしながら、特性決定のために、これを2.0mlのイ
ソプロパツールに溶解し、2.5mlのイソプロパツー
ルに1.5g(0,0077モル)のトルエンスルホン
酸を加えたもので処理した。スラリーを0℃に冷却した
後、沈殿物が直ちに形成し、これを集めた0表題化合物
が全体収率51%(0,6g)で得られた。’ HNM
R(DM80,300MHz)δニア、49 (2H,
d、J=9Hz)、7.11(2H,d、J=9Hz)
、3.96 (IH,br、t) 、3.54 (4
H,m)、3.43 (4H,m) 、 3. 31
(2H,m)、 2. 28 (3H,s)
2. 19 (2H,m) ;C”NMR(
DMSo、 75. 43 MHz) :
1. 44゜7 、138.4 、128.4 、
125.5 、50、1 、46.9、44.8、37
.3、20゜8 、 io、s; HRMS m/e (,7HrsN*に対する計算
値+126.1158 実験値:126.1158 :・−埋入 弁理士 湯 浅 恭三 (外4名)
Claims (10)
- (1)以下の式を有する化合物: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、ZはC=OまたはCH_2であり、R^2は水
素、ナフトイル、置換ナフトイル、ベンジル、置換ベン
ジル、ベンゾイルまたは置換ベンゾイルであり、上記各
置換ナフトイル、置換ベンジルおよび置換ベンゾイルは
ハロ、C_1_〜_4アルコキシおよびC_1_〜_4
アルキルよりなる群から選ばれる1〜3個の置換基で置
換されており、Qは水素であり、そしてWは−CH_2
CH_2OH、−CH_2CH_2Xまたは−CH_2
COOR^1(式中、R^1はC_1_〜_4アルキル
、または1〜6個のハロ基で置換されたC_1_〜_4
アルキルであり、Xは残留基またはOHであるか、ある
いはWとQとが式−CH_2CH_2−のアルキレン橋
を形成するが、Wが−CH_2COOR^1のとき、Z
はC=Oであり、Wが−CH_2CH_2OHまたは−
CH_2CH_2XのときあるいはWとQとが上記のア
ルキレン橋を形成するとき、ZはCH_2である] - (2)以下の式を有することを特徴とする、請求項第1
に記載の化合物: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2は窒素保護基である) - (3)R^2がベンジルである、請求項第1または2に
記載の化合物。 - (4)以下の式を有する、請求項第1に記載の化合物: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はC_1_〜_4アルキル、または1〜
6個のハロ基で置換されたC_1_〜_4アルキルであ
り、R^2は水素以外の請求項第1で定義した通りであ
る) - (5)R^1がエチルまたはベンゾイルであることを特
徴とする、請求項第4に記載の化合物。 - (6)以下の式を有することを特徴とする、請求項第1
に記載の化合物: ▲数式、化学式、表等があります▼ - (7)以下の式の化合物: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^3は個々に、C_1_〜_4
アルキル、または1〜6個のハロ基で置換されたC_1
_〜_4アルキルである) - (8)式: ▲数式、化学式、表等があります▼III (式中、R^1はC_1_〜_4アルキル、または1〜
6個のハロ基で置換されたC_1_〜_4アルキルであ
り、R^2は水素、ナフトイル、置換ナフトイル、ベン
ジル、置換ベンジル、ベンゾイルまたは置換ベンゾイル
であり、上記各置換ナフトイル、置換ベンジルおよび置
換ベンゾイルはハロ、C_1_〜_4アルコキシおよび
C_1_〜_4アルキルよりなる群から選ばれる1〜3
個の置換基で置換されている) の化合物の製法であって、式: ▲数式、化学式、表等があります▼II (式中、R^1およびR^3は個々に、C_1_〜_4
アルキル、または1〜6個のハロ基で置換されたC_1
_〜_4アルキルである) の化合物をアルキルスタナンまたはトリアルキルアルミ
ニウムと反応させ、必要ならば、得られたR^2が水素
である式IIIの化合物を、ベンゾイルクロリド、ベンゾ
イルブロミド、ベンジルクロリドおよびベンジルブロミ
ドから選ばれる試薬と反応させて、R^2が水素以外の
上記の定義の通りの式IIIの化合物を製造することを特
徴とする上記の製法。 - (9)式: ▲数式、化学式、表等があります▼V (式中、R^2はナフトイル、置換ナフトイル、ベンジ
ル、置換ベンジル、ベンゾイルまたは置換ベンゾイルで
あり、上記各置換ナフトイル、置換ベンジルおよび置換
ベンゾイルはハロ、C_1_〜_4アルコキシおよびC
_1_〜_4アルキルよりなる群から選ばれる1〜3個
の置換基で置換されている) の化合物の製法であって、式: ▲数式、化学式、表等があります▼IV (式中、R^1およびR^2は上記の通りである)の化
合物を還元することよりなる、上記の製法。 - (10)式: ▲数式、化学式、表等があります▼VIII の化合物の製法であって、式: ▲数式、化学式、表等があります▼V 式中、R^2はナフトイル、置換ナフトイル、ベンジル
、置換ベンジル、ベンゾイルまたは置換ベンゾイルであ
り、上記各置換ナフトイル、置換ベンジルおよび置換ベ
ンゾイルはハロ、C_1_〜_4アルコキシおよびC_
1_〜_4アルキルよりなる群から選ばれる1〜3個の
置換基で置換されている) の化合物を、ヒドロキシル基を残留基に代えることがで
きる試薬と反応させ、塩基で閉環させ、そしてR^2基
を水素で置換することよりなる、上記の製法。
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