JPH02142157A - ウェハーの有無・傾き判別装置 - Google Patents
ウェハーの有無・傾き判別装置Info
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- JPH02142157A JPH02142157A JP63295817A JP29581788A JPH02142157A JP H02142157 A JPH02142157 A JP H02142157A JP 63295817 A JP63295817 A JP 63295817A JP 29581788 A JP29581788 A JP 29581788A JP H02142157 A JPH02142157 A JP H02142157A
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- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 1
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Landscapes
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はウェハー搬送・処理装置に関し、特にウェハー
カセットに収納されたウェハーの有検出及び位置決めを
正確に行い、しかも真空処理室や一プロセス処理室でウ
ェハーの有無検出及び位置決をするのに適したウェハー
搬送・処理装置に関するものである。
カセットに収納されたウェハーの有検出及び位置決めを
正確に行い、しかも真空処理室や一プロセス処理室でウ
ェハーの有無検出及び位置決をするのに適したウェハー
搬送・処理装置に関するものである。
従来、半導体集積回路製造工程において、ウェハーはウ
ェハーカセットに収納され、各工程間で受は渡される。
ェハーカセットに収納され、各工程間で受は渡される。
ウェハー処理が真空処理室やプロセス処理室内で行われ
る場合には、真空あるいはガス等の環境に光センサや光
源が適応せず破損するので、真空処理室やプロセス処理
室の両側にビューポイント（のぞき穴）を設け、該室外
から該ビューポイントを通して光源と光検出器を対向し
てもうけ、ウェハーによる光源光の遮断を検出してウェ
ハーの有無を検出している。
る場合には、真空あるいはガス等の環境に光センサや光
源が適応せず破損するので、真空処理室やプロセス処理
室の両側にビューポイント（のぞき穴）を設け、該室外
から該ビューポイントを通して光源と光検出器を対向し
てもうけ、ウェハーによる光源光の遮断を検出してウェ
ハーの有無を検出している。
または、ウェハーのプロセス処理工程前に、光源と光検
出器とを対向して設はウェハーをエレベータに乗せウェ
ハー毎に該エレベータを上下させ、ウェハーによる光源
光の遮断を光検出器で検出している。
出器とを対向して設はウェハーをエレベータに乗せウェ
ハー毎に該エレベータを上下させ、ウェハーによる光源
光の遮断を光検出器で検出している。
また、ウェハーの。プロセス処理工程前にはウェハーの
正確な位置決めが行われている。即ち、第１１図に示す
様にウェハーの位置決め位置の周囲にビン１〜８を中心
から等距離に配置し、該位置にウェハーが搬送されると
ウェハー９を回転させながら該ビン１〜８を内方に移動
させウェハー９のオリエンテーションフラットＩＯ前に
設けられたビンｌおよび２を微調整して該オリエンテー
ションフラットｌＯを所定位置にビンｌ及び２で係止し
、ウェハー９の位置決めを行っている。
正確な位置決めが行われている。即ち、第１１図に示す
様にウェハーの位置決め位置の周囲にビン１〜８を中心
から等距離に配置し、該位置にウェハーが搬送されると
ウェハー９を回転させながら該ビン１〜８を内方に移動
させウェハー９のオリエンテーションフラットＩＯ前に
設けられたビンｌおよび２を微調整して該オリエンテー
ションフラットｌＯを所定位置にビンｌ及び２で係止し
、ウェハー９の位置決めを行っている。
しかし、前者の場合には、光源光が該処理室内で減衰し
たり、拡散したりして正確な検出ができない欠点かある
。
たり、拡散したりして正確な検出ができない欠点かある
。
また、後者の場合には処理工程内ではウェハーの検出が
行われずウェハーの処理工程に不備が生し、更にエレベ
ータか必要なため装置が大型化する等の欠点がある。
行われずウェハーの処理工程に不備が生し、更にエレベ
ータか必要なため装置が大型化する等の欠点がある。
また、上述の位置決め方法ではウェハーが破損したり、
ゴミが付着する欠点がある。
ゴミが付着する欠点がある。
本発明はこの点を改良するもので、全ウェハーの有無を
同時に検出することができ、エレベータを必要とせず装
置が大型化せず、しかも真空室やガス室におけるウェハ
ー検出にも適したウェハー搬送・処理装置を提供するこ
とを目的とする。
同時に検出することができ、エレベータを必要とせず装
置が大型化せず、しかも真空室やガス室におけるウェハ
ー検出にも適したウェハー搬送・処理装置を提供するこ
とを目的とする。
また、本発明はウェハーを破損することなく、更にゴミ
が付着することなくウェハーを正確に位置決めできるウ
ェハーの搬送・処理装置を提供することを目的する。
が付着することなくウェハーを正確に位置決めできるウ
ェハーの搬送・処理装置を提供することを目的する。
本発明はカメラをウェハーカセットに対向して配置し、
更にスリット光源によりウェハーカセット内のウェハー
にスリット光を照射するように構成した。
更にスリット光源によりウェハーカセット内のウェハー
にスリット光を照射するように構成した。
また、本発明はウェハーを位置決めする為のセッターに
対応してカメラを配置し、ウェハーの位置決め基準位置
の座標値を予め記憶し、この基準ブタとカメラで撮像さ
れたウェハー撮像画像データとからウェハー補償データ
を決定し、この補償データに基づいてウェハーの位置決
めを行う様に構成した。
対応してカメラを配置し、ウェハーの位置決め基準位置
の座標値を予め記憶し、この基準ブタとカメラで撮像さ
れたウェハー撮像画像データとからウェハー補償データ
を決定し、この補償データに基づいてウェハーの位置決
めを行う様に構成した。
従って、ウェハーカセット内のウェハーからの反射光が
カメラで撮像され、この撮像画像から全てのウェハーに
ついて瞬時にウェハーの有無が判別される。
カメラで撮像され、この撮像画像から全てのウェハーに
ついて瞬時にウェハーの有無が判別される。
また、ウニ・・−の位置決めをウェハーに無接触で行う
ことかできる。
ことかできる。
〔実施例）
本発明の一実施例全図面の簡単な説明する。
第１図は本発明一実施例の配置の政略を説明するための
平面図を示し、第２図は本発明一実施例の配置の政略を
説明するための側面図を示す。
平面図を示し、第２図は本発明一実施例の配置の政略を
説明するための側面図を示す。
即ち、第１図及び第２図の才りいて、処理前のウェハー
が収納されたウェハーカセッ）２１に対向する位置にカ
メラ２２が配置され、処理後のウェハ−が収納されるべ
きウェハーカセット２３の位Ｒに対向する位置にカメラ
２４が配置される。また、２５はウェハーを位置決めす
るためのセッターを示し、このセッター２５の上にはカ
メラ２６が配置されている。また、２７はウェハーの処
理室を・示し、２８および２９はそれぞれウェハー搬送
機構（ロボットで構成される）を示す。また、図中、３
０はウェハーを示す。
が収納されたウェハーカセッ）２１に対向する位置にカ
メラ２２が配置され、処理後のウェハ−が収納されるべ
きウェハーカセット２３の位Ｒに対向する位置にカメラ
２４が配置される。また、２５はウェハーを位置決めす
るためのセッターを示し、このセッター２５の上にはカ
メラ２６が配置されている。また、２７はウェハーの処
理室を・示し、２８および２９はそれぞれウェハー搬送
機構（ロボットで構成される）を示す。また、図中、３
０はウェハーを示す。
第３図は本発明一実施例のブロック図を示す。
第３図で第１図および第２図と同一の符号はそれぞれ第
１図および第２図と同一のものを示す。第３図において
、前記カメラ２２および２４の出力は座標演算回路３５
に接続され、この座標演算回路３５の出力はウェハー有
無判別回路３６に接続され、このウェハー有無判別回路
３６の出力は記憶回路３７に接続されている。この記憶
回路３７は制御回路３８と接続されている。また、前記
カメラ２６の出力は座標演算回路３９に接続され、この
座標演算回路３９の出力は比較・補償回路４０に接続さ
れている。また、この比較・補償回路４０には前記記ｔ
α回路３７の出力が接続されている。また、この比較・
補償回路４０の出力は位置決め回路４１に接続され、こ
の位置決め回路４１の出力は前記セッター２５に接続さ
れたセッター駆動回路４２に接続され、このセッター駆
動回路４２は前記ウェハー搬送機構２９に接続されてい
る。このウェハー搬送機構２９と前記ウェハー搬送機構
２８は前記制御回路３８にそれぞれ接続され一〇いる。
１図および第２図と同一のものを示す。第３図において
、前記カメラ２２および２４の出力は座標演算回路３５
に接続され、この座標演算回路３５の出力はウェハー有
無判別回路３６に接続され、このウェハー有無判別回路
３６の出力は記憶回路３７に接続されている。この記憶
回路３７は制御回路３８と接続されている。また、前記
カメラ２６の出力は座標演算回路３９に接続され、この
座標演算回路３９の出力は比較・補償回路４０に接続さ
れている。また、この比較・補償回路４０には前記記ｔ
α回路３７の出力が接続されている。また、この比較・
補償回路４０の出力は位置決め回路４１に接続され、こ
の位置決め回路４１の出力は前記セッター２５に接続さ
れたセッター駆動回路４２に接続され、このセッター駆
動回路４２は前記ウェハー搬送機構２９に接続されてい
る。このウェハー搬送機構２９と前記ウェハー搬送機構
２８は前記制御回路３８にそれぞれ接続され一〇いる。
第４図は本発明一実施例にフローチャー１・を示す。
この様に構成した本発明一実施例の特徴ある動作を説明
する。ウエハーカセッ１−２１の各スロント内には処理
前のウェハーが複数枚収納されており、この収納状態か
カメラ（ＣＣＤカメラが適する）２２を用いて撮像され
る（第４図のブロック５０、以下単に「ブロック」と言
う）。この撮像動作を第５図を用いて説明する。
する。ウエハーカセッ１−２１の各スロント内には処理
前のウェハーが複数枚収納されており、この収納状態か
カメラ（ＣＣＤカメラが適する）２２を用いて撮像され
る（第４図のブロック５０、以下単に「ブロック」と言
う）。この撮像動作を第５図を用いて説明する。
第５図はカメラ２２、ウェハーカセット２１およびスリ
ット光源４３の配置を示す詳細図である。
ット光源４３の配置を示す詳細図である。
カメラ２２の光軸かウェハーカセット２１の高さ方向の
中間で且つウェハー３０にほぼ平行となる様にカメラ２
２か配置される。スリット光源４３は照射方向がカメラ
光軸と浅い角度で交差する様にカメラ２２の真上または
真下に配置される。ウニ／・−３０の端部はウェハー下
面から上面への滑らかな曲面で形成されているので、ス
リｙト光Ｒ４３からの光はウェハー３０の端面のスリッ
ト光があたる点で反射し、カメラ２２には第６図の示す
様な画像が撮像される。
中間で且つウェハー３０にほぼ平行となる様にカメラ２
２か配置される。スリット光源４３は照射方向がカメラ
光軸と浅い角度で交差する様にカメラ２２の真上または
真下に配置される。ウニ／・−３０の端部はウェハー下
面から上面への滑らかな曲面で形成されているので、ス
リｙト光Ｒ４３からの光はウェハー３０の端面のスリッ
ト光があたる点で反射し、カメラ２２には第６図の示す
様な画像が撮像される。
ここで、上述の如く光源にスリット光源を用いてウェハ
一端面の曲面にスリット光を照射するので、カメラ２２
には反射光が第６図に黒点（最も明るい点を示す）で示
す様にほぼ点状態で撮像される。また、ウェハー３０が
収納されていない所は反射光は無く第６図に示す様にウ
ェハーの反射光は撮像されない。
一端面の曲面にスリット光を照射するので、カメラ２２
には反射光が第６図に黒点（最も明るい点を示す）で示
す様にほぼ点状態で撮像される。また、ウェハー３０が
収納されていない所は反射光は無く第６図に示す様にウ
ェハーの反射光は撮像されない。
この撮像画像は座標演算回路３５に出力され、座標演算
回路３５でロボットで構成されるウェハ搬送機構２８か
ウェハーカセット２１内のウェハー３０を取り出すのに
必要とされる移動座標が各ウェハー３０毎に演算され、
各ウェハー毎に該演算座標値か付されたテーブルか形成
される（ブロック５２）。ウェハー有無判別回路３６は
前記テーブルを読出し、ウェハーの座標値の有無により
ウェハーの有無を判別し、座標値があればウェハー有り
と判別しくブロック５３のｙｅｓ、５４．）、座標値が
無ければ所定回数だけブロック５０〜５５を繰り返しこ
の後にウェハー無しを判別する（ブロック５３のｎｏ、
５６）。また、このテーブルは記憶回路３７に記憶され
る。
回路３５でロボットで構成されるウェハ搬送機構２８か
ウェハーカセット２１内のウェハー３０を取り出すのに
必要とされる移動座標が各ウェハー３０毎に演算され、
各ウェハー毎に該演算座標値か付されたテーブルか形成
される（ブロック５２）。ウェハー有無判別回路３６は
前記テーブルを読出し、ウェハーの座標値の有無により
ウェハーの有無を判別し、座標値があればウェハー有り
と判別しくブロック５３のｙｅｓ、５４．）、座標値が
無ければ所定回数だけブロック５０〜５５を繰り返しこ
の後にウェハー無しを判別する（ブロック５３のｎｏ、
５６）。また、このテーブルは記憶回路３７に記憶され
る。
ウェハーカセット２１内のウェハー３０の収納状態、即
ちウェハーの有無か検出されると、ウェハー３０が一枚
づ゛つウェハー位置決めの為にセッター２５上に搬送さ
れる（ブロック５８．５９）。
ちウェハーの有無か検出されると、ウェハー３０が一枚
づ゛つウェハー位置決めの為にセッター２５上に搬送さ
れる（ブロック５８．５９）。
即ち、制御回路３８は前記座標値に基づいてウェハー搬
送機構２８かウェハーカセット２１内に存在するウェハ
ー３０だけを直接アクセスし、セッター２５上に搬送す
る様に制御する。
送機構２８かウェハーカセット２１内に存在するウェハ
ー３０だけを直接アクセスし、セッター２５上に搬送す
る様に制御する。
ウェハー３０がセッター２５上に置かれると、カメラ２
６がウェハー３０を撮像し、この撮像画像は座標演算回
路３９に送られ、座標演算回路３９はこのウェハー３０
の撮像画像から得られた座標系からウェハー３０の中心
０′、ロリエンテーションフラット４４の両端のβ′お
よびβ′の座標値を演算する（ブロック６０）。
６がウェハー３０を撮像し、この撮像画像は座標演算回
路３９に送られ、座標演算回路３９はこのウェハー３０
の撮像画像から得られた座標系からウェハー３０の中心
０′、ロリエンテーションフラット４４の両端のβ′お
よびβ′の座標値を演算する（ブロック６０）。
即ち、第７図に示すようなカメラ２６からの撮像画像が
座標演算回路３９に入力され、座標演算回路３９は撮像
画像の座標系３４に基づいてこのウェハー撮像画像３３
の中心Ｏ′、オリエンテーションフラット４４の両端α
″ β′の座標値を演算する。ここで、第７図はウェハ
ーのオリエンテーションフラット４４が右に変位してセ
ッター２５上Ｉこ置かれた例である。
座標演算回路３９に入力され、座標演算回路３９は撮像
画像の座標系３４に基づいてこのウェハー撮像画像３３
の中心Ｏ′、オリエンテーションフラット４４の両端α
″ β′の座標値を演算する。ここで、第７図はウェハ
ーのオリエンテーションフラット４４が右に変位してセ
ッター２５上Ｉこ置かれた例である。
この座標値は比較・補償回路４０に送られ、前記記憶回
路３７に予め記憶されたウェハー位置決め位置データと
比較され補償され（ブロック６１．６２）る。位置決め
回路４１はこの補償データによりウェハー３０の位置決
めを行う（ブロック６３）。
路３７に予め記憶されたウェハー位置決め位置データと
比較され補償され（ブロック６１．６２）る。位置決め
回路４１はこの補償データによりウェハー３０の位置決
めを行う（ブロック６３）。
この動作を第７図および第８図を用いて詳しく説明する
。第７図と第８図において同一の符号はそれぞれ同一の
ものを示す。第８図はウェハーの位置決め位置を示すも
のであり、第８図中に実線でウェハーの位置決め位置を
示すウェハー基準位置３１が示されている。このウェハ
ー基準位置３１は基準座標系３２で決定されており、前
記記憶回路３７にはウェハー基準位置３１の中心０、オ
リエンテーションフラット４４の両端α、βの基準座標
系における座標値が予め記憶されている。
。第７図と第８図において同一の符号はそれぞれ同一の
ものを示す。第８図はウェハーの位置決め位置を示すも
のであり、第８図中に実線でウェハーの位置決め位置を
示すウェハー基準位置３１が示されている。このウェハ
ー基準位置３１は基準座標系３２で決定されており、前
記記憶回路３７にはウェハー基準位置３１の中心０、オ
リエンテーションフラット４４の両端α、βの基準座標
系における座標値が予め記憶されている。
前記比較・補償回路４０は入力された面記ウェハー撮像
画像３３の中心Ｏ′、オリエンテーションフラット４４
の両端ａ′ β′の座標値を前記基準座標系３２の座標
値に変換する。これにより第８図に概念的に示す様に前
記ウェハー撮像画像３３の中心Ｏ″はウェハー基準位置
３１の中心０と一致する。この状態で、比較・補償回路
４０はウェハー基準位置３１のαとウェハー撮像画像の
αの差及びウェハー基準位置３１のβとウェハー撮像画
像のβ′との差を演算し、このデータに基づいてセッタ
ー２５のウェハー回転角度θを演算する。また、比較・
補償回路４０はウェハー基準位置３１のａからのウェハ
ー撮像画像のα°の変位方向ｌこより前記回転角度θの
回転方向を決定する。
画像３３の中心Ｏ′、オリエンテーションフラット４４
の両端ａ′ β′の座標値を前記基準座標系３２の座標
値に変換する。これにより第８図に概念的に示す様に前
記ウェハー撮像画像３３の中心Ｏ″はウェハー基準位置
３１の中心０と一致する。この状態で、比較・補償回路
４０はウェハー基準位置３１のαとウェハー撮像画像の
αの差及びウェハー基準位置３１のβとウェハー撮像画
像のβ′との差を演算し、このデータに基づいてセッタ
ー２５のウェハー回転角度θを演算する。また、比較・
補償回路４０はウェハー基準位置３１のａからのウェハ
ー撮像画像のα°の変位方向ｌこより前記回転角度θの
回転方向を決定する。
第８図の場合は、ウェハーのオリエンテーションフラッ
ト４４が右方向に（第２象限）変位しており、前記回転
方向は右方向と決定される。また、この回転方向の決定
はウェハー基準位置３１のβとウェハー撮像画像のβ′
を用いても行える事は明らかである。
ト４４が右方向に（第２象限）変位しており、前記回転
方向は右方向と決定される。また、この回転方向の決定
はウェハー基準位置３１のβとウェハー撮像画像のβ′
を用いても行える事は明らかである。
第９図及び第１０図をウェハーがセッター２５上に左方
向に変位して置かれた例を示すもので、第７図及び第８
図と同一の符号は第７図及び第８図とそれぞれ同一のも
のを示す。この場合も上述の動作で回転角度θと回転方
向が決定されるが、第８図の場合は、ウェハーのオリエ
ンテーションフラット４４が左方向に（第４象限）変位
しており、前記回転方向は左方向と決定される。
向に変位して置かれた例を示すもので、第７図及び第８
図と同一の符号は第７図及び第８図とそれぞれ同一のも
のを示す。この場合も上述の動作で回転角度θと回転方
向が決定されるが、第８図の場合は、ウェハーのオリエ
ンテーションフラット４４が左方向に（第４象限）変位
しており、前記回転方向は左方向と決定される。
このウェハーを基準位置に位置決めする為の補償データ
は位置決め回路４１に入力される。位置決め回路４１は
このデータの基づいてセフタ−駆動回路４２を駆動させ
、セッター２５を回転角度θだけ前記回転方向に回転さ
せ、ウェハーが基準位置に位置決めされる（ブｏ ンク
６３）。
は位置決め回路４１に入力される。位置決め回路４１は
このデータの基づいてセフタ−駆動回路４２を駆動させ
、セッター２５を回転角度θだけ前記回転方向に回転さ
せ、ウェハーが基準位置に位置決めされる（ブｏ ンク
６３）。
ウェハーが位置決めされると、ウェハー搬送機構２９が
動作し、位置決めされたウェハーをウェハー処理室２７
へ搬送する（ブロック６４）。ウェハー処理室２７内で
ウェハーに必要な処理が施され（ブロック６Ｓ）、ウェ
ハーへの処理が終了するとウェハー搬送機構２９により
ウェハーがウェハー処理室２７から処理済ウェハーを収
納するウェハーカセット２３へ搬送される（ブロック６
６）。
動作し、位置決めされたウェハーをウェハー処理室２７
へ搬送する（ブロック６４）。ウェハー処理室２７内で
ウェハーに必要な処理が施され（ブロック６Ｓ）、ウェ
ハーへの処理が終了するとウェハー搬送機構２９により
ウェハーがウェハー処理室２７から処理済ウェハーを収
納するウェハーカセット２３へ搬送される（ブロック６
６）。
この時、ウェハーカセット２３内の空き状態がカメラ２
４により上述したウェハー有無検出動作で説明したと同
様な動作で検出され、ウェハ−カセット２３内の空きス
ロ／］・に収納される（ブロック６７）。また、ウェハ
ーカセット２３に収納された処理済ウェハーが最後のウ
ェハーかが判別され、最後のウェハーでなければ上記ブ
ロック５８にリタンして上述の動作が繰り返され、最後
のつエバーであれば動作は終了する（ブロック６８）〔
効果〕 以上説明したように本発明によれば、ウェハーカセット
内のウェハー有無検出をカメラの撮像画像を用いて行う
様に構成したので、ホトセンサーやホトダイードを使用
する必要が無く、ウェハーの有無を全てのウェハーにつ
いて瞬時に行つことができ、しかもエレベータ等を使用
する必要が無く装置を小型化することができ、更に、真
空処理室やプロセス処理室等でのウェハー有無検出にお
いても正確な検出を行うことができる等の優れた効果を
有する。
４により上述したウェハー有無検出動作で説明したと同
様な動作で検出され、ウェハ−カセット２３内の空きス
ロ／］・に収納される（ブロック６７）。また、ウェハ
ーカセット２３に収納された処理済ウェハーが最後のウ
ェハーかが判別され、最後のウェハーでなければ上記ブ
ロック５８にリタンして上述の動作が繰り返され、最後
のつエバーであれば動作は終了する（ブロック６８）〔
効果〕 以上説明したように本発明によれば、ウェハーカセット
内のウェハー有無検出をカメラの撮像画像を用いて行う
様に構成したので、ホトセンサーやホトダイードを使用
する必要が無く、ウェハーの有無を全てのウェハーにつ
いて瞬時に行つことができ、しかもエレベータ等を使用
する必要が無く装置を小型化することができ、更に、真
空処理室やプロセス処理室等でのウェハー有無検出にお
いても正確な検出を行うことができる等の優れた効果を
有する。
また、本発明はウェハーの位置決めをピン等の機械的装
置によらずカメラの撮像画像を用いて行う様に構成した
ので、ウェハーの破損やゴミの付着が無い等の優れ効果
を有する。
置によらずカメラの撮像画像を用いて行う様に構成した
ので、ウェハーの破損やゴミの付着が無い等の優れ効果
を有する。
第１図は本発明一実施例の配置状態の概略を示す平面図
。 第２図は本−実施例の配置状態のＭ略を示す側面図。 第３図は本発明一実施例のブロック図。 第４図ａおよび第４図すは本発明一実施例のフローチャ
ート。 第５図は撮像状態の説明図。 第６図は撮像画像の説明図。 第７図および第９図はセッター上のウェハーの撮像画像
の説明図。 第８図および第１０図はウェハーの位置決めの説明図。 第１１図はウェハー位置決めの従来装置の説明図。 ２１．２３ ウェハーカセット ２２．２４ カメラ ２５ セッター ２７ ウェハー処理室 ２ｇ、Ｈウェハー搬送機構 ３０ ウェハー ３１ 基準位置 ３２ 基準座標系 ウェハー撮像画像 撮像画像の座標系 座標演算回路 ウェハー有無判別回路 記憶回路 制御回路 比較・補償回路 位置決め回路 セッター駆動回路 スリット光源 オリエンテーンヨンフラッ 記憶回路 ト 第２ ！ 第４ ”ｆＬ（ｏン 第４ ！（ｂ） 第５ 図 第６ 叉 第９ ニ二 第１０ ’ｆ１ 第７ス 業８ 先１１ γ 手 ２１発て１の名称 ６、補正をする者 事件との関係 住所
。 第２図は本−実施例の配置状態のＭ略を示す側面図。 第３図は本発明一実施例のブロック図。 第４図ａおよび第４図すは本発明一実施例のフローチャ
ート。 第５図は撮像状態の説明図。 第６図は撮像画像の説明図。 第７図および第９図はセッター上のウェハーの撮像画像
の説明図。 第８図および第１０図はウェハーの位置決めの説明図。 第１１図はウェハー位置決めの従来装置の説明図。 ２１．２３ ウェハーカセット ２２．２４ カメラ ２５ セッター ２７ ウェハー処理室 ２ｇ、Ｈウェハー搬送機構 ３０ ウェハー ３１ 基準位置 ３２ 基準座標系 ウェハー撮像画像 撮像画像の座標系 座標演算回路 ウェハー有無判別回路 記憶回路 制御回路 比較・補償回路 位置決め回路 セッター駆動回路 スリット光源 オリエンテーンヨンフラッ 記憶回路 ト 第２ ！ 第４ ”ｆＬ（ｏン 第４ ！（ｂ） 第５ 図 第６ 叉 第９ ニ二 第１０ ’ｆ１ 第７ス 業８ 先１１ γ 手 ２１発て１の名称 ６、補正をする者 事件との関係 住所
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ウェハーが収納されたウェハーカセッ トと、 前記ウェハーカセット内の前記ウェハ ーにスリット状の光を照射するための前記 ウェハーカセットに対向して配置されたス リット光源と、 前記ウェハーカセット内の前記ウェハーか らの前記照射光に対する反射光を撮像する ために前記ウェハーカセットに対向して配 置された撮像手段と、 前記撮像手段で撮像された撮像画像に基 づいて前記ウェハーカセット内の前記ウェ ハーの有無を判別する手段と を備えたことを特徴とするウェハー搬送・ 処理装置。 ２、位置決めの為にウェハーが搬送される セッターと、 前記セッター上に搬送された前記ウェハ ーを撮像するための撮像手段と、 前記ウェハーの位置決めの基準となる基 準位置の座標データを基準座標系の座標値 で予め記憶した記憶回路と、 前記撮像手段で撮像された前記ウェハー の撮像画像の座標値を演算する第１の演算 手段と、 前記第１の演算手段で得られた座標値を 前記基準座標系の座標値に変換し、この変 換された座標値と前記記憶された基準位置 の座標値とに基づいて前記ウェハーの基準 位置への回転角度と回転方向とを演算する 第２の演算手段と、 前記第２の演算手段の出力の基づいて前 記セッター上の前記ウェハーを前記基準位 置にセットする位置決め手段と を備えたことを特徴とするウェハー搬送・ 処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63295817A JPH02142157A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | ウェハーの有無・傾き判別装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63295817A JPH02142157A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | ウェハーの有無・傾き判別装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2299678A Division JPH03163847A (ja) | 1990-11-05 | 1990-11-05 | ウェハーの位置決め装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02142157A true JPH02142157A (ja) | 1990-05-31 |
| JPH0477465B2 JPH0477465B2 (ja) | 1992-12-08 |
Family
ID=17825551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63295817A Granted JPH02142157A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | ウェハーの有無・傾き判別装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02142157A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2003068829A (ja) * | 2001-08-30 | 2003-03-07 | Anelva Corp | 基板搬送システム及び基板処理装置 |
| US6636626B1 (en) | 1999-11-30 | 2003-10-21 | Wafermasters, Inc. | Wafer mapping apparatus and method |
| WO2003100725A1 (en) * | 2000-12-01 | 2003-12-04 | Wafermasters, Incorporated | Wafer mapping apparatus and method |
| JP2020136395A (ja) * | 2019-02-15 | 2020-08-31 | Tdk株式会社 | ロードポート |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1988
- 1988-11-22 JP JP63295817A patent/JPH02142157A/ja active Granted
Patent Citations (5)
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| JP2020136395A (ja) * | 2019-02-15 | 2020-08-31 | Tdk株式会社 | ロードポート |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0477465B2 (ja) | 1992-12-08 |
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